特許第6591728号(P6591728)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6591728屈曲配位子を含有する高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置
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  • 特許6591728-屈曲配位子を含有する高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 図000007
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