知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
特許6568982静電容量方式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6568982
(24)【登録日】2019年8月9日
(45)【発行日】2019年8月28日
(54)【発明の名称】静電容量方式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造
(51)【国際特許分類】
G06F 3/041 20060101AFI20190819BHJP
G06F 3/044 20060101ALI20190819BHJP
【ＦＩ】
G06F3/041 400
G06F3/044 122
【請求項の数】12
【全頁数】35
(21)【出願番号】特願2018-106122(P2018-106122)
(22)【出願日】2018年6月1日
(62)【分割の表示】特願2015-560101(P2015-560101)の分割
【原出願日】2014年2月27日
(65)【公開番号】特開2018-152123(P2018-152123A)
(43)【公開日】2018年9月27日
【審査請求日】2018年6月15日
(31)【優先権主張番号】10-2013-0021292
(32)【優先日】2013年2月27日
(33)【優先権主張国】KR
(31)【優先権主張番号】10-2013-0046727
(32)【優先日】2013年4月26日
(33)【優先権主張国】KR
(31)【優先権主張番号】10-2013-0047640
(32)【優先日】2013年4月29日
(33)【優先権主張国】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】515235056
【氏名又は名称】ミラエナノテック カンパニー リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110001416
【氏名又は名称】特許業務法人 信栄特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】キム テイル
(72)【発明者】
【氏名】チョイ ブミ
(72)【発明者】
【氏名】キム サン ジン
(72)【発明者】
【氏名】キム ダル ス
【審査官】
桜井 茂行
(56)【参考文献】
【文献】
国際公開第２０１２／１６９８４８（ＷＯ，Ａ２）
【文献】
特開２０１３−０３０３７８（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２０１１−１７５６２８（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２０１２−０６８８９３（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２０１０−２８６８８６（ＪＰ，Ａ）
【文献】
米国特許出願公開第２０１２／０３１９９７４（ＵＳ，Ａ１）
【文献】
米国特許出願公開第２０１２／００６２２５０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】
特表２０１１−５１４５９７（ＪＰ，Ａ）
【文献】
米国特許出願公開第２０１１／０３１００３３（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ｇ０６Ｆ ３／０３−３／０４７
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板に形成されてタッチ信号を感知する多数のセンサパターン、
前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、および
前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極間の空間に形成される多数のダミーパターン
を備え、前記多数のダミーパターンは、物理的に分離する２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記多数のダミーパターンは、その内部のメッシュを断線させ、物理的に分離する少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、および
前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極間の空間に形成される多数のダミーパターン
を備え、前記多数のダミーパターンは、物理的に分離する２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記多数のダミーパターンは、その内部のメッシュを断線させ、物理的に分離する少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項2】
前記多数のセンサパターンは、
前記基板の一面に第１方向に配置される多数の第１センサパターン、および
前記第１センサパターンが配置された同一面に前記第１方向と交差する第２方向に配置される多数の第２センサパターン、
を備え、前記ダミーパターンは、前記第２センサパターンの間に配置された第１センサパターンに前記配線電極が連結することによって形成された空間に配列されることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
前記基板の一面に第１方向に配置される多数の第１センサパターン、および
前記第１センサパターンが配置された同一面に前記第１方向と交差する第２方向に配置される多数の第２センサパターン、
を備え、前記ダミーパターンは、前記第２センサパターンの間に配置された第１センサパターンに前記配線電極が連結することによって形成された空間に配列されることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項3】
前記多数のセンサパターンは、
前記基板の一面に第１方向に配置される多数の第１センサパターン、および 前記基板の他面に第１方向と交差する第２方向に配置される多数の第２センサパターン を備えることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
前記基板の一面に第１方向に配置される多数の第１センサパターン、および 前記基板の他面に第１方向と交差する第２方向に配置される多数の第２センサパターン を備えることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項4】
前記多数のダミーパターンそれぞれは、少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなり、互いに異なる数のサブダミーパターンからなることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項5】
分離する前記少なくとも２つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行するように形成されることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項6】
分離した前記少なくとも２つ以上のサブダミーパターンの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行しないように形成され、
前記多数のダミーパターンは、その内部メッシュを規則的にまたは不規則的に破断させる第１仮想線によって物理的に分離された２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記第１仮想線と第２仮想線との間には少なくとも１つの所定の第１角度が形成され、前記第１仮想線は前記多数のダミーパターンの前記内部メッシュを分離し、前記第２仮想線は前記第１ダミーパターンにおいて分離された少なくとも２つ以上のサブダミーパターンの端部間を仮想的に接続することを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
前記多数のダミーパターンは、その内部メッシュを規則的にまたは不規則的に破断させる第１仮想線によって物理的に分離された２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記第１仮想線と第２仮想線との間には少なくとも１つの所定の第１角度が形成され、前記第１仮想線は前記多数のダミーパターンの前記内部メッシュを分離し、前記第２仮想線は前記第１ダミーパターンにおいて分離された少なくとも２つ以上のサブダミーパターンの端部間を仮想的に接続することを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項7】
前記多数のダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する２つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記２つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、当該ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
前記２つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、当該ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項8】
前記多数のダミーパターンそれぞれは、その内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させ、物理的に分離する少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項9】
前記多数のダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割し、破断した線の長さが互いに異なるように形成されることを特徴とする、請求項８に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項10】
前記多数のセンサパターンと前記多数のダミーパターンの間に形成されたり、前記多数の配線電極と前記多数のダミーパターンの間に形成される多数の補助ダミーパターン
をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項11】
前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする、請求項１０に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【請求項12】
