特許 6628981 露光光照射装置及び管状物の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6628981

(24)【登録日】2019年12月13日

(45)【発行日】2020年1月15日

(54)【発明の名称】露光光照射装置及び管状物の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/24 20060101AFI20200106BHJP

   A61F 2/91 20130101ALI20200106BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/24 Z

   A61F2/91

【請求項の数】12

【全頁数】28

(21)【出願番号】特願2015-105206(P2015-105206)

(22)【出願日】2015年5月25日

(65)【公開番号】特開2016-214711(P2016-214711A)

(43)【公開日】2016年12月22日

【審査請求日】2018年5月15日

(73)【特許権者】

【識別番号】515141702

【氏名又は名称】株式会社エムダップ

(73)【特許権者】

【識別番号】000135036

【氏名又は名称】ニプロ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100110858

【弁理士】

【氏名又は名称】柳瀬 睦肇

(74)【代理人】

【識別番号】100100413

【弁理士】

【氏名又は名称】渡部 温

(72)【発明者】

【氏名】高橋 圭二

(72)【発明者】

【氏名】佐野 嘉彦

(72)【発明者】

【氏名】大山 靖

(72)【発明者】

【氏名】比恵島 徳寛

【審査官】 山口 敦司

(56)【参考文献】

【文献】 米国特許第０５８５５８０２（ＵＳ，Ａ）

【文献】 再公表特許第２００７／０８３４８９（ＪＰ，Ａ１）

【文献】 特開２０１３−０９９５４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２５１１６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／０６２８５４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特表２０１４−５２４３１４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ６１Ｆ ２／９１

Ｇ０３Ｆ ７／２４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

露光光照射装置を用いる第２の管の製造方法において、
前記露光光照射装置は、
第１の管と、
前記第１の管の側面に形成された開孔部と、
前記第１の管内に配置され、露光光を伝送する光導波路と、
前記第１の管内に配置され、前記光導波路によって伝送された前記露光光を集光するレンズ、及び前記レンズによって集光された露光光を反射させる反射ミラー、または、前記第１の管内に配置され、前記光導波路によって伝送された前記露光光を集光させて反射する集光ミラーと、
を具備し、
前記ミラーによって反射され前記開孔部を通って前記第１の管の外側に照射された前記露光光は、前記第１の管の外側に配置された第２の管の内面に塗布されたフォトレジスト膜に照射され、前記フォトレジスト膜が露光されるものであり、
前記第２の管は、前記第２の管の内部に先端に吐出部材を備えた第３の管を挿入し、前記第３の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第３の管を前記第２の管から引き出しつつ前記第２の管を回転させることで、前記第２の管の内面に前記レジスト液を塗布する工程を経て得られることを特徴とする第２の管の製造方法。

【請求項2】

請求項１において、
前記吐出部材は、前記第２の管の内部に前記第３の管を挿入した際に前記第２の管の内面側に位置する前記レジスト液を溜める液溜まり部を有することを特徴とする第２の管の製造方法。

【請求項3】

請求項１または２において、
前記光導波路を前記第２の管の長手方向に移動させる移動機構を有することを特徴とする第２の管の製造方法。

【請求項4】

内面にフォトレジスト膜を塗布した第１の管の内部に、側面に開孔部を有する第２の管を挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程（ａ）と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成する工程と、
電解メッキ法により前記第１の管の内部よりメッキ膜を形成する工程、または、前記レジストパターンをマスクとして前記第１の管をエッチングする工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
を具備し、
前記工程（ａ）の前記第１の管は、前記第１の管の内部に先端に吐出部材を備えた第３の管を挿入し、前記第３の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第３の管を前記第１の管から引き出しつつ前記第１の管を回転させることで、前記第１の管の内面に前記レジスト液を塗布する工程を経て得られることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項5】

第１の管の内面に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜上にフォトレジスト膜を形成する工程（ａ）と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記導電膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンから露出する前記導電膜上に電解メッキ法によりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去し、前記導電膜を除去することで、前記第１の管から前記メッキ膜を離す工程と、
を具備し、
前記工程（ａ）の前記フォトレジスト膜は、前記第１の管の内部に先端に吐出部材を備えた第３の管を挿入し、前記第３の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第３の管を前記第１の管から引き出しつつ前記第１の管を回転させることで、前記第１の管の前記導電膜上に前記レジスト液を塗布する工程を経て得られることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項6】

第１の管の内面にメッキ膜を形成する工程と、
前記メッキ膜上にフォトレジスト膜を形成する工程（ａ）と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面の前記メッキ膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記メッキ膜をエッチングすることで、前記第１の管の内面に前記メッキ膜からなるメタルマスクを形成する工程と、
前記メタルマスクをマスクとして前記第１の管をエッチングすることで管状物を形成する工程と、
前記メタルマスクから前記管状物を離す工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項7】

請求項６において、
前記工程（ａ）の前記フォトレジスト膜は、前記第１の管の内部に先端に吐出部材を備えた第３の管を挿入し、前記第３の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第３の管を前記第１の管から引き出しつつ前記第１の管を回転させることで、前記第１の管の前記メッキ膜上に前記レジスト液を塗布する工程を経て得られることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項8】

請求項４乃至７のいずれか一項において、
前記露光光を前記フォトレジスト膜に照射する際は、前記第１の管または前記第２の管の回転動作と前記第１の管または前記第２の管の長手方向の移動動作と前記露光光の照射のオンとオフを組み合わせて動作させることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項9】

