特許 6616897 表示パネル

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6616897

(24)【登録日】2019年11月15日

(45)【発行日】2019年12月4日

(54)【発明の名称】表示パネル

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1339 20060101AFI20191125BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/1339 505

【請求項の数】8

【全頁数】29

(21)【出願番号】特願2018-525089(P2018-525089)

(86)(22)【出願日】2017年6月21日

(86)【国際出願番号】JP2017022832

(87)【国際公開番号】WO2018003622

(87)【国際公開日】20180104

【審査請求日】2018年12月19日

(31)【優先権主張番号】特願2016-127478(P2016-127478)

(32)【優先日】2016年6月28日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000005049

【氏名又は名称】シャープ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001036

【氏名又は名称】特許業務法人暁合同特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】田中 茂樹

(72)【発明者】

【氏名】上田 亮

(72)【発明者】

【氏名】黒住 幸生

(72)【発明者】

【氏名】濱田 誠次

(72)【発明者】

【氏名】高橋 亮輔

【審査官】 小濱 健太

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１５−２５９０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１６／０１３３６５３（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−９１８９６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｆ １／１３３９

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

画像が表示される表示領域と前記表示領域外の非表示領域とに区分される板面が、間に内部空間を挟む形で対向するよう配される一対の基板と、
前記一対の基板間に介在し、前記内部空間を取り囲む形で前記非表示領域に配されて前記内部空間を封止するシール部と、
前記一対の基板のうちの一方の基板に設けられ、前記表示領域と前記非表示領域とに跨る形で配される絶縁膜と、
前記一方の基板において前記絶縁膜よりも前記内部空間に近い側に設けられ、前記表示領域と前記非表示領域とに跨る形で配される配向膜と、
前記絶縁膜からなり、前記非表示領域において前記シール部と重畳する位置に間欠的に配され、前記配向膜が非配置とされる配向膜非配置領域を区画する区画部と、を備え、
前記絶縁膜は、前記一方の基板における外端側に前記絶縁膜が非配置とされる絶縁膜非配置領域が存在するよう、前記一方の基板における外端よりも内側に引っ込む主部を有しており、
前記区画部は、前記主部との間に前記絶縁膜非配置領域を挟む形で配されており、
前記絶縁膜には、相対的に前記内部空間から遠い側に配される第１絶縁膜と、相対的に前記内部空間に近い側に配される第２絶縁膜と、が含まれており、
前記区画部は、前記第１絶縁膜からなる第１区画部と、前記第２絶縁膜からなる第２区画部と、の積層構造とされ、
前記区画部は、前記第１区画部が前記第２区画部に対して内側と外側とにそれぞれ張り出すよう形成されている表示パネル。

【請求項2】

前記区画部は、複数の前記配向膜非配置領域を相互に分離した形で区画する請求項１記載の表示パネル。

【請求項3】

前記絶縁膜からなり、前記区画部との間に間隔を空けて配されるとともに周りが前記配向膜非配置領域により囲まれた島状の島状部を備える請求項１または請求項２に記載の表示パネル。

【請求項4】

前記区画部は、無端環状をなしている請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項5】

前記区画部は、有端環状をなしていて両端部が前記一方の基板における外端に臨む形で配されている請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項6】

前記絶縁膜のうち前記非表示領域に配される部分には、前記一方の基板における外端側に向けて開口する配向膜流通溝部が設けられている請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項7】

前記絶縁膜のうち前記非表示領域に配され且つ前記シール部と重畳する部分には、前記一方の基板における外端に倣って延在し前記配向膜流通溝部に連通する連通溝部が設けられている請求項６記載の表示パネル。

【請求項8】

前記一方の基板における前記非表示領域において前記区画部よりも前記表示領域寄りに配される回路部を備えており、
前記一方の基板は、互いに直交する一対の辺部を少なくとも備える外形を有しているのに対し、前記回路部は、前記一対の辺部に並行する一対の並行辺部と、前記一対の辺部までの距離が前記一対の並行辺部よりも大きくなるよう前記一対の辺部に対して交差する交差辺部と、を相互に連ねてなる外形を有する請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の表示パネル。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示パネルに関する。

【背景技術】

【0002】

従来、液晶表示装置を構成する主要部品である液晶パネルの一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。この液晶パネルは、液晶層を挟んで対向配置された基板と対向基板がシール材を介して接合されている。これらの基板間隙の厚さを規定するための柱状スペーサが設けられている。シール材の内周に沿って内側突起が、外周に沿って外側突起が、それぞれ幅／高さ＝０．５〜１０の範囲で形成されている。少なくとも内側突起は、柱状スペーサと同一の高さで形成されている。これにより、パネル面内のセルギャップを均一にすることが可能となり、接着強度を保ったまま表示ムラが解消できる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１３−１９０５５１号公報

【0004】

（発明が解決しようとする課題）
上記した特許文献１に記載された液晶パネルは、配向膜がシール材と重畳する配置となっており、基板に対してシール材が配向膜を介して接している。このため、基板に対するシール材の接着強度が十分に得られず、シール材が剥離するおそれがあった。

【発明の概要】

【0005】

本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、シール部の剥離を抑制または防止することを目的とする。

【0006】

（課題を解決するための手段）
本発明の表示パネルは、画像が表示される表示領域と前記表示領域外の非表示領域とに区分される板面が、間に内部空間を挟む形で対向するよう配される一対の基板と、前記一対の基板間に介在し、前記内部空間を取り囲む形で前記非表示領域に配されて前記内部空間を封止するシール部と、前記一対の基板のうちの一方の基板に設けられ、前記表示領域と前記非表示領域とに跨る形で配される絶縁膜と、前記一方の基板において前記絶縁膜よりも前記内部空間に近い側に設けられ、前記表示領域と前記非表示領域とに跨る形で配される配向膜と、前記絶縁膜からなり、前記非表示領域において前記シール部と重畳する位置に配され、前記配向膜が非配置とされる配向膜非配置領域を区画する区画部と、を備える。

【0007】

このようにすれば、一対の基板間に挟まれる内部空間は、一対の基板間に介在して非表示領域に配されるシール部によって取り囲まれることで封止される。一対の基板のうちの一方の基板には、絶縁膜及び配向膜が設けられており、このうちの配向膜は、絶縁膜よりも内部空間に近い側に設けられていて表示領域と非表示領域とに跨る形で配されているので、仮に配向膜の成膜範囲を制限する構造物を設けた場合に比べると、配向膜を成膜する際に配向膜の材料が表示領域から非表示領域へとスムーズに広がって途中で滞留し難くなっている。これにより、配向膜の膜厚を均一化する上で好適となる。その上で、一方の基板の非表示領域においてシール部と重畳する位置には、絶縁膜からなり、配向膜が非配置とされる配向膜配置領域を区画する区画部が配されているから、シール部が一方の基板の配向膜非配置領域に対して配向膜を介することなく接することになる。これにより、従来のようにシール部が一方の基板に対して配向膜を介して接する構成とされた場合に比べると、一方の基板に対するシール部の接着強度が高いものとなり、シール部が剥離し難くなる。

【0008】

本発明の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記区画部は、複数の前記配向膜非配置領域を相互に分離した形で区画する。このようにすれば、仮に配向膜の成膜に際して配向膜の材料がいずれかの配向膜非配置領域内に入ったとしても、その配向膜非配置領域に対して残りの配向膜非配置領域が区画部によって分離された形で区画されているので、残りの配向膜非配置領域に配向膜の材料が入ることを避けることが可能となっている。これにより、シール部が配向膜非配置領域に対して配向膜を介することなく接する確実性が高いものとなり、シール部の剥離がより生じ難くなる。

【0009】

（２）前記絶縁膜は、前記一方の基板における外端側に前記絶縁膜が非配置とされる絶縁膜非配置領域が存在するよう、前記一方の基板における外端よりも内側に引っ込む主部を有しており、前記区画部は、前記主部との間に前記絶縁膜非配置領域を挟む形で配されている。このようにすれば、一方の基板における外端側には、絶縁膜が非配置とされる絶縁膜非配置領域が主部と区画部との間に挟まれる形で存在しているから、配向膜の成膜時に配向膜の材料が主部の外側に広がると絶縁膜非配置領域に入ることになる。これにより、配向膜の材料が区画部を乗り越えて配向膜非配置領域内に入る事態が生じ難くなる。

【0010】

（３）前記絶縁膜には、相対的に前記内部空間から遠い側に配される第１絶縁膜と、相対的に前記内部空間に近い側に配される第２絶縁膜と、が含まれており、前記区画部は、前記第１絶縁膜からなる第１区画部と、前記第２絶縁膜からなる第２区画部と、の積層構造とされる。このようにすれば、仮に区画部を一層の絶縁膜からなる構成とした場合に比べると、積層構造とされる区画部の高さが大きなものとなるので、配向膜の成膜時に絶縁膜非配置領域内に入った配向膜の材料が区画部を一層乗り越え難くなる。これにより、配向膜の材料が配向膜非配置領域に入る事態が一層生じ難くなる。

