特許 6579933 基板収納容器

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6579933

(24)【登録日】2019年9月6日

(45)【発行日】2019年9月25日

(54)【発明の名称】基板収納容器

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/673 20060101AFI20190912BHJP

   B65D 85/30 20060101ALI20190912BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/68 T

   B65D85/30 500

【請求項の数】4

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2015-239909(P2015-239909)

(22)【出願日】2015年12月9日

(65)【公開番号】特開2017-107956(P2017-107956A)

(43)【公開日】2017年6月15日

【審査請求日】2018年4月11日

(73)【特許権者】

【識別番号】000190116

【氏名又は名称】信越ポリマー株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100110973

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 洋

(72)【発明者】

【氏名】加藤 勝彦

(72)【発明者】

【氏名】金指 晃嗣

【審査官】 内田 正和

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１１／１４８４５０（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−１９９１８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−１３５８８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−３２００２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 中国特許出願公開第１７６００９２（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開平０６−２０４３１８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／６７３

Ｂ６５Ｄ ８５／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

互いに向かい合う内側壁に、基板を支持する支持部をそれぞれ備え、前記内側壁以外の方向に開口部を有する容器本体と、
前記開口部を閉鎖可能な蓋体と、
を備える基板収納容器であって、
前記蓋体は、前記容器本体内に前記基板を収納して前記開口部を前記蓋体にて閉鎖した閉鎖状態において前記基板を挟持可能な前側溝部を備えたリテーナを有し、
前記支持部は、前記開口部と反対側の後部方向に形成され、前記閉鎖状態において前記前側溝部との間で前記基板を挟持して前記支持部の搭載部から持ち上げて支持可能な傾斜溝を有し、
前記傾斜溝は、その溝内にて上側に位置する上側傾斜面と、前記上側傾斜面と反対側から前記基板に接するもう一つの斜面であってその溝内にて下側に位置する下側傾斜面とを有し、
前記上側傾斜面の水平面となす角度をθ１とし、前記下側傾斜面の水平面となす角度をθ２としたとき、θ２がθ１より大きく、θ１およびθ２が共に４５度以下であり、かつ下記式１を満たすように形成されている基板収納容器。
式１： Ｆ１≧Ｆ２
（Ｆ１は、前記リテーナからの前記基板を保持する力Ｆが前記上側傾斜面および前記下側傾斜面に加わったときに前記上側傾斜面および前記下側傾斜面から前記基板に及ぼす垂直抗力ｒＮの垂直方向成分であり、Ｆ２は、前記垂直抗力ｒＮの水平方向成分である。）

【請求項2】

前記角度θ１および前記角度θ２の少なくともいずれか一方は、１９．５度以上４５度以下の範囲である請求項１に記載の基板収納容器。

【請求項3】

前記傾斜溝は、前記下側傾斜面より前記傾斜溝の開口側に近い位置に、前記角度θ２より大きな角度θ３で開口する第二下側傾斜面を、さらに備える請求項１または請求項２に記載の基板収納容器。

【請求項4】

前記蓋体をポリカーボネート樹脂製とし、
前記支持部を、シクロオレフィン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、若しくはこれらを主成分とするアロイ樹脂製の部材、または摺動性付与剤を含有させた部材とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の基板収納容器。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体ウェーハ、フォトマスクガラス、アルミニウムディスクなどの基板を収納する基板収納容器に関する。

【背景技術】

【0002】

従来から、半導体ウェーハ、フォトマスクガラス、アルミニウムディスクなどの基板を出し入れする開口部を備えた容器本体と当該開口部を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器が知られている。容器本体の内側壁には、基板を水平に支持するための支持部と、支持部の奥側に位置する壁面には基板を保持するための傾斜溝が設けられている。蓋体の基板と向き合う内側の面には、基板を保持する前側溝部を備えたリテーナが取り付けられている。こうした基板収納容器において、蓋体を容器本体に取り付けて閉鎖した際には、蓋体に取り付けられるリテーナの前側溝部と、容器本体の内側壁に備えられる支持部の奥側にある傾斜溝との間で基板を支持部から浮かした状態で保持し、輸送時に基板が振動等で汚染されないようにしている。蓋体を容器本体の開口部から取り外した際には、支持部の上面に基板が搭載される。このように、蓋体を取り付けた状態と取り外した状態とでは、基板の支持位置が異なる。