請求項４乃至８のいずれか一項において、
前記露光光を照射する工程は、前記露光光を前記フォトレジスト膜に照射することで、前記フォトレジスト膜に露光パターンを点画で描画する工程であることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項10】

請求項４乃至９のいずれか一項において、
前記第２の管内に光導波路、レンズ及び反射ミラーが配置されており、
前記露光光を照射する工程では、前記光導波路によって伝送され、前記光導波路から出射された前記露光光は、前記レンズによって集光され、前記反射ミラーによって反射され、前記開孔部を通って前記フォトレジスト膜に照射されることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項11】

請求項４乃至９のいずれか一項において、
前記第２の管内に光導波路及び集光ミラーが配置されており、
前記露光光を照射する工程では、前記光導波路によって伝送され、前記光導波路から出射された前記露光光は、前記集光ミラーによって集光されて反射され、前記開孔部を通って前記フォトレジスト膜に照射されることを特徴とする管状物の製造方法。

【請求項12】

請求項４乃至１１のいずれか一項において、
前記第１の管は、枝状に分岐した管形状または端部の径が異なる管形状を有することを特徴とする管状物の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、露光光照射装置及び管状物の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

管状物の一例としては医療器具のステントがある。ステントとは、人体の管状の部分（血管、気管、食道、十二指腸、大腸、胆道など）を管腔内部から広げる医療機器である。ステントの一例としては金属でできた網目の筒状のものがあり、治療する部位に応じたステントが用いられる。狭心症、急性心筋梗塞、急性冠症候群、癌による血管、気管や食道、十二指腸、大腸、胆道などの狭窄、脳梗塞などの治療としてステントグラフト内挿術が行われる。

【0003】

従来のステントの製造方法は次のとおりである。
医療用のステンレス（ＳＵＳ３１６Ｌ，ＳＵＳ３１６ＬＶＮ）、コバルトクロム、ＮｉＴｉ等の素材となる単一金属または合金のパイプを外周からレーザー光によって加工し、その後、熱処理、酸洗浄、電解研磨の工程を経てステントが製作される。酸洗浄、電解研磨の工程は、レーザー加工時に、切り口にバリが生ずるため、そのバリを除去してステントの表面を滑らかにして仕上げを行う工程である。

【0004】

上記従来のステントの製造方法では、レーザー加工時に、素材のパイプ自体が過熱されてパイプの表面上に不純物等の偏析が生じ、酸洗浄の工程でステントの網目の一部が断線する事がある。

【0005】

また、長手方向が例えば１００ｍｍ以上の長物のステントを製作しようとすると、レーザー加工後にステントが冷却される時、ステントの自重による垂れのために必要な加工精度が保てないという問題がある。そのため、必要な加工精度が保てるステントの長さは３０〜４０ｍｍ程度が限界であり、それより長いステントでは加工精度が上がらないので、上記従来のステントの製造方法では、長物のステントに対応することができないという問題がある。

【0006】

つまり、レーザー加工を用いたステントの製造方法では、レーザー加工時にステントに加えられる熱が問題となるので、そのような熱が加工時に発生しないステントの製造方法が求められている。

【0007】

また、上述したレーザー加工では、外径が一定である同径のパイプしか加工することができない。そこで、外径が一定でないパイプ（例えば端部の外径が異なるパイプ）や枝状に分岐した管（例えば枝管）を加工することについても産業上のニーズがあると考えられる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】特開２０１４−３６８１７

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

本発明の一態様は、管の内側から照射位置精度良く露光光を照射できる露光光照射装置を提供することを課題とする。
また、本発明の一態様は、レーザー加工のような熱が加工時に発生しない管状物の製造方法を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

以下に、本発明の種々の態様について説明する。
［１］第１の管と、
前記第１の管の側面に形成された開孔部と、
前記第１の管内に配置され、露光光を伝送する光導波路と、
前記第１の管内に配置され、前記光導波路によって伝送された前記露光光を集光するレンズと、
前記レンズによって集光された露光光を反射させる反射ミラーと、
を具備し、
前記反射ミラーによって反射された前記露光光は、前記開孔部を通って前記第１の管の外側に照射されることを特徴とする露光光照射装置。

【0011】

［１−１］上記［１］において、
前記レンズは、ボールレンズ、シリンドリカルレンズ、ドラムレンズ、フレネルレンズ、半球レンズ、凸レンズ、凹レンズ、屈折率分布レンズ及びそれらを組み合わせたレンズのいずれかであることを特徴とする露光光照射装置。

【0012】

［１−２］第１の管と、
前記第１の管の側面に形成された開孔部と、
前記第１の管内に配置され、露光光を伝送する光導波路と、
前記第１の管内に配置され、前記光導波路によって伝送された前記露光光を集光させて反射する集光ミラーと、
を具備し、
前記集光ミラーによって集光して反射された前記露光光は、前記開孔部を通って前記第１の管の外側に照射されることを特徴とする露光光照射装置。

【0013】

なお、本明細書において「光導波路」とは、光学的な特性をもつ物質を用いて作製された光の伝送路を意味し、例えば光ファイバーまたはフォトニック結晶を用いることができる。

【0014】

［１−３］上記［１］、［１−１］及び［１−２］のいずれか一項において、
前記光導波路を前記第１の管の長手方向に移動させる移動機構を有することを特徴とする露光光照射装置。

