特許 6602610 基板、膜形成基板の製造方法及び塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6602610

(24)【登録日】2019年10月18日

(45)【発行日】2019年11月6日

(54)【発明の名称】基板、膜形成基板の製造方法及び塗布装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1333 20060101AFI20191028BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20191028BHJP

   B05D 1/26 20060101ALI20191028BHJP

   B05D 7/00 20060101ALI20191028BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20191028BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/1333 500

   G02F1/1333 505

   G02F1/13 101

   B05D1/26 Z

   B05D7/00 P

   B05C5/00 101

【請求項の数】5

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2015-175722(P2015-175722)

(22)【出願日】2015年9月7日

(65)【公開番号】特開2016-71352(P2016-71352A)

(43)【公開日】2016年5月9日

【審査請求日】2018年8月9日

(31)【優先権主張番号】特願2014-197486(P2014-197486)

(32)【優先日】2014年9月26日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002428

【氏名又は名称】芝浦メカトロニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100081961

【弁理士】

【氏名又は名称】木内 光春

(72)【発明者】

【氏名】西中 勝喜

(72)【発明者】

【氏名】梶原 慎二

【審査官】 右田 昌士

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１２−１３３１３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−１１４５８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−０６１４９８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１３／０２３５３１０（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 中国特許出願公開第１０２２３６２０８（ＣＮ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００７／１２９４８９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１５／０４５５８１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１１／１２９０６５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００７−３２２６２７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｆ １／１３３３

Ｇ０２Ｆ １／１３３７

Ｇ０２Ｆ １／１３６８

Ｇ０２Ｆ １／１３４５

Ｇ０２Ｆ １／１３ １０１

Ｂ０５Ｃ ５／００

Ｂ０５Ｄ １／２６

Ｂ０５Ｄ ７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

膜形成領域の外周に沿う凹溝が形成された基板であって、
前記凹溝と前記膜形成領域との間に、複数の凹部が並置された凹部群を備え、
前記凹部群は、頂角が鋭角で、底辺が、前記凹溝の延在方向に平行で、かつ前記凹溝側に位置するように配置される二等辺三角形の凹部であることを特徴とする基板。

【請求項2】

前記凹部群は、長い方の対角線が、前記凹溝の延在方向に直交するように配置される菱形の凹部をさらに有することを特徴とする請求項１記載の基板。

【請求項3】

膜形成領域の外周に沿う凹溝が形成された基板であって、
前記凹溝と前記膜形成領域との間に、複数の凹部が並置された凹部群を備えるとともに、
前記凹溝は、前記膜形成領域の外周に互いに離隔する複数重をなすように設けられる凹溝群を形成し、前記膜形成領域の外周から離隔する外側の凹溝ほど溝幅が小さいことを特徴とする請求項１または２に記載の基板。

【請求項4】

請求項１〜３に記載の基板を用いて、前記基板の前記膜形成領域に、膜形成材料である液体の液滴を滴下して塗布することを特徴とする膜形成基板の製造方法。

【請求項5】

前記液体の液滴は、前記凹溝に滴下した後に、前記膜形成領域に滴下することを特徴とする請求項４に記載の膜形成基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板、膜形成基板の製造方法及び塗布装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、液晶表示装置では、基板の表示領域及びその周辺の領域からなる膜形成領域に、膜形成材料である液体（ここでは、配向膜材料液）がインクジェット法により塗布される。そして、基板の膜形成領域の周囲に一定の間隔をおいた位置にシール剤がディスペンス法により環状に塗布され、基板上のシール剤で囲まれた領域に液晶材料がディスペンス法により滴下塗布される。

【0003】

ところで、インクジェット法で上述の膜形成材料である液体を基板の膜形成領域に塗布すると、この液体が基板上で濡れ広がり、シール剤を形成する領域まで到達してしまうことがある。液体がシール剤の形成領域まで広がって、シール剤形成領域に配向膜が形成されてしまうと、この配向膜の部分でシール剤の基板に対する密着性が悪くなる。

【0004】

そこで、基板に塗布される膜形成材料の液体の膜形成領域外側への濡れ広がりを抑制するため、特許文献１に記載のように、基板上の膜形成領域と、それよりも外側のシール剤塗布領域との間に、膜形成領域を囲む凹溝を形成したものがある。基板上の凹溝より内側に塗布された液体が、周辺に向って濡れ広がる過程で、シール剤塗布領域まで濡れ広がらないように、液体の濡れ広がりを凹溝で止めるものである。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００７−３２２６２７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

