特許6612533反応現像画像形成法、反応現像画像形成法に用いられる感光性樹脂組成物、および反応現像画像形成方法により製造された基板ならびに構造物

発明の名称　反応現像画像形成法、反応現像画像形成法に用いられる感光性樹脂組成物、および反応現像画像形成方法により製造された基板ならびに構造物

出願人　三菱瓦斯化学株式会社　（識別番号 4466）

　　　　特許公開件数ランキング 426 位（24件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 192 位（53件）（共同出願を含む）

出願人　国立大学法人横浜国立大学　（識別番号 504182255）

　　　　特許公開件数ランキング 2888 位（11件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1040 位（16件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6612533

公報発行日　2019年11月27

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6612533

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