【0015】

［２］上記［１］、［１−１］、［１−２］及び［１−３］のいずれか一項において、
前記ミラーによって反射され前記開孔部を通った前記露光光は、前記第１の管の外側に配置された第２の管の内面に塗布されたフォトレジスト膜に照射され、前記フォトレジスト膜が露光されることを特徴とする露光光照射装置。

【0016】

［３１］上記［１］または［２］において、
第１の管の内部に先端に吐出部材を備えた第２の管を挿入し、
前記第２の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第２の管を前記第１の管から引き出しつつ前記第１の管を回転させることで、前記第１の管の内面に前記レジスト液を塗布することを特徴とする露光光照射装置。
［３２］上記［１］、［２］及び［３１］のいずれか一項において、
前記吐出部材は、前記第１の管の内部に前記第２の管を挿入した際に前記第１の管の内面側に位置する前記レジスト液を溜める液溜まり部を有することを特徴とする露光光照射装置。
［３３］上記［１］、［２］、［３１］及び［３２］のいずれか一項において、
前記光導波路を前記第２の管の長手方向に移動させる移動機構を有することを特徴とする露光光照射装置。
［３］第１の管（例えば金属管または犠牲管）の内部に先端に吐出部材を備えた第２の管を挿入し、
前記第２の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第２の管を前記第１の管から引き出しつつ前記第１の管を回転させることで、前記第１の管の内面に前記レジスト液を塗布することを特徴とするレジスト塗布方法。

【0017】

［４］上記［３］において、
前記吐出部材は、前記第１の管の内部に前記第２の管を挿入した際に前記第１の管の内面側に位置する前記レジスト液を溜める液溜まり部を有することを特徴とするレジスト塗布方法。

【0018】

［５］内面にフォトレジスト膜を塗布した第１の管の内部に、側面に開孔部を有する第２の管を挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成する工程と、
電解メッキ法により前記第１の管の内部よりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【0019】

なお、本明細書において「管状物」には管状の医療器具全般を含む。

【0020】

［５−１］内面にフォトレジスト膜を塗布した第１の管の内部に、側面に開孔部を有する第２の管を挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記第１の管をエッチングする工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【0021】

［５−２］第１の管の内面にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンから露出する前記第１の管の内面上に電解メッキ法によりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去し、前記第１の管を除去する工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【0022】

［５−３］第１の管の内面にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記第１の管をエッチングすることで管状物を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【0023】

［６］第１の管の内面に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜上にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記導電膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンから露出する前記導電膜上に電解メッキ法によりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去し、前記導電膜を除去することで、前記第１の管から前記メッキ膜を離す工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【0024】

［６−１］上記［５］、［５−２］及び［６］のいずれか一項において、
前記レジストパターンを除去する工程で得られた前記メッキ膜からなる管状物は医療器具であることを特徴とする管状物の製造方法。

【0025】

［７］第１の管の内面にメッキ膜を形成する工程と、
前記メッキ膜上にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面の前記メッキ膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記メッキ膜をエッチングすることで、前記第１の管の内面に前記メッキ膜からなるメタルマスクを形成する工程と、
前記メタルマスクをマスクとして前記第１の管をエッチングすることで管状物を形成する工程と、
前記メタルマスクから前記管状物を離す工程と、
を具備することを特徴とする管状物の製造方法。

【0026】

［８］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］及び［７］のいずれか一項において、
前記露光光を前記フォトレジスト膜に照射する際は、前記第１の管または前記第２の管の回転動作と前記第１の管または前記第２の管の長手方向の移動動作と前記露光光の照射のオンとオフを組み合わせて動作させることを特徴とする管状物の製造方法。

【0027】

［９］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］及［８］のいずれか一項において、
前記露光光を照射する工程は、前記露光光を前記フォトレジスト膜に照射することで、前記フォトレジスト膜に露光パターンを点画で描画する工程であることを特徴とする管状物の製造方法。

【0028】

［１０］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［９］のいずれか一項において、
前記第２の管内に光導波路、レンズ及び反射ミラーが配置されており、
前記露光光を照射する工程では、前記光導波路によって伝送され、前記光導波路から出射された前記露光光は、前記レンズによって集光され、前記反射ミラーによって反射され、前記開孔部を通って前記フォトレジスト膜に照射されることを特徴とする管状物の製造方法。

【0029】

［１０−１］上記［１０］において、
前記レンズは、ボールレンズ、シリンドリカルレンズ、ドラムレンズ、フレネルレンズ、半球レンズ、凸レンズ、凹レンズ、屈折率分布レンズ及びそれらを組み合わせたレンズのいずれかであることを特徴とする管状物の製造方法。

【0030】

［１１］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［９］のいずれか一項において、
前記第２の管内に光導波路及び集光ミラーが配置されており、
前記露光光を照射する工程では、前記光導波路によって伝送され、前記光導波路から出射された前記露光光は、前記集光ミラーによって集光されて反射され、前記開孔部を通って前記フォトレジスト膜に照射されることを特徴とする管状物の製造方法。

【0031】

［１２］上記［１０］、［１０−１］及び［１１］のいずれか一項において、
前記光導波路を前記第２の管の長手方向に移動させる移動機構を有することを特徴とする管状物の製造方法。
上記の管状物の製造方法によれば、前記第１の管内面で焦点を結ぶ露光光のフォーカスを可変とすることができる。