近年の動向として、携帯電話に代表される携帯端末等の液晶表示装置では、製品本体の大きさに対して表示領域の大きさをできるだけ大きくとることが要求されている。この結果、基板の一定の外形寸法の範囲内で、表示領域の外側領域が狭くなる傾向がある。

【0007】

従って、基板上で膜形成領域を囲む領域に形成される凹溝と、表示領域との距離が近くなる。このため、基板上で凹溝より内側に滴下され、外側周辺に向けて濡れ広がる膜形成材料の液体が、凹溝に達するまでの過程で液量を減少せず、凹溝の縁で生ずる表面張力によって凹溝際に土手状に盛り上がった液溜まりを一時的に形成する。この液溜まりができると、基板上の内側から外側周縁に濡れ広がってきた液体の一部が、該液溜まりで跳ね返り、膜形成領域の内側に向って逆流する。これにより、表示領域の内部にまで、膜形成材料の膜厚のむらを生ずる。

【0008】

本発明の課題は、膜形成領域に生ずる膜厚のむらを抑制することにある。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明は、膜形成領域の外周に沿う凹溝が形成された基板であって、前記凹溝と前記膜形成領域との間に、複数の凹部が並置された凹部群を備え、前記凹部群は、頂角が鋭角で、底辺が、前記凹溝の延在方向に平行で、かつ前記凹溝側に位置するように配置される二等辺三角形の凹部であることを特徴とする。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、膜形成領域に生ずる膜厚のむらを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】図１は本発明が適用されてなる液晶表示パネルの一例を示す模式平面図である。

【図2】図２は塗布装置の一例を示す模式斜視図である。

【図3】図３は実施例１の基板を示す模式断面図である。

【図4】図４は実施例１の基板の要部を示す模式平面図である。

【図5】図５は実施例２の基板の要部を示す模式平面図である。

【図6】図６は実施例３の基板の要部を示す模式平面図である。

【図7】図７は実施例４の基板の要部を示す模式平面図である。

【図8】図８は実施例５の基板の要部を示す模式平面図である。

【図9】図９は実施例６の基板の要部を示す模式平面図である。

【図10】図１０は液滴の凹溝への滴下状態を示す模式図である。

【図11】図１１は凹溝、凹部の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

（実施例１）（図１〜図４）
本発明が適用されてなる液晶表示パネルは、図１に示すように、一点鎖線で示す膜形成領域２が、矩形状の基板１の表示領域ＤＡ及びその周辺の僅かな領域からなり、この膜形成領域２に、膜形成材料である液体（ここでは、配向膜材料液）が図２に示したインクジェット塗布装置１００により塗布される。そして、基板１の膜形成領域２の周囲には、一定の間隔をおいた位置にシール剤３がディスペンス法により環状に塗布され、基板１上のシール剤３で囲まれた領域に液晶材料（不図示）がディスペンス法により滴下塗布される。その後、対向基板（不図示）がシール剤３を介して貼り合わされて液晶材料が封入され、液晶表示パネルが形成される。なお「膜形成領域２」とは、塗布された液体によって膜が形成された領域ではなく、膜を形成する領域として設定した設計上の領域のことである。

【0013】

塗布装置１００は、図２に示す通り、架台１０１の上にＹ軸方向移動ステージ１０２を備え、Ｙ軸方向移動ステージ１０２の上面に設けた基板保持部材１０３の上に基板１を支持する。架台１０１の上には、Ｙ軸方向移動ステージ１０２を跨ぐ門型フレーム１０４が設けられ、門型フレーム１０４はＸ軸方向に並置された複数の塗布ヘッド１０５を備える。塗布装置１００は、Ｙ軸方向移動ステージ１０２によって基板１をＹ軸方向に移動しつつ、塗布ヘッド１０５のＸ軸方向に一定の間隔で設けられている多数のノズルから滴下される膜形成材料の液体を基板１のＹ軸方向に沿う各位置に滴下塗布する。塗布装置１００は、Ｙ軸方向移動ステージ１０２の移動、塗布ヘッド１０５の各ノズルからの液滴の滴下（ノズルから滴下される液滴の量や液滴の滴下間隔（周波数）等）を制御する制御装置１０６を備えている。