前記多数のダミーパターンと前記多数の補助ダミーパターンそれぞれは、多数に分割されて形成されることを特徴とする、請求項１０に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、静電容量式タッチスクリーンのためのタッチパッドの構造に関し、より詳細には、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、携帯電話、ＰＤＡ、ＭＰ３プレーヤなどの多様な携帯端末は、携帯性を向上させるためにそのサイズが小型化している。一方、このような携帯端末を利用して優れた品質の映像を提供するために、これに適用するディスプレイは大型化している。携帯端末自体の小型化とこれに適用するディスプレイの大型化の要求を満たすために、ディスプレイ自体にユーザの入力を可能にするタッチスクリーン方式が主に採用されている。また、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、ＡＭＯＬＥＤ（Ａｃｔｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）などの大型ＴＶやモニタでも、タッチスクリーン方式が採用されている。
【0003】
このようなタッチスクリーンは、ユーザがスクリーンに直接表示される文字や特定の位置に人間の手やタッチペンが触れた場合、触れた位置の座標を把握することによってユーザの入力を可能にする装置である。このようなタッチスクリーンは、その動作原理に応じ、静電容量方式、抵抗膜方式、表面超音波方式、赤外線方式などがある。
【0004】
特に、静電容量方式のタッチスクリーンは、人間の手または物体が触れたとき、導電性センサパターンが周辺の他のセンサパターンまたは接地電極などと形成する静電容量の変化を感知することによって接触位置を電気的信号に変換するようになる。
【0005】
このとき、接触面の接触位置を明確に判断するために、センサパターンは、第１方向に沿って連結するように形成された第１センサパターン、またはＸ方向パターンと第２方向に沿って連結するように形成された第２センサパターン、またはＹ方向パターンを含んで構成されるようになる。
【0006】
第１センサパターンと第２センサパターンは、それぞれ互いに異なるレイヤに配置される。例えば、第１センサパターンは上部レイヤに位置し、第２センサパターンは下部レイヤに位置し、第１センサパターンの間と第２センサパターンの間にはダミーパターンが配置される。
【0007】
図１ａ〜図１ｂは、従来技術に係るセンサパターンとダミーパターンの配置形態を示した図である。
【0008】
図１ａを参照すると、従来技術に係るタッチパッド内のセンサパターン１１０の間にダミーパターン１１１が配置されており、ダミーパターンは互いに連結していないことが確認される。センサパターンとダミーパターン間の部分短絡時に、センサパターンから電流が１つのダミーパターンに流入する。
【0009】
図１ｂを参照すると、従来技術に係るタッチパッド内のセンサパターン１１０の間にダミーパターン１１１ａが配置されており、ダミーパターンも互いに連結していることが確認される（１１１ｂ）。センサパターンとダミーパターン間の部分短絡時に、センサパターンから電流がダミーパターン全体に流入する。
【0010】
図２ａ〜図２ｂは、タッチパネル内の短絡による誤動作を説明するための図である。
【0011】
図２ａを参照すると、タッチパッド内のセンサパターンの特定部位をタッチすると、この部分の静電容量の変化をＸ軸とＹ軸に連結するそれぞれのセンサで認識してタッチ座標を把握することができる。
【0012】
図２ｂを参照すると、センサパターンとダミーパターン間の部分短絡が発生した場合、センサパターンの特定部位がタッチされると、電流がセンサパターンからダミーパターンに流入する。
【0013】
特に、ダミーパターンが互いに連結していない場合よりもダミーパターンが互いに連結している場合に、センサパターンとダミーパターン間の部分短絡が発生すると、センサパターンから流入した電流がダミーパターン全体に流入するため、過度な静電容量の変化を招来するようになり、正確な接触位置を判断するための妨害要素として作用するようになる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0014】
したがって、このような従来技術の問題点を解決するために、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、配置するダミーパターンを多数の予め設定された形態に分割して形成する、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造を提供することを目的とする。
【0015】
また、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成する、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造を提供することを他の目的とする。
【0016】
なお、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔して物理的に分離する補助ダミーパターンを形成する、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造を提供することをさらに他の目的とする。
【0017】
しかし、発明の目的が上述した事項に制限されるものではなく、上述されていないさらに他の目的は、後述の記載から当業者によって明確に理解されるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0018】
上述した目的を達成するために、本発明の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、第１方向に形成された第１センサパターンと前記第１センサパターンの間に第１ダミーパターンが配列される第１センサ部、および前記第１センサ部と重なっており、前記第１方向と交差する第２方向に形成された第２センサパターンと前記第２センサパターンの間に第２ダミーパターンが配列される第２センサ部を備え、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、物理的に分離する少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。
【0019】
好ましくは、前記第１ダミーパターンは前記第２センサパターンの位置に対応する領域に配置され、前記第２ダミーパターンは前記第１センサパターンの位置に対応する領域に配置されることを特徴とする。
【0020】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなり、互いに異なる数のサブダミーパターンからなることを特徴とする。
【0021】
好ましくは、分離した前記少なくとも２つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行するように形成されることを特徴とする。
【0022】
好ましくは、分離した前記少なくとも２つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行しないように形成されることを特徴とする。
【0023】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する２つ以上のサブダミーパターンからなり、前記２つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、第１ダミーパターンまたは第２ダミーパターンの全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように形成されることを特徴とする。
【0024】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する２つ以上のサブダミーパターンからなり、前記２つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、第１ダミーパターンまたは第２ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有するが均等面積を有するように形成されることを特徴とする。
【0025】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する２つ以上のサブダミーパターンからなり、前記２つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、第１ダミーパターンまたは第２ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする。
【0026】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、その内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させて物理的に分離した少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。
【0027】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で規則的に破断して分割することができ、破断した線の長さが等しくなるように形成されることを特徴とする。
【0028】
好ましくは、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割することができ、破断した線の長さが互いに異なるように形成されることを特徴とする。
【0029】
また、本発明に係る静電容量式タッチスクリーンのための補助ダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、前記第１センサパターンと前記第１ダミーパターンの間に位置し、前記第１センサパターンと前記第１ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して第１ダミーパターンと物理的に分離するように形成される第１補助ダミーパターン、および前記第２センサパターンと前記第２ダミーパターンの間に位置し、前記第２センサパターンと前記第２ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して第２ダミーパターンと物理的に分離するように形成される第２補助ダミーパターンをさらに備えることを特徴とする。
【0030】
本発明の他の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのための補助ダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、第１方向に形成された第１センサパターンと前記第１センサパターンの間に第１ダミーパターンと第１補助ダミーパターンが配列される第１センサ部、および前記第１センサ部と重なっており、前記第１方向と交差する第２方向に形成された第２センサパターンと前記第２センサパターンの間に第２ダミーパターンと第２補助ダミーパターンが配列される第２センサ部を備え、前記第１補助ダミーパターンは、前記第１センサパターンと前記第１ダミーパターンの間に位置し、前記第１補助ダミーパターンは、前記第１センサパターンと前記第１ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して物理的に分離するように形成され、前記第２補助ダミーパターンは、前記第２センサパターンと前記第２ダミーパターンの間に位置し、前記第２補助ダミーパターンは、前記第２センサパターンと前記第２ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して物理的に分離するように形成されることを特徴とする。
