【文献】
o.v.mazurin et.al,handbook of glass data,1993年,Part E,p.557-559,全4枚
【文献】
早川知克他,常磁性ファラデー回転ガラスでの希土類イオン凝集とf−d遷移エネルギーの関係,日本セラミックス協会2003年年会講演予稿集,2003年,p.63,全3枚
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
請求項1〜5のいずれか一項に記載のガラス材を製造するための方法であって、ガラス原料塊を空中に浮遊させて保持した状態で、前記ガラス原料塊を加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、前記溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする、ガラス材の製造方法。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
近年、ますます磁気デバイスの小型化が進んでいることから、小さな部材(特に薄型部材)でも十分な旋光度を示すよう、さらなるファラデー効果の向上が要求されている。ガラス材のファラデー効果を高めるためには、ガラス中におけるテルビウム含有量を多くすることが有効である。しかしながら、テルビウム含有量を多くすると、ガラス化が著しく困難になるという問題がある。一方で、ガラス化を容易にするため、ガラス骨格成分を添加することも考えられるが、基本的にガラス骨格成分は、ベルデ定数の向上に寄与しないため、十分なファラデー効果が得られないおそれがある。
【0008】
以上に鑑み、本発明は、比較的大きいファラデー効果を示し、ガラス化が容易であるガラス材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者は、ガラス材のベルデ定数の絶対値は、Tbイオン密度に比例して大きくなることに着目した。そこで、Tbイオン密度が大きくなるガラス組成を見出し、本発明を提案するに至った。
【0010】
即ち、本発明のガラス材は、モル%で、Tb
2O
3 30〜48%(ただし30%は含まない)、SiO
2 45〜70%(ただし45%、70%を含まない)を含有することを特徴とする。
【0011】
ガラス材におけるTbイオン密度は下記の式で求められる。
【0012】
Tbイオン密度=(ρ×n×N
A)/M
ρ:ガラス材の密度、n:Tbイオンのモル数、N
A:アボガドロ数、M:ガラス材のモル質量
【0013】
上記の式から明らかなように、Tbイオン密度を大きくするには、ガラス材の密度を大きくする、Tbイオンの含有量を増やす、あるいはガラス材のモル質量を小さくするという方法が考えられる。これらの中で、本発明者はガラス材のモル質量に着目し、ガラス材に添加な種々のガラス骨格成分について調査した結果、ガラス材のモル質量を小さくするためには、SiO
2を用いることが効果的であることを見出した。すなわち、SiO
2は分子量が比較的小さい(60.08)ため、ガラス材中に多量に含有させても、Tbイオン密度を低下させにくいという特徴がある。そこで、本発明のガラス材においては、SiO
2を上記の通り多量に含有させることにより、ファラデー効果の低下(ベルデ定数の絶対値の低下)を抑制しつつ、ガラス化を容易にしている。
【0014】
本発明のガラス材は、さらに、モル%で、B
2O
3 0〜23%を含有することが好ましい。このようにすれば、ガラス化がより一層容易になる。しかしながら、B
2O
3は分子量が比較的大きい(69.62)ため、ガラス材のモル質量が大きくなり、Tbイオン密度が比較的低下しやすいため、含有量の上限を上記の通り規制している。
【0015】
本発明のガラス材は、さらに、モル%で、Al
2O
3 0〜20%(ただし20%を含まない)を含有することが好ましい。このようにすれば、ガラス化がより一層容易になる。しかしながら、Al
2O
3は分子量が比較的大きい(101.96)ため、ガラス材のモル質量が大きくなり、Tbイオン密度が比較的低下しやすいため、含有量の上限を上記の通り規制している。
【0016】
本発明のガラス材は、磁気光学素子として用いることができる。例えば、本発明のガラス材は、磁気光学素子の一種であるファラデー回転素子として用いることができる。上記の用途に用いることにより、本発明の効果を享受することができる。
【0017】
本発明のガラス材の製造方法は、上記のガラス材を製造するための方法であって、原料塊を空中に浮遊させて保持した状態で、原料塊を加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする。
本発明のガラス材は、SiO
2を多量に含有することによりガラス化を容易にしているが、融点は比較的高くなるため、溶融容器を用いた通常の溶融法では作製が困難な場合がある。例えば、通常の溶融で用いられる溶融容器(坩堝)のうち、高温溶融に適している白金製容器でも融点は1770℃程度であるため、それより融点の高いガラス材は製造することが困難である。しかしながら、上記の方法(無容器浮遊法)によれば、このように融点が比較的高いガラス材であっても、基本的に溶融ガラスが溶融容器に接触しないため、溶融容器との界面を起点とする結晶化を防止することができ、ガラス材を容易に作製することが可能となる。
【発明の効果】
【0018】
本発明によれば、比較的大きいファラデー効果を示し、ガラス化が容易であるガラス材を提供することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【0020】
本発明のガラス材は、モル%で、Tb
2O
3 30〜48%(ただし30%は含まない)、SiO