【0014】

図３は図１に示した基板１のＡ−Ａ断面を示し、図４は図１に示した基板１のＡＲ領域を示す。即ち、基板１にあっては、膜形成領域２の外周の辺に沿って、所定深さの長尺状をなす凹溝１０を形成し、本実施例では複数の凹溝１０が並置されてなる凹溝群１０Ｎを形成している。凹溝群１０Ｎは、膜形成領域２の外周に沿って互いに離隔する複数の凹溝１０（第１〜第ｎ凹溝１１、１２、１３…１ｎ（不図示））からなる。各凹溝１１、１２、１３…は、膜形成領域２の外周の各辺に平行に形成され、互いに複数重をなす。塗布装置１００は、凹溝群１０Ｎの各凹溝１１、１２、１３…が形成された基板１に、膜形成材料である液体を滴下塗布するものである。

【0015】

以下、本実施例をより詳細に説明する。
(a)塗布装置１００の塗布ヘッド１０５から滴下される膜形成材料の液体が、基板１の膜形成領域２に塗布されるのに先立って、膜形成領域２の外周に形成した凹溝１０（第１〜第ｎ凹溝１１、１２、１３…１ｎ）にも塗布される。従って、膜形成領域２に塗布され、外側周辺に向って濡れ広がり、凹溝１０の縁に到達した液体は、この凹溝１０の縁が既にこの凹溝１０内に塗布された液体で濡れているので、この凹溝１０の縁の液体と接触し一体化して、液溜りを形成することなくこの凹溝１０内に浸入する。

【0016】

具体的には、図２の塗布装置１００に、まず、基板１が供給される。このとき、基板１は、長辺方向がＹ方向と平行になるように、基板保持部材１０３の上に供給される。基板保持部材１０３は、基板１の搬入／搬出ポジションである図２のＹ軸方向手前側に位置づけられている。基板１の供給が完了すると制御装置１０６が、Ｙ軸方向移動ステージ１０２を制御して基板保持部材１０３を図２のＹ軸方向奥側に向かって移動を開始させる。この移動中に、基板１上の凹溝群１０Ｎのうち、最も表示領域ＤＡに近い側、つまり、最も内側の凹溝１１に対して、塗布ヘッド１０５の各ノズルから液滴が吐出されて滴下される。

【0017】

凹溝１１は、Ｘ方向に沿う凹溝と、Ｙ方向に沿う凹溝があるが、Ｘ方向に沿う凹溝に対しては、基板１の先頭側に位置するＸ方向に沿う凹溝と後方側に位置する凹溝それぞれについて、その凹溝が塗布ヘッド１０５の各ノズルの下を通過するタイミングに合わせて、Ｘ方向に沿う凹溝に対応して位置する各ノズルから液滴を吐出させる。また、Ｙ方向に沿う凹溝については、その凹溝の先頭側の端部が塗布ヘッド１０５の下に到達してから後方側の端部が塗布ヘッド１０５の下を通過するまでの期間中、その凹溝に対向して位置するノズルから、液滴をＹ方向において予め設定された配置間隔で吐出させる。この液滴の滴下は、制御装置１０６によって制御される。つまり、制御装置１０６は、液体の液滴を、膜形成領域２に滴下する前に、凹溝１０に滴下するように、塗布ヘッド１０５を制御する。

【0018】

基板保持部材１０３が図２のＹ軸方向奥側の端部あるいは基板１が塗布ヘッド１０５を通過しきった位置に到達したら、今度は、搬入／搬出ポジションのある側へ向けて基板保持部材１０３が移動され、この移動中に、膜形成領域２内に対する液体の滴下塗布が行なわれる。この液体の滴下塗布は、塗布ヘッド１０５の下を基板１の膜形成領域２が通過するタイミングに合わせて、膜形成領域２に対向して位置する塗布ヘッド１０５における各ノズルから、膜形成領域２に対して予め設定された配置間隔で液滴が滴下されるように液滴を吐出させる。つまり、制御装置１０６は、液体の液滴を、凹溝１０に滴下した後に、膜形成領域２に滴下するように塗布ヘッド１０５を制御する。

【0019】

基板１が塗布ヘッド１０５の下を通過し終わり、基板１に対する液体の滴下塗布が完了し、基板保持部材１０３が搬入／搬出ポジションに到達すると、液体が塗布された基板１が搬出される。続いて処理する基板１があるのなら、入れ替わりに次の基板１が基板保持部材１０３に供給され、続いて処理する基板１が無くなるまで、上述の動作が繰り返し行なわれる。

【0020】

また、上述の凹溝１０に滴下する液滴の量は、滴下された液滴が凹溝１０における内側（表示領域ＤＡに近い側）に位置する縁部に接する量で滴下するものとし、その量（大きさ）は、実験によって決定することができ、凹溝の深さが大きくなる程、必要な液滴の量は大きくなる。上述の凹溝１０に滴下する液滴の量は、凹溝１０の同じ位置に滴下する液滴の量のことで、1滴で滴下しても、同じ位置に複数回滴下するようにしてもよい。

