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特許6573276磁化同軸プラズマ生成装置を用いる薄膜生成装置
発明の名称 磁化同軸プラズマ生成装置を用いる薄膜生成装置
出願人 学校法人日本大学 （識別番号 899000057）
特許公開件数ランキング 715 位（9件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 1494 位（7件）（共同出願を含む）
出願人 ナノテック株式会社 （識別番号 592031444）
特許公開件数ランキング 12314 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 10393 位（0件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6573276
公報発行日 2019年9月11
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6573276
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