【0032】

［１２−１］上記［１２］において、
前記移動機構により前記光導波路を移動させながら前記露光光を前記フォトレジスト膜に照射することを特徴とする管状物の製造方法。
上記の管状物の製造方法によれば、線状パターンを露光する際に露光光の焦点位置を連続的に変化させることで太さが連続的に異なる線状パターンを描画することができる。

【0033】

［１２−２］上記［１１］、［１２］及び［１２−１］のいずれか一項において、
前記光導波路は、光ファイバーまたはフォトニック結晶を用いた光導波路であることを特徴とする管状物の製造方法。

【0034】

［１２−３］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［１０］、［１０−１］、［１１］、［１２］、［１２−１］及び［１２−２］のいずれか一項
前記露光光は、レーザー光またはＬＥＤ光であることを特徴とする管状物の製造方法。

【0035】

［１３］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［１０］、［１０−１］、［１１］、［１２］、［１２−１］乃至［１２−３］のいずれか一項において、
前記第１の管は、枝状に分岐した管形状または端部の径が異なる管形状を有することを特徴とする管状物の製造方法。

【0036】

［１４］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［１０］、［１０−１］、［１１］、［１２］、［１２−１］乃至［１２−３］、［１３］のいずれか一項において、
前記フォトレジスト膜を形成する工程は、
前記第１の管の内部に先端に吐出部材を備えた第３の管を挿入し、
前記第３の管にレジスト液を供給し、前記吐出部材から前記レジスト液を吐出させながら、前記第３の管を前記第１の管から引き出しつつ前記第１の管を回転させることで、前記第１の管の内面に前記レジスト液からなるレジスト膜を塗布し、
前記レジスト膜をベークすることで前記第１の管の内面上に前記フォトレジスト膜を形成する工程であることを特徴とする管状物の製造方法。

【0037】

［１５］上記［１４］において、
前記吐出部材は、前記第１の管の内部に前記第３の管を挿入した際に前記第１の管の内面側に位置する前記レジスト液を溜める液溜まり部を有することを特徴とする管状物の製造方法。

【0038】

［１６］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［１０］、［１０−１］、［１１］、［１２］、［１２−１］乃至［１２−３］、［１３］乃至［１５］のいずれか一項において、
前記管状物はステントであることを特徴とする管状物の製造方法。

【0039】

［１７］上記［５］、［５−１］乃至［５−３］、［６］、［６−１］、［７］乃至［１０］、［１０−１］、［１１］、［１２］、［１２−１］乃至［１２−３］、［１３］乃至［１６］のいずれか一項において、
前記露光光は、レーザー光またはＬＥＤ光であることを特徴とする管状物の製造方法。

【0040】

［１８］人体の管状の部分を管腔内部から広げるためのステントであって、
前記ステントは、電解メッキ法により形成されたメッキ膜からなることを特徴とするステント。

【0041】

［１９］上記［１８］において、
前記ステントは、
内面にフォトレジスト膜を塗布した第１の管の内部に、側面に開孔部を有する第２の管を挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成する工程と、
電解メッキ法により前記第１の管の内部よりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去する工程を経て得られた当該メッキ膜からなる管状物であることを特徴とするステント。

【0042】

［２０］上記［１８］において、
前記ステントは、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンから露出する前記第１の管の内面上に電解メッキ法によりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去し、前記第１の管を除去する工程を経て得られた当該メッキ膜からなる管状物であることを特徴とするステント。

【0043】

［２１］上記［１８］において、
前記ステントは、
第１の管の内面に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜上にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記導電膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンから露出する前記導電膜上に電解メッキ法によりメッキ膜を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去し、前記導電膜を除去することで、前記第１の管から前記メッキ膜を離す工程を経て得られた当該メッキ膜からなる管状物であることを特徴とするステント。

【0044】

［２２］人体の管状の部分を管腔内部から広げるためのステントであって、
前記ステントは、第１の管を内面側からウェットエッチングにより加工したものであり、
前記ウェットエッチングによる加工面がテーパー形状を有することを特徴とするステント。

【0045】

［２３］上記［２２］において、
前記ステントは、
内面にフォトレジスト膜を塗布した第１の管の内部に、側面に開孔部を有する第２の管を挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記第１の管をウェットエッチングすることで管状物を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去する工程を経て得られた前記管状物であることを特徴とするステント。

【0046】

［２４］上記［２２］において、
前記ステントは、
第１の管の内面にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記第１の管をウェットエッチングすることで管状物を形成する工程と、
前記レジストパターンを除去する工程を経て得られた前記管状物であることを特徴とするステント。

【0047】

［２５］上記［２２］において、
前記ステントは、
第１の管の内面にメッキ膜を形成する工程と、
前記メッキ膜上にフォトレジスト膜を形成する工程と、
側面に開孔部を有する第２の管を前記第１の管内に挿入し、前記開孔部を前記フォトレジスト膜の表面と対向するように配置する工程と、
前記開孔部を通った露光光を前記フォトレジスト膜に照射する工程と、
前記フォトレジスト膜を現像することで、前記第１の管の内面の前記メッキ膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記メッキ膜をエッチングすることで、前記第１の管の内面に前記メッキ膜からなるメタルマスクを形成する工程と、
前記メタルマスクをマスクとして前記第１の管をウェットエッチングすることで管状物を形成する工程と、
前記メタルマスクから前記管状物を離す工程を経て得られた前記管状物であることを特徴とするステント。