【0021】

このとき、液滴は、図１０の（Ａ）又は（Ｂ）に示すように凹溝１０の溝幅全体に行き渡っても良いし、図１０の（Ｃ）又は（Ｄ）に示すように凹溝１０の溝幅全体に行き渡らなくても良い。液滴は、少なくとも凹溝１０における内側（表示領域ＤＡに近い側）の縁に接するような位置となるように滴下すると良い。また、液滴は、凹溝１０に対して、連続して連なって滴下されても良いし、間隔をおいて滴下されても良い。間隔をおいて滴下されていても、膜形成領域２から濡れ広がってくる液体は、凹溝１０に滴下されて濡れている部分から液溜りを形成することなく凹溝１０内に侵入する。いずれにしても、凹溝１０内に、膜形成領域２から濡れ広がってきた液体を収容するスペースを確保できれば、膜形成領域２の内側から濡れ広がってきた液体の広がりを抑制できる。したがって、この点を考慮して凹溝１０へ滴下する液滴の量や液滴の滴下間隔を決める。この液滴の量や滴下間隔についても、実験で求めることができる。また、凹溝１０内における場所によって滴下量を変えても良い。

【0022】

更に、図１０では凹溝１０の最も内側の凹溝１１だけに液滴を滴下する例を示したがこれに限られず、それよりも外側の凹溝１２、１３…１ｎにも液体を滴下しても良い。こうすることで、例え一番内側の凹溝１１を乗り越えて液体が濡れ広がったとしても、その外側の凹溝１２、１３…１ｎのいずれかで濡れ広がりを留めることができる。もちろん、すべての凹溝１０に液滴を滴下することも、任意の凹溝１０のみに液滴を滴下することも同様である。膜形成領域２の液体の濡れ広がり状態によって適宜決定すれば良い。ただし、凹溝１１の縁に生じる液溜りによって、濡れ広がってきた液体の一部が跳ね返って表示領域ＤＡに及ぶことにより生じる膜形成材料の膜厚むらを効果的に抑制するためには、一番内側の凹溝１１に液滴を滴下しておくことが有効である。

【0023】

また、凹溝１０に対する液体の滴下と、膜形成領域２に対する液体の滴下とを別々に行なう例で説明したが、一緒に行なうようにしても良い。すなわち、基板１が塗布ヘッド１０５直下を通過する際に、凹溝１０への液滴の滴下を行うとともに、基板１の膜形成領域２にも液体の滴下を行う。これにより一回の基板保持部材１０３の移動で塗布が完了し、効率的な塗布ができる。また、Ｙ軸方向移動ステージ１０２の移動両端を基板１の搬入／搬出ポジションとすることで、さらに効率的に繰り返し基板１への塗布が行うことができる。

【0024】

塗布装置１００による上述(a)の液体の塗布は、凹溝１０に塗布（液滴を滴下）した後に、膜形成領域２に塗布する。つまり、膜形成領域２に塗布された液体が外側周辺に濡れ広がって凹溝１０の縁に到達するときには、すでに先行して凹溝１０に塗布済の液体が凹溝１０の縁を確実に濡らしている。従って、凹溝１０の縁に到達した液体による液溜りの形成を確実に生じにくくし、この液溜りによる液体の跳ね返りを確実に抑制し、膜厚むらの発生を確実に抑制できる。

【0025】

また、凹溝１０は、膜形成領域２の内側から表示領域ＤＡを超えて濡れ広がってきた液体がその中に浸入する分だけ、より外側の周辺に濡れ広がる液量を少なくし、シール剤塗布領域への濡れ広がりを抑制する効果も大きい。

【0026】

(b)基板１に形成された上述(a)の凹溝１０は、前述したように膜形成領域２の外周に互いに離隔する複数重をなすように設けられる凹溝群１０Ｎを形成し、更に、膜形成領域２の外周から離隔する外側の凹溝１０ほど溝幅Ｌi（ｉ＝1、2、3…）が小さいものとする。即ち、凹溝群１０Ｎを形成する複数の第１凹溝１１〜第ｎ凹溝１ｎのうち、膜形成領域２の外周に最も近接する第１凹溝１１の溝幅Ｌ1を最も大きくするものになり、濡れ広がってくる多量の液体を広幅の第１凹溝１１に受容して跳ね返り及び濡れ広がりを抑制し、その後、各凹溝１１、１２、１３…を通過してより少量となる液体をより狭幅Ｌ2、Ｌ3…の各凹溝１２、１３…内に順に受容して跳ね返り及び濡れ広がりを抑制する（Ｌ1＞Ｌ2＞Ｌ3…）。

