技術分野
この発明は、複数のガス発生器ユニットを搭載したガス発生装置
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
上述した第1世代のガス発生装置は、ガス供給のために、必要なガス発生部、ガス発生させるための電源供給部、ガス供給・出力制御部および装置全体を管理する電気制御部をそれぞれユニット化して、1単位のガス発生機構を構成にしていた。このような多数の機能別のユニット化したものをまとめて、1単位のガス発生機構にすると、ガス発生機構を複数台搭載して、独立した仕様のガスを出力させるためには、それぞれの機能に分けたユニットを複数台搭載する必要が生じ、複数のガス発生機構からなるガス発生装置のスペースが大きくなるなどの問題点があった。
問題の解決策として、1つは、第2世代のガス発生装置(その1)である、特許文献1で開示されたオゾン・システムが挙げられる。特許文献1に開示のオゾン・システムは、上述したように、1つのガス発生器から発生したガスを出力し、出力する配管系統を分配配管させる構成を採用している。このため、発生したガス流量や発生したガス濃度は一定の状態で多ガス処理装置へ供給しなければならず、各ガス処理装置への処理ガス供給条件は1条件のみで共通化され、発生したガス流量や濃度を、対応するガス処理装置用に独立して可変制御することが不可能であるという問題点があった。
また、特許文献1で開示されたオゾン・システムでは、1つのガス発生器から発生したガスを多ガス処理装置に供給しているため、ガス発生器が故障すると、供給対象の全てのガス処理装置へのガス供給を停止する必要がある等、ガス供給に関する信頼性が低いという問題点があった。
問題の解決策として、もう1つは、第2世代のガス発生装置(その1)である、特許文献2で開示されたオゾンガス供給システムがある。オゾンガス供給システムは、上述したように構成されており、一体化したオゾン発生ユニットを多段搭載しているため、発生したガス流量や濃度を複数の発生したガス処理装置それぞれを独立して可変制御することは可能である。
しかしながら、複数のオゾン発生ユニットはそれぞれ、オゾン発生に必要な周辺機器の機能を全て有しているため、ユニット毎に周辺機器を設ける必要があり装置全体のコンパクト化には周辺機器点数は削減できず、製作コスト等の限界があり、オゾン発生ユニットそれぞれの重量が重くなり、補修メンテナンスに時間がかかるなどの問題点があった。
本発明では、のような問題点を解決し、装置全体のコンパクト化が図りつつ、複数のガス発生器ユニットを搭載したガス発生装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
この発明に係るガス発生装置は、各々が出力ガスを発生するガス発生器を有する複数のガス発生器ユニットを備えるガス発生装置であって、前記複数のガス発生器ユニット間で共有され、前記複数のガス発生器ユニットに複数の交流電圧を供給する多交流電源部と、前記複数のガス発生器ユニット間で共有され、前記複数のガス発生器ユニットが供給する原料ガス、及び、前記複数のガス発生器ユニットが発生する出力ガスを制御するガス・・・ 続きを
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【発明の効果】
この発明におけるガス発生装置は、複数のガス発生器ユニットに対し、各々が一単位の多交流電源部、ガス制御部及び交流電源制御部を一体的して構成しているため、電源部の共通化とガス制御部の集積配置とを実現し、装置全体のコンパクト化が図りつつ、複数のガス発生器ユニットを搭載することができる。
この発明の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】 この発明の実施の形態1であるガス発生装置の電源・ガス制御ユニットの内部構成を模式的に示す説明図である。
【図2】 実施の形態1のガス発生装置の複数のガス発生器ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図3】 実施の形態1のガス発生装置を正面から視た各構成部の一配置例の概要を示す説明図である。
【図4】 実施の形態1のガス発生装置の裏面から視た各構成部及び配管の一配置例の概要を示す説明図である。
【図5】 この発明の実施の形態2であるガス発生装置の電源・ガス制御ユニットの内部構成を模式的に示す説明図である。
【図6】 実施の形態2のガス発生装置の裏面から視た各構成部及び配管の一配置例の概要を示す説明図である。
【図7】 この発明の実施の形態3であるガス発生装置の電源・ガス制御ユニットの内部構成を模式的に示す説明図である。
【図8】 実施の形態3のガス発生装置の裏面から視た各構成部及び配管の一配置例の概要を示す説明図である。
1,1B,1C ガス発生装置
3,3B,3C 電源・ガス制御ユニット
31 表示・操作パネル
37 CPU基板
38a〜38f MFC
38g 外部用MFC
39a〜39f ガス濃度計
43 ガス発生器
44 トランス
301a〜301f APC
301g 外部用APC
3001,3001C 多交流電源部
3002,3002C 制御・操作部構成部
3003,3003B,3003C ガス制御部
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