【0011】

（４）前記区画部は、前記第１区画部が前記第２区画部に対して内側と外側とにそれぞれ張り出すよう形成されている。このようにすれば、当該表示パネルの製造時に、一方の基板に第１絶縁膜及び第２絶縁膜を形成するにあたって、第２絶縁膜からなる第２区画部の形成位置にずれが生じた場合であっても、第２区画部に対する第１区画部の張り出し寸法の範囲内で上記位置ずれを吸収することができるので、第２区画部が第１区画部に対して積層形成される確実性が高いものとなる。

【0012】

（５）前記配向膜非配置領域は、前記絶縁膜を部分的に凹ませて形成された凹部からなり、前記区画部は、前記凹部の縁部からなる。このようにすれば、絶縁膜を部分的に凹ませて形成された凹部により配向膜非配置領域が構成され、その配向膜非配置領域が凹部の縁部からなる区画部によって区画されている。このような構成によれば、仮に区画部の周りに、絶縁膜が非配置とされる絶縁膜非配置領域が配される構成とした場合に比べると、一方の基板における区画部の周りの平坦性が高いものとなる。これにより、一対の基板間に介在するシール部の高さが均一化される。

【0013】

（６）前記絶縁膜からなり、前記区画部との間に間隔を空けて配されるとともに周りが前記配向膜非配置領域により囲まれた島状の島状部を備える。このようにすれば、島状部によって配向膜非配置領域の間口が狭められるので、配向膜の成膜時に配向膜の材料が配向膜非配置領域内により入り難くなる。

【0014】

（７）前記区画部は、無端環状をなしている。このようにすれば、配向膜非配置領域が全周にわたって区画部によって取り囲まれるので、配向膜の成膜時に配向膜の材料が配向膜非配置領域内により入り難くなる。

【0015】

（８）前記区画部は、有端環状をなしていて両端部が前記一方の基板における外端に臨む形で配されている。このようにすれば、区画部の配置スペースを小さくする上で好適となり、当該表示パネルの狭額縁化を図る上で有用となる。また、区画部の配置スペースが小さくなった分、配向膜非配置領域を大きくすることが可能となるので、シール部が一方の基板に接する面積が大きくなり、もってシール部の接着強度をより高いものとすることが可能となる。

【0016】

（９）前記絶縁膜のうち前記非表示領域に配される部分には、前記一方の基板における外端側に向けて開口する配向膜流通溝部が設けられている。このようにすれば、配向膜を成膜する際には、表示領域側に供給された配向膜の材料が配向膜流通溝部内を流通することで、一方の基板における外端側へと導かれる。これにより、表示領域側において配向膜が滞留し難くなるので、配向膜の膜厚を均一化する上でより好適となる。

【0017】

（１０）前記絶縁膜のうち前記非表示領域に配され且つ前記シール部と重畳する部分には、前記一方の基板における外端に倣って延在し前記配向膜流通溝部に連通する連通溝部が設けられている。このようにすれば、配向膜を成膜する際に配向膜流通溝部内を流通する配向膜の材料は、配向膜流通溝部に連通する連通溝部にも流通される。これにより、配向膜の材料の流動性がより良好なものとなるので、配向膜の膜厚を均一化する上でさらに好適となる。

【0018】

（１１）前記一方の基板における前記非表示領域において前記区画部よりも前記表示領域寄りに配される回路部を備えており、前記一方の基板は、互いに直交する一対の辺部を少なくとも備える外形を有しているのに対し、前記回路部は、前記一対の辺部に並行する一対の並行辺部と、前記一対の辺部までの距離が前記一対の並行辺部よりも大きくなるよう前記一対の辺部に対して交差する交差辺部と、を相互に連ねてなる外形を有する。このようにすれば、回路部における交差辺部から一方の基板における一対の辺部までの距離は、回路部における一対の並行辺部から一方の基板における一対の辺部までの距離よりも大きくなっているから、一方の基板において一対の辺部により構成される角部での区画部及び配向膜非配置領域の配置スペースが他の部分よりも大きくなっている。この角部では、シール部の剥離の発生が特に懸念されることから、上記のように角部において配向膜非配置領域の配置スペースが大きくされることで、シール部の剥離を抑制または防止する上で特に有用である。

【0019】

（発明の効果）
本発明によれば、シール部の剥離を抑制または防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】本発明の実施形態１に係る液晶パネルとフレキシブル基板との接続構成を示す概略平面図

【図2】液晶パネル全体の断面構成を示す概略断面図

【図3】液晶パネルの表示領域における断面構成を示す概略断面図

【図4】液晶パネルを構成するアレイ基板の表示領域における配線構成を概略的に示す平面図

【図5】液晶パネルを構成するＣＦ基板の表示領域における平面構成を示す平面図

【図6】図４のＡ−Ａ線断面図

【図7】アレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図8】アレイ基板における区画部の平面図

【図9】アレイ基板における区画部付近の断面図

【図10】アレイ基板における区画部内に配向膜が入った状態を示す区画部付近の断面図

【図11】本発明の実施形態２に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図12】アレイ基板における区画部の平面図

【図13】アレイ基板における区画部付近の断面図

【図14】アレイ基板における区画部内に配向膜が入った状態を示す区画部付近の断面図

【図15】本発明の実施形態３に係るアレイ基板における区画部の平面図

【図16】アレイ基板における区画部付近の断面図

【図17】本発明の実施形態４に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図18】アレイ基板における区画部の平面図

【図19】アレイ基板における区画部付近の断面図

【図20】本発明の実施形態５に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図21】図２０のＢ−Ｂ線断面図

【図22】図２０のＣ−Ｃ線断面図

【図23】本発明の実施形態６に係るアレイ基板における区画部の平面図

【図24】アレイ基板における区画部付近の断面図

【図25】本発明の実施形態７に係るアレイ基板における区画部の平面図

【図26】本発明の実施形態８に係るアレイ基板における区画部の平面図

【図27】本発明の実施形態９に係るアレイ基板における区画部の平面図

【図28】本発明の実施形態１０に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図29】本発明の実施形態１１に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図30】本発明の実施形態１２に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【図31】本発明の実施形態１３に係るアレイ基板の角部における平面構成を示す平面図

【発明を実施するための形態】

【0021】

＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図１０によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置１０に備わる液晶パネル（表示パネル）１１について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図３及び図８などの上側を表側とし、同図下側を裏側とする。

【0022】

液晶表示装置１０は、図１に示すように、画像を表示可能な液晶パネル１１と、液晶パネル１１を駆動するドライバ（パネル駆動部）１２と、ドライバ１２に対して各種入力信号を外部から供給する制御回路基板（外部の信号供給源）１３と、液晶パネル１１と外部の制御回路基板１３とを電気的に接続するフレキシブル基板（外部接続部品）１４と、液晶パネル１１に対して裏側に配されて液晶パネル１１に表示のための光を照射する外部光源であるバックライト装置（図示せず）と、を少なくとも備えている。この液晶表示装置１０は、液晶パネル１１の画面サイズが例えば５インチ程度とされ、スマートフォンなどの用途に好適となっている。なお、液晶パネル１１の具体的な画面サイズや液晶表示装置１０の具体的な用途は上記以外にも適宜に変更可能である。

【0023】

液晶パネル１１は、図１に示すように、全体として縦長な方形状（矩形状）をなしており、その板面が、画像を表示可能で且つ中央側に配される表示領域（アクティブエリア）ＡＡと、表示領域ＡＡを取り囲む形で外周側に配されて平面に視て枠状（額縁状）をなす非表示領域（ノンアクティブエリア）ＮＡＡと、に区分されている。この液晶パネル１１における短辺方向が各図面のＸ軸方向と一致し、長辺方向が各図面のＹ軸方向と一致し、さらには板厚方向がＺ軸方向と一致している。なお、図１及び図７では、一点鎖線が表示領域ＡＡの外形を表しており、当該一点鎖線よりも外側の領域が非表示領域ＮＡＡとなっている。

【0024】

液晶パネル１１は、図２に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間に挟持されて電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（内部空間）１１ｃと、液晶層１１ｃを取り囲む形で両基板１１ａ，１１ｂ間に介在することで液晶層１１ｃの厚さ分のセルギャップを維持した状態で液晶層１１ｃをシールするシール部１１ｐと、を少なくとも有している。一対の基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板（基板、対向基板）１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（一方の基板、アクティブマトリクス基板）１１ｂとされる。ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂは、いずれもガラス製のガラス基板ＧＳの内面側に各種の膜が積層形成されてなるものとされる。シール部１１ｐは、液晶パネル１１のうち非表示領域ＮＡＡに配されるとともに平面に視て（両基板１１ａ，１１ｂの板面に対する法線方向から視て）非表示領域ＮＡＡに倣う縦長の略枠状をなしている（図１）。なお、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ偏光板１１ｄ，１１ｅが貼り付けられている。