2 45〜70%(ただし45%、70%を含まない)を含有する。ガラス組成範囲をこのように限定した理由を以下に説明する。なお、以下の各成分の含有量に関する説明において、特に断りのない限り「%」は「モル%」を意味する。
【0021】
Tb
2O
3はベルデ定数の絶対値を大きくしてファラデー効果を高める成分である。Tb
2O
3の含有量は30〜48%(ただし30%は含まない)であり、好ましくは31〜48%、より好ましくは32〜48%、さらに好ましくは33〜48%である。Tb
2O
3の含有量が少なすぎると、上記効果が得られにくくなる。一方、Tb
2O
3の含有量が多すぎると、ガラス化が困難になる傾向がある。なお、ガラス中におけるTbは3価や4価の状態で存在するが、本発明ではこれら全てをTb
2O
3として表す。
【0022】
Tbについてベルデ定数の起源となる磁気モーメントはTb
4+よりもTb
3+の方が大きい。よって、ガラス材におけるTb
3+の割合が大きいほど、ファラデー効果が大きくなるため好ましい。具体的には、全Tb中におけるTb
3+の割合は、モル%で50%以上、60%以上、70%以上、80%以上、特に90%以上であることが好ましい。
【0023】
SiO
2はガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。それにより、ガラス材の大径化が容易となる。また既述の通り、SiO
2はガラス材におけるTbイオン密度を低下させにくいため、多量に含有させた場合のファラデー効果の低下を抑制することができる。さらに、SiO
2はガラス転移点を上昇させて熱的安定性を高める効果、機械的強度を高める効果、化学的耐久性を高める効果も有する。SiO
2の含有量は45〜70%(ただし45%、70%は含まない)であり、好ましくは46%〜69%、より好ましくは47%〜68%である。
【0024】
本発明のガラス材には、上記成分以外にも、以下に示す種々の成分を含有させることができる。
【0025】
B
2O
3はガラス形成能を高める成分である。B
2O
3を含有させることによりガラス材の大径化が容易となる。ただし、既述の通り、B
2O
3はSiO
2よりも分子量が大きいため、ファラデー効果を比較的低下させやすい。また、熱的安定性や硬度を低下させやすい成分である。従って、B
2O
3の含有量は好ましくは0〜23%、より好ましくは0.1〜20%、さらに好ましくは1〜13%、特に好ましくは2〜12%である。
【0026】
Al
2O
3はガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。Al
2O
3を含有させることによりガラス材の大径化が容易となる。ただし、既述の通り、Al
2O
3はB
2O
3よりも分子量が大きいため、ファラデー効果を比較的低下させやすい。従って、Al
2O
3の含有量は、好ましくは0〜20%(ただし20%を含まない)、より好ましくは0.1〜18%、さらに好ましくは1〜15%である。
【0027】
なお、B
2O
3+Al
2O
3は0〜23%、0.1〜20%、1〜13%、特に2〜12%であることが好ましい。
【0028】
La
2O
3、Gd
2O
3、Yb
2O
3、Y
2O
3はガラスを安定化する効果があるが、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、La
2O
3、Gd
2O
3、Yb
2O
3、Y
2O
3の含有量は各々10%以下、特に5%以下であることが好ましい。
【0029】
Dy
2O
3、Eu
2O
3、Ce
2O
3はガラスを安定化するとともに、ベルデ定数の向上にも寄与する。ただし、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、Dy
2O
3、Eu
2O
3、Ce
2O
3の含有量は各々15%以下、特に10%以下であることが好ましい。なお、ガラス中に存在するDy、Eu、Ceは3価や4価の状態で存在するが、本発明ではこれら全てをそれぞれDy
2O
3、Eu
2O
3、Ce
2O
3として表す。
【0030】
MgO、CaOはガラス化を安定にし、また化学的耐久性を高める効果がある。また、分子量が比較的小さいため、Tbイオン密度を低下させにくいという特徴がある。ただし、その含有量が多すぎるとガラス化しにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々0〜20%、特に0〜15%であることが好ましい。
【0031】
SrO、BaOはガラス化を安定にし、また化学的耐久性を高める効果がある。ただし、分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとTbイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々0〜10%、特に0〜5%であることが好ましい。
【0032】
GeO
2はガラス形成能を高める成分である。ただし、GeO
2は分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとTbイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、GeO
2の含有量は0〜15%、0〜10%、特に0〜9%であることが好ましい。
【0033】
P
2O
5はガラス形成能を高める成分である。ただし、P
2O
5は分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとTbイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、P
2O
5の含有量は0〜7%、特に0〜5%であることが好ましい。