【0031】
好ましくは、前記第１補助ダミーパターンと前記第２補助ダミーパターンそれぞれは、該当する前記第１センサパターンと前記第２センサパターンの外郭線に沿って離隔して形成され、前記第１センサパターンと前記第２センサパターンの外郭線と同一形状を有するように形成されることを特徴とする。
【0032】
好ましくは、前記第１補助ダミーパターンと前記第２補助ダミーパターンそれぞれは、前記第１ダミーパターン、前記第２ダミーパターンと物理的に分離するように形成され、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、ダミー連結部と結合して形成されることを特徴とする。
【0033】
好ましくは、前記第１補助ダミーパターンと前記第２補助ダミーパターンそれぞれは、前記第１ダミーパターン、前記第２ダミーパターンと物理的に分離するように形成され、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンそれぞれは、ダミー連結部と物理的に分離して形成されることを特徴とする。
【0034】
好ましくは、前記第１補助ダミーパターンと前記第２補助ダミーパターンそれぞれは、前記第１ダミーパターン、前記第２ダミーパターンと物理的に分離するように形成され、前記第１ダミーパターンと前記第２ダミーパターンの外郭を囲むように形成されることを特徴とする。
【0035】
本発明のさらに他の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、基板に形成されてタッチ信号を感知する多数のセンサパターン、前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、および前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間の空間に形成される多数のダミーパターンを備え、前記多数のダミーパターンそれぞれは、物理的に分離した２つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。
【0036】
好ましくは、前記多数のセンサパターンは、前記基板の一面に第１方向に配置される多数の第１センサパターン、および前記第１センサパターンが配置された同一面に前記第１方向と交差する第２方向に配置される多数の第２センサパターンを備え、前記ダミーパターンは、前記第２センサパターンの間に配置された第１センサパターンに前記配線電極が連結することによって形成された空間に配列されることを特徴とする。
【0037】
好ましくは、前記多数のセンサパターンは、前記基板の一面に第１方向に配置される多数の第１センサパターン、および前記基板の他面に第１方向と交差する第２方向に配置される多数の第２センサパターンを備えることを特徴とする。
【0038】
好ましくは、前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさによって大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする。
【0039】
好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなり、互いに異なる数のサブダミーパターンからなることを特徴とする。
【0040】
好ましくは、分離した前記少なくとも２つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行するように形成されることを特徴とする。
【0041】
好ましくは、分離した前記少なくとも２つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行しないように形成されることを特徴とする。
【0042】
好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する２つ以上のサブダミーパターンからなり、前記２つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、当該ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする。
【0043】
好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、その内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させて物理的に分離した少なくとも２つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。
【0044】
好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割し、破断した線の長さが互いに異なるように形成されることを特徴とする。
【0045】
本発明のさらに他の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、基板に形成されてタッチ信号を感知する多数のセンサパターン、前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間の空間に形成される多数のダミーパターン、および前記多数のセンサパターンと前記多数のダミーパターンの間に形成されたり前記多数の配線電極と前記多数のダミーパターンの間に形成される多数の補助ダミーパターンを備えることができる。
【0046】
好ましくは、前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする。
【0047】
好ましくは、前記多数のダミーパターンと前記多数の補助ダミーパターンそれぞれは、多数に分割されて形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【0048】
これにより、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、配置するダミーパターンを多数の予め設定された形態に分割して形成したり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成したり、センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔して物理的に分離した補助ダミーパターンを形成したりすることにより、センサパターンとダミーパターン間の部分短絡が発生しても、機能の安全性を確保することができるという効果がある。
【0049】
また、本発明は、ダミーパターンの分割やメッシュの断線によってセンサパターンからダミーパターンに流入する電流を最小化させ、センサの動作を向上させることができる効果がある。
【0050】
なお、本発明は、センサパターンとダミーパターンが一部短絡しても、その短絡範囲が小さいため、製品自体を廃棄する程度にまで製品使用に問題がないことから、収率を向上させることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【0051】
【図2a】タッチパネル内の短絡による誤動作を説明するための図である。
【図2b】タッチパネル内の短絡による誤動作を説明するための図である。
【図3】本発明の一実施形態に係るセンサパターンの形態を示した図である。
【図5】本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を拡大して示した例示図である。
【図6】本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を形成するメッシュ形状のパターンを示した例示図である。
【図15】本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第５図である。
【図16】本発明の一実施形態に係る補助ダミーパターンの配置形態を示した図である。
【図17】本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第６図である。
【図19】本発明の他の実施形態に係るタッチスクリーンセンサの構成を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【0052】
以下、本発明の実施形態に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造について、添付の図面を参照しながら説明する。本発明に係る動作および作用を理解するために必要な部分を中心に詳しく説明する。
【0053】
また、本発明の構成要素を説明するにおいて、同じ名称の構成要素であっても図面によって異なる参照符号を付与することもあり、互いに異なる図面であっても同じ参照符号を付与することもある。しかし、このような場合であっても、該当する構成要素が実施形態によって互いに異なる機能を有することを意味したり、互いに異なる実施形態で同じ機能を有することを意味するのではなく、それぞれの構成要素の機能は、該当する実施形態でそれぞれの構成要素に関する説明に基づいて判断されなければならない。
【0054】
特に、本発明では、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、１）配置されるダミーパターンを多数の予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成したり、２）配置されるダミーパターンを構成する内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成したり、３）センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔して物理的に分離した補助ダミーパターンを形成するようにする、新たなタッチパッドまたはセンサ基板の構造を提案する。
【0055】
このようにセンサパターンの間に配置されるダミーパターンをサブダミーパターンで分割したり、ダミーパターンと補助ダミーパターンに分割する理由は、短絡時にセンサパターンから流入する電流がダミーパターン全体に流入することを防ぐためである。
【0056】
図３は、本発明の一実施形態に係るセンサパターンの形態を示した図である。
【0057】
図３に示すように、本発明に係るセンサパターンは互いに交差配列し、Ｘ座標を感知するための第１センサパターン１１０とＹ座標を感知するための第２センサパターン２１０を備えることができる。
【0058】
例えば、第１センサパターン１１０は、Ｘ座標を感知するためのパターンであって、第１方向、例えば縦方向に規則的に形成することができる。また、第２センサパターン２１０は、Ｙ座標を感知するためのパターンであって、第２方向、例えば横方向に規則的に形成することができる。
【0059】
