特許6594718高分子フィルム基板の画像パターン形成方法

発明の名称　高分子フィルム基板の画像パターン形成方法

出願人　東洋紡株式会社　（識別番号 3160）

　　　　特許公開件数ランキング 285 位（109件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 173 位（167件）（共同出願を含む）

出願人　帝人株式会社　（識別番号 3001）

　　　　特許公開件数ランキング 300 位（106件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 281 位（93件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6594718

公報発行日　2019年10月23

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6594718

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