【発明の効果】

【0048】

本発明の一態様によれば、管の内側から照射位置精度良く露光光を照射できる露光光照射装置を提供することができる。
また、本発明の一態様によれば、レーザー加工のような熱が加工時に発生しない管状物の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0049】

【図1】本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための工程フローを示す図である。

【図2】線状パターンを露光する方法を説明するための模式図である。

【図3】本発明の一態様に係る管状物を製造する際に用いる露光光照射装置を模式的に示す断面図である。

【図4】図３に示す露光光照射装置を用いてフォトレジスト膜を露光する方法を説明するための斜視図である。

【図5】（Ａ）〜（Ｈ）は本発明の一態様に係る管状物の製造方法を示す断面図である。

【図6】本発明の一態様に係る管状物の製造方法を実施する際の線状パターンを露光する方法を説明するための模式図である。

【図7】図３に示す露光光照射装置の変形例を示す断面図である。

【図8】犠牲管４１内にフォトレジスト膜を塗布する方法を説明するための模式図である。

【図9】本発明の一態様に係る管状物を製造する際に用いる露光光照射装置を模式的に示す断面図である。

【図10】（Ａ）〜（Ｇ）は本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための図である。

【図11】（Ａ）は端部の径が異なる管形状を有する犠牲管、金属管または被加工用管を示す断面図、（Ｂ）は枝状に分岐した管形状を有する犠牲管、金属管または被加工用管を示す断面図である。

【図12】本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための工程フローを示す図である。

【図13】本発明の一態様に係る管状物を製造する際に用いる露光光照射装置を模式的に示す断面図である。

【図14】図１３に示す露光光照射装置を用いてフォトレジスト膜を露光する方法を説明するための斜視図である。

【図15】（Ａ）〜（Ｆ）は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を示す断面図である。

【図16】図１３に示す露光光照射装置の変形例を示す断面図である。

【図17】被加工用管５１内にフォトレジスト膜を塗布する方法を説明するための模式図である。

【図18】本発明の一態様に係る管状物を製造する際に用いる露光光照射装置を模式的に示す断面図である。

【図19】（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための断面図である。

【図20】（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための断面図である。

【図21】犠牲管４１の内面にレジスト液を塗布する方法を詳細に説明するための模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0050】

以下では、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。

【0051】

［第１の実施形態］
図１〜図５は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための図である。本実施形態では、管状物としてステントを例に挙げて説明する。なお、図５に示す犠牲管４１は管形状を有するが、図５では犠牲管４１の一部の断面を示している。
図３及び図４に示す露光光照射装置はｉ線等の露光光を照射する装置であり、露光光としては例えばレーザー光またはＬＥＤ光を用いることができる。

【0052】

図３及び図４に示す露光光照射装置は、ガイドパイプ（管）１１と、このガイドパイプ１１を矢印θｐのように回転させる回転機構及び矢印ｘｐのようにガイドパイプ１１を長手方向に移動させる移動機構を備えた駆動部を有している。この駆動部にはサーボモーター等が含まれている。ガイドパイプ１１の側面には露光光１６ａを出射する開孔部１１ａが形成されている。ガイドパイプ１１の材質は、例えばステンレス等簡単に折れ曲がったりねじれたりしない金属であることが望ましい。

【0053】

図３に示すように、ガイドパイプ１１内には光導波路として光ファイバー１５ａが配置されており、この光ファイバー１５ａは図示せぬ光源から発せられた露光光を伝送する伝送路である。光源は、露光光を発する光源であれば種々の光源を用いることができ、例えばレーザーダイオード、ＬＥＤ等を用いることができる。

【0054】

ガイドパイプ１１内には光ファイバー１５ａの先端側に位置するレンズ１７及び平面ミラー１８が配置されている。レンズ１７は露光光ａを集光するものであり、例えばボールレンズ、シリンドリカルレンズ、ドラムレンズ、フレネルレンズ、半球レンズ、凸レンズ、凹レンズ、屈折率分布レンズまたそれらを組み合わせたレンズ等を用いることができる。光ファイバー１５ａによって伝送された露光光１６ａはレンズ１７によって集光され、この集光された露光光１６ａは平面ミラー１８によってガイドパイプ１１の長手方向に対して９０°程度進行方向が変えられて反射され、その反射したレーザー光１６は開孔部１１ａを通ってガイドパイプ１１の外側に出射される。なお、平面ミラー１８は、９０°偏向ミラーや集光機能を兼ね備えた非軸放物面ミラーや楕円ミラー等を用いることができる。

【0055】

光ファイバー１５ａをガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる移動機構（図示せず）を有している。この移動機構によってレンズ１７と光ファイバー１５ａの先端との距離を調整することができる。これにより、ガイドパイプ１１の開孔部１１ａから出射される露光光１６ａの焦点位置を、犠牲管４１の内径に応じて調整することができる。例えば、犠牲管４１の内面で焦点を結ぶ露光光のフォーカスを２〜２００μｍ程度まで可変とすることができる。

【0056】

ガイドパイプ１１と光ファイバー１５ａとの間には緩衝部材２０を配置することができ、緩衝部材２０は集光レンズ１７を押えると共に、露光光１６ａの焦点を調整するために、上記移動機構によって光ファイバー１５ａをガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる際に移動しやすくするものである。

【0057】

なお、本実施形態では、図３に示すように緩衝部材２０を平面ミラー１８とガイドパイプ１１との間にも配置しているが、図７に示すように平面ミラー１８とガイドパイプ１１との間に緩衝部材２０を配置しないで実施してもよい。

