特許6598434IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

動的核スピン偏極法に用いる、常磁性ラジカルをドープした高分子材料を保管する方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、前記課題を解決し、常磁性ラジカルをドープした高分子材料を長期間、安定に保管する方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、常磁性ラジカルをドープした高分子材料を保管する方法であって、脱酸素条件下で、常磁性ラジカルをドープした高分子材料を酸素透過度0.1g/m2・day・atm以下の容器に密閉することを特徴とする常磁性ラジカルドープ高分子材料の保管方法
【発明の効果】
本発明の保管方法を用いることで、常磁性ラジカルをドープした高分子材料を長期に安定して保管することが可能となる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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