発明の名称 光干渉断層計測装置
出願人 株式会社ティーワイテクノ (識別番号 309037907)
特許公開件数ランキング 7132 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 5799 位(0件)(共同出願を含む)
出願人 山形県 (識別番号 593022021)
特許公開件数ランキング 7132 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 5799 位(0件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-6571352
公報発行日 2019年9月4
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6571352
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