特許 6560109 印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6560109

(24)【登録日】2019年7月26日

(45)【発行日】2019年8月14日

(54)【発明の名称】印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   B41N 1/24 20060101AFI20190805BHJP

   B41C 1/14 20060101ALI20190805BHJP

   H05K 3/12 20060101ALI20190805BHJP

【ＦＩ】

   B41N1/24

   B41C1/14 101

   H05K3/12 610P

【請求項の数】6

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2015-231315(P2015-231315)

(22)【出願日】2015年11月27日

(65)【公開番号】特開2017-94645(P2017-94645A)

(43)【公開日】2017年6月1日

【審査請求日】2018年8月3日

(73)【特許権者】

【識別番号】300071823

【氏名又は名称】株式会社ボンマーク

(74)【代理人】

【識別番号】100082175

【弁理士】

【氏名又は名称】高田 守

(74)【代理人】

【識別番号】100106150

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 英樹

(74)【代理人】

【識別番号】100142642

【弁理士】

【氏名又は名称】小澤 次郎

(72)【発明者】

【氏名】仁科 秀樹

【審査官】 亀田 宏之

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１４−１３８９８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−２０８２５９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−１３３３７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１０／０２５８０１４（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ４１Ｎ １／２４

Ｂ４１Ｃ １／１４

Ｈ０５Ｋ ３／１２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

版枠と、
前記版枠の内側に外周が張設されている少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着した状態で接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルと、を備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクであって、
前記ベースメタルは、前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、前記印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備え、
前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅２００μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面であり、
前記第１のブラスト加工表面以外の前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び前記印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面であることを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。

【請求項2】

幅１５〜２００μｍ以下の複数本の極細細線を、極細細線相互間の間隔が幅１５〜２００μｍ以下となるように平行に並べたことを特徴とする請求項１記載のスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。

【請求項3】

版枠と、
前記版枠の内側に外周が張設されている少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着した状態で接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルと、を備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクであって、
前記ベースメタルは、前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、前記印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備え、
前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅２００μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面であり、
前記第１のブラスト加工表面以外の前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び前記印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面であるスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、
ＳＵＳ材の表面全体に第１のブラスト加工を施すことにより、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第１のブラスト加工表面を形成し、前記ＳＵＳ材の表面に目隠しのパターンレジスト膜を形成し、前記目隠しのパターンレジスト膜が形成されたＳＵＳ材の上面から第２のブラスト加工を施すことにより、目隠しのパターンレジスト膜で保護されていないＳＵＳ材の表面に前記極微小の凹部よりも大きい微小凹部が多数形成された第２のブラスト加工表面を形成して、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材を作製する工程と、
前記２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材を用い、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第１のブラスト加工表面に、複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含む印刷用開口パターンを形成するためのパターンレジスト膜を形成し、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の上面からめっき加工を施すことにより、前記ベースメタルの前記接合めっき面と反対側の被印刷面は、前記大きい微小凹部に対応する大きい微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面とし、少なくとも前記印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分は、前記極微小の凹部に対応する前記微小凸部よりも小さい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面としたベースメタルを作製する工程と、
を含むことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。

【請求項4】

２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の第１のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成され、前記ＳＵＳ母材の第２のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる前記極微小の凹部よりも大きい凹曲面状の極微小の凹部が多数形成されており、
ベースメタルの第１のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成され、ベースメタルの第２のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されていることを特徴とする請求項３記載のスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。

【請求項5】

幅１５〜２００μｍ以下の複数本の極細細線を、極細細線相互間の間隔が幅１５〜２００μｍ以下となるように平行に並べたことを特徴とする請求項３又は請求項４載のスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。

【請求項6】

印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、前記印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備えたメタルマスクにおいて、
前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅２００μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面とし、
前記第１のブラスト加工表面以外の前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び前記印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面としたことを特徴とするスクリーン印刷用メタルマスク。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この発明は、印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、電鋳により所望の印刷パターンにパターンニングされた多数の開口部を有するマスク基板の片面側に、囲い枠に対して緊張状態で張設した導電性を有するステンレスメッシュを重合密着させてめっきにより一体接合させてなるメッシュ一体型メタルマスクが知られている（例えば、特許文献１参照）。このメッシュ一体型メタルマスクでは、ステンレス製の電鋳母型の表面をそのまま使用しているので、電鋳母型の表面に形成される電着層（マスク基板）は荒らし加工の無い鏡面に近い状態となるため、マスク基板が印刷面に密着し版離れが悪くなる。