【0025】

アレイ基板１１ｂの内面側（液晶層１１ｃ側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）における表示領域ＡＡには、図３及び図４に示すように、スイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor：表示素子）１１ｆ及び画素電極１１ｇが多数個マトリクス状（行列状）に並んで設けられるとともに、これらＴＦＴ１１ｆ及び画素電極１１ｇの周りには、格子状をなすゲート配線（走査線）１１ｉ及びソース配線（データ線、信号線）１１ｊが取り囲むようにして配設されている。ゲート配線１１ｉとソース配線１１ｊとがそれぞれＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１とソース電極１１ｆ２とに接続され、画素電極１１ｇがＴＦＴ１１ｆのドレイン電極１１ｆ３に接続されている。そして、ＴＦＴ１１ｆは、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊにそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極１１ｇへの電位の供給が制御されるようになっている。画素電極１１ｇは、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊにより囲まれた方形の領域に配されている。また、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡの内面側には、画素電極１１ｇと重畳する形でベタ状のパターンからなる共通電極１１ｈが画素電極１１ｇよりも上層側に形成されている。これら互いに重畳する画素電極１１ｇと共通電極１１ｈとの間に電位差が生じると、液晶層１１ｃには、アレイ基板１１ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が印加されるようになっている。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。なお、本実施形態では、各図面においてゲート配線１１ｉの延在方向がＸ軸方向と、ソース配線１１ｊの延在方向がＹ軸方向と、それぞれ一致するものとされている。

【0026】

一方、ＣＦ基板１１ａのうちの表示領域ＡＡの内面側には、図３及び図５に示すように、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極１１ｇと対向状をなす位置に多数個のカラーフィルタ１１ｋがマトリクス状に並んで設けられている。カラーフィルタ１１ｋは、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の三色の着色膜が所定の順で繰り返し並んで配されてなる。各カラーフィルタ１１ｋ間には、混色を防ぐための格子状の遮光膜（ブラックマトリクス）１１ｌが形成されている。遮光膜１１ｌは、上記したゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊと平面に視て重畳する配置とされる。カラーフィルタ１１ｋ及び遮光膜１１ｌの表面には、オーバーコート膜１１ｍが設けられている。また、オーバーコート膜１１ｍの表面には、図示しないフォトスペーサが設けられている。なお、当該液晶パネル１１においては、カラーフィルタ１１ｋにおけるＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色膜及びそれらと対向する３つの画素電極１１ｇの組によって表示単位である１つの表示画素が構成されている。表示画素は、Ｒのカラーフィルタ１１ｋを有する赤色画素と、Ｇのカラーフィルタ１１ｋを有する緑色画素と、Ｂのカラーフィルタ１１ｋを有する青色画素と、からなる。これら各色の表示画素は、液晶パネル１１の板面において行方向（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し並べて配されることで、表示画素群を構成しており、この表示画素群が列方向（Ｙ軸方向）に沿って多数並んで配されている。

【0027】

両基板１１ａ，１１ｂのうち最も内側（液晶層１１ｃの近く）にあって液晶層１１ｃに接する層としては、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜１１ｎ，１１ｏがそれぞれ形成されている。両配向膜１１ｎ，１１ｏは、それぞれ例えばポリイミドからなるものとされており、少なくとも各基板１１ａ，１１ｂにおける表示領域ＡＡのほぼ全域に加えて非表示領域ＮＡＡのうち表示領域ＡＡに隣り合う内周側部分にわたってベタ状に形成されている。両配向膜１１ｎ，１１ｏは、特定の波長領域の光（例えば紫外線など）が照射されることで、その光の照射方向に沿って液晶分子を配向させることが可能な光配向膜とされる。

【0028】

続いて、アレイ基板１１ｂの内面側に積層形成された各種の膜について説明する。アレイ基板１１ｂには、図６に示すように、下層側（ガラス基板ＧＳ側、液晶層１１ｃから遠い側）から順に第１金属膜（ゲート金属膜）１５、ゲート絶縁膜１６、半導体膜１７、第２金属膜（ソース金属膜）１８、第１層間絶縁膜１９、平坦化膜（絶縁膜、第１絶縁膜、下層側絶縁膜）２０、第１透明電極膜２１、第２層間絶縁膜（絶縁膜、第２絶縁膜、上層側絶縁膜）２２、第２透明電極膜２３、配向膜１１ｏが積層形成されている。

【0029】

第１金属膜１５は、異なる種類の金属材料を積層してなる積層膜または１種類の金属材料からなる単層膜とされ、図３及び図６に示すように、ゲート配線１１ｉやＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１などを構成する。ゲート絶縁膜１６は、無機材料からなる。半導体膜１７は、材料として例えば酸化物半導体を用いた薄膜からなり、ＴＦＴ１１ｆにおいてソース電極１１ｆ２とドレイン電極１１ｆ３とに接続されるチャネル部１１ｆ４などを構成する。第２金属膜１８は、第１金属膜１５と同様に、積層膜または単層膜とされ、ソース配線１１ｊやＴＦＴ１１ｆのソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３などを構成する。第１層間絶縁膜１９は、無機材料からなる。平坦化膜２０は、有機樹脂材料からなり、その膜厚が無機樹脂材料からなる他の絶縁膜１６，１９，２２よりも大きなものとされ、例えば２μｍ程度とされる。この平坦化膜２０によりアレイ基板１１ｂの表面が平坦化される。第１透明電極膜２１は、透明電極材料からなり、共通電極１１ｈを構成する。第２層間絶縁膜２２は、無機材料からなり、その膜厚が上記した平坦化膜２０よりも小さく、例えば０．２μｍ程度とされる。第２透明電極膜２３は、透明電極材料からなり、画素電極１１ｇを構成する。第１層間絶縁膜１９、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２には、第２透明電極膜２３からなる画素電極１１ｇを第２金属膜１８からなるドレイン電極１１ｆ３に接続するためのコンタクトホールＣＨが開口形成されている。このコンタクトホールＣＨを除いて第１層間絶縁膜１９、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２は、少なくとも表示領域ＡＡの全域にわたってベタ状に形成されている。配向膜１１ｏは、第２透明電極膜２３及び第２層間絶縁膜２２の上層側に積層されることで、液晶層１１ｃに直接臨む形で配されている。

【0030】

次に、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡに存在する構成について詳しく説明する。アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡのうち、表示領域ＡＡに隣り合う内周側部分には、図７に示すように、ドライバ１２からの出力信号をＴＦＴ１１ｆに供給するための制御などを行う回路部２４が設けられている。回路部２４は、後述する区画部２５よりも表示領域ＡＡ寄りに配されるとともに、シール部１１ｐにおける内周側部分と平面に視て重畳する配置とされている。回路部２４は、表示領域ＡＡを取り囲む形で略枠状をなしている。より詳しくは、回路部２４は、その内端位置がシール部１１ｐの内端位置よりも表示領域ＡＡ寄りの配置とされる。ここで、アレイ基板１１ｂは、既述した通り、平面に視て縦長の方形状をなしており、一対ずつの長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２を有するとともに四隅にそれぞれ角部１１ｂ３を有している。これに対し、回路部２４は、長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２にそれぞれ並行する長辺並行辺部（並行辺部）２４ａ及び短辺並行辺部（並行辺部）２４ｂと、長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２と交差する交差辺部２４ｃと、を相互に連ねてなる外形を有する。交差辺部２４ｃは、曲率中心が表示領域ＡＡ側に位置するよう平面に視て円弧状をなしており、長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２までの距離が、長辺並行辺部２４ａ及び短辺並行辺部２４ｂから長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２までの距離よりも大きくなっている。なお、図７では、回路部２４を細い二点鎖線にて、シール部１１ｐを太い二点鎖線にて、それぞれ図示している。

【0031】

回路部２４は、ＴＦＴ１１ｆのチャネル部１１ｆ４と同じ半導体膜１７をベースとしてアレイ基板１１ｂ上にモノリシックに形成されており、それによりＴＦＴ１１ｆへの出力信号の供給を制御などするための制御回路を有している。回路部２４が有する制御回路には、ドライバ１２からの出力信号に含まれる走査信号を各ゲート配線１１ｉに所定のタイミングで供給し、各ゲート配線１１ｉを順次に走査する走査回路やドライバ１２からの出力信号に含まれる画像信号を各ソース配線１１ｊに振り分けるスイッチ回路（ＲＧＢスイッチ回路）などが含まれている。また、回路部２４の制御回路は、アレイ基板１１ｂの製造工程においてＴＦＴ１１ｆなどをパターニングする際に既知のフォトリソグラフィ法により同時にアレイ基板１１ｂ上にパターニングされている。