【0003】

上記のような基本構造を有する基板収納容器において、例えば、蓋体を容器本体に取り付けるときに基板が傾斜溝を登りやすくする一方、蓋体を取り外したときに基板が滑り下りやすいように、傾斜溝の上下の角度を変えて、なおかつ使用時に基板収納容器の上下を反転させることが提案されている（例えば、特許文献１を参照）。また、リテーナの前側溝部の傾斜角度により基板の回転を抑制する提案もなされている（例えば、特許文献２を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１０−１９９１８９号公報

【特許文献2】特開２０１５−１３５８８１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記従来技術は、基板収納容器の上下反転を可能にし、あるいは収納時の基板の回転を抑制する上では一定の効果を奏するものの、収納時の基板に樹脂の擦れ痕が付くのを低減し、かつ回転をさらに抑制するには、新たな改良を要することがわかった。昨今、基板の代表例であるウェーハの口径が４５０ｍｍとさらに大きくなる提案があり、これに伴い、ウェーハの質量も大きくなることが予想される。ウェーハの質量が大きくなると、従来よりも基板を保持する傾斜溝と基板とが強く接触し、ウェーハの輸送時には振動などによってウェーハ端面に傾斜溝を構成している材料の擦れ痕が付着する可能性が高くなると考えられる。また、ウェーハの保持力不足の場合には、ウェーハの回転が発生する危険性も高くなる。これは、ウェーハのみならず、フォトマスクガラスあるいはアルミニウムディスク等の他の基板でも同様の問題である。

【0006】

本発明は、上記課題を解決すること、すなわち、基板の輸送時に基板の回転を低減し、基板を保持する材料の擦れ痕の付着を低減可能な基板収納容器を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記目的を達成するための一実施の形態に係る基板収納容器は、互いに向かい合う内側壁に、基板を支持する支持部をそれぞれ備え、内側壁以外の方向に開口部を有する容器本体と、開口部を閉鎖可能な蓋体と、を備える基板収納容器であって、蓋体は、容器本体内に基板を収納して開口部を蓋体にて閉鎖した閉鎖状態において基板を挟持可能な前側溝部を備えたリテーナを有し、支持部は、開口部と反対側の後部方向に形成され、閉鎖状態において基板を挟持可能な傾斜溝を有し、傾斜溝は、その溝内にて上側に位置する上側傾斜面と、上側傾斜面と反対側から基板に接するもう一つの斜面であってその溝内にて下側に位置する下側傾斜面と、を有し、上側傾斜面の水平面となす角度θ１と下側傾斜面の水平面となす角度θ２が下記式１を満たすように形成されている基板収納容器である。

【0008】

式１： Ｆ１≧Ｆ２
（Ｆ１は、リテーナからの基板を保持する力Ｆが上側傾斜面および下側傾斜面に加わったときに上側傾斜面および下側傾斜面から基板に及ぼす垂直抗力ｒＮの垂直方向成分であり、Ｆ２は、垂直抗力ｒＮの水平方向成分である。）

【0009】

別の実施の形態に係る基板収納容器は、互いに向かい合う内側壁に、基板を支持する支持部をそれぞれ備え、内側壁以外の方向に開口部を有する容器本体と、開口部を閉鎖可能な蓋体と、を備える基板収納容器であって、蓋体は、容器本体内に基板を収納して開口部を蓋体にて閉鎖した閉鎖状態において基板を挟持可能な前側溝部を備えたリテーナを有し、支持部は、開口部と反対側の後部方向に形成され、閉鎖状態において基板を挟持可能な傾斜溝を有し、傾斜溝は、基板に接する斜面であってその溝内にて上側に位置する上側傾斜面と、上側傾斜面と反対側から基板に接するもう一つの斜面であってその溝内にて下側に位置する下側傾斜面とを有し、上側傾斜面の水平面となす角度θ１を４５度以下とし、下側傾斜面の水平面となす角度θ２を４５度以下とする。

【0010】

別の実施の形態に係る基板収納容器では、さらに、角度θ２を角度θ１より大きくしても良い。

【0011】

別の実施の形態に係る基板収納容器は、また、角度θ１および角度θ２の少なくともいずれか一方を、１９．５度以上４５度以下の範囲としても良い。

【0012】

別の実施の形態に係る基板収納容器では、傾斜溝は、下側傾斜面より傾斜溝の開口側に近い位置に、角度θ２より大きな角度θ３で開口する第二下側傾斜面を、さらに備えても良い。