【0003】

また、他の従来技術として、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタル（電着層）とを備えたものにおいて、ベースメタルは、中央部に印刷用開口パターンを形成するとともに、印刷面（基板面側）に印刷時にエアーを逃がすためのエアー抜き用凸部を多数形成したサスペンドメタルマスクが知られている（例えば、特許文献２参照）。
また、他の従来技術として、電解研磨処理で通常用いられる電解研磨液の比重１．７よりも比重が小さい電解研磨液で使用してメタルマスクの作製時に使用する電鋳母型に電解研磨を行うことによって、表面の粗面化したサスペンドメタルマスクが知られている（例えば、特許文献３の請求項３参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開平８−１８３１５１号公報

【特許文献2】特開２０１４−１３８９８１号公報

【特許文献3】特開２０１４−１３３３７５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記他の従来技術のサスペンドメタルマスクにおいては、ベースメタル用ＳＵＳ母材の表面全体に、電解研磨、化学研磨、ブラスト等で荒らし加工を施すことによりＳＵＳ母材表面に微小な凹形状を形成することで、ＳＵＳ母材の表面に形成されるベースメタルの母材側を印刷体に接する側に使用することで、印刷体に接触する側の全面に微小な凸部が多数形成されているため、印刷時にエアー抜きをすることでカスレを防止することができる。しかし、例えば、タッチパネル用配線パターンに使用されるベースメタルの場合、所望の印刷パターン形状が例えば、幅約５０μｍ以下の複数本の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べられており、極細細線の先端部は端子用の太線に接続されているので、極細細線と端子用の太線が混在した状態となる。このような場合、ベースメタルの印刷パターン全体に荒らし加工による微小な凸部が多数形成されているため、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生し易くなるという問題が発生する。この問題を解決するために、発明者は、ベースメタルの接合めっき面と反対側の被印刷面は荒らし加工が施されたブラスト加工表面としているが、少なくとも所望の印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分は、荒らし加工がされていない鏡面に近い表面としたものを改良案として提案した。しかし、印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を、荒らし加工がされていない鏡面に近い表面としたものでは、印刷用開口パターンの形成領域における極細細線の形成状況の如何によっては、カスレの発生を防止することができないことがある。

【0006】

この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生することがない印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法を提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクにおいては、版枠と、版枠の内側に外周が張設されている少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着した状態で接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルと、を備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクであって、ベースメタルは、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備え、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅２００μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面であり、第１のブラスト加工表面以外の印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び印刷開口パターン非開口領域部分は、極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面である。

【0008】

また、幅１５〜２００μｍ以下の複数本の極細細線を、極細細線相互間の間隔が幅１５〜２００μｍ以下となるように平行に並べたものである。

【0011】

また、この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法においては、ＳＵＳ材の表面全体に第１のブラスト加工を施すことにより、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第１のブラスト加工表面を形成し、ＳＵＳ材の表面に目隠しのパターンレジスト膜を形成し、目隠しのパターンレジスト膜が形成されたＳＵＳ材の上面から第２のブラスト加工を施すことにより、目隠しのパターンレジスト膜で保護されていないＳＵＳ材の表面に極微小の凹部よりも大きい微小凹部が多数形成された第２のブラスト加工表面を形成して、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材を作製する工程と、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材を用い、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第１のブラスト加工表面に、複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含む印刷用開口パターンを形成するためのパターンレジスト膜を形成し、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の上面からめっき加工を施すことにより、ベースメタルの接合めっき面と反対側の被印刷面は、大きい微小凹部に対応する大きい微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面とし、少なくとも印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分は、極微小凹部に対応する微小凸部よりも小さい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面としたベースメタルを作製する工程と、を含むものである。

【0012】

また、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の第１のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成され、ＳＵＳ母材の第２のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる極微小の凹部よりも大きい凹曲面状の極微小の凹部が多数形成されており、ベースメタルの第１のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成され、ベースメタルの第２のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されているものである。

【0013】

また、この発明に係る印刷用メタルマスクにおいては、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備えたメタルマスクにおいて、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅２００μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面とし、第１のブラスト加工表面以外の印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面としたものである。

