特許 6560049 レンツトレハロースＡの製造方法、並びに前記製造方法に有用な化合物及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6560049

(24)【登録日】2019年7月26日

(45)【発行日】2019年8月14日

(54)【発明の名称】レンツトレハロースＡの製造方法、並びに前記製造方法に有用な化合物及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   C07H 3/04 20060101AFI20190805BHJP

   C07B 53/00 20060101ALN20190805BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20190805BHJP

【ＦＩ】

   C07H3/04

   !C07B53/00 B

   !C07B61/00 300

【請求項の数】8

【全頁数】46

(21)【出願番号】特願2015-150626(P2015-150626)

(22)【出願日】2015年7月30日

(65)【公開番号】特開2017-2024(P2017-2024A)

(43)【公開日】2017年1月5日

【審査請求日】2018年4月25日

(31)【優先権主張番号】特願2015-118218(P2015-118218)

(32)【優先日】2015年6月11日

(33)【優先権主張国】JP

【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用 平成２７年３月５日発行の公益社団法人日本薬学会第１３５年会ＤＶＤ要旨集で公開

【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用 平成２７年３月２７日デザイン・クリエイティブセンター神戸において開催された公益社団法人日本薬学会第１３５年会で発表

(73)【特許権者】

【識別番号】000173913

【氏名又は名称】公益財団法人微生物化学研究会

(74)【代理人】

【識別番号】100107515

【弁理士】

【氏名又は名称】廣田 浩一

(74)【代理人】

【識別番号】100107733

【弁理士】

【氏名又は名称】流 良広

(74)【代理人】

【識別番号】100115347

【弁理士】

【氏名又は名称】松田 奈緒子

(72)【発明者】

【氏名】渡邊 匠

(72)【発明者】

【氏名】和田 俊一

(72)【発明者】

【氏名】五十嵐 雅之

(72)【発明者】

【氏名】張 明

【審査官】 神谷 昌克

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１４−２２７４０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０４−２６４０９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 Organic Letters，２００２年，Vol.4, No.13，pp.2245-2248

【文献】 Bulletin of the Chemical Society of Japan，１９８６年，Vol.59, No.2，pp.411-414

【文献】 Chemical & Pharmaceutical Bulletin，２０１５年，Vol.63, No.11，pp.961-966

【文献】 Journal of Antibiotics，２０１５年，Vol.68, No.8，pp.521-529

【文献】 Journal of Antibiotics，２０１４年，Vol.67, No.4，pp.319-322

【文献】 European Journal of Organic Chemistry，２０１２年，Vol.2012, No.6，pp.1237-1252

【文献】 Chemical & Pharmaceutical Bulletin，１９９６年，Vol.44, No.12，pp.2280-2286

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｈ

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法。

【化1】

【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】

ただし、前記構造式４ａ、前記構造式４ａ’、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式２ａ、及び前記構造式２ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項2】

下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法。

【化8】

【化9】

【化10】

【化11】

ただし、前記構造式４ａ’、前記構造式Ｉ、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項3】

下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式２ａで表される化合物、下記構造式２ａ’で表される化合物、及び下記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法。

【化12】

【化13】

【化14】

【化15】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項4】

下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法。

【化16】

【化17】

【化18】

【化19】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、前記構造式３ａ、及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項5】

下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法。

【化20】

【化21】

【化22】

ただし、前記構造式２ａ’’、前記構造式４ａ’、及び前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項6】

下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法。

【化23】

【化24】

【化25】

【化26】

ただし、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式４ａ、及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項7】

下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。

【化27】

【化28】

【化29】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【請求項8】

下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。

【化30】

【化31】

ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、下記構造式（１）で表される化合物（以下、「レンツトレハロースＡ」と称することがある）の製造方法、並びに前記レンツトレハロースＡの製造方法に有用な化合物及びその製造方法に関する。

【化1】

【背景技術】

【0002】

レンツトレハロースＡは、優れた抗腫瘍作用、骨強化作用、若しくは体重増加抑制作用を有し、甘味料としても利用可能な非常に有用な化合物である（特許文献１、非特許文献１参照）。

【0003】

従来、前記レンツトレハロースＡは、微生物による生合成により生産されてきた。しかしながら、その生産量は十分とはいえず、合成方法の更なる改良が求められているのが現状である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１４−２２７４０４号公報

【非特許文献】

【0005】

【非特許文献1】Ｗａｄａ Ｓ ｅｔ ａｌ， Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ａｎｄ ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ｌｅｎｔｚｔｒｅｈａｌｏｓｅ： ａ ｎｏｖｅｌ ｔｒｅｈａｌｏｓｅ ａｎａｌｏｇ， Ｊ Ａｎｔｉｂｉｏｔ （Ｔｏｋｙｏ）． ２０１４ Ａｐｒ；６７（４）：３１９−２２

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、効率良くレンツトレハロースＡを製造することができるレンツトレハロースＡの製造方法、並びに前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。

【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】

【化8】

ただし、前記構造式４ａ、前記構造式４ａ’、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式２ａ、及び前記構造式２ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜２＞ 下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。

【化9】

【化10】

【化11】

【化12】

ただし、前記構造式４ａ’、前記構造式Ｉ、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜３＞ 下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式２ａで表される化合物、下記構造式２ａ’で表される化合物、及び下記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。

【化13】

【化14】

【化15】

【化16】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜４＞ 下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法である。

【化17】

【化18】

【化19】

【化20】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、前記構造式３ａ、及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜５＞ 下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。

【化21】

【化22】

【化23】

ただし、前記構造式２ａ’’、前記構造式４ａ’、及び前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜６＞ 下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法である。

【化24】

【化25】

【化26】

【化27】

ただし、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式４ａ、及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜７＞ 下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法である。

【化28】

【化29】

ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜８＞ 下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。

【化30】

【化31】

【化32】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜９＞ 下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。

【化33】

【化34】

ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜１０＞ 下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。

【化35】

【化36】

ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、効率良くレンツトレハロースＡを製造することができるレンツトレハロースＡの製造方法、並びに前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供することができる。

【発明を実施するための形態】

【0009】

（構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法）
本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体であり、本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物についても説明する。

【化37】

【化38】

ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【0010】

＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞
前記構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法は、ベンジル基導入工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0011】

−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。

【0012】

前記ベンジル基導入工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ベンジリデン保護処理及びベンジル基（以下、「Ｂｎ」と称することがある）保護処理を行った後、アセタールの位置選択的開裂処理を行うことが好ましい。