【0032】

続いて、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおける平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２の形成範囲について説明する。平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２は、図７に示すように、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって形成されるのに加えて、非表示領域ＮＡＡの内周側部分にも拡張形成されており、この表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡに跨る形で配される部分が主部２０ａ，２２ａとされる。平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２における主部２０ａ，２２ａは、非表示領域ＮＡＡにおいて回路部２４よりも一回り大きな形成範囲を有している。つまり、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２における主部２０ａ，２２ａは、非表示領域ＮＡＡに配される部分のうちの内周側部分が回路部２４の全域に対して重畳する配置とされる。アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡのうち、上記主部２０ａ，２２ａよりも外周側となる部分は、後述する区画部２５を除く大部分が、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２が非配置とされる絶縁膜非配置領域ＮＩＡとされる。平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２における主部２０ａ，２２ａは、アレイ基板１１ｂの長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２にそれぞれ並行する長辺並行辺部２０ａ１，２２ａ１及び短辺並行辺部２０ａ２，２２ａ２と、長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２と交差する交差辺部２０ａ３，２２ａ３と、を相互に連ねてなる外形を有する。交差辺部２０ａ３，２２ａ３は、曲率中心が表示領域ＡＡ側に位置するよう平面に視て円弧状をなしており、長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２までの距離が、長辺並行辺部２０ａ１，２２ａ１及び短辺並行辺部２０ａ２，２２ａ２から長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２までの距離よりも大きくなっている。第２層間絶縁膜２２の主部（第２絶縁膜主部）２２ａは、平坦化膜２０の主部（第１絶縁膜主部）２０ａよりも一回り大きな形成範囲を有している。従って、上記した絶縁膜非配置領域ＮＩＡは、第２層間絶縁膜２２の主部２２ａによって画定されるものであり、同主部２２ａよりも外側の領域となっている。

【0033】

なお、図７及び図９では、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２以外の積層膜の図示を省略するとともに、図７では、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２の形成範囲を異なる網掛け状にして図示していて、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２が重畳する範囲に関しては網掛けも相互に重ね合わせた図示としている。また、図７では、第２層間絶縁膜２２の主部２２ａの外形を実線にて、平坦化膜２０の主部２０ａの外形を太い破線にて、それぞれ図示している。

【0034】

さて、本実施形態に係るアレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡには、図７に示すように、配向膜１１ｏが非配置とされる配向膜非配置領域ＮＡＬＡを区画する区画部２５が配されている。区画部２５は、アレイ基板１１ｂの積層膜のうちの平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２からなる二層構造とされていて、非表示領域ＮＡＡにおいてシール部１１ｐの外周側部分と平面に視て重畳する位置に配されている。区画部２５は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡのうちの外周側部分、つまり回路部２４や平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２の主部２０ａ，２２ａよりも外端側に配されている。従って、区画部２５は、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２の主部２０ａ，２２ａとの間に絶縁膜非配置領域ＮＩＡを挟む形で配されている。なお、配向膜非配置領域ＮＡＬＡには、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２が配されていないことから、配向膜非配置領域ＮＡＬＡは絶縁膜非配置領域ＮＩＡであるとも言える。区画部２５は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおける外周側部分において複数がＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って間欠的に並んで配置されている。具体的には、区画部２５は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおける外周側部分のうち、角部１１ｂ３を除いた箇所では、長辺部１１ｂ１または短辺部１１ｂ２に沿って複数が一列に並んで配されているのに対し、角部１１ｂ３では、複数が長辺部１１ｂ１及び短辺部１１ｂ２に沿って二次元的に並んで配されている。これは、回路部２４が円弧状の交差辺部２４ｃを有する外形とされていて、それに伴って平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２の主部２０ａ，２２ａが円弧状の交差辺部２０ａ３，２２ａ３を有する外形とされることで、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡの角部１１ｂ３に、区画部２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの配置スペースが大きく確保できたことに因る。

【0035】

区画部２５は、図８に示すように、平面に視て円環状（ドーナツ状）、つまり内外周縁が共に円形の無端環状をなしている。従って、配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、区画部２５によって全周にわたって取り囲まれており、平面に視て円形状をなしている。配向膜非配置領域ＮＡＬＡの径寸法は、区画部２５の最小内径寸法と等しく、例えば３５μｍ程度とされる。区画部２５は、図８及び図９に示すように、平坦化膜２０からなる第１区画部（下層側区画部）２５ａと、第１区画部２５ａの上層側に配される第２層間絶縁膜２２からなる第２区画部（上層側区画部）２５ｂと、の二層の積層構造とされる。下層側の第１区画部２５ａは、上層側の第２区画部２５ｂよりも幅広に形成されていて内外両周面が第２区画部２５ｂの内外両周面よりもそれぞれ外側に張り出している。第１区画部２５ａは、外径寸法が例えば７５μｍ程度とされ、内径寸法が例えば３５μｍ程度とされ、幅寸法が例えば２０μｍ程度とされる。第２区画部２５ｂは、幅寸法が例えば１２μｍ程度とされる。

【0036】

ところで、アレイ基板１１ｂにおける配向膜１１ｏは、既述した通り、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配されているのであるが、その成膜時には例えばインクジェット装置を用いており、インクジェット装置のノズルから吐出した配向膜１１ｏの液滴（材料）を主に表示領域ＡＡに着弾させるようにしている。表示領域ＡＡに着弾した配向膜１１ｏは、表示領域ＡＡ内を隈無く広がるとともに非表示領域ＮＡＡへと広がる。この配向膜１１ｏの液滴は、粘性が低い液体であるため、アレイ基板１１ｂ上での広がり範囲を正確に制御するのが困難である、という事情があり、そのため非表示領域ＮＡＡにおける成膜範囲には大きな個体差が生じるおそれがある。ここで、仮に非表示領域ＮＡＡにおける配向膜１１ｏの成膜範囲を制御するための構造物をアレイ基板１１ｂに設置した場合には、当該構造物によって配向膜１１ｏの成膜範囲は一定となるものの、その成膜範囲内における構造物付近に配向膜１１ｏの膜厚が局所的に大きくなる箇所が生じるおそれがあり、そのような箇所によって表示ムラが視認されるおそれがあった。その点、本実施形態では、配向膜１１ｏの成膜範囲を制御する構造物を設けておらず、成膜時に配向膜１１ｏの液滴が表示領域ＡＡ側から非表示領域ＮＡＡへとスムーズに広がって途中で滞留し難いものとなっている。これにより、配向膜１１ｏの膜厚が好適に均一化される。その上で、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおいてシール部１１ｐの一部と重畳する位置には、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２からなり、配向膜１１ｏが非配置とされる配向膜非配置領域ＮＡＬＡを区画する区画部２５が配されているから、シール部１１ｐがアレイ基板１１ｂの配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して配向膜１１ｏを介することなく接することになる。これにより、従来のようにシール部がアレイ基板に対して配向膜を介して接する構成とされた場合に比べると、アレイ基板１１ｂに対するシール部１１ｐの接着強度が高いものとなり、シール部１１ｐが剥離し難くなる。特に、このアレイ基板１１ｂでは、シール部１１ｐの剥離の発生が懸念される角部１１ｂ３に多くの区画部２５が集約して配置されているので、シール部１１ｐの剥離を抑制または防止する上で特に有用である。

【0037】

区画部２５は、非表示領域ＮＡＡにおいて複数が間に絶縁膜非配置領域ＮＩＡを挟んで並んで配されることで、複数の配向膜非配置領域ＮＡＬＡを相互に分離した形で区画している。図１０に示すように、仮に配向膜１１ｏの成膜に際して配向膜１１ｏの液滴がいずれかの区画部２５を乗り越えてその内側の配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内に入ったとしても、その配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して残りの配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、図７及び図９に示すように、区画部２５によって分離された形で区画された状態に保たれ、残りの配向膜非配置領域ＮＡＬＡに配向膜１１ｏの液滴が入ることを避けることが可能となっている。これにより、シール部１１ｐが配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して配向膜１１ｏを介することなく接する確実性が高いものとなり、シール部１１ｐの剥離がより生じ難くなる。