【発明の効果】

【0014】

この発明によれば、印刷パターン形状が、例えば幅約１５〜２００μｍ以下の複数本（例えば１０本）の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約１５〜２００μｍ以下となるように平行に並んだものが要求された場合であっても、幅約１５〜２００μｍ以下の複数本の極細細線と対応する形成領域のベースメタル５の表面は、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されている第１のブラスト加工表面となるので、メタルマスクとしての印刷使用時に印刷ムラが発生することがなく、綺麗な印刷になるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図である。

【図2】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程を示す断面図である。

【図3】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっきが終了した状態を示す断面図である。

【図4】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合状態からセットを解除した状態を示す断面図である。

【図5】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルからＳＵＳ母材を剥離している状態を示す断面図である。

【図6】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルの開口レジストを剥離する前の状態を示す断面図である。

【図7】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルの開口レジストを剥離した状態を示す断面図である。

【図8】この発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するＳＵＳ母材の作製工程を示す断面図である。

【図9】第１のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の一部を拡大して示す断面図である。

【図10】第２のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の一部を拡大して示す断面図である。

【図11】この発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するＳＵＳ母材の表面状態を示す要部平面図である。

【図12】この発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程を示す断面図である。

【図13】この発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクを示す要部平面図である。

【図14】図１３の一部を拡大して示す平面図である。

【図15】図１３のベースメタルの第１のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図である。

【図16】図１３のベースメタルの第２のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

この発明をより詳細に説明するため、添付の図面に従ってこれを説明する。なお、各図
中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化な
いし省略する。

【0017】

実施の形態１.
図１はこの発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図、図２〜図７はこの発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の製造工程を示す断面図、図８はこの発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するＳＵＳ母材の作製工程を示す断面図、図９は第１のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の一部を拡大して示す断面図、図１０は第２のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の一部を拡大して示す断面図、図１１はこの発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するＳＵＳ母材の表面状態を示す要部平面図、図１２はこの発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程を示す断面図、図１３はこの発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクを示す要部平面図、図１４は図１３の一部を拡大して示す平面図、図１５は図１３のベースメタルの第１のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図、図１６は図１３のベースメタルの第２のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図である。

【0018】

この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な構成要素は、図１に示すように、中央部に設けられた通電性を有するステンレスメッシュ又はニッケルメッシュからなる金属製メッシュ１及びこの金属製メッシュ１の外側に設けられたテトロンメッシュ２とからなるコンビネーションメッシュが内側に張設された四角形状の金属製版枠３と、ベースメタル用ＳＵＳ母材４上に設けられ、印刷用開口パターンが形成される中央部分に印刷用開口パターン形成用レジスト５ａが施されているＮｉ製のベースメタル５と、テトロンメッシュ６が張設された四角形状の接合補助用金属製版枠７と、この接合補助用金属製版枠７のテトロンメッシュ６とベースメタル用ＳＵＳ母材４との間に介装されるスポンジ８とから構成される。なお、四角形状の金属製版枠３に張設されるメッシュは、中央部の金属製メッシュ１と外側のテトロンメッシュ２とからなるコンビネーションメッシュが好適であるが、コンビネーションメッシュでなく、通電性を有する金属製メッシュ１の単体からなる一枚物であっても良い。上記ベースメタル５は、所望の箇所に印刷用開口パターン５ｂが形成されている。

【0019】

この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程に当たっては、図２に示すように、右側に四角形状の金属製版枠３を配置し、左側に四角形状の接合補助用金属製版枠７を配置する。そして、金属製版枠３の金属製メッシュ１と重合して位置するようにベースメタル５を配置し、金属製版枠３と接合補助用金属製版枠７を互いに重合させて粘着テープ９等で締結固定し、ベースメタル用ＳＵＳ母材４及びスポンジ８を介してベースメタル５と金属製メッシュ１が互いに密着状態となるようにセットする。この密着状態にセットしたものを陰極１０に接続するとともに電気的に導通させて、スルファミン酸ニッケル浴が入っためっき槽１１内に収容し、ニッケル１２を陽極１３に接続することにより、ベースメタル５と金属製メッシュ１の間で接合めっきを行い、両者を一体的に接合する。この接合めっき量は、通常片側２μｍとし、電鋳めっきと同じめっき法を用いる。また、陽・陰極電流密度は約０．１〜２．０Ａ／ｄｍ^２、好ましくは０．５〜１．０Ａ／ｄｍ^２の低電流を用いることにより、接合めっき量の均一性向上と金属製メッシュ１の断線を防止することができる。