【0013】

前記ベンジリデン保護処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記トレハロース（６．８０ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（１当量）、及びパラトルエンスルホン酸（５ｍｏｌ％）をジメチルホルムアミドに溶解し、１００℃に加熱後、１６０ｍｍＨｇの減圧下で８時間撹拌し、更にベンズアルデヒドジメチルアセタール（１当量）を加え、１６０ｍｍＨｇの減圧下で１時間撹拌し、更にベンズアルデヒドジメチルアセタール（０．２５当量）を加え、１６０ｍｍＨｇの減圧下で４時間撹拌する処理などが挙げられる。

【0014】

また、例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記トレハロース（１０．４ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（１．２５当量）、及びパラトルエンスルホン酸（５．０ｍｏｌ％）をジメチルホルムアミドに溶解し、２４０ｍｍＨｇの減圧下で２０時間撹拌する処理などが挙げられる。

【0015】

前記Ｂｎ保護処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記ベンジリデン保護処理後の生成物をテトラヒドロフランに溶解し、水素化ナトリウム（１０当量）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル（６当量）を氷冷下順次加え、室温下で４５時間撹拌する処理などが挙げられる。

【0016】

また、例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記ベンジリデン保護処理を行った混合溶液に、水素化ナトリウム（１５当量）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル（９当量）を氷冷下順次加え、室温下で１２時間撹拌する処理などが挙げられる。

【0017】

前記アセタールの位置選択的開裂処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記Ｂｎ保護処理の生成物を塩化メチレンに溶解し、０℃にてトリエチルシラン（１５当量）とトリフルオロ酢酸（１５当量）とを加えそのまま３時間撹拌する処理などが挙げられる。

【0018】

また、例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記Ｂｎ保護処理の生成物を塩化メチレンに溶解し、０℃にてトリエチルシラン（７．５当量）とトリフルオロ酢酸（７．５当量）とを加えそのまま２．５時間撹拌する処理などが挙げられる。

【0019】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、精製工程などが挙げられる。
前記トレハロースの調製方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。前記トレハロースは、市販品を使用してもよい。
前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

【0020】

＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物＞
−構造式４ａで表される化合物−
構造式４ａで表される化合物の融点、比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
融点 ： １０１℃−１０３℃（ｄｅｃ．）
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝７９ （ｃ＝１．３， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３８−７．３３（ｍ， ８Ｈ）， ７．３０−７．２３（ｍ， ２２Ｈ）， ５．２３（ｄ， Ｊ＝３．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ５．００（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．７９（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．６９ （ｄ， Ｊ＝ １２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．６３（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．５０（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．４４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．１３−４．１０（ｍ， ２Ｈ）， ３．８７（ｔ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５９（ｔ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５６（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， Ｊ＝３．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５３−３．４５（ｍ， ４Ｈ）， ２．３８（ｂｓ， ２Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．９， １３８．１， １３８．０， １２８．７， １２８．５， １２８．５， １２８．１， １２７．９， １２７．８， １２７．８， １２７．６， ９４．３， ８１．１， ７９．０， ７５．４， ７３．７， ７２．５， ７０．８， ７０．７， ６９．３
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_５４Ｈ_５８Ｏ_１１Ｋ ｍ／ｚ ９２１．３６１１ ［Ｍ＋Ｋ］^＋， ｆｏｕｎｄ ９２１．３５９８

【0021】

−構造式４ａ’で表される化合物−
構造式４ａ’で表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８８（ｃ＝１．０， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３７−７．２０（ｍ， ３３Ｈ）， ７．１３−７．１１（ｍ， ２Ｈ）， ５．２４（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．２３（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．００（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．９９（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８６（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８１（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７９（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７１−４．６４（ｍ， ４Ｈ）， ４．５４（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５０（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４５（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４３（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３７（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１７−４．１１（ｍ， ２Ｈ）， ４．０３（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８７（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６８（ｔ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５９（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， Ｊ＝３．２Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５６（ｄｄ， Ｊ＝９．８Ｈｚ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５３−３．４４（ｍ， ３Ｈ）， ３．３６（ｄ， Ｊ＝１０．１Ｈｚ， １Ｈ）， ２．３８（ｄ， Ｊ＝２．３Ｈｚ， １Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．９， １３８．９， １３８．４， １３８．２， １３８．１， １３８．０， １３７．９， １２８．６， １２８．５， １２８．４， １２８．１， １２８．０， １２８．０， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．７， １２７，７， １２７．６， １２７．６， １２７．４， ９４．５， ９４．４， ８１．９， ８１．１， ７９．４， ７９．１， ７７．７， ７５．７， ７５．４， ７５．２， ７３．７， ７３．６， ７２．８， ７２．５， ７０．９， ７０．７， ７０．６， ６９．２， ６８．２
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_６１Ｈ_６４Ｏ_１１Ｋ ｍ／ｚ １１０１．４０８０ ［Ｍ＋Ｋ］^＋， ｆｏｕｎｄ １１０１．４０６７

【0022】

化合物が、前記構造式４ａ若しくは前記構造式４ａ’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式４ａ若しくは前記構造式４ａ’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

【0023】

（構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法）
本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体であり、本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物についても説明する。

【化39】

【化40】

ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【0024】

＜構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞
前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法は、プレニル化工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0025】

−プレニル化工程−
前記プレニル化工程は、前記構造式４ａで表される化合物及び前記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。

【0026】

前記プレニル化に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式３ａで表される化合物を製造する場合には、前記構造式４ａで表される化合物（０．１１９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミドに溶解し、水素化ナトリウム（２．５当量）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（５ｍｏｌ％）、臭化プレニル（１．１当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0027】

また、例えば、前記構造式３ａ’で表される化合物を製造する場合には、前記構造式４ａ’で表される化合物（０．１０９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミドに溶解し、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（１０ｍｏｌ％）、水素化ナトリウム（２当量）、臭化プレニル（５当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0028】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式４ａで表される化合物及び前記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

【0029】

＜構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物＞
−構造式３ａで表される化合物−
構造式３ａで表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８８（ｃ＝１．０， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３１−７．１２（ｍ， ３０Ｈ）， ５．１９−５．１６（ｍ， １Ｈ）， ５．１３（ｂｓ， ２Ｈ）， ４．９３（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．９０（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７９（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．６２−４．５４（ｍ， ４Ｈ）， ４．４７（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４１（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３６（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３４（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．２４−４．１９（ｍ， １Ｈ）， ４．０８−４．０３（ｍ， ２Ｈ）， ３．９５−３．８８（ｍ， ２Ｈ）， ３．７７（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５９（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４８−３．３９（ｍ， ５Ｈ）， ３．３７−３．１２（ｍ， ２Ｈ）， ２．３０（ｂｓ， １Ｈ）， １．６２（ｓ， ３Ｈ）， １．４６（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３９．０， １３８．９， １３８．３， １３８．１， １３８．０， １３８．０， １３７．１， １２８．６， １２８．４， １２８．０， １２７．９， １２７．９， １２７．８， １２７．７， １２７．６， １２７．６， １２７．６， １２７．５， １２１．２， ９４．７， ９４．６， ８１．８， ８１．３， ７９．３， ７９．０， ７５．６， ７５．５， ７３．６， ７３．６， ７２．８， ７２．４， ７０．９， ７０．８， ７０．５， ６９．７， ６９．２， ６８．４， ２５．９， １８．０
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_５９Ｈ_６６Ｏ_１１Ｋ ｍ／ｚ ９８９．４２３７ ［Ｍ＋Ｋ］^＋， ｆｏｕｎｄ ９８９．４２１０