【0034】
Ga
2O
3はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、Ga
2O
3は分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとTbイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ga
2O
3の含有量は0〜6%、特に0〜5%であることが好ましい。
【0035】
フッ素はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると溶融中に揮発して組成変動を引き起こしたり、ガラス化に悪影響を及ぼすおそれがある。従って、フッ素の含有量(F
2換算)は0〜10%、0〜7%、特に0〜5%であることが好ましい。
【0036】
還元剤としてSb
2O
3を添加することができる。ただし、着色を避けるため、あるいは環境への負荷を考慮して、Sb
2O
3の含有量は0.1%以下であることが好ましい。
【0037】
本発明のガラス材は、特にアイソレータ等の磁気光学素子として使用する場合における光透過損失がなるべく小さいことが好ましい。具体的には、本発明のガラス材の光透過率は、波長633nmにおいて50%以上、60%、特に70%以上であることが好ましい。
【0038】
本発明のガラス材の大きさは特に限定されないが、大きいほど生産性が向上するため好ましい。具体的には、本発明のガラス材が球状あるいは楕円体状である場合、その短径は1mm以上、2mm以上、特に3mm以上であることが好ましい。また長径は1mm以上、2mm以上、特に3mm以上であることが好ましい。
【0039】
本発明のガラス材は、例えば無容器浮遊法により作製することができる。
図1は、無容器浮遊法によりガラス材を作製するための製造装置の一例を示す模式的断面図である。以下、
図1を参照しながら、本発明のガラス材の製造方法について説明する。
【0040】
ガラス材の製造装置1は成形型10を有する。成形型10は溶融容器としての役割も果たす。成形型10は、成形面10aと、成形面10aに開口している複数のガス噴出孔10bとを有する。ガス噴出孔10bは、ガスボンベなどのガス供給機構11に接続されている。このガス供給機構11からガス噴出孔10bを経由して、成形面10aにガスが供給される。ガスの種類は特に限定されず、例えば、空気や酸素であってもよいし、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、水素を含有した還元性ガスであってもよい。
【0041】
製造装置1を用いてガラス材を製造するに際しては、まず、原料塊12を成形面10a上に配置する。原料塊12としては、例えば、原料粉末をプレス成型等により一体化したものや、原料粉末をプレス成型等により一体化した後に焼結させた焼結体や、目標ガラス組成と同等の組成を有する結晶の集合体等が挙げられる。
【0042】
次に、ガス噴出孔10bからガスを噴出させることにより、原料塊12を成形面10a上で浮遊させる。すなわち、原料塊12を、成形面10aに接触していない状態で保持する。その状態で、レーザー光照射装置13からレーザー光を原料塊12に照射する。これにより原料塊12を加熱溶融してガラス化させ、溶融ガラスを得る。その後、溶融ガラスを冷却することにより、ガラス材を得ることができる。原料塊12を加熱溶融する工程と、溶融ガラス、さらにはガラス材の温度が少なくとも軟化点以下となるまで冷却する工程においては、少なくともガスの噴出を継続し、原料塊12、溶融ガラス、さらにはガラス材と成形面10aとの接触を抑制することが好ましい。なお、加熱溶融する方法としては、レーザー光を照射する方法以外にも、輻射加熱であってもよい。
【実施例】
【0043】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0044】
表1は本発明の実施例及び比較例を示している。
【0045】
【表1】
【0046】
各試料は次のようにして作製した。まず表に示すガラス組成になるように調合した原料をプレス成型し、800〜1400℃で12時間焼結することにより原料塊を作製した。
【0047】
次に、乳鉢中で原料塊を粗粉砕し、0.05〜0.5gの小片とした。得られた原料塊の小片を用いて、
図1に準じた装置を用いた無容器浮遊法によってガラス材(直径(長径)約1〜8mm)を作製した。なお、熱源としては100W CO
2レーザー発振器を用いた。また、原料塊を浮遊させるためのガスとして窒素ガスを用い、流量1〜30L/分で供給した。
【0048】
ガラス材の密度はアルキメデス法により測定した。また、ガラス材のモル質量は各成分の分子量及び含有量から算出した。得られた密度及びモル質量の値を用いて、既述の式によりTbイオン密度を算出した。
【0049】
得られたガラス材について、カー(Kerr)効果測定装置(日本分光(株)製、品番:K−250)を用いてベルデ定数を測定した。具体的には、得られたガラス材を1mm程度の厚さとなるよう研磨加工し、15kOeの磁場中で波長400〜850nmでのファラデー回転角を測定し、波長633nmにおけるベルデ定数を算出した。なお、波長の掃引速度は6nm/minとした。結果を表1に示す。
【0050】
表1から明らかなように実施例1〜6のガラス材は、Tbイオン密度が1.29×10
22〜1.79×10
22ions/cm
3と大きく、波長633nmにおけるベルデ定数が−0.48〜−0.70となった。一方、比較例1〜3のガラス材は、Tbイオン密度が1.13×10
22〜1.20×10
22ions/cm
3と小さくなり、波長633nmにおけるベルデ定数が−0.41〜−0.44と絶対値が小さかった。