【0020】

次に、接合めっき工程が終了したら、上記密着状態にセットしたものをめっき槽１１から取り出し（図３参照）、粘着テープ９を取り外して密着状態にセットしたものを解除する（図４参照）。次に、ベースメタル５からベースメタル用ＳＵＳ母材４を剥離する（図５及び図６参照）。その後、ベースメタル５と金属製メッシュ１の接合部がめっきにより一体的に接合されている金属製版枠３のベースメタル５から印刷用開口パターン形成用レジスト５ａを剥離することにより、印刷用開口パターン５ｂが形成される（図７参照）。なお、ベースメタル５の印刷用開口パターン形成用レジスト５ａ及び印刷用開口パターン５ｂは、簡略化してイメージのみを示したものであり、実際のものとは相違する。

【0021】

この基本となる印刷用サスペンドメタルマスクでは、ベースメタル用ＳＵＳ母材４の表面全体に、電解研磨、化学研磨でなく、例えばビーズブラスト等で荒らし加工を施すことにより、ＳＵＳ母材の表面に形成される電着層（ベースメタル）の印刷体に接触する側の全面に微小な凸部が多数形成されているため、印刷時にエアー抜きをすることでカスレを防止することができるが、例えば、タッチパネル用配線パターンに使用されるメタルマスクの場合、所望の印刷パターン形状が例えば、幅約５０μｍ以下の複数本の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べられており、極細細線の先端部が端子用の太線に接続されており、極細細線と端子用の太線が混在することになる。このような場合、メタルマスクの印刷パターン部分の周辺にも荒らし加工による微小な凸部が多数形成されているため、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生し易くなるという問題が発生する。また、前述の改良案のように、印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を、荒らし加工がされていない鏡面に近い表面としたものであっても、印刷用開口パターンの形成領域における極細細線の形成状況の如何によっては、カスレの発生を防止することができないことがある。

【0022】

次に、これら問題を解決したこの発明の印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用する２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の作製工程及びＳＵＳ母材の表面の状態を図８〜図１０により説明する。
位置決め用認識マーク（図示せず）を付したＳＵＳ材４１を用意し（図８（ａ））、先ずＳＵＳ材４１の表面全体に上面から比較的小粒（約２０〜８０μｍ）の球状のガラスビーズによる第１のブラスト加工が施される（図８（ｂ））。これにより、比較的小粒の球状のガラスビーズによりＳＵＳ材４１の表面全体には、図９に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第１のブラスト加工表面４ａとなる。この極微小の凹部のサイズは、深さがＲＡ２５μｍ以下、直径が５〜８０μｍである。次にＳＵＳ材４１の表面全体にドライフィルム４２を塗布する（図８（ｃ））。そして、ドライフィルム４２の上に印刷パターンフィルム４３を密着させて露光、現像等を行い（図８（ｄ））、ＳＵＳ材４１の表面の、例えば幅約１０００μｍ（１ｍｍ）のみにパターンレジスト膜４２ａを形成し、目隠しとする（図８（ｅ））。なお、この幅約１０００μｍ（１ｍｍ）のパターンレジスト膜４２ａが形成される形成領域は、位置決め用認識マークで位置合わせすることにより正確に設定することができ、タッチパネル用配線パターンに使用されるメタルマスクの場合、所望の印刷パターン形状が、例えば幅約５０μｍ以下の複数本（例えば１０本）の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べられており、極細細線の先端部が端子用の太線に接続されているものが相当し、それに例えば＋１００μｍ程度の補正をかけたものとなる。そして、幅約１０００μｍ（１ｍｍ）の目隠しのパターンレジスト膜４２ａが形成されたＳＵＳ材４１の上面から比較的大粒（１００〜１０００μｍ）の球状のガラスビーズによる第２のブラスト加工が施される（図８（ｆ））。これにより、比較的大粒の球状のガラスビーズによりＳＵＳ材４１の表面全体のうち、パターンレジスト膜４２ａの目隠しがされていない部分には、図１０に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部よりも大きい微小凹部が多数形成された第２のブラスト加工表面４ｂとなる。この大きい微小凹部のサイズは、深さがＲＡ５０μｍ以下、直径が８５〜２５０μｍである。この２種類の球状のガラスビーズによる第１のブラスト加工及び第２のブラスト加工終了後に得られるこの発明のＳＵＳ母材４の表面の状態は、図１１に示すように、幅約１０００μｍ（１ｍｍ）の目隠しのパターンレジスト膜４２ａで保護されていない箇所の表面は、比較的大粒の球状のガラスビーズによる凹曲面状の大きい微小凹部が多数形成された第２のブラスト加工表面４ｂとなるが、幅約１０００μｍ（１ｍｍ）の目隠しのパターンレジスト膜４２ａで保護されている形成領域の表面は、比較的小粒の球状のガラスビーズによる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第１のブラスト加工表面４ａとなる。すなわち、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４が作製されることになる。なお、比較的小粒の球状のガラスビーズが施された第１のブラスト加工表面４ａには、図９に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成されることになる。また、比較的大粒の球状のガラスビーズが施された第２のブラスト加工表面４ｂには、図１０に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の大きい微小の凹部が多数形成されることになる。このように球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部や微小の凹部であることから、後の作製工程で作製されるベースメタル５をＳＵＳ母材４から容易に剥がすことができる。第１及び第２のブラスト加工表面４ａ、４ｂが凹曲面状の極微小凹部又は微小凹部ではなく、垂直な壁面を持つもの、或いは上部が狭くなっているものであると、ベースメタル５が剥がれにくくなってしまうのである。なお、２種類のブラスト加工として、球状のガラスビーズを用いた例を説明したが、ガラスビーズの場合は衝撃により砕けてしまうため、再利用することができない。再利用を可能にするために、例えば金属球を使用することもできる。