【0027】

つまり、液体を各凹溝１１、１２、１３…内に確実に受容し、塗布液のシール材塗布領域への濡れ広がりおよび、各凹溝１１、１２、１３…による上述(a)の液体跳ね返りの抑制効果によって膜形成領域２内の膜厚むらの発生を抑制しつつ、凹溝群１０Ｎが膜形成領域２の外周に直交する方向に沿ってなす全幅Ｗを、全ての凹溝１０が広幅とされる場合に比して小寸法化でき、製品本体内における凹溝群１０Ｎの占有スペースを小さくし、製品本体に対してより大きな表示領域ＤＡを確保できる。

【0028】

(c)基板１に形成された上述(b)の相隣る凹溝１０と凹溝１０の間の間隔Ｓi（ｉ＝1、2…）は、凹溝１０の溝幅Ｌiよりも小さい。これにより、上述(b)の凹溝群１０Ｎにおいて、凹溝１０と凹溝１０の間の間隔Ｓiを凹溝１０の溝幅Ｌi以上としたものに比し、各溝幅Ｌiの合計値に相隣る凹溝１０の間隔Ｓiの合計値を加えた凹溝群１０Ｎの全幅Ｗを一層小寸法化できる。従って、製品本体内における凹溝群１０Ｎの占有スペースを一層小さくし、製品本体に対して一層大きな表示領域ＤＡを確保できる。

【0029】

本実施例の凹溝群１０Ｎでは、第１凹溝１１〜第３凹溝１３の溝幅Ｌ1〜Ｌ3を、Ｌ1＝0.18mm、Ｌ2＝0.09mm、Ｌ3＝0.06mmとしている。また、第１凹溝１１と第２凹溝１２の間隔Ｓ1、第２凹溝１２と第３凹溝１３の間隔Ｓ2を、Ｓ1＝Ｓ2＝0.01ｍｍとしている。このような寸法の凹溝１０を形成した基板１に対して、上述の塗布を行なったところ、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらを抑制することができた。

【0030】

（実施例２）（図５）
実施例２の基板１を説明する。
(d)基板１に形成された凹溝１０と表示領域ＤＡとの間に、所定深さの複数の凹部２０が並置された凹部群２０Ｎを配置し、各凹部２０の形状は、膜形成領域２に塗布された液体が膜形成領域２から凹溝１０に向かう方向に比べて、その反対方向である凹溝１０から膜形成領域２に向かう方向の方が流れ難くなる形状からなる。なお、本実施例において、各凹部２０は、膜形成領域２の外周縁に沿って所定のピッチ間隔で配置される。

【0031】

凹部群２０Ｎは、膜形成領域２の内側から外側への液体の流れに比べ、その反対方向への逆流を流れ難くする。具体的には、凹部群２０Ｎの各凹部２０によって形成される各凹部２０の間が、膜形成領域２に塗布された液体が濡れ広がる時の主な道筋となる。そして、各凹部２０の間は、膜形成領域２内側（表示領域ＤＡに近い側）が広く、外側に向かって狭まるように構成する。また、表示領域ＤＡに向かう側は、凹部２０を形成する面が表示領域ＤＡに対して平行とならないように構成する。すなわち、凹溝１０側から表示領域ＤＡ側に向かっては各凹部２０の間は狭くなっているので、液体が流れにくくなっていて、膜形成領域２の内側から濡れ広がって凹溝１０の溝際に液溜まりができ、この液溜まりで液の流れの跳ね返りが生じたとしても、その跳ね返りのために生じた内側へ向かう流れ（逆流）を抑制する（減衰させる）ものになる。

【0032】

凹部群２０Ｎは、凹部群２０Ｎが無い場合に比べて、外側（膜形成領域２から凹溝１０に向かう方向）に向かって濡れ広がる流れに対して抵抗になるので、凹溝１０の溝際に到達するときの流れの速さを、凹部群２０Ｎが無い場合と比べて低減させることができる。液体が液溜まりにぶつかる速度が遅いほど液の流れの跳ね返りは小さくなるので、結果的に、凹部群２０Ｎは跳ね返りの抑制に寄与する。更に、濡れ広がる液体は凹部群２０Ｎを通過するときに各凹部２０内に流れ込むので、このことによって、凹溝群１０Ｎに向かって流れる液体の量が低減され、結果として、凹溝１０の縁際での液体の跳ね返りが抑制され、膜形成領域２内に生ずる膜厚のむらを抑制できる。