【0030】

−構造式３ａ’で表される化合物−
構造式３ａ’で表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８７（ｃ＝１．６， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３８−７．２０（ｍ， ３３Ｈ）， ７．１２−７．０９（ｍ， ２Ｈ）， ５．２６−５．２４（ｍ， １Ｈ）， ５．２１−５．２０（ｍ， ２Ｈ）， ４．９９（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．９７（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８６（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８４（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８０（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０−４．６２（ｍ， ４Ｈ）， ４．５６（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５４（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４３（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３５（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３３−４．２７（ｍ， １Ｈ）， ４．１７−４．１３（ｍ， ２Ｈ）， ３．９９（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．９６（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６９−３．６５（ｍ， １Ｈ）， ３．５８−３．４７（ｍ， ５Ｈ）， ３．４１（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．３３（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， １．６９（ｓ， ３Ｈ）， １．５３（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３９．１， １３９．０， １３８．４， １３８．４， １３８．３， １３８．０， １３８．０， １３７．２， １２８．５， １２８．５， １２８．４， １２８．４， １２８．１， １２８．１， １２８．０， １２８．０， １２７．８， １２７．７， １２７．６， １２７．６， １２７．６， １２７．５， １２１．３， ９４．８， ８２．０， ８１．８， ７９．４， ７９．４， ７７．７， ７７．５， ７７．４， ７５．８， ７５．７， ７５．２， ７３．６， ７２．８， ７２．７， ７０．８， ７０．６， ６９．７， ６８．４， ６８．１， ２５．９， １８．１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_６６Ｈ_７２Ｏ_１１Ｎａ ｍ／ｚ １０６３．４９６７ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １０６３．４９４５

【0031】

化合物が、前記構造式３ａ若しくは前記構造式３ａ’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式３ａ若しくは前記構造式３ａ’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

【0032】

（構造式２ａ、構造式２ａ’、及び構造式２ａ’’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法）
本発明の下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体であり、本発明の、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法、若しくは下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法、並びに下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表される化合物についても説明する。

【化41】

【化42】

【化43】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【0033】

＜構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞
前記構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法は、シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0034】

−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程は、前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、前記構造式２ａ及び前記構造式２ａ’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。

【0035】

前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式２ａで表される化合物を製造する場合には、前記構造式３ａで表される化合物（４５μｍｏｌ）をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、ＡＤ−ｍｉｘ−α（１１８ｍｇ）、ビス（ジヒドロキニニル）フタラジン（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド（２当量）と共に０℃にて６６時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0036】

また、例えば、前記構造式２ａ’で表される化合物を製造する場合には、前記構造式３ａ’で表される化合物（４５μｍｏｌ）をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、ＡＤ−ｍｉｘ−α（１２４ｍｇ）、ビス（ジヒドロキニニル）フタラジン（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド（２当量）と共に０℃にて７２時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0037】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式２ａ及び前記構造式２ａ’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

【0038】

＜構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物＞
−構造式２ａで表される化合物−
構造式２ａで表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８８（ｃ＝１．６， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．４０−７．２２（ｍ， ３０Ｈ）， ５．２２（ｄ， Ｊ＝３．７Ｈｚ， １Ｈ）， ５．２０（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０３（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０２（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８３（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７８（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０−４．６６（ｍ， ２Ｈ）， ４．６２（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５２（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５１（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４０（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１２（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝９．８Ｈｚ， ３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．０４（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝１０．０Ｈｚ， ２．５Ｈｚ， １Ｈ）， ３．９５−３．９２（ｍ， １Ｈ）， ３．９０−３．８７（ｍ， １Ｈ）， ３．８３（ｄｄ， Ｊ＝１０．０Ｈｚ， ２．３Ｈｚ， １Ｈ）， ３．７３−３．６７（ｍ， １Ｈ）， ３．６０−３．５６（ｍ， ２Ｈ）， ３．５５−３．５３（ｍ， １Ｈ）， ３．５１−３．４７（ｍ， ３Ｈ）， ３．４４−３．３９（ｍ， ２Ｈ）， ３．３３（ｄｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， ２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ３．００（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ２．４４（ｄ， Ｊ＝２．５Ｈｚ， １Ｈ）， ２．４２（ｂｓ， １Ｈ）， １．１０（ｓ， ３Ｈ）， ０．９９（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．８， １３８．５， １３８．１， １３８．０， １３７．６， １２８．７， １２８．５， １２８．５， １２８．５， １２８．１， １２８．０， １２７．９， １２７．９， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．６， １２７．４， ９４．４， ９４．２， ８１．３， ８１．２， ７９．６， ７９．２， ７８．１， ７６．３， ７５．７， ７５．４， ７３．８， ７３．７， ７３．７， ７２．７， ７２．７， ７１．３， ７０．９， ７０．７， ７０．６， ６９．３， ６８．５， ２６．６， ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_５９Ｈ_６８Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ １００７．４５５２ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １００７．４５２５

【0039】

−構造式２ａ’で表される化合物−
構造式２ａ’で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３８−７．１３（ｍ， ３３Ｈ）， ７．１２−７．０９（ｍ， ２Ｈ）， ５．２０（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．１９（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０２（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０１（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８９（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８１（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７７（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７２（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．６８−４．６１（ｍ， ２Ｈ）， ４．６４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５３（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４５（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４０（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３７（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１５（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝９．８Ｈｚ， ３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１４−０６（ｍ， ２Ｈ）， ３．９１（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８２（ｄｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ２．３Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６９（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６０（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５４（ｄｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ３．６Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５２（ｄｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ３．６Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４９（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ８．０Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．４４−３．４１（ｍ， １Ｈ）， ３．４１−３．３９（ｍ， １Ｈ）， ３．３７（ｄｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．３２（ｄｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， ２．３Ｈｚ， １Ｈ）， ３．００（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ２．４０（ｓ， １Ｈ）， １．１０（ｓ， ３Ｈ）， ０．９８（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．９， １３８．６， １３８．４， １３８．３， １３８．１， １３７．９， １３７．７， １２８．５， １２８．５， １２８．５， １２８．１， １２８．１， １２８．０， １２７．９， １２７．９， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．７， １２７．５， １２７．５， ９４．６， ９４．４， ８２．０， ８１．３， ７９．６， ７９．６， ７８．２， ７７．８， ７６．３， ７５．７， ７５．７， ７５．３， ７３．８， ７３．７， ７３．６， ７３．０， ７２．６， ７１．３， ７０．８， ７０．５， ６８．５， ６８．２， ２６．６， ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_６６Ｈ_７４Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ １０９７．５０２２ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １０９７．４９９９