【0038】

区画部２５は、図７及び図９に示すように、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２における主部２０ａ，２２ａとの間に絶縁膜非配置領域ＮＩＡを挟む形で配されているから、配向膜１１ｏの成膜時に配向膜１１ｏの液滴が主部２０ａ，２２ａの外側に広がると絶縁膜非配置領域ＮＩＡに入ることになる。絶縁膜非配置領域ＮＩＡには、平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２の膜厚の分だけ配向膜１１ｏが貯留されることになるから、配向膜１１ｏの液滴が区画部２５を乗り越えて配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内に入る事態が生じ難くなる。しかも、配向膜非配置領域ＮＡＬＡが全周にわたって無端環状とされる区画部２５によって取り囲まれるので、配向膜１１ｏの成膜時に配向膜１１ｏの液滴が配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内により入り難くなる。さらには、区画部２５が第１区画部２５ａと第２区画部２５ｂとの積層構造とされているので、仮に区画部を一層構造とした場合に比べると、区画部２５の高さが大きなものとなるので、配向膜１１ｏの成膜時に絶縁膜非配置領域ＮＩＡ内に入った配向膜１１ｏの液滴が区画部２５を一層乗り越え難くなる。これにより、配向膜１１ｏの液滴が配向膜非配置領域ＮＡＬＡに入る事態が一層生じ難くなる。その上、区画部２５における第１区画部２５ａが第２区画部２５ｂに対して内外に張り出しているから、アレイ基板１１ｂの製造に際して平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２をパターニングする際に、第１区画部２５ａに対する第２区画部２５ｂの形成位置にずれが生じた場合でも、第２区画部２５ｂに対する第１区画部２５ａの張り出し寸法の範囲内で上記位置ずれを吸収することができる。これにより、第２区画部２５ｂが第１区画部２５ａに対して積層形成される確実性が高いものとなる。

【0039】

また、平坦化膜２０の主部２０ａには、図７及び図９に示すように、主部２０ａの外周縁に並行する形で溝部（連通溝部）２６が形成されている。溝部２６は、平坦化膜２０の主部２０ａのうち、シール部１１ｐと平面に視て重畳する部分、つまり外周側部分を部分的に凹ませる（切り欠く）ことで形成されている。溝部２６は、複数（３つ）が互いに並行する形で間隔を空けて並んで配されている。また、各溝部２６は、第２層間絶縁膜２２の主部２２ａ及び配向膜１１ｏによってその全域が覆われている。このような溝部２６が形成されることで、シール部１１ｐと平坦化膜２０との接触面積が大きなものになるとともに、シール部１１ｐとアレイ基板１１ｂとの間の界面における延面距離が長いものとなる。これにより、液晶パネル１１の外部に存在する水分が、シール部１１ｐとアレイ基板１１ｂとの間の界面を通って液晶層１１ｃ内に到達し難くなり、もって液晶層１１ｃ内に水分が浸入することに伴う表示不良の発生を抑制または防止することができる。

【0040】

以上説明したように本実施形態の液晶パネル（表示パネル）１１は、画像が表示される表示領域ＡＡと表示領域ＡＡ外の非表示領域ＮＡＡとに区分される板面が、間に液晶層（内部空間）１１ｃを挟む形で対向するよう配される一対の基板１１ａ，１１ｂと、一対の基板１１ａ，１１ｂ間に介在し、液晶層１１ｃを取り囲む形で非表示領域ＮＡＡに配されて液晶層１１ｃを封止するシール部１１ｐと、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板（一方の基板）１１ｂに設けられ、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配される絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２と、アレイ基板１１ｂにおいて絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２よりも液晶層１１ｃに近い側に設けられ、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配される配向膜１１ｏと、絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２からなり、非表示領域ＮＡＡにおいてシール部１１ｐと重畳する位置に配され、配向膜１１ｏが非配置とされる配向膜非配置領域ＮＡＬＡを区画する区画部２５と、を備える。

【0041】

このようにすれば、一対の基板１１ａ，１１ｂ間に挟まれる液晶層１１ｃは、一対の基板１１ａ，１１ｂ間に介在して非表示領域ＮＡＡに配されるシール部１１ｐによって取り囲まれることで封止される。一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂには、絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２及び配向膜１１ｏが設けられており、このうちの配向膜１１ｏは、絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２よりも液晶層１１ｃに近い側に設けられていて表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配されているので、仮に配向膜１１ｏの成膜範囲を制限する構造物を設けた場合に比べると、配向膜１１ｏを成膜する際に配向膜１１ｏの材料が表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡへとスムーズに広がって途中で滞留し難くなっている。これにより、配向膜１１ｏの膜厚を均一化する上で好適となる。その上で、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおいてシール部１１ｐと重畳する位置には、絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２からなり、配向膜１１ｏが非配置とされる配向膜１１ｏ配置領域を区画する区画部２５が配されているから、シール部１１ｐがアレイ基板１１ｂの配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して配向膜１１ｏを介することなく接することになる。これにより、従来のようにシール部がアレイ基板に対して配向膜を介して接する構成とされた場合に比べると、アレイ基板１１ｂに対するシール部１１ｐの接着強度が高いものとなり、シール部１１ｐが剥離し難くなる。

【0042】

また、区画部２５は、複数の配向膜非配置領域ＮＡＬＡを相互に分離した形で区画する。このようにすれば、仮に配向膜１１ｏの成膜に際して配向膜１１ｏの材料がいずれかの配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内に入ったとしても、その配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して残りの配向膜非配置領域ＮＡＬＡが区画部２５によって分離された形で区画されているので、残りの配向膜非配置領域ＮＡＬＡに配向膜１１ｏの材料が入ることを避けることが可能となっている。これにより、シール部１１ｐが配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して配向膜１１ｏを介することなく接する確実性が高いものとなり、シール部１１ｐの剥離がより生じ難くなる。

【0043】

また、絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２は、アレイ基板１１ｂにおける外端側に絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２が非配置とされる絶縁膜非配置領域ＮＩＡが存在するよう、アレイ基板１１ｂにおける外端よりも内側に引っ込む主部２０ａ，２２ａを有しており、区画部２５は、主部２０ａ，２２ａとの間に絶縁膜非配置領域ＮＩＡを挟む形で配されている。このようにすれば、アレイ基板１１ｂにおける外端側には、絶縁膜である平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２が非配置とされる絶縁膜非配置領域ＮＩＡが主部２０ａ，２２ａと区画部２５との間に挟まれる形で存在しているから、配向膜１１ｏの成膜時に配向膜１１ｏの材料が主部２０ａ，２２ａの外側に広がると絶縁膜非配置領域ＮＩＡに入ることになる。これにより、配向膜１１ｏの材料が区画部２５を乗り越えて配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内に入る事態が生じ難くなる。

【0044】

また、絶縁膜には、相対的に液晶層１１ｃから遠い側に配される平坦化膜（第１絶縁膜）２０と、相対的に液晶層１１ｃに近い側に配される第２層間絶縁膜（第２絶縁膜）２２と、が含まれており、区画部２５は、平坦化膜２０からなる第１区画部２５ａと、第２層間絶縁膜２２からなる第２区画部２５ｂと、の積層構造とされる。このようにすれば、仮に区画部２５を一層の絶縁膜からなる構成とした場合に比べると、積層構造とされる区画部２５の高さが大きなものとなるので、配向膜１１ｏの成膜時に絶縁膜非配置領域ＮＩＡ内に入った配向膜１１ｏの材料が区画部２５を一層乗り越え難くなる。これにより、配向膜１１ｏの材料が配向膜非配置領域ＮＡＬＡに入る事態が一層生じ難くなる。

【0045】

また、区画部２５は、第１区画部２５ａが第２区画部２５ｂに対して内側と外側とにそれぞれ張り出すよう形成されている。このようにすれば、当該液晶パネル１１の製造時に、アレイ基板１１ｂに平坦化膜２０及び第２層間絶縁膜２２を形成するにあたって、第２層間絶縁膜２２からなる第２区画部２５ｂの形成位置にずれが生じた場合であっても、第２区画部２５ｂに対する第１区画部２５ａの張り出し寸法の範囲内で上記位置ずれを吸収することができるので、第２区画部２５ｂが第１区画部２５ａに対して積層形成される確実性が高いものとなる。

【0046】

また、区画部２５は、無端環状をなしている。このようにすれば、配向膜非配置領域ＮＡＬＡが全周にわたって区画部２５によって取り囲まれるので、配向膜１１ｏの成膜時に配向膜１１ｏの材料が配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内により入り難くなる。