【発明の効果】

【0013】

本発明によれば、基板の輸送時に基板の回転を低減し、基板を保持する材料の擦れ痕の付着を低減できる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】図１は、本発明の実施の形態に係る基板収納容器の展開斜視図を示す。

【図2】図２は、図１の基板収納容器を垂直方向にて切断した縦断面図を示す。

【図3】図３は、図１の蓋体の内側の面を紙面表方向に向けた裏面図を示す。

【図4】図４は、図１の基板収納容器を水平方向にて切断した横断面図を示す。

【図5】図５は、図４における一方の支持部近傍のみを上方から見た一部平面図（５Ａ）、当該一部平面図中のＡ−Ａ線で切断した際の拡大断面図（５Ｂ）および当該拡大断面図中から基板を除外した傾斜溝の拡大断面図（５Ｃ）をそれぞれ示す。

【図6】図６は、図５の傾斜溝の形成に関する基本コンセプトを説明するための図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0015】

次に、本発明の基板収納容器の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施の形態は本発明を限定するものではなく、また、実施の形態の中で説明されている諸要素およびその組み合わせの全てが本発明の解決手段に必須であるとは限らない。

【0016】

図１は、本発明の実施の形態に係る基板収納容器の展開斜視図を示す。図２は、図１の基板収納容器を垂直方向にて切断した縦断面図を示す。図３は、図１の蓋体の内側の面を紙面表方向に向けた裏面図を示す。図４は、図１の基板収納容器を水平方向にて切断した横断面図を示す。なお、本願では、図２の「垂直方向にて切断」とは、容器本体の内側壁面に平行な方向にて上下に切断する意味である。

【0017】

本発明の実施の形態に係る基板収納容器１は、図１〜４に示すように、互いに向かい合う内側壁に、基板Ｗを支持する支持部６をそれぞれ備え、その内側壁以外の方向に開口部を有する容器本体２と、その開口部を閉鎖可能な蓋体３と、を備える。蓋体３は、容器本体２内に基板Ｗを収納して開口部を蓋体３にて閉鎖した閉鎖状態において基板Ｗを挟持可能な前側溝部５ａを備えたリテーナ５を有する。蓋体３は、さらに、容器本体２の開口部をシール可能に閉鎖するガスケット４と、容器本体２に対して施錠と解錠とを可能とする施錠機構７と、を備える。施錠機構７は、外部から操作可能な回転体７ａと、これに接続されるラッチバー７ｂと、容器本体２の開口部の係止凹部１２に係合する係止部７ｃと、を有しており、蓋体３を容器本体２に固定したり、あるいは取り外したりするときに操作される。このように、蓋体３は、基板収納容器１において、容器本体２の開口部をシール可能に封鎖するドアとして機能する。

【0018】

容器本体２の外側壁には、作業員等が把持するためのマニュアルハンドル１０が取り付けられている。また、容器本体２は、その底面壁にコンベア搬送用のボトムプレート８を、天面壁には天井搬送用のロボティックフランジ９を、それぞれ備える。

【0019】

支持部６は、容器本体２の左右の内側壁にそれぞれ複数段にて備えられていて、基板Ｗを略水平に支持する板状の支持片である。ここで、支持部６の奥側の壁面には、基板Ｗの奥側への移動を規制する傾斜溝６ａを備えている。傾斜溝６ａは、基板Ｗに接する斜面であって、傾斜溝６ａ内にて上側に位置する上側傾斜面１７と、上側傾斜面１７と反対側から基板Ｗに接するもう一つの斜面であって傾斜溝６ａ内にて下側に位置する下側傾斜面１９とを有する。下側傾斜面１９は、支持部６の板上面から上方に延びる。上側傾斜面１７は、下側傾斜面１９と逆方向に傾斜する。このように、傾斜溝６ａは、上側傾斜面１７と下側傾斜面１９を有する略Ｖ字形状の溝である。これ以外の傾斜溝６ａの詳細構造については、後述する。

【0020】

容器本体２に蓋体３を取り付けた際には、傾斜溝６ａは、リテーナ５の前側溝部５ａとの間で、基板Ｗを支持部６の搭載部６ｂから下側傾斜面１９に沿って持ち上げて下側傾斜面１９の中心付近で支持する。搭載部６ｂは、傾斜溝６ａよりも容器本体２の開口部側に位置する。基板収納容器１の輸送は、このように、基板Ｗが搭載部６ｂから浮いた状態で行われる。次に、蓋体３を容器本体２から取り外すときには、基板Ｗは、下側傾斜面１９を滑り落ち、再び搭載部６ｂ上に支持され、取り出しロボットにて取り出される。