【0040】

化合物が、前記構造式２ａ若しくは前記構造式２ａ’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式２ａ若しくは前記構造式２ａ’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

【0041】

＜構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法＞
前記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法は、エポキシド開環工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0042】

−エポキシド開環工程−
前記エポキシド開環工程は、前記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、前記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程である。

【化44】

ただし、前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。

【0043】

前記エポキシド開環に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物（２５．１μｍｏｌ）をジメチルホルムアミドに溶解し、水素化ナトリウム（２．５当量）、１５−ｃｒｏｗｎ−５（２．６当量）、前記構造式Ｉで表されるエポキシド（２．５当量）を氷冷下順次加え、７０℃にて１８時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0044】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式２ａ’’で表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

【0045】

＜構造式２ａ’’で表される化合物＞
構造式２ａ’’で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．４１−７．２４（ｍ， ３６Ｈ）， ７．１４−７．１１（ｍ， ２Ｈ）， ５．２１（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ５．０２（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ５．００（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８８（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８７（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８２（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７１−４．６４（ｍ， ４Ｈ）， ４．５５（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４９（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４７（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４４−４．４２（ｍ， ２Ｈ）， ４．４２（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３７（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１８−４−４．０６（ｍ， ２Ｈ）， ４．０３（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．００（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．９７−３．９３（ｍ， １Ｈ）， ３．８５（ｄｄ， Ｊ＝１０．３Ｈｚ， １．６Ｈｚ， １Ｈ）， ３．７５−３．６３（ｍ， ３Ｈ）， ３．５８−３．４６（ｍ， ５Ｈ）， ３．４２−３．３４（ｍ， ２Ｈ）， １．１５（ｓ， ３Ｈ）， １．１１（ｓ， ３Ｈ）
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_７３Ｈ_８０Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ １１８７．５４９１ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １１８７．５４７６

【0046】

化合物が、前記構造式２ａ’’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式２ａ’’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

【0047】

（レンツトレハロースＡの製造方法）
本発明のレンツトレハロースＡの製造方法の態様は、前記構造式２ａで表される化合物、前記構造式２ａ’で表される化合物、及び前記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかを出発物質とする態様（以下、「第１の態様」と称することがある）、若しくは前記トレハロースを出発物質とする態様（以下、「第２の態様」と称することがある）である。

【0048】

＜第１の態様＞
前記第１の態様は、脱ベンジル基工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0049】

−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式２ａで表される化合物、前記構造式２ａ’で表される化合物、及び前記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、レンツトレハロースＡを製造する工程である。

【0050】

前記脱ベンジル基に用いる化合物及びその量、反応条件としては、パラジウム触媒の存在下で水素と反応させる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式２ａで表される化合物を用いる場合には、前記構造式２ａで表される化合物（２８．４μｍｏｌ）を２ｍＬのメタノールに溶解し、１０％ パラジウム炭素（Ｐｄ／Ｃ）を２０ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0051】

また、例えば、前記構造式２ａ’で表される化合物を用いる場合には、前記構造式２ａ’で表される化合物（２８．４μｍｏｌ）を１．５ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％ Ｐｄ／Ｃを１５ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0052】

また、例えば、前記構造式２ａ’’で表される化合物を用いる場合には、前記構造式２ａ’’で表される化合物（７．２９μｍｏｌ）を１ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％ Ｐｄ／Ｃを７．０ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌する方法などが挙げられる。

【0053】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式２ａで表される化合物、前記構造式２ａ’で表される化合物、及び前記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記レンツトレハロースＡを精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

【0054】

＜第２の態様＞
前記第２の態様は、プレニル化工程及びシャープレス不斉ジヒドロキシ化工程を含む態様（以下、「第２の態様−１」と称することがある）、若しくはエポキシド開環工程を含む態様（以下、「第２の態様−２」と称することがある）である。

【0055】

＜＜第２の態様−１＞＞
前記第２の態様−１は、ベンジル基導入工程と、プレニル化工程と、シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程と、脱ベンジル基工程とを少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0056】

−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式４ａで表される化合物及び前記４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−ベンジル基導入工程−の項目に記載のものと同様である。

【0057】

−プレニル化工程−
前記プレニル化工程は、前記構造式４ａで表される化合物及び前記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した＜構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−プレニル化工程−の項目に記載のものと同様である。

【0058】

−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程は、前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、前記構造式２ａで表される化合物及び前記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した＜構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−の項目に記載のものと同様である。

【0059】

−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式２ａで表される化合物及び前記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、前記構造式（１）で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜第１の態様＞における−脱ベンジル基工程−の項目に記載のものと同様である。

【0060】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、レンツトレハロースＡ精製工程などが挙げられる。

【0061】

＜＜第２の態様−２＞＞
前記第２の態様−２は、ベンジル基導入工程と、エポキシド開環工程と、脱ベンジル基工程とを少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

【0062】

−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−ベンジル基導入工程−の項目に記載のものと同様である。

【0063】

−エポキシド開環工程−
前記エポキシド開環工程は、前記構造式４ａ’で表される化合物と、前記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、前記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法＞の−エポキシド開環工程−の項目に記載のものと同様である。

【0064】

−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、前記構造式（１）で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜第１の態様＞における−脱ベンジル基工程−の項目に記載のものと同様である。

【0065】

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、レンツトレハロースＡ精製工程などが挙げられる。

【0066】

＜構造式（１）で表される化合物＞
構造式（１）で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤ_３ＯＤ） ： δ５．１０（ｄ， Ｊ＝３．８Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０８（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．０２（ｄｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， ２．７Ｈｚ， １Ｈ）， ３．９０（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８４（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ２．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８０−３．７６（ｍ， ５Ｈ）， ３．６７（ｄｄ， Ｊ＝１１．７Ｈｚ， ４．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６６−３．６３（ｍ， １Ｈ）， ３．５４（ｄｄ， Ｊ＝７．８Ｈｚ， ２．５Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４９（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ３．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４６（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ３．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．３１（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．２８（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， １．１９（ｓ， ３Ｈ）， １．１７（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ９５．１， ９５．０， ８０．４， ７８．１， ７４．７， ７４．５， ７４．４， ７３．８， ７３．４， ７３．２， ７２．８， ７２．７， ７１．９， ６２．６， ６２．１， ２６．５， ２５．４
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_１７Ｈ_３２Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ ４６７．１７３５ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ ４６７．１７２５