第１センサパターン１１０は、多数の第１感知部１１０ａと、その第１感知部１１０ａを連結する連結部１１０ｂを備え、第２センサパターン２１０も同じように、多数の第２感知部２１０ａと、その第２感知部２１０ａを連結する連結部２１０ｂを備えることができる。
【0061】
図４ａを参照すると、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板は、基材の一面に一定方向のパターンで連結する電極で形成された多数の感知部１１０ａ、および前記パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記感知部１１０ａを連結する連結部１１０ｂを備える。
【0062】
また、図４ｂを参照すると、本実施形態において、タッチスクリーンセンサ基板は、感知部１１０ａに隣接し、前記パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記感知部１１０ａの視認性を低減させる多数のダミーパターン１１１ａを使用するようになる。
【0063】
ここで、感知部１１０ａおよびダミーパターンは、ユーザのタッチ信号を感知するために備えられる電極であって、本発明では導電性材料で形成され、この導電性材料は不透明性を有することができる。
【0064】
また、ダミーパターン１１１ａは、感知部１１０ａと隣り合い、または隣接して形成される電極であって、名称で意味するようにダミー（ｄｕｍｍｙ）、すなわち、感知部１１０ａと類似する形状のパターンで形成され、ユーザのタッチ信号を感知することができないように不活性状態に形成される電極またはその組み合わせを意味する。したがって、感知部１１０ａとダミーパターン１１１ａは、電気的に絶縁するように形成される。ダミーパターン１１１ａを基材に形成する理由は、透明電極物質で形成されない感知部１１０ａがタッチスクリーンセンサに全面に形成され、タッチスクリーンセンサに照射する外部光によって感知部１１０ａが視認される現象を防ぐためである。
【0065】
また、図４ａ〜図４ｂの場合には、感知部１１０ａとダミーパターン１１１ａが直線形状に形成されたものが示されているが、本発明がこれに限定されるものではなく、多様なパターンの形状で形成することが可能であり、例えば、感知部１１０ａの全体形状をダイヤモンド、台形、ひし形などの形状で形成することが可能である。
【0066】
一方、電極は、感知部１１０ａで感知されたタッチ信号を外部の駆動回路（図示せず）に送るために備えられる電極であって、基材に感知部１１０ａおよびダミーパターン１１１を形成するときに同時に形成されることが好ましい。本発明では、電極に関する事項は発明の範疇を超えるため、これに関するさらに詳細な説明は省略する。
【0067】
また、図４ｃを参照すると、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部１１０ａ、ダミーパターン１１１ａ、および感知連結部１１０ｂは、互いに同一または類似する一定方向のパターンで連結する電極で形成されることが好ましい。また、ダミー連結部が備えられる場合には、ダミー連結部も互いに同一または類似する一定方向のパターンで連結する電極で形成されることが好ましい。
【0068】
本実施形態において、一定方向のパターンとは、連続性のあるパターンであって、本実施形態では、図３に示すように、前記一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状のパターンであることが好ましい。
【0069】
本実施形態において、パターンが同一または類似するとは、パターンの繰り返しにおいて、その繰り返し周期および繰り返される形態が幾何学的に同じであるだけでなく、その繰り返し周期と繰り返される形態がソフトウェア的に予め決められた容認可能な誤差範囲内で形成される場合を含むことが好ましい。したがって、本実施形態では、感知部１１０ａとダミーパターン１１１ａの電極パターンだけではなく、これらを連結する感知連結部１１０ｂおよびダミー連結部１１１ｂが存在する場合には、ダミー連結部１１１ｂの電極パターンが等しくなるようにすることにより、ユーザによって感知部１１０ａが認識される視認性を減少させることができる。
【0070】
また、前記一定方向のパターンは連続性のあるパターンで形成され、前記パターンの一部を切って前記感知部１１０ａと前記ダミーパターン１１１ａを形成することが好ましい。また、前記パターンの一部が切れたものは、感知部１１０ａ、前記ダミーパターン１１１ａ、および前記感知連結部１１０ｂ、およびダミー連結部１１１ｂが存在する場合には、ダミー連結部１１１ｂの前記パターンの端を開放して形成することが好ましい。
【0071】
上述したように、感知部１１０ａとダミーパターン１１１ａの境界でパターンの一部が切れていることは、前記感知部１１０ａと前記ダミーパターン１１１ａが電気的に互いに絶縁するためであり、また切れていることによって前記感知部１１０ａと前記ダミーパターン１１１ａのパターンの端を開放して形成することは、図５のように端が枠電極に連結しないことを意味する。図５は図４ｂの一部を拡大したものであって、図５を参照すると、端を開放することによって枠電極に連結するため連続性が消え、断絶したように見える問題を解決し、実際には微細な間隔で離れてはいるが、全体的に見たときには電極をユーザが連続したものと認識するようなり、感知部１１０ａの視認性を減少させることができる。
【0072】
本実施形態において、前記パターンは、図４ａ〜図４ｃに示すように、一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状のパターンであることが好ましい。本発明において、メッシュ形状は、整形メッシュ形状と非整形メッシュ形状をすべて含むことができる。一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状とは、全体的に網状型または網型のメッシュ形状のパターンを形成することを意味する。
【0073】
また、パターンの相互交差するメッシュ形状の線は、線幅および前記線間の間隔を定義するピッチ（ｐｉｔｃｈ）が同じであるか、または予め設定された類似度の線幅またはピッチを有することが好ましい。本実施形態において、線幅またはピッチが同じであるか、または予め設定された類似度の線幅またはピッチを有するとは、予め定められた充填率（Ｆｉｌｌ Ｆａｃｔｏｒ）が得られるように表１に表示された一定範囲の値を有することを意味する。
【0074】
【表1】
【0075】
また、本実施形態において相互交差するメッシュ形状の線は、予め決められた角度によってティルティング（ｔｉｌｔｉｎｇ）することが好ましい。図６を参照すると、本実施形態において形成される線は、水平軸を基準に４５゜傾けた形態のパターンを有し、傾いた形態を有することは、単位面積あたりのタッチ入力を感知するための電極の比率を高めて感知の正確度を高めるためであり、ティルティングする予め決められた角は、一定方向のパターンと前記パターンと異なるパターンの相互干渉によるモアレ現状の発生を防ぐために決められた角度であることが好ましい。本実施形態においてパターンと異なるパターンの干渉とは、それぞれ異なる方向のタッチ位置を感知する複数の基板が積層するにおいて、基板に形成された電極のパターンが干渉を引き起こすことであってもよく、または映像情報を表示する映像情報表示部に含まれた複数の画素が形成するパターンと発生するものであってもよい。
【0076】
モアレ現象とは、一般的に、独立する２つの周期的なパターンが一定角度に積層した場合に形成される自然的な干渉現象（ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ ｐｈｅｎｏｍｅｎｏｎ）である。モアレパターンとは、波形態の曲線（ｗａｖｅ）、波紋（ｒｉｐｐｌｅ）、スクリーンの表示映像と積層するように見える小さな束（ｗｉｓｐ）形態の強度変動などを意味する。
【0079】
基材１００ｂは、透明基材１００ｂで形成されることが好ましい。すなわち、一定の透明度を有する基材１００ｂであって、透明基材１００ｂは、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＩ（Ｐｏｌｙｍｉｄｅ）、アクリル（Ａｃｒｙｌ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ＰＥＮ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、またはガラス（ｇｌａｓｓ）のうち少なくとも１つを利用して透明薄膜形態に形成することができる。
【0080】
樹脂層１００ａは、前記基材１００ｂに積層され、一面にパターン化された陰刻を備える。具体的に、透明基材１００ｂには樹脂層１００ａが積層され、このような陰刻形状は、所望する陰刻形状に対応する陽刻形状のモールド（ｍｏｌｄ）を利用して樹脂層１００ａにインプリントすることで形成される。すなわち、陽刻形状のモールドを利用して樹脂層１００ａに陰刻を形成するのである。これにより、１つ以上の陰刻があるパターンをなすようになる。陰刻が形成された樹脂層１００ａの断面は、四角形、三角形、および台形のうちいずれか１つの陰刻形状を有することができる。モールドの陽刻形状が四角形であるときは樹脂層１００ａに形成された陰刻形状も四角形であり、モールドの陽刻形状が三角形であるときは樹脂層１００ａに形成された陰刻形状も三角形であり、モールドの陽刻形状が台形であるときは樹脂層１００ａに形成された陰刻形状も台形であることは当然である。樹脂層１００ａにおいて、陰刻の幅は１μｍ〜１０μｍに属し、深さは１μｍ〜１０μｍに属し、陰刻と陰刻の間のピッチは２００μｍ〜６００μｍに属することができる。これが一実施形態に過ぎないのは勿論であり、前記陰刻の幅、深さ、およびピッチは多様に変形できることは勿論である。さらに、樹脂層１００ａは、ＵＶ（ＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）樹脂または熱硬化性樹脂によって実現することが好ましい。
【0081】
電極層１１２は、前記陰刻に導電性材料を充填して形成されるものであって、前記感知部１１０ａと前記ダミーパターン１１１および感知連結部１１０ｂおよびダミー連結部が存在する場合に、ダミー連結部（図示せず）は前記電極層１１２に形成される。ここで、導電性材料の一例としては、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル−リン（Ｎｉ−Ｐ）などとすることができる。
【0082】
感知部１１０ａとダミーパターン１１１は同時に形成されることが可能であり、同じ導電性材料で形成され、上述したように、感知部１１０ａはタッチ信号を感知して送信する電気的に活性の電極であり、ダミーパターン１１１は電気的に不活性の電極である。
【0083】