【0021】

容器本体２は、その開口部から最も奥にある背面部に、後方支持部１３を備える。後方支持部１３は、上下に複数段の棚を有しているが、通常は基板Ｗとは非接触な状態となる。この場合、後方支持部１３の各棚は、支持部６の搭載部６ｂの板面とは、異なる高さに形成されている。後方支持部１３は、基板収納容器１の輸送中に大きな衝撃が加わったときなどに、基板Ｗの位置を規制する役割を有する。

【0022】

本実施の形態に係る基板収納容器１を構成する容器本体２および蓋体３は、好ましくは、熱可塑性樹脂の一例である透明なポリカーボネート樹脂から主として形成される。ここで、「主として」とは、熱可塑性樹脂とは異なる材料（例えば、セラミックス等のフィラー）を含むことを許容し、その場合であっても容器本体２および蓋体３の５０体積％以上を熱可塑性樹脂から形成することを意味する。ただし、容器本体２および蓋体３をそれぞれ構成する材料は、上述の熱可塑性樹脂以外の材料でも良い。

【0023】

また、容器本体２の内空間における左右の内側壁に備えられる複数段の支持部６は、容器本体２と同一あるいは別の樹脂から構成されていても良い。支持部６（特に、傾斜溝６ａ）は、基板Ｗと接触する摺動性を要する部材である。支持部６の構成材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、あるいはこれらを主成分とするアロイ樹脂も使用できる。また、支持部６に、摺動性付与剤として、ポリテトラフルオロエチレンに代表されるフッ素含有樹脂の粒子； ポリエチレン（ＰＥ）、シリコーンゴム、シリカ等の摺動性樹脂成分を別の樹脂成分でコーティングした粒子； を含有させても良い。

【0024】

図５は、図４における一方の支持部近傍のみを上方から見た一部平面図（５Ａ）、当該一部平面図中のＡ−Ａ線で切断した際の拡大断面図（５Ｂ）および当該拡大断面図中から基板を除外した傾斜溝の拡大断面図（５Ｃ）をそれぞれ示す。

【0025】

図５（５Ｂ）および図５（５Ｃ）に示すように、傾斜溝６ａは、その溝の最も奥に、溝部底面１６を備え、溝部底面１６から上方は上側傾斜面１７とつながり、下方は下側傾斜面１９とつながる。上側傾斜面１７は、好ましくは、さらに、傾斜溝６ａの開口側に位置する第二上側傾斜面１８とつながる。また、下側傾斜面１９は、好ましくは、さらに、傾斜溝６ａの開口側に位置する第二下側傾斜面２０とつながる。ただし、第二上側傾斜面１８および第二下側傾斜面２０の少なくともいずれか一方の面は、傾斜溝６ａに備えていなくとも良い。その場合には、上側傾斜面１７および下側傾斜面１９のいずれか一方若しくは両方が傾斜溝６ａの開口部の縁につながる。

【0026】

図５（５Ｂ）に示すように、この実施の形態にて容器本体２内に収納される基板Ｗは、通常、その端面に「べベル部」と称するＲ面を形成して成る。傾斜溝６ａは、上側傾斜面１７および下側傾斜面１９の両斜面にて、基板Ｗのべベル部と接触する。図５（５Ｃ）の断面図において、基板Ｗのべベル部と上側傾斜面１７および下側傾斜面１９との接触部位は点接触のように示されているが、立体空間上では、線接触である。なお、第二上側傾斜面１８および第二下側傾斜面２０は、基板Ｗの収納時において、基板Ｗのべベル部とは接触していない。