【0033】

また、凹部２０に液体が流れ込んで、凹部２０に液体が溜まった状態になったときでも、凹溝１０側から膜形成領域２に向かう方向への流れを抑制する効果が得られることは実験によって確認されている。基板１の表面および凹部２０を覆った液体の膜を観察したところ、凹部２０の輪郭に沿って液体膜に土手状の盛り上がりが認められ、凹部２０の輪郭に沿って形成された液体膜の盛り上がり部分が、凹溝１０側から膜形成領域２に向かう方向への流れに対して抵抗となり、この流れが抑制されていると推測される。

【0034】

凹部２０内に液体が侵入していてもしていなくても、凹部２０の輪郭で液体が盛り上がるが、その輪郭を形成する線は、表示領域ＤＡと平行とならず角度をなしている。このため、この凹部２０の輪郭部での液体の盛り上がりによって生じる跳ね返りは、直接表示領域ＤＡ側に向かわず、また並置される各凹部２０の輪郭からの跳ね返り同士が干渉し合い弱めるので、膜形成領域２内に生ずる膜厚のむらを抑制できる。

【0035】

(e)基板１に形成された上述の凹部群２０Ｎを構成する各凹部２０は、頂角が鋭角の二等辺三角形からなる凹部２１であり、底辺が、凹溝１０の延在方向に平行かつ凹溝１０側に位置するように配置することにより、上述(d)の液体の流れを確実に形成できる。

【0036】

尚、膜形成領域２の外周縁において、相直交する２辺（縦辺と横辺）のコーナー部に直に臨む位置には二等辺三角形からなる凹部２２が配置される。凹部２２は、凹部２１と同一形状の二等辺三角形をなし、底辺が凹溝１０側に位置し、底辺に直交する中心軸が膜形成領域２の外周の縦辺と横辺に対して４５度をなすように斜めに配置される。

【0037】

また、膜形成領域２の外周において、相直交する二辺（縦辺と横辺）のコーナー部に直に臨む位置で、上述の二等辺三角形からなる凹部２２の両側には、凹部２１、２２よりも例えば辺の長さを半分とした小形状の二等辺三角形からなる凹部２３が配置される。凹部２３は、底辺が凹溝１０の延在方向に平行で、凹溝１０側に位置するように配置される。各凹部２３の底辺は各凹部２１の底辺と同一直線上に配置される。

【0038】

本実施例の凹部群２０Ｎでは、凹部２１、２２の底辺の長さａ、高さｂを、ａ＝0.06mm、ｂ＝0.10mmとし、凹部２３の長さｃ、高さｄを、ｃ＝0.03mm、ｄ＝0.05mmとしている。また、相隣る凹部２１のピッチ間隔ｐ1を、ｐ1＝0.1mmとし、相隣る凹部２１と凹部２３の配置間隔ｐcを、ｐc＝0.085mmとしている。このような寸法の凹部群２０Ｎを形成することで、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらがより一層抑制された。

【0039】

尚、凹部群２０Ｎにあっては、例えば相隣る二等辺三角形からなる凹部２１のピッチ間隔ｐ1を、ｐ1＝0.08mmとし、凹部２１の密度を大きくすることもできる。

【0040】

（実施例３）（図６）
実施例３が実施例１と異なる点は、基板１に形成される凹部群２０Ｎの構成である。実施例３の凹部群２０Ｎは、相隣る凹部２１と凹部２１の間、及び相隣る凹部２１と凹部２２の間に、凹部２２の両側に配置した凹部２３と同一形状である小形状の二等辺三角形からなる凹部２４を配置したことにある。各凹部２４の頂点は各凹部２１、２２の頂点と同一直線上に配置され、かつ相隣る凹部２１、２２の間の中央、及び相隣る凹部２１と凹部２２の間の中央に配置される。相隣る凹部２４のピッチ間隔ｐ2を、ｐ2＝0.1mmとしている。このような寸法で凹部２４を配置したことによっても、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらが抑制された。