また、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板は、電極層１１２に形成された感知部１１０ａ、ダミーパターン１１１および感知連結部１１０ｂおよびダミー連結部が存在する場合に、ダミー連結部（図示せず）の視認性を低減させるブラック層１１４をさらに備え、前記ブラック層１１４は、前記陰刻の電極層１１２上部または樹脂層１００ａと電極層１１２の間に積層することが好ましい。図７ａを参照すると、本実施形態においてブラック層１１４は、樹脂層１００ａと電極層１１２の間に積層され、樹脂層１００ａに形成された陰刻で電極層１１２を囲む形態のブラック層１１４をさらに備えるようにすることで電極層１１２の視認性を減少させることも可能であり、さらに他の実施形態によって図７ｂを参照すると、ブラック層１１４が電極層１１２を囲む形態でない陰刻の内部で電極層１１２を覆う形態で積層させる。これにより、本実施形態に係る感知基板は、ブラック層を利用して電極層が外部から視認されることを防ぐ。本実施形態においてブラック層は、カーボンブラックを含む導電性を帯び、黒色の金属材料を利用することが好ましい。
【0084】
また、他の実施形態によって図７ｃを参照すると、電極層１１２は、樹脂層１００ａに形成された陰刻の内部に形成されるだけでなく、樹脂層１００ａ上に陽刻で形成されることもできる。このような電極層１１２は、陽刻形状の導電性材料が樹脂層１００ａに転写またはリソグラフィ工程などによって形成されることができる。
【0086】
図８ａを参照すると、本実施形態に係る第１センサ部１００と第２センサ部２００が互いに接合してタッチスクリーンセンサを形成する。すなわち、第１センサ部１００と第２センサ部２００は上、下部基板となって互いに接合し、これらの間には粘着剤層３００が載せられる。接着剤層３００は光学的透明粘着剤（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）とし、タッチスクリーンセンサの透明性を維持することが可能である。
【0087】
第２センサ部２００は、基材の他面に一定方向の第２方向のパターンで連結する電極で形成された多数の第２感知部２１０ａ、および前記第２方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記第２感知部２１０を連結する第２感知連結部２１０ｂを備える。図８ｂを参照すると、本実施形態において他面とは、第１センサ部１００および第２センサ部２００が同じ基材に対して両面に形成される場合に、いずれか１つの基板が形成される面を一面としたときに基板が形成されない基材の他の面を他面とする。また、本実施形態において第１、第２センサ部１００、２００は、互いに背を向けた状態で粘着剤層３００を媒介として接合しているものが示されているが、これらの基板が互いに向かい合って接合しているものも可能であることは勿論である。さらに、第１センサ部と第２センサ部は、複数の基材に対してそれぞれの一面に形成することもできる。
【0088】
また、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサのうち、第１センサ部１００は前記第１感知部１１０ａに隣接し、前記第１パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成されて前記感知部１１０ａの視認性を低減させる多数の第１ダミーパターン１１１と、前記第１パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記第１ダミーパターン１１１を連結する第１感知連結部１１０ｂを備え、前記基材の一面は、前記第２感知部２１０ａと対応する位置に第１ダミーパターン１１１が備えられることが好ましい。
【0089】
なお、第２センサ部２００は、前記第２感知部２１０ａに隣接し、前記第２パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成されて前記感知部２１０ａの視認性を低減させる多数の第２ダミーパターン２１１、および、さらにタッチスクリーンセンサ基板は、前記パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記ダミーパターン１１１を連結する連結部（図示せず）をさらに備えることができる。
【0090】
本実施形態において、第１センサ部１００と第２センサ部２００の接合は、第１センサ部１００に形成された第１感知部１１０ａと第２センサ部２００に形成された第２感知部２１０ａが相互直交する方向に接合することが好ましい。すなわち、第１感知部１１０ａの第１方向が座標軸上のｙ方向であれば、第２感知部２１０ａの第２方向は座標軸上のｘ方向になるように互いに接合する。
【0091】
このとき、第１感知部１１０ａと対応する（向かい合う）位置の第２センサ部２００には第２ダミーパターン２１１が形成され、第２感知部２１０ａと対応する位置の第１センサ部１００には第１ダミーパターン１１１が形成される。第１ダミーパターン１１１は、前記第２感知部２１０ａの位置に対応する前記基材の一面の位置に形成されることが好ましく、これと反対に、第２ダミーパターン２１１は、前記第１感知部１１０ａの位置に対応する前記基材の他面の位置に形成されることが好ましい。
【0092】
図８ｂを参照すると、本実施形態において、タッチスクリーンセンサ上でＸ軸方向のタッチ位置を感知する感知部１００ａの位置に垂直方向に対応する位置にＹ軸方向のダミーパターン２１１が基材の他面に位置し、反対に、Ｙ軸方向のタッチ位置を感知する感知部２００ａの位置に垂直方向に対応する位置には、Ｘ軸方向のダミーパターン１１１が基材の一面に位置するようになる。したがって、第１感知部１００ａと第２感知部２００ａは交互配置し、ユーザがタッチ信号を入力したときにその座標を算出できるように形成される。
【0093】
また、本実施形態において、第１センサ部および第２センサ部は、上述したように、同じ基材の一面および他面に形成可能であり、またはそれぞれ異なる基材に対して形成されることもできる。
【0094】
他の基材に対して第１および第２センサ部が形成される場合にも、同じ基材に形成される場合と類似するように、第１センサ部と第２センサ部の接合は、第１センサ部に形成された第１感知部と第２センサ部に形成された第２感知部が相互直交する方向に接合するようにすることが好ましい。すなわち、第１感知部の第１方向が座標軸上のｙ方向であれば、第２感知部の第２方向は座標軸上のｘ方向になるように互いに接合する。
【0095】
このとき、第１感知部と対応する位置の第２センサ部には第２ダミーパターンが形成され、第２感知部と対応する位置の第１センサ部には第１ダミーパターンが形成される。第１ダミーパターンは、前記第２感知部の位置に対応する前記基材の一面の位置に形成されることが好ましく、これと反対に、第２ダミーパターンは、前記第１感知部の位置に対応する前記基材の他面の位置に形成されることが好ましい。
【0097】
図９ａ〜図９ｃに示すように、本発明に係る第１センサパターン１１０と第２センサパターン２１０は、互いに異なるレイヤ（ｌａｙｅｒ）に配置することができる。例えば、第１センサパターン１１０は上部レイヤである第１センサ部１００に配置し、第２センサパターン２１０は下部レイヤである第２センサ部２００に配置することができる。
【0098】
ここで、第１センサ部１００と第２センサ部２２０の間には粘着剤層（図示せず）を載せることができ、以下では説明の便宜上、図に示さずに説明する。
【0099】
このとき、図９ａに示すように、第１センサパターン１１０の間と第２センサパターン２１０の間にそれぞれダミーパターン１１１、２１１を配置することができ、このようなダミーパターンはセンサパターン間の空間を満たすためのパターンであって、センサパターンのように接触位置を感知する機能は実行しない。
【0100】
例えば、第１センサパターン１１０の間に第１ダミーパターン１１１を交差配置することができ、第２センサパターン２１０の位置に対応する空の領域に第１ダミーパターン１１１を交差配置することができる。
【0101】
同じように、第１センサパターン１１０の間に第２ダミーパターン２１１を交差配置することができ、第２センサパターン２１０の位置に対応する空の領域に第２ダミーパターン２１１を交差配置することができる。
【0102】
また、図９ｂに示すように、第１センサパターン１１０の間には第１ダミーパターン１１１を交差配置することができ、第２センサパターン２１０の間にはダミーパターンを配置しないこともできる。
【0103】
勿論、図９ｃに示すように、これとは反対に、第２センサパターン２１０の間にだけ第２ダミーパターン２１１を配置してもよく、第１センサパターン１１０の間にはダミーパターンを配置しないこともできる。
【0104】
このようなダミーパターンは、センサパターンの大きさと同じ大きさで形成され、同じ物質で形成することができる。さらに、ダミーパターンは、必要によっては隣接した他のダミーパターンと互いに連結しないように形成したり、互いに連結するように形成することができる。
【0106】
図１０ａを参照すると、本発明に係るタッチパッドは、第１センサパターン１１０と第１ダミーパターン１１１が交差配列する第１センサ部１００、および第２センサパターン２１０と第２ダミーパターン２１１が交差配列する第２センサ部２００を備えることができる。すなわち、第１センサパターン１１０の間と第２センサパターン２１０の間の空間にそれぞれダミーパターンを配置することができる。
【0107】
このとき、センサパターンとダミーパターン間の離隔距離は５μｍ〜３０μｍ以内とし、特に１５μｍ以上であることが好ましい。例えば、第１センサパターンと第１ダミーパターン間の離隔距離または第２センサパターンと第２ダミーパターン間の離隔距離は１５μｍに形成することができる。
【0108】
図１０ｂを参照すると、本発明に係るタッチパッドは、第１センサパターン１１０と第１ダミーパターン１１１が交差配列する第１センサ部１００、および第２センサパターン２１０が配列される第２センサ部２００を備えることができる。すなわち、第１センサパターン１１０間の空間にだけダミーパターンが配置され、第２センサパターン２１０間の空間にはダミーパターンが配置されない。
【0109】
図１０ｃを参照すると、本発明に係るタッチパッドは、第１センサパターン１１０間の空間にはダミーパターンを配置せず、第２センサパターン２１０間の空間にだけダミーパターンを配置することもできる。
【0110】
このとき、本発明は、センサパターン間に配置されるダミーパターンを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成するようになり、その分割する方式は、例えば、１）全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように分割する方式、２）全体外郭の形状とは異なる形状を有するが均等面積を有するように分割する方式、３）仮想の分割パターンによって分割し、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に予め設定された角度を有するように分割する方式、４）ダミーパターン内のメッシュを規則的または不規則的に破断して分割する方式などを含むことができる。
【0111】
このようなダミーパターンの分割によってセンサパターンとダミーパターンが部分短絡すると、センサパターンから当該ダミーパターンのうちの短絡したサブダミーパターンにだけ電流が流入し、ダミーパターン全体に電流が流入することを防いで機能の安全性を確保できることにより、センサパターンからダミーパターンに流入する誘電率を最小化してセンサ動作を向上させることができる。
【0112】