【0023】

次に、問題を解決したこの発明の印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程を図１２により説明する。
まず上記ＳＵＳ母材の作製工程で得られた２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４を第１のブラスト加工表面４ａ及び第２のブラスト加工表面４ｂが上となるように用意し（図１２（ａ））、２種類のブラスト加工が施された荒らしＳＵＳ母材４の上面にドライフィルム５２を塗布する（図１２（ｂ））。次にドライフィルム５２の上に印刷パターンフィルム５３を密着させて露光、現像等を行い（図１２（ｃ））、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４の上面中央の幅約１０００μｍ（１ｍｍ）の範囲である第１のブラスト加工表面４ａに、例えば幅約５０μｍ以下の複数本（例えば１０本）の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べたパターンレジスト膜５２ａを形成する（図１２（ｄ））。なお、幅約１０００μｍ（１ｍｍ）の範囲にパターンレジスト膜５２ａを正確に形成するために位置決め用認識マークが利用される。そして、パターンレジスト膜５２ａが形成された２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４の上面からめっき加工を施すことにより、ベースメタル５を作製する（図１２（ｅ））。このめっき加工終了後に得られるこの発明のベースメタル５の表面の状態は、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４の比較的大粒の球状のガラスビーズが施された第２のブラスト加工表面４ｂと対応する面が、対称となる逆の関係となりベースメタル５の第２のブラスト加工表面５ｄとなる。一方、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４の上面中央の幅約１０００μｍ（１ｍｍ）の範囲である比較的小粒の球状のガラスビーズが施された第１のブラスト加工表面４ａに対応する面が、対称となる逆の関係となりベースメタル５の第１のブラスト加工表面５ｃとなる。なお、ベースメタル５の第１のブラスト加工表面５ｃには、図１５に示すように、球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されることになる。また、ベースメタル５の第２のブラスト加工表面５ｄには、図１６に示すように、球状の一部からなる凸曲面状の大きい微小凸部が多数形成されることになる。このように球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部や微小凸部であることから、印刷対象物（印刷体）に対し滑らかに接触することになるので、印刷対象物に傷が付きにくいという利点がある。