【0027】

上側傾斜面１７の水平面となす角度（図５（５Ｃ）では、「保持角上側」）θ１は、好ましくは４５度以下であり、より好ましくは１９．５度以上４５度以下の範囲にある。また、下側傾斜面１９の水平面となす角度（図５（５Ｃ）では、「保持角下側」）θ２は、好ましくは４５度以下であり、より好ましくは１９．５度以上４５度以下の範囲にある。角度θ１および角度θ２をより好ましくは１９．５度以上とするのは、基板Ｗの端面のベベル領域の傾斜角度以上とすることで、支持部６の奥側の傾斜溝６ａと基板Ｗとの接触状態を線状にして基板Ｗを保持することで材料の擦れ痕がつきにくくするとともに、この傾斜溝６ａ内で基板Ｗが挟み込まれて抜けなくなってしまうことを防止するためである。また、角度θ１および角度θ２を好ましくは４５度以下とするのは、基板収納容器１内に収納された状態の基板Ｗに対して、これを輸送するときに、あらゆる方向からの衝撃（加速度）や振動が生じても、基板Ｗが支持部６の奥側の傾斜溝６ａから離れずに接触状態を維持させることで、基板Ｗの回転や移動を防止して基板Ｗを保持する材料の擦れ痕を低減させるためである。なお、角度θ１および角度θ２のいずれか一方のみを１９．５度以上４５度以下の範囲としても良い。

【0028】

角度θ２は、角度θ１より大きくする方が好ましい。また、角度θ１は、１９．５度以上３０度以下であるのがより好ましい。一方、角度θ２は、３０度以上４５度以下であるのがより好ましい。このような角度形成によって、蓋体３を容器本体２の開口部から取り外した際に、基板Ｗを所望の位置まで滑り下ろしやすくでき、もって基板Ｗをより取り出しやすくできるからである。図５は、角度θ１＝２２．５度および角度θ２＝４０度の好適な例を示すが、角度θ１および角度θ２は、かかる例に限定されるものでない。

【0029】

第二上側傾斜面１８の水平面となす角度（図５（５Ｃ）では、「滑り角」）θ４は、角度θ１より大きな角度であって９０度を超えない角度である。また、第二下側傾斜面２０の水平面となす角度（図５（５Ｃ）では、「滑り角」）θ３は、角度θ２より大きな角度であって９０度を超えない角度である。このように、傾斜溝６ａの下側を、下側傾斜面１９から続く第二下側傾斜面２０を形成して二段傾斜とすることにより、容器本体２から蓋体３を取り外した際に、基板Ｗを下方に向かってより滑り下ろしやすくできる。なお、図５は、角度θ３＝６０度および角度θ４＝６０度の好適な例を示すが、角度θ３および角度θ４は、かかる例に限定されるものでない。なお、本願において、角度θ１、角度θ２、角度θ３および角度θ４は、特に言及しなくとも、全て、水平面となす角度を意味する。

【0030】

以上のように、この実施の形態に係る基板収納容器１は、互いに向かい合う内側壁に、基板Ｗを支持する支持部６をそれぞれ備え、内側壁以外の方向に開口部を有する容器本体２と、開口部を閉鎖可能な蓋体３とを備え、蓋体３には、容器本体２内に基板Ｗを収納して開口部を蓋体３にて閉鎖した閉鎖状態において基板Ｗを挟持可能な前側溝部５ａを備えたリテーナ５を有し、支持部６には、開口部と反対側の後部方向に形成され、閉鎖状態において基板Ｗを挟持可能な傾斜溝６ａを有し、傾斜溝６ａに、その溝内にて上側に位置する上側傾斜面１７と、上側傾斜面１７と反対側から基板Ｗに接するもう一つの斜面であってその溝内にて下側に位置する下側傾斜面１９と、を備えている。上側傾斜面１７の水平面となす角度θ１を４５度以下とし、下側傾斜面１９の水平面となす角度θ２を４５度以下としているので、基板Ｗの回転を低減でき、かつ傾斜溝６ａを構成する材料（例えば、樹脂）の擦れ痕の付着を低減できる。

【0031】

図６は、図５の傾斜溝の形成に関する基本コンセプトを説明するための図を示す。

【0032】

図６中、左側の図は良好な傾斜溝６ａの例を、右側の図は好ましくない傾斜溝６ａの例を、それぞれ示す。なお、図６では、基板Ｗの上側の端部が上側傾斜面１７に接している状態のみを示しているが、基板Ｗの下側の端部が下側傾斜面１９に接する状態も、以下に説明する状況と同様である。