図１１ａ〜１１ｂは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第１図である。
【0113】
図１１ａ〜図１１ｂに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように分割することができる。
【0114】
図１１ａでは、ダミーパターン１１１の破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行に形成されることができる。
【0115】
図１１ｂでは、ダミーパターン１１１の破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行にならないように、予め設定された角度を有するように形成されることができる。
【0116】
言い換えれば、本発明に係るダミーパターンは多数に分割されるが、ダミーパターン内のメッシュの方向とは関係なく、全体外郭の形成と同じ形状を有するように均等分割される。例えば、四角形状のダミーパターン１１１は、四角形状のサブダミーパターン１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃ、１１１ｄ、１１１ｅ、１１１ｆ、１１１ｇ、１１１ｈ、１１１ｉに分割される。
【0117】
上述した図１１ｂに示すように、ダミーパターンが破断するラインとダミーパターン内のメッシュが予め設定された角度を有するように形成されることにより、相互モアレが発生するという問題を抑制することができる。
【0118】
ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割されるため、分割された多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0119】
サブダミーパターンの境界でパターンの一部が切れていることは、サブダミーパターンの間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れていることによってサブダミーパターンのパターンの端が開放して形成されたことは、端が枠電極に連結しないことを意味する。
【0120】
サブダミーパターンの端が開放することにより、枠電極に連結して連続性が消えて断絶したように見えるという問題点を解決し、実際に微細な間隔だけ離隔してはいるが、全体的に見たときには電極をユーザが連続したものと認識できるようにする。
【0121】
このとき、本実施形態のようにダミー連結部がない場合に、ダミーパターンの外郭形状を明確に知ることができるが、ダミー連結部がある場合にはそうではないため、ダミー連結部とダミーパターン間の区画を適切に分けてダミーパターンの外郭形状を定義しなければならない。
【0123】
図１２ａ〜図１２ｂに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状とは異なる形状を有するが均等面積を有するように分割することができる。
【0124】
図１２ａでは、分割されていない状態の六角形状を有するダミーパターン１１１を示している。
【0125】
図１２ｂでは、六角形状のダミーパターン１１１を分割して全体外郭の形状と異なる形状を有するサブダミーパターンを形成し、各ダミーパターンの面積は等しくなる。
【0126】
例えば、図１２ａに示すように、六角形状を有するダミーパターン１１１の面積が９０だとすると、図１２ｂに示すように、六角形状とは異なる形状を有する９つのサブダミーパターン１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃ、１１１ｄ、１１１ｅ、１１１ｆ、１１１ｇ、１１１ｈ、１１１ｉは、それぞれの面積が１０になる。
【0127】
上述した図１２ｂに示すように、ダミーパターンが破断するラインとダミーパターン内のメッシュの間に予め設定された角度を有するように形成されることにより、相互モアレが発生するという問題を抑制することができる。
【0128】
ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割するため、分割した多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0130】
図１３ａ〜図１３ｂに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように分割することができる。
【0131】
図１３ａでは、仮想の分割パターン１３０内のラインとダミーパターン１１１内のメッシュの間に互いに平行に分割する。
【0132】
図１３ｂでは、仮想の分割パターン１３０内のラインとダミーパターン１１１内のメッシュの間に互いに平行しないように分割する。
【0133】
このとき、本発明は、仮想の分割パターンを利用して分割し、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に互いに平行するか平行しないように、予め設定された角度を有するように分割することができる。このように分割したサブダミーパターンのうち少なくとも１つのサブダミーパターンは、全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように分割される。
【0134】
上述した図１３ｂに示すように、ダミーパターンが破断するラインとダミーパターン内のメッシュの間に予め設定された角度を有するように形成されることにより、相互モアレが発生するという問題を抑制することができる。
【0135】
また、ダミーパターン内のメッシュを互いに平行しないように分割してサブダミーパターンを形成することにより、モアレを防ぐことができるだけでなく、視認性の向上にもさらに効果的となる。
【0136】
ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割するため、分割した多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0139】
図１４ａ〜図１４ｂに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを多数の予め設定された形態に分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的または不規則的に破断して分割することができる。
【0140】
このように規則的または不規則的に形成されたサブダミーパターンの長さは、０．３ｍｍ〜１．５ｍｍであることが好ましい。
【0141】
図１４ａでは、ダミーパターン１１１内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的に破断して分割することができ、破断した線の長さが等しくなるように形成することができる。
【0142】
例えば、横方向に破断された線の長さＬｘと縦方向に破断された線の長さＬｙは等しい。
【0143】
図１４ｂでは、ダミーパターン１１１内のメッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割することができ、破断された線の長さが互いに異なるように形成することができる。
【0144】
破断された線の長さが予め設定された範囲内で互いに異なるように形成できることは勿論である。
【0145】
例えば、横方向と判断された線の長さＬｘ１とＬｘ２またはＬｙ１とＬｙ２は、ランダムに決められて互いに異なる。
【0146】
ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割するため、分割した多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0147】
上述した図１１ａ〜図１４ｂのように、ダミーパターンを多数のサブダミーパターンに分割し、分割した各サブダミーパターンは単位メッシュ５つ以上で形成することが好ましく、その理由は視認性の向上にさらに効果的であるためである。
【0148】
このとき、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔したダミーパターンと物理的に分離した補助ダミーパターンを追加で形成することができる。また、補助ダミーパターンは、必要によっては分割して形成することができる。
【0149】
図１５は、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第５図である。
【0150】
図１５に示すように、本発明は、ダミーパターンの間にダミー連結部が形成されている場合、センサパターン１１０の間にダミーパターン１１１を配置し、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間に補助ダミーパターン１１２を追加で形成することができる。また、必要によっては、センサパターンとダミーパターンの間に多数の補助ダミーパターンを形成することができる。
【0151】
ここで、本発明の実施形態では、ダミーパターンとダミー連結部を区分せずにダミーパターンとしてのみ説明しているが、ダミー連結部を含むダミーパターンを意味している。
【0152】
このとき、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って形成され、センサパターン１１０とダミーパターン１１１それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成することができる。言い換えれば、補助ダミーパターン１１２は、一側のセンサパターン１１０と予め設定された距離だけ離隔しており、他側のダミーパターン１１１とも予め設定された距離だけ離隔して形成することができる。
【0153】
また、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０との離隔距離とダミーパターン１１１との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。
【0154】
このように形成された補助ダミーパターン１１２は、当該センサパターン１１０の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該センサパターン１１０の外郭線と同じ形状を有するようになる。
【0155】
補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って帯形態に形成することができる。このような補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って形成されるため、同じ方向の同じライン、例えば、Ｘ軸方向の同じｘ座標またはＹ軸方向の同じｙ座標上には１つの補助ダミーパターン１１２が形成されることができる。
【0156】
勿論、同じ方向の同じライン上に位置する補助ダミーパターン１１２は連続性があるパターンで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン１１２に分割することができる。
【0157】
また、ダミーパターン１１１は、多数の予め設定された形態に分割して形成されたり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成することができる。