【0058】

次に、ステントの製造方法について図１及び図５を参照しつつ説明する。
まず、小径のパイプ状犠牲材料である犠牲管（基材管ともいう）４１を用意する。犠牲管４１の外径は１ｍｍ以上４０ｍｍ以下であるとよく、犠牲管４１の長さは１０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であるとよい。犠牲管４１は、例えばプラスチックやロストワックス等を用いることができる。

【0059】

次いで、図５（Ａ）に示すように、犠牲管４１の内面４１ａにメッキ法、ＣＶＤ法またはＰＶＤ法により導電膜４２を形成する（図１のステップＳ１）。導電膜４２は、後の電解メッキ法によるメッキ工程用の電極として機能するものである。導電膜４２は、例えば金、銀、亜鉛、クロム、ニッケル、スズ、白金、銅、ロジウム及びパラジウムからなる群から選択された一の金属、または前記一の金属の合金、または前記群から選択された複数の金属を含む合金等を用いることができる。

【0060】

次いで、図５（Ｂ）に示すように、犠牲管４１の内面の導電膜４２上にフォトレジスト膜４３を図８のディスペンサー３０によって塗布する。詳細には、図８に示すように、犠牲管４１（第１の管ともいう）の内部に、先端に吐出部材３３を備えた管３１（第２の管ともいう）を挿入し、プランジャー３２を矢印３５の方向に押すことで、管３１の先端の吐出部材３３から適量のレジスト液４３ｂを吐出させながら、管３１を矢印３６の方向に引きつつ犠牲管４１を回転させる。更に詳細に説明すると、図２１に示すように、吐出部材３３は、犠牲管４１の内部に管３１を挿入した際に犠牲管４１の内面側に位置するレジスト液を溜める液溜まり部３３ａを有し、管３１の内部を通ったレジスト液４３ｂが吐出部材３３の液溜まり部３３ａで溜められ、その液溜まり部３３ａで溜められたレジスト液４３ｂが犠牲管４１の内面に塗布される。これにより、犠牲管４１の内面の導電膜４２上にレジスト液４３ｂからなるフォトレジスト膜４３を均一に塗布することができる（図１のステップＳ２）。次いで、フォトレジスト膜４３をベークする（図１のステップＳ３）。このフォトレジスト膜４３は、光反応性レジスト膜である。

【0061】

次いで、図５（Ｃ）に示すように、犠牲管４１の内面４１ａ上のフォトレジスト膜４３に露光パターン（例えば図２に示すようなステントパターン４４）を描画する（図１のステップＳ５）。以下に詳細に説明する。

【0062】

犠牲管４１内にファイバー光源（露光光照射装置）４０のガイドパイプ１１を挿入し、ガイドパイプ１１の開孔部１１ａを犠牲管４１の内面のフォトレジスト膜と対向するように配置する（図３及び図４参照）。

【0063】

次いで、光ファイバー１５ａによって伝送された露光光１６ａはレンズ１７によって集光され、この集光された露光光１６ａは平面ミラー１８によってガイドパイプ１１の長手方向に対して９０°程度進行方向が変えられて反射され、その反射した露光光は開孔部１１ａを通ってガイドパイプ１１の外側に出射される（図３参照）。この出射された露光光１６ａを図５（Ｃ）に示すように犠牲管４１の内面４１ａのフォトレジスト膜４３に照射する。この際、図４に示すように、矢印θｐのようなガイドパイプ１１の回転動作と、矢印ｘｐのようなガイドパイプ１１の長手方向の移動動作と、露光光１６ａの照射のオンとオフを組み合わせて動作させる。この回転動作と移動動作は、サーボモーター等を含む駆動部によって行われる。露光光１６ａの照射のオンとオフの動作は、ファイバー光源４０の点灯消灯信号を連動させることによって行われる。その結果、点画の組み合せによって例えば図２に示すようなステントパターン４４がフォトレジスト膜に露光パターンとして描画される。

【0064】

図２に示す矢印θｐが図４に示す矢印θｐのガイドパイプ１１の回転動作に対応し、図２に示す矢印ｘｐが図４に示す矢印ｘｐのガイドパイプ１１の長手方向の移動動作に対応する。また、図２に示す光源ＯＮの点画１６ａが露光光１６ａの照射のオンに対応し、図２に示す光源ＯＦＦが露光光１６ａの照射のオフに対応する。これらの矢印θｐの回転動作と、矢印ｘｐの移動動作と、露光光１６ａの照射のオンとオフを組み合わせて動作させることで、図２に示すステントパターン４４を露光パターンとして描画することができる。

【0065】

詳細には、図２に示すように、光源をショットで１点１点打ち、これが少し重なるように位置決めを行う。例えばガイドパイプ１１を矢印θｐに連続的に回転させながら、ガイドパイプ１１を矢印ｘｐの方向に断続的に動かし、必要とされるステントパターン４４を点画で繋いで行くことにより、ステントパターン４４を隙間無く複雑な制御無く描画する事が可能になる。

【0066】

この後、図５（Ｄ）に示すように、フォトレジスト膜４３を現像する（図１のステップＳ６）。これにより、犠牲管４１の内面４１ａにレジストパターン４３ａを形成することができる。

