特許6564362反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法

発明の名称　反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法

出願人　芝浦メカトロニクス株式会社　（識別番号 2428）

　　　　特許公開件数ランキング 490 位（56件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 395 位（65件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6564362

公報発行日　2019年8月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6564362

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6564362「反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録