【0067】

化合物が、前記構造式（１）で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式（１）で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

【実施例】

【0068】

以下に本発明の実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、「ＰｈＣＨ（ＯＭｅ）_２」はベンズアルデヒドジメチルアセタールを表し、「ｐ−ＴｓＯＨ」はパラトルエンスルホン酸を表し、「ＤＭＦ」はジメチルホルムアミドを表し、「ＢｎＢｒ」は臭化ベンジルを表し、「ＮａＨ」は水素化ナトリウムを表し、「ＴＢＡＩ」はヨウ化テトラブチルアンモニウムを表し、「ＴＨＦ」はテトラヒドロフランを表し、「Ｅｔ_３ＳｉＨ」はトリエチルシランを表し、「ＴＦＡ」はトリフルオロ酢酸を表し、「ＣＨ_２Ｃｌ_２」は塩化メチレンを表し、「Ｂｎ」はベンジル基を表し、「（ＤＨＱ）_２ＰＨＡＬ」はビス（ジヒドロキニニル）フタラジンを表し、「ＭｅＳＯ_２ＮＨ_２」はメタンスルホンアミドを表し、「ｔ−ＢｕＯＨ」はｔ−ブタノールを表し、「Ｐｄ／Ｃ」はパラジウム炭素を表し、「ＭｅＯＨ」はメタノールを表す。

【0069】

（実施例１：構造式４ａで表される化合物を経由するレンツトレハロースＡの合成）
＜構造式４ａで表される化合物及び構造式４ａ’で表される化合物の合成＞

【化45】

【0070】

１） トレハロース（２．３３ｇ， ６．８０ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール １．０２ｍＬ（１当量）、及びｐ−ＴｓＯＨ ５９ｍｇ（５ｍｏｌ％）をＤＭＦ ３０ｍＬに溶解し、１００℃に加熱した。２０分間経過した後、反応系を１６０ｍｍＨｇに減圧し、２０分間撹拌した。更に、ここにベンズアルデヒドジメチルアセタールを１．０２ｍＬ（１．０当量）加え、１６０ｍｍＨｇの減圧下で、１時間同条件で撹拌した。更に０．２５ｍＬ（０．２５当量）のベンズアルデヒドジメチルアセタールを添加し、１６０ｍｍＨｇの減圧下で４時間撹拌を継続した。反応系を室温まで冷却した後、減圧下濃縮し、トリエチルアミンを用いて中和を行った。得られた粗生成物を精製することなくそのまま次の反応に利用した。

【0071】

２） 上記粗生成物を全量テトラヒドロフラン ７０ｍＬに溶解し、水素化ナトリウム ２．７２ｇ（６０％流動パラフィン分散（以下全ての水素化ナトリウムで同じ）、１０当量）、ＴＢＡＩ １７６ｍｇ（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル４．８５ｍＬ（６当量）を氷冷下順次加え、室温下４５時間撹拌した。反応液を氷水（４０ｍＬ）の中に注ぎ、クエンチした後、有機層を分離した。水層をエーテル（３０ｍＬ×３）により抽出し、得た有機層を合わせて、塩酸水溶液（１Ｎ、２０ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）により洗い、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）にて精製し、ベンジル保護体 ４．８９ｇを得た。

【0072】

３） 上記ベンジル保護体は塩化メチレン ３００ｍＬに溶解し、０℃にてトリエチルシラン １１．７ｍＬ（１５当量）とトリフルオロ酢酸 ５．６１ｍＬ（１５当量）とを加えそのまま３時間撹拌した。１００ｍＬの飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液を加え、５分間撹拌した後、有機層を分離し、飽和食塩水により洗った。水層を塩化メチレン １００ｍＬにより抽出し、得た有機層を飽和食塩水により洗い、芒硝乾燥した後、溶媒を留去し、得られたクルードシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１から３：１）、構造式４ａで表される化合物（３．１１ｇ、３．５２ｍｍｏｌ、３工程で５２％）と、構造式４ａ’で表される化合物（３３７ｍｇ、０．３４６ｍｍｏｌ、３工程で５％）をそれぞれ白色紛体と無色シロップとして得た。

【0073】

−構造式４ａで表される化合物−
構造式４ａで表される化合物の融点、比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
融点 ： １０１℃−１０３℃（ｄｅｃ．）
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝７９ （ｃ＝１．３， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３８−７．３３（ｍ， ８Ｈ）， ７．３０−７．２３（ｍ， ２２Ｈ）， ５．２３（ｄ， Ｊ＝３．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ５．００（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．７９（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．６９ （ｄ， Ｊ＝ １２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．６３（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．５０（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．４４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， ２Ｈ）， ４．１３−４．１０（ｍ， ２Ｈ）， ３．８７（ｔ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５９（ｔ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５６（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， Ｊ＝３．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５３−３．４５（ｍ， ４Ｈ）， ２．３８（ｂｓ， ２Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．９， １３８．１， １３８．０， １２８．７， １２８．５， １２８．５， １２８．１， １２７．９， １２７．８， １２７．８， １２７．６， ９４．３， ８１．１， ７９．０， ７５．４， ７３．７， ７２．５， ７０．８， ７０．７， ６９．３
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_５４Ｈ_５８Ｏ_１１Ｋ ｍ／ｚ ９２１．３６１１ ［Ｍ＋Ｋ］^＋， ｆｏｕｎｄ ９２１．３５９８

【0074】

−構造式４ａ’で表される化合物−
構造式４ａ’で表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８８（ｃ＝１．０， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３７−７．２０（ｍ， ３３Ｈ）， ７．１３−７．１１（ｍ， ２Ｈ）， ５．２４（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．２３（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．００（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．９９（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８６（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８１（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７９（ｄ， Ｊ＝１１．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７１−４．６４（ｍ， ４Ｈ）， ４．５４（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５０（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４５（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４３（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３７（ｄ， Ｊ＝１２．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１７−４．１１（ｍ， ２Ｈ）， ４．０３（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８７（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６８（ｔ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．５９（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， Ｊ＝３．２Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５６（ｄｄ， Ｊ＝９．８Ｈｚ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５３−３．４４（ｍ， ３Ｈ）， ３．３６（ｄ， Ｊ＝１０．１Ｈｚ， １Ｈ）， ２．３８（ｄ， Ｊ＝２．３Ｈｚ， １Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．９， １３８．９， １３８．４， １３８．２， １３８．１， １３８．０， １３７．９， １２８．６， １２８．５， １２８．４， １２８．１， １２８．０， １２８．０， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．７， １２７，７， １２７．６， １２７．６， １２７．４， ９４．５， ９４．４， ８１．９， ８１．１， ７９．４， ７９．１， ７７．７， ７５．７， ７５．４， ７５．２， ７３．７， ７３．６， ７２．８， ７２．５， ７０．９， ７０．７， ７０．６， ６９．２， ６８．２
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_６１Ｈ_６４Ｏ_１１Ｋ ｍ／ｚ １１０１．４０８０ ［Ｍ＋Ｋ］^＋， ｆｏｕｎｄ １１０１．４０６７