【0033】

基板Ｗを傾斜溝６ａ内に保持すると、基板Ｗと上側傾斜面１７との接触部位に、リテーナ５からの基板Ｗの保持力Ｆが与えられる。この結果、上側傾斜面１７は、上側傾斜面１７の接触部位に接する面に垂直な方向に、垂直抗力Ｎを受ける。なお、垂直抗力Ｎのベクトルと保持力Ｆのベクトルのなす角度は、図６においてθで示されている。一方、基板Ｗは、当該垂直抗力Ｎの方向と逆方向の反力（垂直抗力反力という）ｒＮを受ける（ここで、ｒは、Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｆｏｒｃｅを意味する。）。垂直抗力反力ｒＮは、垂直成分（Ｚ方向成分ともいう）Ｆ１と、水平成分（Ｙ方向成分ともいう）Ｆ２と、に分け、下記式１の条件を満たすように上側傾斜面１７を形成すると、効果的に、基板Ｗの輸送時に基板Ｗの回転を低減し、基板Ｗを保持する材料（樹脂）の擦れ痕の付着を低減できる。

【0034】

Ｆ１≧Ｆ２・・・式１
（Ｆ１は、リテーナ５からの基板Ｗを保持する力Ｆが上側傾斜面１７および下側傾斜面１９に加わったときに上側傾斜面１７および下側傾斜面１９から基板Ｗに及ぼす垂直抗力ｒＮの垂直方向成分であり、Ｆ２は、垂直抗力ｒＮの水平方向成分である。）

【0035】

図６中の左側の例に示すように、角度θ１＝２２．５度の上側傾斜面１７と基板Ｗの上側端面とが接する場合、Ｆ１＞Ｆ２となり、基板Ｗの回転抑止および擦れ痕の付着低減の効果が得られる。一方、図６中の右側の例に示すように、角度θ１＝５５度の上側傾斜面１７と基板Ｗの上側端面とが接する場合、Ｆ１＜Ｆ２となり、上記効果と同等の効果は得られない。

【0036】

以上のように、この実施の形態に係る基板収納容器１は、互いに向かい合う内側壁に、基板Ｗを支持する支持部６をそれぞれ備え、内側壁以外の方向に開口部を有する容器本体２と、開口部を閉鎖可能な蓋体３とを備え、蓋体３には、容器本体２内に基板Ｗを収納して開口部を蓋体３にて閉鎖した閉鎖状態において基板Ｗを挟持可能な前側溝部５ａを備えたリテーナ５を有し、支持部６には、開口部と反対側の後部方向に形成され、閉鎖状態において基板Ｗを挟持可能な傾斜溝６ａを有し、傾斜溝６ａに、その溝内にて上側に位置する上側傾斜面１７と、上側傾斜面１７と反対側から基板Ｗに接するもう一つの斜面であってその溝内にて下側に位置する下側傾斜面１９と、を備えている。上側傾斜面１７の水平面となす角度θ１と下側傾斜面１９の水平面となす角度θ２は、式１（Ｆ１≧Ｆ２）を満たすように形成されているので、基板Ｗの回転を低減でき、かつ傾斜溝６ａを構成する材料（例えば、樹脂）の擦れ痕の付着を低減できる。

【0037】

以上、本発明に係る基板収納容器の好適な実施の形態について説明してきたが、本発明は、上記形態に限定されることなく、種々の変形を施して実施可能である。

【0038】

例えば、角度θ２は、角度θ１と同一若しくは角度θ１より小さくても良い。かかる角度の関係でも、基板Ｗの回転を低減でき、かつ傾斜溝６ａを構成する材料（例えば、樹脂）の擦れ痕の付着を低減できるからである。また、角度θ１および角度θ２の少なくともいずれか一方を、１度以上１９．５度未満の範囲としても良い。

【0039】

傾斜溝６ａは、上側傾斜面１７より傾斜溝６ａの開口側に近い位置に、角度θ１より大きな角度θ４で開口する第二上側傾斜面１８を備える一方、下側傾斜面１９より傾斜溝６ａの開口側に近い位置に、角度θ２より大きな角度θ３で開口する第二下側傾斜面２０を備えていなくとも良い。また、傾斜溝６ａは、第二上側傾斜面１８を備えずに、第二下側傾斜面２０のみを備えても良い。