【0041】

（実施例４）（図７）
実施例４が実施例３と異なる点は、基板１に形成される凹部群２０Ｎの構成である。実施例４の凹部群２０Ｎは、相隣る凹部２１と凹部２１の間、及び相隣る凹部２１と凹部２２の間に配置される各凹部２４の頂点を、各凹部２１、２２の頂点を結ぶ直線よりも凹溝１０の側に距離ｅ＝0.025mmだけ後退させたものである。このような寸法で凹部２４を配置したことによっても、実施例３と同様に、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらが抑制された。

【0042】

（実施例５）（図８）
実施例５が実施例１と異なる点は、基板１に形成される凹部群２０Ｎの構成にある。実施例５の凹部群２０Ｎは、相隣る凹部２１と凹部２１の間、及び相隣る凹部２１と凹部２２の間に、菱形からなる凹部２５を配置したものである。凹部２５の短い方の対角線の長さｆ、長い方の対角線の長さｇを、ｆ＝0.03mm、ｇ＝0.10mmとしている。各凹部２５の長い方の対角線上にある２つの頂点のそれぞれは各凹部２１、２２の頂点と底辺のそれぞれと同一直線上に配置され、かつ相隣る凹部２１と凹部２１の間の中央、及び相隣る凹部２１と凹部２２の間の中央に配置される。このような形状及び寸法で凹部２５を配置した場合でも、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらが抑制された。

【0043】

（実施例６）（図９）
実施例６が実施例４と異なる点は、基板１に形成される凹部群２０Ｎの構成にある。実施例６の凹部群２０Ｎは、実施例４の凹部群２０Ｎにおける各凹部２１を、実施例５で用いた凹部２５と同一形状の菱形からなる凹部２６に代えたものである。このような形状および寸法で凹部２６を配置した場合でも、実施例３と同様に、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらが抑制された。

【0044】

以上、本発明の実施例を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。例えば、本発明の基板１は、複数の凹溝１０からなる凹溝群１０Ｎを配置するものに限らず、単一の凹溝１０を配置してなるものでも良い。

【0045】

また、上述の実施例２〜６では、膜形成領域２の外周縁に沿って、相直交する２辺（縦辺と横辺）のコーナー部に直に臨む位置に、二等辺三角形からなる凹部２２が配置されている。但し、この凹部２２は、配置されていなくても良い。また、上述の実施例２〜６では、相隣る凹部２１と凹部２２の間であって、凹部２２の両側に、小形状の二等辺三角形の凹部２３が配置されている。また、実施例３、４では、相隣る凹部２１と凹部２１の間及び相隣る凹部２１と凹部２２の間に、凹部２３と同一形状である凹部２４が配置されている。これらの凹部２３、凹部２４についても、必ずしも配置しなくても良い。さらに、上述の実施例におけるコーナー部に、三角形状の凹部２２、凹部２３、凹部２４、菱形の凹部２５又は凹部２６を適宜置き換えて配置しても良く、あるいはこれらを適宜組み合わせて配置しても良い。

【0046】

また、実施例２では、膜形成領域２への液体の塗布に先立って、凹溝１０への液滴の滴下を行うことは必ずしも必要ではない。但し、凹部２０に、実施例１のように、塗布すべき液体の液滴を、膜形成領域２への塗布に先立って、凹部２０に滴下しておいても良い。このようにすれば、膜形成領域２への液体の滴下によって濡れ広がる液体が、凹部群２０Ｎを通過するときに、各凹部２０内に流れ込むことを促進できる。もちろん、膜形成領域２への滴下の前に、実施例１と同様に、凹溝１０に液滴を滴下しておいても良い。これにより、凹溝１０の縁際での液体の跳ね返りがより一層抑制され、膜形成領域２内に生ずる膜厚のむらを抑制できる。

【0047】

さらに、実施例１と同様に、凹部２０を有する基板の凹溝１０の幅を、膜形成領域２より遠ざかるに従って狭くなるようにしても良いし、相隣る凹溝１０と凹溝１０の間の間隔Ｓiを、凹溝１０の溝幅Ｌiよりも小さくしても良い。これにより、実施例１と同様に、表示領域ＤＡ内に形成された配向膜のむらを抑制しつつ、製品本体内における凹溝群１０Ｎの占有スペースを小さくし、製品本体に対してより大きな表示領域ＤＡを確保できる。

【0048】

尚、凹溝は、膜形成領域２の外周を囲む環状であっても良いし、長尺な凹溝を複数配列したものであっても良い。また、凹溝１０は、膜形成領域２の外周で閉じた環状とすることには限定されず、一部に隙間がある形状であってもよい。