【0075】

＜構造式３ａで表される化合物の合成＞

【化46】

【0076】

前記構造式４ａで表される化合物（１０５ｍｇ、０．１１９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ ２ｍＬに溶解し、水素化ナトリウム １２．０ｍｇ（２．５当量）、ＴＢＡＩ ２．０ｍｇ（５ｍｏｌ％）、臭化プレニル １５．１μＬ（１．１当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌した。メタノール ０．１ｍＬを加え、５分間撹拌した後、蒸留水 １０ｍＬと塩化メチレン １０ｍＬとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液（１Ｎ、５ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、構造式３ａで表される化合物を５０．０ｍｇ（５２．６μｍｏｌ、収率４４％）得た。なお、２７．０ｍｇ（３０．６μｍｏｌ）の原料が回収され、これを考慮した補正収率は６５％となった。

【0077】

−構造式３ａで表される化合物−
構造式３ａで表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８８（ｃ＝１．０， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３１−７．１２（ｍ， ３０Ｈ）， ５．１９−５．１６（ｍ， １Ｈ）， ５．１３（ｂｓ， ２Ｈ）， ４．９３（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．９０（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７９（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．６２−４．５４（ｍ， ４Ｈ）， ４．４７（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４１（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３６（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３４（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．２４−４．１９（ｍ， １Ｈ）， ４．０８−４．０３（ｍ， ２Ｈ）， ３．９５−３．８８（ｍ， ２Ｈ）， ３．７７（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５９（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４８−３．３９（ｍ， ５Ｈ）， ３．３７−３．１２（ｍ， ２Ｈ）， ２．３０（ｂｓ， １Ｈ）， １．６２（ｓ， ３Ｈ）， １．４６（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３９．０， １３８．９， １３８．３， １３８．１， １３８．０， １３８．０， １３７．１， １２８．６， １２８．４， １２８．０， １２７．９， １２７．９， １２７．８， １２７．７， １２７．６， １２７．６， １２７．６， １２７．５， １２１．２， ９４．７， ９４．６， ８１．８， ８１．３， ７９．３， ７９．０， ７５．６， ７５．５， ７３．６， ７３．６， ７２．８， ７２．４， ７０．９， ７０．８， ７０．５， ６９．７， ６９．２， ６８．４， ２５．９， １８．０
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_５９Ｈ_６６Ｏ_１１Ｋ ｍ／ｚ ９８９．４２３７ ［Ｍ＋Ｋ］^＋， ｆｏｕｎｄ ９８９．４２１０

【0078】

＜構造式２ａで表される化合物の合成＞

【化47】

【0079】

４２．８ｍｇ（４５μｍｏｌ）の構造式３ａで表される化合物をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、１１８ｍｇのＡＤ−ｍｉｘ−α、８．８ｍｇの（ＤＨＱ）_２ＰＨＡＬ（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド ８．５ｍｇ（２当量）と共に０℃にて６６時間撹拌した。反応系は亜硫酸ナトリウムを加え０℃にて３０分間撹拌することで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和食塩水にて洗浄後、芒硝乾燥し、濃縮乾固した。ここで^１Ｈ ＮＭＲによりジアステレオマー比を９：１と決定した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、４４．５ｍｇ（４５μｍｏｌ）の構造式２ａで表される化合物を定量的に得た。

【0080】

−構造式２ａで表される化合物−
構造式２ａで表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８８（ｃ＝１．６， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．４０−７．２２（ｍ， ３０Ｈ）， ５．２２（ｄ， Ｊ＝３．７Ｈｚ， １Ｈ）， ５．２０（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０３（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０２（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８３（ｄ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７８（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０−４．６６（ｍ， ２Ｈ）， ４．６２（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５２（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５１（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４０（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１２（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝９．８Ｈｚ， ３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．０４（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝１０．０Ｈｚ， ２．５Ｈｚ， １Ｈ）， ３．９５−３．９２（ｍ， １Ｈ）， ３．９０−３．８７（ｍ， １Ｈ）， ３．８３（ｄｄ， Ｊ＝１０．０Ｈｚ， ２．３Ｈｚ， １Ｈ）， ３．７３−３．６７（ｍ， １Ｈ）， ３．６０−３．５６（ｍ， ２Ｈ）， ３．５５−３．５３（ｍ， １Ｈ）， ３．５１−３．４７（ｍ， ３Ｈ）， ３．４４−３．３９（ｍ， ２Ｈ）， ３．３３（ｄｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， ２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ３．００（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ２．４４（ｄ， Ｊ＝２．５Ｈｚ， １Ｈ）， ２．４２（ｂｓ， １Ｈ）， １．１０（ｓ， ３Ｈ）， ０．９９（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．８， １３８．５， １３８．１， １３８．０， １３７．６， １２８．７， １２８．５， １２８．５， １２８．５， １２８．１， １２８．０， １２７．９， １２７．９， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．６， １２７．４， ９４．４， ９４．２， ８１．３， ８１．２， ７９．６， ７９．２， ７８．１， ７６．３， ７５．７， ７５．４， ７３．８， ７３．７， ７３．７， ７２．７， ７２．７， ７１．３， ７０．９， ７０．７， ７０．６， ６９．３， ６８．５， ２６．６， ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_５９Ｈ_６８Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ １００７．４５５２ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １００７．４５２５

【0081】

＜構造式（１）で表される化合物の合成＞

【化48】

【0082】

２８．０ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の前記構造式２ａで表される化合物を２ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％ パラジウム炭素（Ｐｄ／Ｃ）を２０ｍｇ添加し、水素雰囲気化２４時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、１２．６ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を定量的に得た（６工程、収率２３％）。

【0083】

−構造式（１）で表される化合物−
構造式（１）で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤ_３ＯＤ） ： δ５．１０（ｄ， Ｊ＝３．８Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０８（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．０２（ｄｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， ２．７Ｈｚ， １Ｈ）， ３．９０（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８４（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ２．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８０−３．７６（ｍ， ５Ｈ）， ３．６７（ｄｄ， Ｊ＝１１．７Ｈｚ， ４．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６６−３．６３（ｍ， １Ｈ）， ３．５４（ｄｄ， Ｊ＝７．８Ｈｚ， ２．５Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４９（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ３．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４６（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ３．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．３１（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．２８（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， １．１９（ｓ， ３Ｈ）， １．１７（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ９５．１， ９５．０， ８０．４， ７８．１， ７４．７， ７４．５， ７４．４， ７３．８， ７３．４， ７３．２， ７２．８， ７２．７， ７１．９， ６２．６， ６２．１， ２６．５， ２５．４
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_１７Ｈ_３２Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ ４６７．１７３５ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ ４６７．１７２５