【0047】

また、アレイ基板１１ｂにおける非表示領域ＮＡＡにおいて区画部２５よりも表示領域ＡＡ寄りに配される回路部２４を備えており、アレイ基板１１ｂは、互いに直交する一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２を少なくとも備える外形を有しているのに対し、回路部２４は、一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２に並行する一対の並行辺部２４ａ，２４ｂと、一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２までの距離が一対の並行辺部２４ａ，２４ｂよりも大きくなるよう一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２に対して交差する交差辺部２４ｃと、を相互に連ねてなる外形を有する。このようにすれば、回路部２４における交差辺部２４ｃからアレイ基板１１ｂにおける一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２までの距離は、回路部２４における一対の並行辺部２４ａ，２４ｂからアレイ基板１１ｂにおける一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２までの距離よりも大きくなっているから、アレイ基板１１ｂにおいて一対の辺部１１ｂ１，１１ｂ２により構成される角部１１ｂ３での区画部２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの配置スペースが他の部分よりも大きくなっている。この角部１１ｂ３では、シール部１１ｐの剥離の発生が特に懸念されることから、上記のように角部１１ｂ３において配向膜非配置領域ＮＡＬＡの配置スペースが大きくされることで、シール部１１ｐの剥離を抑制または防止する上で特に有用である。

【0048】

＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図１１から図１４によって説明する。この実施形態２では、区画部１２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0049】

本実施形態に係るアレイ基板１１１ｂでは、図１１に示すように、第２層間絶縁膜１２２が配向膜非配置領域ＮＡＬＡを除いて非表示領域ＮＡＡのほぼ全域にわたるものとされており、その外周端がアレイ基板１１１ｂの外周端とほぼ面一状をなしている。これに伴い、配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、第２層間絶縁膜１２２を部分的に凹ませて形成された凹部２７からなり、区画部１２５は、凹部２７の縁部からなるものとされる。なお、平坦化膜１２０は、上記した実施形態１と同様の形成範囲の主部１２０ａのみからなる。

【0050】

詳しくは、凹部２７は、図１２に示すように、第２層間絶縁膜１２２のうち、非表示領域ＮＡＡにおいて平坦化膜１２０（主部１２０ａ）よりも外周側の部分に設けられており、第２層間絶縁膜１２２の上記部分を平面に視て円環状に切り欠いて形成されている。従って、区画部１２５は、第２層間絶縁膜１２２のうち、上記した凹部２７における外周縁部によって構成されている。つまり、区画部１２５は、図１３に示すように、第２層間絶縁膜１２２のみからなる単層構造とされる。凹部２７の幅寸法（配向膜非配置領域ＮＡＬＡの開口間口）は、例えば１２μｍ程度とされ、区画部１２５の内径寸法（凹部２７の最大外径寸法）は、例えば７５μｍ程度とされる。第２層間絶縁膜１２２のうち、凹部２７によって取り囲まれた部分は、図１２及び図１３に示すように、島状に残された島状部２８とされる。島状部２８は、平面に視て円形状をなしており、その外周側に配された凹部２７によって全周にわたって取り囲まれていて区画部１２５に対して凹部２７の幅寸法分の間隔を空けて隔離されている。島状部２８の径寸法は、例えば５１μｍ程度とされる。なお、非表示領域ＮＡＡにおける区画部１２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡ（凹部２７）の配置や設置数などは、上記した実施形態１と同様である。

【0051】

このように、第２層間絶縁膜１２２に形成された凹部２７により配向膜非配置領域ＮＡＬＡが構成され、その配向膜非配置領域ＮＡＬＡが凹部２７の縁部からなる区画部１２５によって区画されているので、上記した実施形態１のように区画部２５の周りに絶縁膜非配置領域ＮＩＡが配される構成とした場合に比べると（図９を参照）、アレイ基板１１１ｂにおける区画部１２５の周りの平坦性が高いものとなる。これにより、シール部１１１ｐの高さが均一化されるので、シール部１１１ｐの形成に際して行われるシール硬化工程においてシール部１１１ｐの材料が均一に硬化され易くなり、シール部１１１ｐに未硬化部分が生じ難いものとなる。しかも、島状部２８によって配向膜非配置領域ＮＡＬＡの開口間口が狭められているので、配向膜１１１ｏの成膜時に配向膜１１１ｏの液滴が配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内により入り難くなる。

【0052】

また、図１４に示すように、仮に配向膜１１１ｏの成膜に際して配向膜１１１ｏの液滴がいずれかの区画部１２５を乗り越えてその内側の配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内に入ったとしても、その配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して残りの配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、図１１及び図１３に示すように、区画部１２５によって分離された形で区画された状態に保たれ、残りの配向膜非配置領域ＮＡＬＡに配向膜１１１ｏの液滴が入ることを避けることが可能となっている。これにより、シール部１１１ｐが配向膜非配置領域ＮＡＬＡに対して配向膜１１１ｏを介することなく接する確実性が高いものとなり、シール部１１１ｐの剥離がより生じ難くなる。

【0053】

以上説明したように本実施形態によれば、配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、絶縁膜である平坦化膜１２０及び第２層間絶縁膜１２２を部分的に凹ませて形成された凹部２７からなり、区画部１２５は、凹部２７の縁部からなる。このようにすれば、絶縁膜である平坦化膜１２０及び第２層間絶縁膜１２２を部分的に凹ませて形成された凹部２７により配向膜非配置領域ＮＡＬＡが構成され、その配向膜非配置領域ＮＡＬＡが凹部２７の縁部からなる区画部１２５によって区画されている。このような構成によれば、仮に区画部の周りに、絶縁膜である平坦化膜及び第２層間絶縁膜が非配置とされる絶縁膜非配置領域が配される構成とした場合に比べると、アレイ基板１１１ｂにおける区画部２５の周りの平坦性が高いものとなる。これにより、一対の基板１１ａ，１１１ｂ間に介在するシール部１１１ｐの高さが均一化される。

【0054】

また、絶縁膜である平坦化膜１２０及び第２層間絶縁膜１２２からなり、区画部１２５との間に間隔を空けて配されるとともに周りが配向膜非配置領域ＮＡＬＡにより囲まれた島状の島状部２８を備える。このようにすれば、島状部２８によって配向膜非配置領域ＮＡＬＡの間口が狭められるので、配向膜１１１ｏの成膜時に配向膜１１１ｏの材料が配向膜非配置領域ＮＡＬＡ内により入り難くなる。

【0055】

＜実施形態３＞
本発明の実施形態３を図１５または図１６によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態２から凹部２２７の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0056】

本実施形態に係る凹部２２７（配向膜非配置領域ＮＡＬＡ）は、図１５及び図１６に示すように、第２層間絶縁膜２２２のうち、非表示領域ＮＡＡにおいて平坦化膜２２０よりも外周側の部分を、平面に視て円形状をなすよう凹ませて形成されている。このような凹部２２７内には、上記した実施形態２のような島状部２８（図１２参照）が存在することがないので、アレイ基板２１１ｂに対してシール部２１１ｐが第２層間絶縁膜２２２を介することなく接する接触面積が大きなものとなる。これにより、アレイ基板２１１ｂに対するシール部２１１ｐの接着強度がより高いものとなる。

【0057】

＜実施形態４＞
本発明の実施形態４を図１７から図１９によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態１から区画部３２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0058】

本実施形態に係る区画部３２５は、図１７に示すように、アレイ基板３１１ｂの外端付近に配されており、平面に視て有端環状をなしている。そして、区画部３２５における両端部は、アレイ基板３１１ｂの外端に臨む形で配されている。従って、区画部３２５によって区画された配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、図１７及び図１９に示すように、アレイ基板３１１ｂの外端に臨む部分が、Ｘ軸方向またはＹ軸方向に沿って外向きに開口している。詳しくは、複数の区画部３２５のうち、アレイ基板３１１ｂの長辺部３１１ｂ１及び短辺部３１１ｂ２のいずれかに臨んで配されるものは、図１７及び図１８に示すように、楕円状の円環における長軸方向の一端部を切り欠いたような平面形状を有しており、その区画部３２５により区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、楕円における長軸方向の一端部を切り欠いたような平面形状を有している。複数の区画部３２５のうち、アレイ基板３１１ｂの長辺部３１１ｂ１及び短辺部３１１ｂ２の双方に臨んで配されるものは、円環の３／４を切り欠いたような平面形状を有しており、その区画部３２５により区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、円形の３／４を切り欠いたような平面形状を有している。これら複数の区画部３２５は、アレイ基板３１１ｂにおける長辺部３１１ｂ１や短辺部３１１ｂ２に沿って一列に並んで間欠的に配されている。このような構成によれば、区画部３２５の配置スペースを小さくする上で好適となり、液晶パネル３１１の狭額縁化を図る上で有用となる。また、区画部３２５の配置スペースが小さくなった分、配向膜非配置領域ＮＡＬＡを大きくすることが可能となるので、シール部３１１ｐがアレイ基板３１１ｂに接する面積が大きくなり、もってシール部３１１ｐの接着強度をより高いものとすることが可能となる。