【0067】

次いで、図５（Ｅ）に示すように、レジストパターン４３ａから露出する導電膜４２上に電解メッキ法によりメッキ膜（電鋳膜）４４を形成する（図１のステップＳ７）。つまり、犠牲管４１の内部にメッキ液（電鋳液）を流し、導電膜４２に電流を流すことにより、レジストパターン４３ａから露出する導電膜４２上にメッキ膜４４が形成される。このメッキ膜４４が管状物のステントとなる。なお、レジストパターン４３ａで保護された導電膜４２上にはメッキ膜４４が形成されない。なお、メッキ膜４４の厚さは０．０３ｍｍ以上０．３ｍｍ以下であるとよい。また、メッキ膜４４は、例えばＰｔ、ＰｔＰｄ、Ｐｔ合金、ＰｔＷ、ニッケル、ニッケル合金、クロム、クロム合金、金、銀、銅等を用いることができる。

【0068】

次いで、図５（Ｆ）に示すように、犠牲管４１の内面４１ａ上のレジストパターン４３ａを剥離する（図１のステップＳ８）。

【0069】

次いで、図５（Ｇ）に示すように、導電膜４２をエッチングにより除去する（図１のステップＳ９）。これにより、メッキ膜４４を犠牲管４１から除去すれば（図１のステップＳ１０）、メッキ膜４４からなる管状物のステントを製造することが可能となる（図５（Ｈ）参照）。

【0070】

その後、必要に応じてメッキ膜４４からなるステントの表面研磨や端面Ｒ処理等の表面処理を施してもよいし、ステントの表面に貴金属をコーティングしてもよい。

【0071】

なお、フォトレジスト膜にはポジ型とネガ型があるため、それに応じて露光すべき領域が決められる。

【0072】

図２に示すステントパターン４４の外形精度は犠牲管４１の内面４１ａ上のフォトレジスト膜４３での露光光１６ａの焦点の大きさと位置決め精度に依存し、最小では数μｍ以下のレジストパターン描画が可能となる。例えば、途中で線の太さを変えて線材強度を制御した形状のステントが作製出来たり、犠牲管４１の内面４１ａに描画可能なため、例えばバイファケーションの様な枝分かれする管の結合部分も内側から描画可能であり、これまでに無い形状が作製可能となる。

【0073】

本実施形態では、外径及び内径が一定である同径の犠牲管４１を用いているが、例えば図１１（Ａ）に示すように、端部の径が異なる犠牲管を用いることも可能であり、また図１１（Ｂ）に示すように、枝状に分岐した犠牲管を用いることも可能である。この場合、犠牲管の内面に露光パターンを描画可能なため、犠牲管の端部の径が異なる部分にもメッキ膜を形成することが可能であり、また犠牲管の枝状に分岐した部分にもメッキ膜を形成することが可能である。従って、従来技術では製造できない管状物を製造することが可能となる。

【0074】

なお、本実施形態では、露光光１６ａを犠牲管４１の内面４１ａ上のフォトレジスト膜４３に照射する際に、矢印θｐのような回転動作と矢印ｘｐのような移動動作をガイドパイプ１１が行っているが、ガイドパイプ１１の位置を固定し、矢印θｐのような回転動作と矢印ｘｐのような移動動作を犠牲管４１が行うことでもフォトレジスト膜に露光パターンを描画することができる。

【0075】

また、犠牲管４１の外面上にフォトレジスト膜を塗布し、犠牲管４１の外側に配置した描画ユニットにて露光パターンを描画すれば、犠牲管４１の外面上にレジストパターンを形成することが可能である。この場合、犠牲管４１の外面の側からのメッキ膜（電鋳膜）の形成も可能となる。

【0076】

［第２の実施形態］
図６は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を実施する際の線状パターンを露光する方法を説明するための模式図である。

【0077】

本実施形態では、図１のステップＳ５のフォトレジスト膜４３に露光パターンを描画する方法が第１の実施形態と異なり、その他の部分は第１の実施形態と同様であるので、異なる部分についてのみ説明する。

【0078】

図６に示すように、ステントパターン５４の内側を線画によって描画する際には、矢印θｐのようなガイドパイプ１１の回転動作と、矢印ｘｐのようなガイドパイプ１１の長手方向の移動動作と、移動機構によって光ファイバー１５ａをガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる動作を組合せて露光光１６ｂの焦点を調整する。これにより、点画１６ｂの大きさを大きくして線画の太さを太くしたり、点画の大きさを小さくして線画の太さを細くすることができる。その結果、ステントパターン５４の内側を効率良く短時間で描画することができる。

【0079】

また、ステントパターン５４の外形を線画によって描画する際には、矢印θｐの回転動作と、矢印ｘｐの移動動作と、ガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる動作を組合せて露光光１６ｃの焦点を調整する。これにより、点画１６ｃの大きさを小さくして線画の太さを細くすることで、ステントパターン５４の外形を精度良く描画することができる。

【0080】

つまり、上記のように犠牲管４１の内面で焦点を結ぶ露光光の焦点を可変にし、θｐ、ｘｐ、ｘｆを全て制御しながらステントパターン５４を描画することで、一区切りのパターンの外形とその内面を最小限の描画距離で書くことが出来るため、高速露光が可能となる。

【0081】

また、本実施形態においても第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0082】

［第３の実施形態］
図３に示す露光光照射装置では、ガイドパイプ１１内にレンズ１７及び平面ミラー１８を配置しているのに対し、本実施形態による露光光照射装置では、図９に示すように、ガイドパイプ１１内に集光ミラー１９を配置する点が第１の実施形態と異なり、この点以外については第１の実施形態と同様であるので詳細な説明は省略する。