【0024】

次に、この発明の印刷用サスペンドメタルマスクの要部構成を図１３〜図１５により説明する。２種類の球状のガラスビーズによるブラスト加工終了後に得られる２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４を使用して、印刷用サスペンドメタルマスクを作製する場合を考える。例えば、タッチパネル用配線パターンに使用されるサスペンドメタルマスクのベースメタル５の場合、所望の印刷パターン形状の一部が、例えば幅約５０μｍ以下の複数本（例えば１０本）の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べたもので、極細細線の先端部は端子用の太線に接続されているので、極細細線と端子用の太線が混在した状態となる。幅約５０μｍ以下の複数本（１０本）の極細細線と対応する形成領域のベースメタル５の表面は、比較的小粒の球状のガラスビーズが施された第１のブラスト加工表面４ａに対応し、対称となる逆の関係となり球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面５ｃとなる。一方、極細細線と対応する形成領域以外、すなわち第１のブラスト加工表面５ｃ以外の箇所（端子用の太線を含む）のベースメタル５の表面は、比較的大粒の球状のガラスビーズが施された第２のブラスト加工表面４ｂと対応し、対称となる逆の関係となり球状の一部からなる凸曲面状の大きい微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面５ｄとなる。なお、図１３〜図１４において、ベースメタル５の裏側には金属製メッシュ１がめっきにより接合されているので、ベースメタル５の印刷パターン形状を通して裏側の金属製メッシュ１の一部が見える。
これにより、タッチパネル用配線パターンに使用されるサスペンドメタルマスクのベースメタル５の場合で、所望の印刷パターン形状の一部が、例えば幅約５０μｍ以下の複数本（例えば１０本）の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並んだものが要求された場合であっても、幅約５０μｍ以下の複数本の極細細線と対応する形成領域のベースメタル５の表面は、比較的小粒の球状のガラスビーズ加工が施された面と対応する対称となる逆の関係となり、球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面５ｃとなるので、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生することがない。
なお、所望の印刷パターン形状の一部を、例えば幅約５０μｍ以下の複数本の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べたものとしたが、複数本の極細細線の本数と幅と間隔は、設計値であるので任意に変更することができる。例えば、本数は２０〜３０本、幅と間隔は、約１５μｍ〜２００μｍまで可能である。
また、２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材４及びベースメタル５について説明したが、大きさの異なる３種類、４種類のブラスト加工が施されたものであっても良い。

【0025】

実施の形態２.
上記実施の形態１では、所望の印刷パターン形状の一部が、例えば幅約５０μｍ以下の複数本（例えば１０本）の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約５０μｍ以下となるように平行に並べたものであり、各極細細線を全て同一幅であるとしたが、この実施の形態２においては、複数本の極細細線のうち、大きな開口の近くに配置される１本の極細細線（図１２の最上端に配置される極細細線）の幅を、最上端の下方に配置される他の極細細線の幅の２倍以上に設定したものである。この場合、スキージの進行方向は下方から上方に向かって移動するものとする。大きな開口の近くに配置される１本の極細細線（図１２の最上端に配置される極細細線）の下方寄り（スキージ進行方向の入口側）の１／２の部分は、滲みの問題があるため、球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面５ｃとするが、大きな開口の近くに配置される１本の極細細線（図１２の最上端に配置される極細細線）の上方寄り（スキージ進行方向の出口側）の１／２の部分は、滲みの問題が発生することが少ないので、球状の一部からなる凸曲面状の大きい微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面５ｄとしたものである。
この実施の形態２においても、実施の形態１と同様、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生することがないという効果を得ることができる。

【0026】

実施の形態３.
上記実施の形態１、２では、印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用する２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材の作製工程、同じく印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程、及び印刷用サスペンドメタルマスクの要部構成について説明したが、この発明は印刷用サスペンドメタルマスクに限らず、印刷用開口パターンが形成される印刷に関係がある部分と、印刷用開口パターンが形成されない印刷に関係がない部分とを備えたメタルマスクにおいて、印刷用開口パターンが形成される印刷に関係がある部分のうちの一部は、複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第１のブラスト加工表面とし、第１のブラスト加工表面以外の印刷用開口パターンが形成される印刷に関係がある部分のうちの残部及び印刷に関係がない部分は、極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第２のブラスト加工表面としたスクリーン印刷用メタルマスクの場合にも、適用することが可能である。

【符号の説明】

【0027】

１ 金属製メッシュ
２ テトロンメッシュ
３ 金属製版枠
４ ２種類のブラスト加工が施されたＳＵＳ母材（ベースメタル用ＳＵＳ母材）
４ａ 第１のブラスト加工表面
４ｂ 第２のブラスト加工表面
５ ベースメタル
５ａ 印刷用開口パターン形成用レジスト
５ｂ 印刷用開口パターン
５ｃ 第１のブラスト加工表面
５ｄ 第２のブラスト加工表面
６ テトロンメッシュ
７ 接合補助用金属製版枠
８ スポンジ
９ 粘着テープ
１０ 陰極
１１ めっき槽
１２ ニッケル
１３ 陽極
４１ ＳＵＳ材
４２、５２ ドライフィルム
４２ａ 目隠しのパターンレジスト膜
５２ａ パターンレジスト膜
４３、５３ 印刷パターンフィルム

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】