【0059】

以上説明したように本実施形態によれば、区画部３２５は、有端環状をなしていて両端部がアレイ基板３１１ｂにおける外端に臨む形で配されている。このようにすれば、区画部３２５の配置スペースを小さくする上で好適となり、当該液晶パネル３１１の狭額縁化を図る上で有用となる。また、区画部３２５の配置スペースが小さくなった分、配向膜非配置領域ＮＡＬＡを大きくすることが可能となるので、シール部３１１ｐがアレイ基板３１１ｂに接する面積が大きくなり、もってシール部３１１ｐの接着強度をより高いものとすることが可能となる。

【0060】

＜実施形態５＞
本発明の実施形態５を図２０から図２２によって説明する。この実施形態５では、上記した実施形態１に記載した構成に、配向膜流通溝部２９を追加したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0061】

本実施形態に係る平坦化膜４２０の主部４２０ａのうち非表示領域ＮＡＡに配される部分には、図２０及び図２１に示すように、アレイ基板４１１ｂにおける外端側に向けて開口する配向膜流通溝部２９が設けられている。この配向膜流通溝部２９には、配向膜４１１ｏを成膜する際に表示領域ＡＡ側（アレイ基板４１１ｂの中央側）に供給された配向膜４１１ｏの液滴が流通するものとされ、配向膜流通溝部２９内を流通する配向膜４１１ｏの液滴は、アレイ基板４１１ｂの外端へと導かれる。これにより、表示領域ＡＡ側において配向膜４１１ｏの液滴が滞留し難くなるので、配向膜４１１ｏの膜厚を均一化する上でより好適となる。

【0062】

詳しくは、配向膜流通溝部２９は、図２０及び図２１に示すように、Ｘ軸方向に沿ってほぼ真っ直ぐに延在し、平坦化膜４２０の主部４２０ａにおける長辺部４２０ａ１（外端）にてＸ軸方向に沿って外向きに開口している。配向膜流通溝部２９は、Ｙ軸方向に沿って複数が間欠的に並んで配されている。これら複数の配向膜流通溝部２９は、図２０及び図２２に示すように、各溝部（連通溝部）４２６を横切るとともに各溝部４２６に連通している。従って、配向膜４１１ｏを成膜する際に各配向膜流通溝部２９内を流通する配向膜４１１ｏの液滴は、各配向膜流通溝部２９に連通する各溝部４２６にも流通される。これにより、配向膜４１１ｏの液滴の流動性がより良好なものとなるので、配向膜４１１ｏの膜厚を均一化する上でさらに好適となる。

【0063】

以上説明したように本実施形態によれば、絶縁膜である平坦化膜４２０及び第２層間絶縁膜４２２のうち非表示領域ＮＡＡに配される部分には、アレイ基板４１１ｂにおける外端側に向けて開口する配向膜流通溝部２９が設けられている。このようにすれば、配向膜４１１ｏを成膜する際には、表示領域ＡＡ側に供給された配向膜４１１ｏの材料が配向膜流通溝部２９内を流通することで、アレイ基板４１１ｂにおける外端側へと導かれる。これにより、表示領域ＡＡ側において配向膜４１１ｏが滞留し難くなるので、配向膜４１１ｏの膜厚を均一化する上でより好適となる。

【0064】

また、絶縁膜である平坦化膜４２０及び第２層間絶縁膜４２２のうち非表示領域ＮＡＡに配され且つシール部４１１ｐと重畳する部分には、アレイ基板４１１ｂにおける外端に倣って延在し配向膜流通溝部２９に連通する溝部（連通溝部）４２６が設けられている。このようにすれば、配向膜４１１ｏを成膜する際に配向膜流通溝部２９内を流通する配向膜４１１ｏの材料は、配向膜流通溝部２９に連通する溝部４２６にも流通される。これにより、配向膜４１１ｏの材料の流動性がより良好なものとなるので、配向膜４１１ｏの膜厚を均一化する上でさらに好適となる。

【0065】

＜実施形態６＞
本発明の実施形態６を図２３または図２４によって説明する。この実施形態６では、上記した実施形態１から第２層間絶縁膜５２２の形成範囲及び区画部５２５の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0066】

本実施形態に係る第２層間絶縁膜５２２は、図２３及び図２４に示すように、上記した実施形態２と同様に、配向膜非配置領域ＮＡＬＡを除いて非表示領域ＮＡＡのほぼ全域にわたるものとされており、その外周端がアレイ基板５１１ｂの外周端とほぼ面一状をなしている。区画部５２５は、平坦化膜５２０からなる第１区画部５２５ａと、第２層間絶縁膜５２２からなる第２区画部５２５ｂと、の積層構造とされる。第２区画部５２５ｂは、その内周面が第１区画部５２５ａの内周面と面一状をなしている。第２区画部５２５ｂの幅寸法は、例えば１０μｍとされるのに対し、第１区画部５２５ａの幅寸法は、例えば２０μｍとされていて第２区画部５２５ｂの幅寸法の約２倍とされる。

【0067】

＜実施形態７＞
本発明の実施形態７を図２５によって説明する。この実施形態７では、上記した実施形態１から区画部６２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0068】

本実施形態に係る区画部６２５は、図２５に示すように、平面に視て正方形の枠状をなしている。この区画部６２５によって区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、平面に視て正方形状をなしている。

【0069】

＜実施形態８＞
本発明の実施形態８を図２６によって説明する。この実施形態８では、上記した実施形態１から区画部７２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0070】

本実施形態に係る区画部７２５は、図２６に示すように、平面に視て縦長の長方形の枠状をなしている。この区画部７２５によって区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、平面に視て縦長の長方形状をなしている。

【0071】

＜実施形態９＞
本発明の実施形態９を図２７によって説明する。この実施形態９では、上記した実施形態１から区画部８２５及び配向膜非配置領域ＮＡＬＡの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0072】

本実施形態に係る区画部８２５は、図２７に示すように、平面に視て正三角形の枠状をなしている。この区画部８２５によって区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、平面に視て正三角形状をなしている。

【0073】

＜実施形態１０＞
本発明の実施形態１０を図２８によって説明する。この実施形態１０では、上記した実施形態４から区画部９２５の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態４と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0074】

本実施形態に係る区画部９２５のうち、アレイ基板９１１ｂの長辺部９１１ｂ１及び短辺部９１１ｂ２のいずれかに臨んで配されるものは、図２８に示すように、平面に視て半円環状の平面形状をなしており、その区画部９２５により区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、平面に視て半円形状をなしている。

【0075】

＜実施形態１１＞
本発明の実施形態１１を図２９によって説明する。この実施形態１１では、上記した実施形態４から区画部１０２５の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態４と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0076】

本実施形態に係る区画部１０２５のうち、アレイ基板１０１１ｂの長辺部１０１１ｂ１及び短辺部１０１１ｂ２のいずれかに臨んで配されるものは、図２９に示すように、平面に視て「Ｖ」字型の平面形状をなしており、その区画部１０２５により区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、平面に視て三角形状をなしている。また、区画部１０２５のうち、アレイ基板１０１１ｂの長辺部１０１１ｂ１及び短辺部１０１１ｂ２の双方に臨んで配されるものは、平面に視て長辺部１０１１ｂ１及び短辺部１０１１ｂ２の双方に対して傾斜した直線状をなしており、その区画部１０２５により区画される配向膜非配置領域ＮＡＬＡは、平面に視て三角形状をなしている。

【0077】

＜実施形態１２＞
本発明の実施形態１２を図３０によって説明する。この実施形態１２では、上記した実施形態１，４を組み合わせたものを示す。なお、上記した実施形態１，４と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0078】

本実施形態に係る区画部１１２５には、図３０に示すように、アレイ基板１１１１ｂの外端に臨んで配されて有端環状をなすものと、アレイ基板１１１１ｂの外端から離間した位置に配されて無端環状をなすものと、が含まれている。有端環状をなす区画部１１２５は、上記した実施形態４に記載された通りの構成であり、無端環状をなす区画部１１２５は、上記した実施形態１に記載された通りの構成である。

【0079】

＜実施形態１３＞
本発明の実施形態１３を図３１によって説明する。この実施形態１３では、上記した実施形態１から区画部１２２５の配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0080】