【0049】

また、前述の実施例では凹部群を二等辺三角形及び菱形の凹部で構成したが、他の形状、例えば、円形、楕円形、三角形や菱形以外の多角形、星型等であっても良い。各凹部２０の形状は、膜形成領域２に塗布された液体が、膜形成領域２から凹溝１０に向かう方向に比べて、凹溝１０から膜形成領域２に向かう方向の方が流れ難くなる形状、配置であればよく、異なる形状、配置の組合せであっても良い。

【0050】

また、凹溝や凹部の縁は曲面あるいは斜面を有していてもよい。例えば、膜形成領域２の外周に沿う凹溝１０が形成された基板１であって、凹溝１０と膜形成領域２との間に、複数の凹部２０が並置された凹部群２０Ｎを備えるとともに、この凹部群２０Ｎの各凹部２０の形状は、基板１上に塗布された液体が、膜形成領域２から凹溝１０に向かう方向に比べて凹溝１０から膜形成領域２に向かう方向には流れ難い形状をなし、凹溝１０及び凹部２０の一方若しくは双方の縁に、曲面若しくは斜面を有する基板１であってもよい。図１１に、基板１の凹溝１０、凹部２０の縁に垂直面を有する例（Ａ）、斜面を有する例（Ｂ）、曲面を有する例（Ｃ）を示す。

【0051】

このように曲面あるいは斜面とすることで、縁に生じる表面張力を弱めて、凹溝１０や凹部２０の輪郭部での液体の盛り上がりが抑制され、この盛り上がりによって生じる液体の跳ね返りも抑制される。また、液体の凹溝１０や凹部２０内への侵入が容易となり、液体の濡れ広がりを受容して濡れ広がりを抑制することがより確実にできる。このような曲面あるいは斜面は、凹溝１０や凹部２０の全周あるいはすべての縁に設けてもよいし、縁の一部、例えば、表示領域ＤＡ側の縁にのみ設けてもよい。表示領域ＤＡ側の縁に設けると、液体の表示領域ＤＡ側への跳ね返りを抑制しつつ、より外側の周辺に濡れ広がる液量を少なくし、シール剤塗布領域への濡れ広がりを抑制する効果も大きい。もちろん、凹溝１０や凹部２０の縁を曲面あるいは斜面としたうえで、実施例１同様に液滴を滴下してもよい。これにより、上記の効果をさらに高めることができる。

【0052】

また、膜形成領域の外周に沿う第１の流動調整部が形成された基板１であって、第１の流動調整部と膜形成領域２との間に、複数の第２の流動調整部が並置された第２の流動調整部群を備えるとともに、各第２の流動調整部の形状は、基板１上に塗布された液体が、膜形成領域２から第１の流動調整部に向かう方向に比べて、第１の流動調整部から膜形成領域２に向かう方向には流れ難い形状をなす基板１であってもよい。

【0053】

第１の流動調整部、第２の流動調整部における「流動調整」は、液体の流動を抑制又は促進することをいう。ここで、第１の流動調整部、第２の流動調整部は、凹部２０であっても、凸部であってもよい。つまり、基板１における表示領域ＤＡと同一の高さの平坦面に対して、窪んでいるか、突出しているかは問わない。第１の流動調整部及び第２の流動調整部が双方とも凹部２０であってもよいし、双方とも凸部であってもよい。第１の流動調整部及び第２の流動調整部のいずれか一方が凹部２０で、他方が凸部であってもよい。

【0054】

また、第２の流動調整部は、頂角が鋭角の二等辺三角形で、この二等辺三角形の底辺が、第１の流動調整部の延在方向に平行で、かつ第１の流動調整部側に位置するように配置されていてもよい。

【0055】

第１の流動調整部は、膜形成領域の外周に互いに離隔する複数重をなすように設けられる第１の流動調整部群を形成し、膜形成領域２の外周から離隔する外側の第１の流動調整部ほど幅が小さくてもよい。

【0056】

さらに、第１の流動調整部、第２の流動調整部における縁に、曲面あるいは斜面を有してもよい。例えば、第１の流動調整部又は第２の流動調整部が凸部の場合に、縁部の側面を曲面あるいは傾斜面を有する形状としてもよい。

【0057】

また、前述の実施例では、インクジェット式の塗布ヘッドを用いる例で説明したが、液体を液滴状にして滴下するものであれば、他の方式の塗布ヘッドを用いるものにも適用可能である。

【符号の説明】

【0058】

１ 基板
２ 膜形成領域
１０Ｎ 凹溝群
１０、１１、１２、１３ 凹溝
２０Ｎ 凹部群
２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６ 凹部
１００ 塗布装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】