【0158】
このようなダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0159】
このように、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れていることによってダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。
【0160】
図１６は、本発明の一実施形態に係る補助ダミーパターンの配置形態を示した図である。
【0161】
図１６に示すように、補助ダミーパターンは、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って形成され、一側のセンサパターン１１０と予め設定された距離ｄ１だけ離隔して形成することができる。ここで、センサパターン１１０との離隔距離ｄ１は、３０μｍ以下とすることができる。
【0162】
この反面、補助ダミーパターン１１２は、他側のダミーパターン１１１とも予め設定された距離ｄ２だけ離隔して形成することができ、ここで、ダミーパターン１１１との離隔距離ｄ２は、２０μｍ以下とすることができる。
【0163】
このように補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０との離隔距離とダミーパターン１１１との離隔距離が互いに等しい離隔距離を有するように形成されたり、互いに異なる離隔距離を有するように形成されることができる。
【0164】
また、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間に帯形態で形成され、厚さｗは一定の大きさとすることができる。ここで、厚さｗは１００μｍ以下とすることができる。
【0165】
図１７は、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第６図である。
【0166】
図１７に示すように、本発明は、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されている場合、センサパターン１１０の間にダミーパターン１１１を配置し、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間に補助ダミーパターン１１２を追加で形成することができる。
【0167】
本発明では、ダミーパターン１１１ａとダミー連結部１１１ｂが物理的に分離し、予め設定された距離だけ離隔するように形成することができる。
【0168】
このとき、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って形成され、センサパターン１１０とダミーパターン１１１それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成することができる。言い換えれば、補助ダミーパターン１１２は、一側のセンサパターン１１０と予め設定された距離だけ離れており、他側のダミーパターン１１１とも予め設定された距離だけ離れて形成することができる。
【0169】
また、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０との離隔距離とダミーパターン１１１との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。
【0170】
このように形成された補助ダミーパターン１１２は、当該センサパターン１１０の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該センサパターン１１０の外郭線と同じ形状を有するようになる。
【0171】
補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って帯形態に形成することができる。このような補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って形成されるため、同じ方向の同じライン、例えば、Ｘ軸方向の同じｘ座標またはＹ軸方向の同じｙ座標上には１つの補助ダミーパターンが形成されることができる。
【0172】
勿論、同じ方向の同じライン上に位置する補助ダミーパターン１１２は、連続性があるパターンで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン１１２に分割することができる。
【0173】
また、ダミーパターン１１１は、多数の予め設定された形態に分割されて形成されたり、配置されるダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成されることができる。
【0174】
このようなダミーパターン１１１ａと補助ダミーパターン１１２それぞれの端が開放して形成されるようになる。ダミーパターン１１１ａと分離したダミー連結部１１１ｂの端も開放して形成されるようになることは勿論である。
【0175】
このように、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。
【0177】
図１８ａに示すように、本発明は、ダミーパターン間のダミー連結部が形成されていない場合、センサパターン１１０の間にダミーパターン１１１を配置し、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間に補助ダミーパターン１１２を追加で形成することができる。
【0179】
このとき、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１間の境界面に沿って形成され、センサパターン１１０とダミーパターン１１１それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成されることができる。言い換えれば、補助ダミーパターン１１２は、一側のセンサパターン１１０と予め設定された距離だけ離れており、他側のダミーパターン１１１とも予め設定された距離だけ離れて形成されることができる。
【0180】
また、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０との離隔距離とダミーパターン１１１との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。
【0181】
このように形成された補助ダミーパターン１１２は、当該センサパターン１１０の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該センサパターン１１０の外郭線と同じ形状を有するようになる。
【0182】
補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間の境界面に沿って帯形態に形成されることができる。このような補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１間の境界面に沿って形成されるため、同じ方向の同じライン、例えば、Ｘ軸方向の同じｘ座標またはＹ軸方向の同じｙ座標上には１つの補助ダミーパターン１１２が形成されることができる。
【0183】
勿論、同じ方向の同じライン上に位置する補助ダミーパターン１１２は連続性があるパターンで形成されることができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン１１２に分割することができる。
【0184】
また、ダミーパターン１１１は、多数の予め設定された形態に分割して形成されたり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成されることができる。
【0185】
このようなダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0186】
このように、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。
【0187】
図１８ｂに示すように、本発明は、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されていない場合、センサパターン１１０の間にダミーパターン１１１を配置し、センサパターン１１０とダミーパターン１１１の間に補助ダミーパターン１１２を追加で形成することができる。
【0189】
このとき、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０とダミーパターン１１１間の境界面に沿って形成され、センサパターン１１０とダミーパターン１１１それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成されることができる。言い換えれば、補助ダミーパターン１１２は、一側のセンサパターン１１０と予め設定された距離だけ離れており、他側のダミーパターン１１１とも予め設定された距離だけ離れて形成されることができる。
【0190】
また、補助ダミーパターン１１２は、センサパターン１１０との離隔距離とダミーパターン１１１との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。
【0191】
このように形成された補助ダミーパターン１１２は、当該ダミーパターン１１０の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該ダミーパターン１１０の外郭線と同じ形状を有するようになる。
【0192】
補助ダミーパターン１１２は、ダミーパターン１１１の外郭線に沿って帯形態に形成されることができる。このような補助ダミーパターン１１２は、ダミーパターン１１１の外郭線に沿って形成されるため、ダミーパターン１１１ごとに外郭を囲むように１つの補助ダミーパターン１１２が形成されることができる。すなわち、１つの補助ダミーパターン１１２ごとに物理的に分離して形成される。
【0193】
勿論、ダミーパターンを囲む補助ダミーパターン１１２は連続性があるパターンで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン１１２に分割することができる。
【0194】
また、ダミーパターン１１１は、多数の予め設定された形態に分割されて形成されたり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成されることができる。
【0195】
このようなダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの端が開放して形成されるようになる。
【0196】
このように、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってダミーパターン１１１と補助ダミーパターン１１２それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。
【0197】