本実施形態に係る区画部１２２５のうち、アレイ基板１２１１ｂの角部１２１１ｂ３に配されるものは、図３１に示すように、千鳥状に平面配置されている。

【0081】

＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記した各実施形態にて図示した以外にも、アレイ基板の非表示領域における配向膜の具体的な形成範囲や配向膜非配置領域内に配向膜が入らなかった区画部の数や分布は、配向膜の塗布量、配向膜の材料における粘性、配向膜を成膜する際の環境温度などの諸条件によって様々に変動し得るものとされる。
（２）上記した各実施形態では、アレイ基板が第１層間絶縁膜や第２層間絶縁膜を有する構成を示したが、これらのいずれか一方または両方を省略することも可能である。第２層間絶縁膜を省略した場合には、区画部が平坦化膜のみからなる単層構造となる。
（３）上記した各実施形態では、アレイ基板が平坦化膜を有する構成を示したが、平坦化膜を省略することも可能である。平坦化膜を省略した場合には、区画部が第２層間絶縁膜のみからなる単層構造となる。
（４）上記した実施形態１，４〜１３にて図示した構成以外にも、区画部を構成する第１区画部及び第２区画部の内周面間の距離と、外周面間の距離と、の具体的な大小関係は適宜に変更可能である。
（５）上記した実施形態１，４〜１３の変形例として、区画部を第２層間絶縁膜または平坦化膜のみからなる単層構造とすることも可能である。
（６）上記した実施形態１，４〜１３の変形例として、区画部を３層以上の絶縁膜からなる積層構造とすることも可能である。
（７）上記した実施形態１，４〜１３の変形例として、区画部を、第１区画部の外周面が第２区画部の外周面と面一状をなす構成とすることも可能である。さらには、区画部を、第１区画部の内外両周面が第２区画部の内外両周面とそれぞれ面一状をなす構成とすることも可能である。
（８）上記した実施形態１，４〜１３の変形例として、区画部の内側に、実施形態２に記載したような島状部が設けられる構成を採ることも可能である。その場合、島状部は、第２層間絶縁膜または平坦化膜のいずれか一方または両方からなる構成を採ることが可能であるが、必ずしもその限りではない。
（９）上記した実施形態１，４，５，７〜１３に記載した構成に、実施形態６に記載した構成を組み合わせることも可能である。
（１０）上記した実施形態２，３の変形例として、第２層間絶縁膜に代えて平坦化膜をアレイ基板の外端に至るまでベタ状に形成し、その平坦化膜に凹部を形成するようにしても構わない。
（１１）上記した実施形態２，３の変形例として、第２層間絶縁膜に加えて平坦化膜をアレイ基板の外端に至るまでベタ状に形成し、それら第２層間絶縁膜及び平坦化膜に互いに重畳する形で凹部を形成するようにしても構わない。
（１２）上記した実施形態４，１０の変形例として、アレイ基板の長辺部及び短辺部の双方に臨む区画部の構成を、実施形態１１に記載したものに変更することも可能である。同様に、アレイ基板の長辺部または短辺部に臨む区画部を、実施形態１１に記載したものに変更することも可能である。
（１３）上記した実施形態４，１０〜１３の変形例として、実施形態２，３に記載した構成（第２層間絶縁膜をアレイ基板の外端に至る範囲にまで形成し、そこに凹部を設ける構成）を適用することも可能である。実施形態２，３に記載した構成は、同様に実施形態５〜９にも適用可能である。
（１４）上記した実施形態５の変形例として、配向膜流通溝部の平面形状が途中で屈曲したり湾曲したりする形状、つまり非直線形状であっても構わない。
（１５）上記した各実施形態以外にも、区画部の具体的な平面形状は適宜に変更可能である。例えば、区画部の平面形状は、二等辺三角形状、横長の長方形状、楕円形状、台形状、菱形形状、五角形以上の多角形状などでもよい。
（１６）上記した各実施形態以外にも、区画部及び配向膜非配置領域の具体的な設置数や平面配置などは適宜に変更可能である。
（１７）上記した各実施形態以外にも、回路部の具体的な平面形状や形成範囲は適宜に変更可能である。同様に、平坦化膜及び第２層間絶縁膜の主部における具体的な平面形状や形成範囲は適宜に変更可能である。
（１８）上記した各実施形態では、配向膜の成膜に際してインクジェット装置を用いるようにした場合を例示したが、インクジェット装置以外の成膜装置を用いて配向膜の成膜を行うことも勿論可能である。
（１９）上記した各実施形態では、配向膜の材料としてポリイミドを用いた場合を示したが、配向膜の材料としてポリイミド以外の液晶配向材を用いることも可能である。
（２０）上記した各実施形態では、配向膜の材料として光配向材料を用い、紫外線の照射によって配向処理がなされる光配向膜を形成するようにした場合を示したが、ラビングによって配向処理がなされる配向膜を形成したものにも本発明は適用可能である。
（２１）上記した各実施形態では、回路部を備える液晶パネルを示したが、回路部を備えない液晶パネルにも本発明は適用可能である。
（２２）上記した各実施形態では、平面形状が長方形とされる液晶パネルについて示したが、平面形状が正方形、円形、楕円形などとされる液晶パネルにも本発明は適用可能である。
（２３）上記した各実施形態では、ドライバが液晶パネルのアレイ基板に対してＣＯＧ実装される場合を例示したが、ドライバがフレキシブル基板に対してＣＯＦ（Chip On Film）実装される構成であってもよい。
（２４）上記した各実施形態では、ＴＦＴのチャネル部を構成する半導体膜が酸化物半導体材料からなる場合を例示したが、それ以外にも、例えばポリシリコン（多結晶化されたシリコン（多結晶シリコン）の一種であるＣＧシリコン（Continuous Grain Silicon））やアモルファスシリコンを半導体膜の材料として用いることも可能である。
（２５）上記した各実施形態では、動作モードがＦＦＳモードとされた液晶パネルについて例示したが、それ以外にもＩＰＳ（In-Plane Switching）モードやＶＡ（Vertical Alignment：垂直配向）モードなどの他の動作モードとされた液晶パネルについても本発明は適用可能である。
（２６）上記した各実施形態では、液晶パネルのカラーフィルタが赤色、緑色及び青色の３色構成とされたものを例示したが、赤色、緑色及び青色の各着色部に、黄色の着色部を加えて４色構成としたカラーフィルタを備えたものにも本発明は適用可能である。
（２７）上記した各実施形態では、一対の基板間に液晶層が挟持された構成とされる液晶パネル及びその製造方法について例示したが、一対の基板間に液晶材料以外の機能性有機分子（媒質層）を挟持した表示パネルについても本発明は適用可能である。
（２８）上記した各実施形態では、液晶パネルのスイッチング素子としてＴＦＴを用いたが、ＴＦＴ以外のスイッチング素子（例えば薄膜ダイオード（ＴＦＤ））を用いた液晶パネルにも適用可能であり、カラー表示する液晶パネル以外にも、白黒表示する液晶パネルにも適用可能である。
（２９）上記した各実施形態では、表示パネルとして液晶パネルを例示したが、他の種類の表示パネル（ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、有機ＥＬパネル、ＥＰＤ（電気泳動ディスプレイパネル）、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）表示パネルなど）にも本発明は適用可能である。
（３０）上記した各実施形態では、区画部が液晶パネルを構成する基板のうちのアレイ基板に設けられる場合を例示したが、表示パネル（液晶パネル）を構成しアレイ基板とは異なる他の基板（ＣＦ基板）に区画部を設ける場合にも本発明は適用可能である。その場合、具体的には、ＣＦ基板において設けられるフォトスペーサやオーバーコート膜などの絶縁膜を用いて区画部を形成すればよい。

【符号の説明】

【0082】

１１，３１１...液晶パネル（表示パネル）、１１ａ...ＣＦ基板（一対の基板）、１１ｂ，１１１ｂ，２１１ｂ，３１１ｂ，４１１ｂ，９１１ｂ，１０１１ｂ，１１１１ｂ，１２１１ｂ...アレイ基板（一対の基板、一方の基板）、１１ｂ１，３１１ｂ１，９１１ｂ１，１０１１ｂ１...長辺部（辺部）、１１ｂ２，３１１ｂ２，９１１ｂ２，１０１１ｂ２...短辺部（辺部）、１１ｃ...液晶層（内部空間）、１１ｏ，１１１ｏ，４１１ｏ...配向膜、１１ｐ，１１１ｐ，２１１ｐ，３１１ｐ...シール部、２０，１２０，２２０，４２０，５２０...平坦化膜（絶縁膜、第１絶縁膜）、２０ａ，１２０ａ，４２０ａ...主部、２２，１２２，２２２，５２２...第２層間絶縁膜（絶縁膜、第２絶縁膜）、２２ａ...主部、２４...回路部、２４ａ...長辺並行辺部（並行辺部）、２４ｂ...短辺並行辺部（並行辺部）、２４ｃ...交差辺部、２５，１２５，２２５，３２５，５２５，６２５，７２５，８２５，９２５，１０２５，１１２５，１２２５...区画部、２５ａ，５２５ａ...第１区画部、２５ｂ，５２５ｂ...第２区画部、２６，４２６...溝部（連通溝部）、２７，２２７...凹部、２８...島状部、２９...配向膜流通溝部、ＡＡ...表示領域、ＮＡＬＡ...配向膜非配置領域、ＮＩＡ...絶縁膜非配置領域、ＮＡＡ...非表示領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】