【実施例】

【0040】

次に、本発明の実施例を比較例と比較して説明する。ただし、本発明は、以下に説明する実施例に限定して解釈されるものではない。

【0041】

１．実施例
（実施例１）
容器本体と蓋体とを透明なポリカーボネート樹脂から製造した。傾斜溝を含む支持部は、ポリブチレンテレフタレート樹脂から製造し、これを容器本体に取り付け又は容器本体と一体成形して、基板収納容器を製造した。傾斜溝は、水平に対する保持角（上側）θ１（角度θ１という）を１９．５度、保持角（下側）θ２（角度θ２という）を３０度、滑り角θ３（角度θ３という）および滑り角θ４（角度θ４という）を共に６５度とするように形成した。
（実施例２）
傾斜溝を、角度θ１＝２２．５度、角度θ２＝４０度とするように形成した以外、実施例１と同一条件で基板収納容器を製造した。
（実施例３）
傾斜溝を、角度θ１＝３０度、角度θ２＝４０度とするように形成した以外、実施例１と同一条件で基板収納容器を製造した。
（実施例４）
傾斜溝を、角度θ１＝４５度、角度θ２＝４５度とするように形成した以外、実施例１と同一条件で基板収納容器を製造した。

【0042】

２．比較例
（比較例１）
傾斜溝を、角度θ１＝６５度、角度θ２＝６５度とするように形成した以外、実施例１と同一条件で基板収納容器を製造した。
（比較例２）
傾斜溝を、角度θ１＝２２．５度、角度θ２＝６５度とするように形成した以外、実施例１と同一条件で基板収納容器を製造した。
（比較例３）
傾斜溝を、角度θ１＝６０度、角度θ２＝６０度、角度θ３＝６０度、角度θ４＝６０度とするように形成した以外、実施例１と同一条件で基板収納容器を製造した。

【0043】

３．評価方法
（１）接触痕の付着評価
振動機（ＥＭＩＣ製、９３６−ＡＷ／ＬＡＨ）を用いて、ＪＩＳ Ｚ０２００：１９９９に準拠する方法にて、基板Ｗを収納した基板収納容器を振動させた後、基板に傾斜溝の樹脂擦れ痕が確認できたか否かを調べた。振動条件は、陸走１０００ｋｍ未満相当とした。正弦波振動は、周波数５〜５０Ｈｚにて一往復半（５Ｈｚ→５０Ｈｚ→５Ｈｚ→５０Ｈｚ）変化させて行った。加速度は、±０．７５Ｇ、掃引時間は片道７分間で合計２１分間とした。擦れ痕の評価は、集光灯反射光量の簡易目視観察と、デジタルマイクロスコープによる観察とから行った。いずれの観察でも擦れ痕が認められない場合には、「○」（良好の意味）と評価し、いずれかの方法で擦れ痕が認められた場合には、「×」（不良の意味）と評価した。

【0044】

（２）基板の回転
上記（１）の振動の前後で基板の回転が全く認められない場合には、「○」（良好の意味）と評価し、少しでも回転が認められた場合には、「×」（不良の意味）と評価した。

【0045】

（３）基板の滑り上がり性および滑り下がり性
容器本体に蓋体を取り付けた際に、基板が傾斜溝の下側傾斜面をスムーズに上がった場合には、「○」（良好の意味）と評価し、少しでも引っかかりが認められた場合には、「×」（不良の意味）と評価した。また、容器本体から蓋体を取り外した際に、基板が傾斜溝の下側傾斜面をスムーズに滑り下がった場合には、「○」（良好の意味）と評価し、少しでも引っかかりが認められた場合には、「×」（不良の意味）と評価した。

【0046】

４．評価結果
表１は、各実施例および各比較例の製造条件および各種評価結果を示す。

【0047】

【表1】

【0048】

表１から明らかなように、各実施例と各比較例とを比較すると、振動試験後の擦れ痕の評価にて大きな差が認められ、各実施例では基板に擦れ痕が認められなかったのに対して、各比較例では基板に擦れ痕が認められた。擦れ痕以外の評価については、各実施例および各比較例ともに差異は無く、良好な評価が得られた。総合判定では、全ての評価項目にて良好な実施例１〜４は合格、接触痕の付着が認められた比較例１〜３は不合格となった。この結果から、角度θ１および角度θ２の両角度を水平に対して４５度以下とすると、基板に擦れ痕を付着させないようにできると考えられる。

【産業上の利用可能性】

【0049】

本発明は、半導体ウェーハやフォトマスクガラス、アルミニウムディスク等の基板を収納する基板収納容器に用いることができる。

【符号の説明】

【0050】

１ 基板収納容器
２ 容器本体
３ 蓋体
５ リテーナ
５ａ 前側溝部
６ 支持部
６ａ 傾斜溝
１７ 上側傾斜面
１９ 下側傾斜面
２０ 第二下側傾斜面
Ｗ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】