このように、本発明は、Ｘ座標を感知するための第１センサパターンを含む第１センサ部とＹ座標を感知するための第２センサパターンを含む第２センサ部とで構成され、第１センサ部と第２センサ部が互いに接合して形成されたタッチスクリーンセンサに多様な形態のダミーパターンを適用した例を示しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、Ｘ座標を感知するための第１センサパターンとＹ座標を感知するための第２センサパターンを単一基板の表面に共に配列するように構成されたタッチスクリーンセンサにも適用することができる。
【0198】
勿論、ここでは、単一基板の表面に第１センサパターンと第２センサパターンがすべて形成される場合を一例として説明しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、同一基板上に第１センサパターンと第２センサパターンが多様な形態で形成されてもよいことは自明である。
【0199】
例えば、第１方向に形成された第１センサパターンと第２方向に形成された第２センサパターンが単一基板の表面の両側面にそれぞれ配列するように構成されたタッチスクリーンセンサにも、本発明の一実施形態に係る多様な形態のダミーパターンを適用することができる。
【0200】
図１９は、本発明の他の実施形態に係るタッチスクリーンセンサの構成を示した図である。
【0201】
図１９に示すように、本発明に係るタッチスクリーンセンサは、１つのセンサ部１００を備えることができ、ここで、センサ部１００は、Ｘ座標を感知するための第１センサパターン１１０とＹ座標を感知するための第２センサパターン２１０が１つの基板に配列するように構成することができる。
【0202】
このとき、第１センサパターンをセンシング信号を感知するセンシング電極とし、第２センサパターンを第１センサパターンと電気的に分離して駆動信号を感知する駆動電極とすると仮定することができる。
【0203】
このような複数のセンシング電極それぞれは、第１方向に沿って延長して形成される感知バー形態で配置され、複数の駆動電極それぞれは、第１方向と交差する第２方向上に配置することができる。ここで、第１方向は横方向またはＸ軸方向を示し、第２方向は縦方向またはＹ軸方向を示す。
【0204】
例えば、横方向に長く形成されたＹ座標を感知するための第２センサパターン２１０を縦方向に一定間隔ごとに離隔して配置し、第２センサパターン２１０に並んで隣接してＸ座標を感知するための多数の第１センサパターン１１０を横方向に一定間隔ごとに離隔して配置することができる。
【0205】
すなわち、１つの第２センサパターン２１０ごとに多数の第１センサパターン１１０を並べて配置する。
【0206】
このように配置される１つのセンシング電極と多数の駆動電極を含む感知領域が形成されることができる。本発明に係る感知領域は、１つのセンシング電極と多数の駆動電極間の包含関係に限定されるものではなく、多様な形態で実現することができる。
【0207】
このように配置された第１センサパターン１１０と第２センサパターン２１０それぞれに配線電極４００が連結することができる。ここで、配線電極４００は、第１センサパターン１１０と第２センサパターン２１０から感知されたタッチ信号を外部駆動回路（図示せず）に伝達する役割をする。
【0208】
また、第１センサパターン１１０または第２センサパターン２１０と配線電極の間にダミーパターン１１１を形成することができる。また、第１センサパターン１１０それぞれに配線電極が連結することによって配線電極の間に空間が生じ、その空間にダミーパターンを形成することができる。また、空間の大きさにより、ダミーパターンの大きさが異なることができる。このようなダミーパターン１１１は、第１センサパターン１１０または第２センサパターン２１０と類似する形状のパターンまたは同じ形状のパターンで形成することができる。
【0209】
このように多数のセンシング電極と多数の感知電極は、基板の同じ面に配置されて断層構造を形成することができる。
【0210】
このとき、１枚の基板に第１センサパターンと第２センサパターンを形成するときにメタルメッシュで構成するようになり、この理由は、ＩＴＯは折り曲げることができないためフレキシブル基板に使用することが不可能であり、中大型面積での使用が不可能である反面、メタルメッシュはフレキシブルと中大型面積に使用可能なだけでなく、ＩＴＯに比べて応答速度が速いためである。
【0211】
また、１枚の基板に第１センサパターンと第２センサパターンを形成するときにダミーパターンを形成するようになり、この理由は、メタルメッシュで構成するときにモアレが生じる現象が発生するため、空間にダミーパターンを形成してモアレを防ぐためである。
【0212】
なお、基板上にパターン密集度差によってパターンが視認される現象が発生するため、空間にダミーパターンを形成することにより、均一なパターンによってパターンが視認される現象を抑制するためである。
【0214】
図２０に示すように、図１９の領域Ａを拡大して詳察すると、センサパターン１１０、２１０、ダミーパターン１１１、配線電極４００は１つのセンサ部に形成され、一定方向のパターンで形成されることができる。一定方向のパターンとは、連続性あるパターンで一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状のパターンであることが好ましい。
【0215】
センサパターン１１０、２１０、ダミーパターン１１１、配線電極４００それぞれの端は開放して形成されることができる。センサパターン１１０、２１０、ダミーパターン１１１、配線電極４００それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。
【0216】
このようなセンサパターン１１０、２１０、ダミーパターン１１１、配線電極４００は、陽刻形状または陰刻形状を利用して形成することができ、センサパターン１１０、２１０と配線電極４００は電気的に活性の電極で形成され、ダミーパターン１１１は電気的に不活性の電極で形成される。
【0218】
図２１に示すように、図１９の領域Ｂを拡大して詳察すると、センサパターン１１０、２１０と配線電極４００の間にダミーパターン１１１を形成し、このようなダミーパターン１１１は、センサパターン１１０、２１０と配線電極４００の間の間隔によってその大きさが異なることができる。
【0219】
例えば、ダミーパターン１１１ａ２は、ダミーパターン１１１ａ１よりもその幅をさらに広く形成することができ、センサパターン１１０、２１０と配線電極４００の間の間隔が広くなるほどダミーパターン１１１の幅も広くなる。このとき、ダミーパターンは分割され、２つ以上のサブダミーパターンで形成されることができる。ダミーパターンそれぞれは、互いに異なる数のサブダミーパターンに分割して形成されることができる。特に、ダミーパターンの大きさによってサブダミーパターンの数が異なることができる。
【0220】
ここでは、本発明に係るダミーパターン１１１がセンサパターン１１０、２１０と配線電極４００の間に形成される場合を一例として説明しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、センサパターンとセンサパターンの間または配線電極と配線電極の間など多様な位置に形成することができる。このように形成されたダミーパターン１１１は、予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成され、その方式は多様である。
【0222】
このとき、図１１ａのように、ダミーパターンの破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行に形成されたり、図１１ｂのように、ダミーパターンと破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行ではなく、予め設定された角度を有するように形成されることができる。
【0225】
このとき、図１３ａのように、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に互いに平行に分割したり、図１３ｂのように、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に互いに平行しないように分割することができる。
【0226】
他の例として、図１４ａ〜図１４ｂのように、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的または不規則的に破断して分割することができる。
【0227】
このとき、図１４ａのように、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的に破断し、その破断した線の長さが等しくなるように形成したり、図１４ｂのように、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断し、その破断した線の長さが互いに異なるように形成することができる。
【0228】
他の例として、図１５のように、ダミーパターンの間にダミー連結部が形成されている場合、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、センサパターンとダミーパターンの間に補助ダミーパターンを追加で形成することができる。
【0229】
他の例として、図１７のように、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されている場合、センサパターンとダミーパターンの間に補助ダミーパターンを追加で形成し、ダミーパターンとダミー連結部が物理的に分離し、予め設定された距離だけ離隔するように形成することができる。
【0230】
他の例として、図１８ａ〜図１８ｂのように、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されていない場合、センサパターンとダミーパターンの間に補助ダミーパターンを追加で形成し、図１８ａのように、センサパターンの間隔が図１５および図１７で説明したセンサパターンの間隔よりも狭く形成したり、図１８ｂのように、ダミーパターンの外郭を囲むように形成することができる。
【0231】
このとき、ダミーパターンと補助ダミーパターンそれぞれは、多数に分割して形成されることができる。
【0232】
また、補助ダミーパターンは、ダミーパターンの形態や位置により、センサパターンとダミーパターンの間だけではなく、センサパターンとセンサパターンの間または配線電極と配線電極の間にも形成されることができる。
【0233】
上述した実施形態はその一例であって、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の本質的な特性から逸脱しない範囲で多様な修正および変形が可能だろう。したがって、本発明に開示された実施形態は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施形態によって本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。本発明の保護範囲は添付の特許請求の範囲によって解釈されなければならず、それと同等な範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれると解釈されなければならない。