【0084】

（実施例２：構造式４ａ’で表される化合物を経由するレンツトレハロースＡの合成−１）
＜構造式４ａ’で表される化合物及び構造式４ａで表される化合物の合成＞

【化49】

【0085】

１） トレハロース（３．５７ｇ， １０．４ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール ０．７８ｍＬ（０．５当量）、及びｐ−ＴｓＯＨ ４４．８ｍｇ（２．５ｍｏｌ％）をＤＭＦ ５０ｍＬに溶解し、１００℃に加熱した。反応系は２４０ｍｍＨｇの減圧下で１０分間撹拌した後、ここにベンズアルデヒドジメチルアセタールを０．３９ｍＬ（０．２５当量）加え、２時間同条件で撹拌した。更に０．３９ｍＬ（０．２５当量）のベンズアルデヒドジメチルアセタールを添加し、２４０ｍｍＨｇの減圧下で２．５時間撹拌を継続した。再びベンズアルデヒドジメチルアセタールを０．１９５ｍＬ（０．２５当量）加え、２４０ｍｍＨｇの減圧下で１２時間撹拌した後、更に０．１９５ｍＬ（０．２５当量）のベンズアルデヒドジメチルアセタールと、４４．８ｍｇ（２．５ｍｏｌ％）のｐ−ＴｓＯＨとを加え合計２０時間となるまで撹拌を行った。反応系を室温まで冷却した後、トリエチルアミンを用いて中和を行った。得られた混合溶液を精製することなくそのまま次の反応に利用した。

【0086】

２） 上記混合溶液の中に水素化ナトリウム ６．２４ｇ（１５当量）、ＴＢＡＩ ２６８ｍｇ（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル １１．１ｍＬ（９当量）を氷冷下順次加え、室温下１２時間撹拌した。反応液を氷水に注加し、塩化メチレンにて抽出、濃縮乾固して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１から５：１）、ベンジル保護体 １０．０ｇを得た。

【0087】

３） 上記ベンジル保護体は塩化メチレン ２５０ｍＬに溶解し、０℃にてトリエチルシラン １２．４ｍＬ（７．５当量）とトリフルオロ酢酸 ５．９７ｍＬ（７．５当量）とを加えそのまま２．５時間撹拌した。反応系は塩化メチレンにて希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液にて洗浄後、有機層を濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝６：１から３：１）、構造式４ａ’で表される化合物（４．００ｇ、４．１１ｍｍｏｌ、３工程で３９％）と構造式４ａで表される化合物（１．２６ｇ、１．４３ｍｍｏｌ、３工程で１４％）をそれぞれ無色シロップと白色紛体として得た。

【0088】

得られた構造式４ａ’で表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は、前記実施例１と同様であった。
また、得られた構造式４ａで表される化合物の融点、比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果も、前記実施例１と同様であった。

【0089】

＜構造式３ａ’で表される化合物の合成＞

【化50】

【0090】

前記構造式４ａ’で表される化合物（１０６ｍｇ、０．１０９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ ２ｍＬに溶解し、ＴＢＡＩ ２．５ｍｇ（１０ｍｏｌ％）、水素化ナトリウム ８．７ｍｇ（２当量）、臭化プレニル ６２．９μＬ（５当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌した。メタノール ０．１ｍＬを加え、５分間撹拌した後、蒸留水 １０ｍＬと塩化メチレン １０ｍＬとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液（１Ｍ、５ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、１１５ｍｇ（０．１０９ｍｍｏｌ）の構造式３ａ’で表される化合物を定量的に得た。

【0091】

−構造式３ａ’で表される化合物−
構造式３ａ’で表される化合物の比旋光度、^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度 ： ［α］^２５_Ｄ＝８７（ｃ＝１．６， ＣＨＣｌ_３）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３８−７．２０（ｍ， ３３Ｈ）， ７．１２−７．０９（ｍ， ２Ｈ）， ５．２６−５．２４（ｍ， １Ｈ）， ５．２１−５．２０（ｍ， ２Ｈ）， ４．９９（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．９７（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８６（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８４（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８０（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７０−４．６２（ｍ， ４Ｈ）， ４．５６（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５４（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４３（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３５（ｄ， Ｊ＝１２．２Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３３−４．２７（ｍ， １Ｈ）， ４．１７−４．１３（ｍ， ２Ｈ）， ３．９９（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．９６（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６９−３．６５（ｍ， １Ｈ）， ３．５８−３．４７（ｍ， ５Ｈ）， ３．４１（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．３３（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， １．６９（ｓ， ３Ｈ）， １．５３（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３９．１， １３９．０， １３８．４， １３８．４， １３８．３， １３８．０， １３８．０， １３７．２， １２８．５， １２８．５， １２８．４， １２８．４， １２８．１， １２８．１， １２８．０， １２８．０， １２７．８， １２７．７， １２７．６， １２７．６， １２７．６， １２７．５， １２１．３， ９４．８， ８２．０， ８１．８， ７９．４， ７９．４， ７７．７， ７７．５， ７７．４， ７５．８， ７５．７， ７５．２， ７３．６， ７２．８， ７２．７， ７０．８， ７０．６， ６９．７， ６８．４， ６８．１， ２５．９， １８．１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_６６Ｈ_７２Ｏ_１１Ｎａ ｍ／ｚ １０６３．４９６７ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １０６３．４９４５

【0092】

＜構造式２ａ’で表される化合物の合成＞

【化51】

【0093】

４６．９ｍｇ（４５μｍｏｌ）の構造式３ａ’で表される化合物をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、１２４ｍｇのＡＤ−ｍｉｘ−α、９．２ｍｇの（ＤＨＱ）_２ＰＨＡＬ（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド ８．９ｍｇ（２当量）と共に０℃にて７２時間撹拌した。反応系は亜硫酸ナトリウムを加え０℃にて３０分間撹拌することで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和食塩水にて洗浄後、芒硝乾燥し、濃縮乾固した。ここで^１Ｈ ＮＭＲによりジアステレオマー比を９：１と決定した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、構造式２ａ’で表される化合物を２１．９ｍｇ（２０．４μｍｏｌ、４５％）得た。

