【図1】磁気モジュレータの一部を拡大した斜視図である。

【図2】磁気モジュレータの凹部と凸部とを示す断面図である。

【図3】凹部を形成するためレジストを表面に形成した基材の断面図である。

【図4】凹部を形成するレジストとモールドとの断面図である。

【図5】凹部を形成するためレジストにモールドを押し付けた状態の断面図である。

【図6】凹部を形成するためレジストからモールドを分離した状態の断面図である。

【図7】凹部を形成するためドライエッチングの後の基材の断面図である。

【図8】凹部を形成するためアッシング後の基材の断面図である。

【図9】磁区を模式的に示す図である。

【図10】ポリスチレン粒子に作用する架橋力を示す図である。

【図11】磁気モジュレータで整列するポリスチレン粒子を示す断面図である。

【図12】基材表面を磁気力顕微鏡で観察した画像である。

【図13】凹部が形成された基材表面を電子顕微鏡で観察した画像である。

【図14】凹部が形成された基材表面を磁気力顕微鏡で観察した画像である。

【図15】凹部が形成されない基材表面の粒子を電子顕微鏡で観察した画像である。

【図16】凹部が形成された基材表面の粒子を電子顕微鏡で観察した画像である。

【図17】パーマロイで成る基材表面を磁気力顕微鏡で観察した画像である。

【図18】凹部が形成された鉄製の基材表面を磁気力顕微鏡で観察した画像である。

【図19】凹部が形成されたパーマロイ製の基材表面を磁気力顕微鏡で観察した画像である。

【図20】磁気モジュレータをセンサに用いた応用例の断面図である。

【図21】別実施形態（ａ）の磁気モジュレータの断面図である。

【図22】別実施形態（ｂ）の磁気モジュレータと外部刺激部とを示す図である。