技術分野
半導体素子の製造方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
これらの方法では、改質領域での内部応力の発生により伸展する亀裂によってウェハを分割している。例えば、サファイア基板で、発生する内部応力が過剰であると、亀裂は伸展する途中で蛇行や枝分かれをすることがある。この場合、分割して得られる半導体素子に割れ、欠け等が発生する。例えば、このような割れや欠けが電極にまで届いた半導体素子は不良品であると判断される。
また、亀裂が蛇行や枝分かれをすると、分割して得られる半導体素子の側面が粗面となる。これにより、半導体素子は、平面視において、改質領域が形成された位置を基準としたとき、その外縁の一部が突出している又は凹んだ形状となる。例えば、ディスプレイのバックライト等に用いられるサイドビュー型パッケージは、半導体素子を収納するパッケージの側壁間の距離を半導体素子の幅よりもわずかに大きい程度とすることで小型化を図っている。この場合、半導体素子の側面の一部が突出していると、その突出部がパッケージの側壁に当たり、半導体素子のパッケージへの実装が困難となることがある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
以下の発明を含む。
サファイア基板の上に半導体積層体が形成されたウェハを準備し、
前記サファイア基板内にレーザ光を照射することにより前記サファイア基板内に亀裂を生じさせ、
前記亀裂を起点として前記ウェハを分割することを含む半導体素子の製造方法であって、
前記レーザ光を照射する際に、
第1走査として、第1の深さ及び第1のパルスエネルギーでレーザ光を走査し、
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【発明の効果】
本発明によれば、得られる半導体素子の形状や寸法を高精度で制御することができる半導体素子の製造方法を提供することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】本発明の一実施形態の半導体素子の製造方法に使用するウェハの平面模式図である。
【図2】図1のウェハの分割線を示す平面模式図である。
【図3】図1のウェハの一部となる一半導体素子の概略断面図である。
【図4A】第1走査を説明するためのサファイア基板の断面模式図である。
【図4B】第2走査を説明するためのサファイア基板の断面模式図である。
【図5A】第3走査を説明するためのサファイア基板の断面模式図である。
【図5B】第4走査を説明するためのサファイア基板の断面模式図である。
【図6】分割後のサファイア基板の側面の一部を示す模式図である。
3 n電極
3A 透光性導電層
3B パッド電極
4 p電極
4A 透光性導電層
4B パッド電極
5 サファイア基板
6 半導体積層体
7 保護膜
8X、8Y 分割基準線
21、22、23、24 レーザスポット
25 改質領域
51 表面
52 裏面
62 発光層
61 n側半導体層
63 p側半導体層
100 ウェハ
D3 第3走査
LB1、LB2、LB3、LB4 レーザ光
OF オリフラ面
W1 第1のスポット間隔
W2 第2のスポット間隔
W3 第3のスポット間隔
W4 第4のスポット間隔
X 第1の方向
Y 第2の方向
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