【0094】

−構造式２ａ’で表される化合物−
構造式２ａ’で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．３８−７．１３（ｍ， ３３Ｈ）， ７．１２−７．０９（ｍ， ２Ｈ）， ５．２０（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．１９（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０２（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ５．０１（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８９（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８１（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７７（ｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７２（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．６８−４．６１（ｍ， ２Ｈ）， ４．６４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５４（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．５３（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４５（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４０（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３７（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１５（ｂｒ ｄｔ， Ｊ＝９．８Ｈｚ， ３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１４−０６（ｍ， ２Ｈ）， ３．９１（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８２（ｄｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ２．３Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６９（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．６０（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ３．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５４（ｄｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ３．６Ｈｚ， １Ｈ）， ３．５２（ｄｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， ３．６Ｈｚ， １Ｈ）， ３．４９（ｄｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ， ８．０Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．４４−３．４１（ｍ， １Ｈ）， ３．４１−３．３９（ｍ， １Ｈ）， ３．３７（ｄｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， １．８Ｈｚ， １Ｈ）， ３．３２（ｄｄ， Ｊ＝１０．８Ｈｚ， ２．３Ｈｚ， １Ｈ）， ３．００（ｄ， Ｊ＝３．９Ｈｚ， １Ｈ）， ２．４０（ｓ， １Ｈ）， １．１０（ｓ， ３Ｈ）， ０．９８（ｓ， ３Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ１３８．９， １３８．６， １３８．４， １３８．３， １３８．１， １３７．９， １３７．７， １２８．５， １２８．５， １２８．５， １２８．１， １２８．１， １２８．０， １２７．９， １２７．９， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．８， １２７．７， １２７．５， １２７．５， ９４．６， ９４．４， ８２．０， ８１．３， ７９．６， ７９．６， ７８．２， ７７．８， ７６．３， ７５．７， ７５．７， ７５．３， ７３．８， ７３．７， ７３．６， ７３．０， ７２．６， ７１．３， ７０．８， ７０．５， ６８．５， ６８．２， ２６．６， ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_６６Ｈ_７４Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ １０９７．５０２２ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １０９７．４９９９

【0095】

＜構造式（１）で表される化合物の合成＞

【化52】

【0096】

１８．０ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の構造式２ａ’で表される化合物を１．５ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％ Ｐｄ／Ｃを１５ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、９．０ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を定量的に得た（６工程、収率１８％）。

【0097】

得られた構造式（１）で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は、前記実施例１と同様であった。

【0098】

（実施例３：構造式４ａ’で表される化合物を経由するレンツトレハロースＡの合成−２）
＜構造式２ａ’’で表される化合物の合成＞

【化53】

【0099】

前記実施例２と同様にして、構造式４ａ’で表される化合物を得た。
前記構造式４ａ’で表される化合物（２５．０ｍｇ、２５．１μｍｏｌ）をジメチルホルムアミド １．５ｍＬに溶解し、水素化ナトリウム ２．６ｍｇ（２．５当量）、１５−ｃｒｏｗｎ−５ １３μＬ（２．６当量）、構造式Ｉで表されるエポキシド １２．３ｍｇ（２．５当量）を氷冷下順次加え、７０℃にて１８時間撹拌した。氷冷下でメタノール ０．１ｍＬを加え、５分間撹拌した後、蒸留水 ８ｍＬと塩化メチレン １０ｍＬとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液（１Ｎ、４ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。後処理の後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、９．０ｍｇ（７．７２μｍｏｌ）の構造式２ａ’’で表される化合物を得た（収率３０％）。

【0100】

−構造式２ａ’’で表される化合物−
構造式２ａ’’で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） ： δ７．４１−７．２４（ｍ， ３６Ｈ）， ７．１４−７．１１（ｍ， ２Ｈ）， ５．２１（ｄ， Ｊ＝３．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ５．０２（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ５．００（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８８（ｄ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８７（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．８２（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．７１−４．６４（ｍ， ４Ｈ）， ４．５５（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４９（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４７（ｄ， Ｊ＝１０．５Ｈｚ， １Ｈ）， ４．４４−４．４２（ｍ， ２Ｈ）， ４．４２（ｄ， Ｊ＝１１．９Ｈｚ， １Ｈ）， ４．３７（ｄ， Ｊ＝１２．１Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１８−４−４．０６（ｍ， ２Ｈ）， ４．０３（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ４．００（ｔ， Ｊ＝９．４Ｈｚ， １Ｈ）， ３．９７−３．９３（ｍ， １Ｈ）， ３．８５（ｄｄ， Ｊ＝１０．３Ｈｚ， １．６Ｈｚ， １Ｈ）， ３．７５−３．６３（ｍ， ３Ｈ）， ３．５８−３．４６（ｍ， ５Ｈ）， ３．４２−３．３４（ｍ， ２Ｈ）， １．１５（ｓ， ３Ｈ）， １．１１（ｓ， ３Ｈ）
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析 ： ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ_７３Ｈ_８０Ｏ_１３Ｎａ ｍ／ｚ １１８７．５４９１ ［Ｍ＋Ｎａ］^＋， ｆｏｕｎｄ １１８７．５４７６

【0101】

＜構造式（１）で表される化合物の合成＞

【化54】

【0102】

８．５ｍｇ（７．２９μｍｏｌ）の構造式２ａ’’で表される化合物を１ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％ Ｐｄ／Ｃを７．０ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、２．９ｍｇ（６．５３μｍｏｌ）の構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を得た（収率８９％）。なお、絶対配置既知のトレハロースから導かれる合成中間体による絶対配置既知のエポキシドの立体特異的開環反応を利用した本合成により、レンツトレハロースＡの絶対立体配置は構造式（１）で表される通り決定された。

【0103】

得られた構造式（１）で表される化合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトル、^１３Ｃ ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は、前記実施例１と同様であった。

【0104】

以上の結果から、本発明の方法により、構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を効率良く合成できることが示された。

【0105】

本発明の態様としては、例えば、以下のものなどが挙げられる。
＜１＞ 下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。

【化55】

【化56】

【化57】

【化58】

【化59】

【化60】

【化61】

ただし、前記構造式４ａ、前記構造式４ａ’、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式２ａ、及び前記構造式２ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜２＞ 下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。

【化62】

【化63】

【化64】

【化65】

ただし、前記構造式４ａ’、前記構造式Ｉ、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜３＞ 下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式２ａで表される化合物、下記構造式２ａ’で表される化合物、及び下記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。

【化66】

【化67】

【化68】

【化69】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜４＞ 下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法である。

【化70】

【化71】

【化72】

【化73】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、前記構造式３ａ、及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜５＞ 下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。

【化74】

【化75】

【化76】

ただし、前記構造式２ａ’’、前記構造式４ａ’、及び前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜６＞ 下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法である。

【化77】

【化78】

【化79】

【化80】

ただし、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式４ａ、及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜７＞ 下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法である。

【化81】

【化82】

ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜８＞ 下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。

【化83】

【化84】

【化85】

ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜９＞ 下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。

【化86】

【化87】

ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜１０＞ 下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。

【化88】

【化89】

ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。