【0083】

この集光ミラー１９は、光ファイバー１５ａによって伝送された露光光１６ａを集光させて反射するミラーであり、例えば集光機能を兼ね備えた非軸放物面ミラーや楕円ミラーを用いることができる。

【0084】

本実施形態においても第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0085】

［第４の実施形態］
図１０（Ａ）〜（Ｇ）は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための図である。本実施形態では、管状物としてステントを例に挙げて説明する。

【0086】

まず、図１０（Ａ）に示すように、導電性を有する小径の金属管（基材管ともいう）６１を用意する。金属管６１の外径及び長さは第１の実施形態の犠牲管と同様である。金属管６１は、例えば導電性がありかつ後の工程でエッチング可能な銅やアルミニウム、黄銅等を用いることができる。

【0087】

次いで、図１０（Ｂ）に示すように、金属管６１の内面６１ａにフォトレジスト膜４３を塗布し、ベークして形成する。このフォトレジスト膜４３の形成方法は、第１の実施形態と同様である。

【0088】

次いで、図１０（Ｃ）に示すように、金属管６１の内面６１ａ上のフォトレジスト膜４３に露光パターンを描画する。この露光パターンの描画方法は第１の実施形態と同様である。

【0089】

この後、図１０（Ｄ）に示すように、フォトレジスト膜４３を現像する。これにより、金属管６１の内面６１ａにレジストパターン４３ａを形成することができる。

【0090】

次いで、図１０（Ｅ）に示すように、レジストパターン４３ａから露出する金属管６１上に電解メッキ法によりメッキ膜（電鋳膜）４４を形成する。つまり、金属管６１の内部にメッキ液（電鋳液）を流し、金属管６１に電流を流すことにより、レジストパターン４３ａから露出する金属管６１の内面にメッキ膜４４が形成される。このメッキ膜４４が管状物のステントとなる。なお、レジストパターン４３ａで保護された金属管６１上にはメッキ膜４４が形成されない。なお、メッキ膜４４の厚さ及び材質は第１の実施形態と同様である。

【0091】

次いで、図１０（Ｆ）に示すように、金属管６１の内面６１ａ上のレジストパターン４３ａを剥離する。これにより、メッキ膜４４が金属管６１から離され、メッキ膜４４からなる管状物のステントを製造することが可能となる（図５（Ｇ）参照）。

【0092】

その後、必要に応じてメッキ膜４４からなるステントの表面研磨や端面Ｒ処理等の表面処理を施してもよいし、ステントの表面に貴金属をコーティングしてもよい。

【0093】

本実施形態においても第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0094】

本実施形態では、外径及び内径が一定である同径の金属管６１を用いているが、例えば図１１（Ａ）に示すように、端部の径が異なる金属管を用いることも可能であり、また図１１（Ｂ）に示すように、枝状に分岐した金属管を用いることも可能である。この場合、金属管の内面に露光パターンを描画可能なため、金属管の端部の径が異なる部分にもメッキ膜を形成することが可能であり、また金属管の枝状に分岐した部分にもメッキ膜を形成することが可能である。従って、従来技術では製造できない管状物を製造することが可能となる。

【0095】

［第５の実施形態］
図１２〜図１５は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための図である。本実施形態では、管状物としてステントを例に挙げて説明する。なお、図１５に示す被加工用管５１は管形状を有するが、図１５では被加工用管５１の一部の断面を示している。
図１３及び図１４に示す露光光照射装置はｉ線等の露光光を照射する装置であり、露光光としては例えばレーザー光またはＬＥＤ光を用いることができる。
図１３及び図１４において、図３及び図４と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。

【0096】

光ファイバー１５ａをガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる移動機構（図示せず）を有している。この移動機構によってレンズ１７と光ファイバー１５ａの先端との距離を調整することができる。これにより、ガイドパイプ１１の開孔部１１ａから出射される露光光１６ａの焦点位置を、被加工用管５１の内径に応じて調整することができる。例えば、被加工用管５１の内面で焦点を結ぶ露光光のフォーカスを２〜２００μｍ程度まで可変とすることができる。

【0097】

なお、本実施形態では、図１３に示すように緩衝部材２０を平面ミラー１８とガイドパイプ１１との間にも配置しているが、図１６に示すように平面ミラー１８とガイドパイプ１１との間に緩衝部材２０を配置しないで実施してもよい。

【0098】

次に、ステントの製造方法について図１２及び図１５を参照しつつ説明する。
まず、図１５（Ａ）に示すように、小径の被加工用管（基材管ともいう）５１を用意する（図１２のステップＳ１）。被加工用管５１の外径は１ｍｍ以上４０ｍｍ以下であるとよく、被加工用管５１の厚さは０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であるとよい。また、被加工用管５１の長さは１０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であるとよい。被加工用管５１は、例えばコバルトクロム合金、金、銀、銀合金、白金、白金合金、ニッケル合金、Ｎｉ−Ｔｉ合金、チタン、チタン合金、タンタル、ステンレス鋼等を用いることができる。

【0099】

次いで、図１５（Ｂ）に示すように、被加工用管５１の内面５１ａにフォトレジスト膜５３を図１７のディスペンサー３０によって塗布し、被加工用管５１の外面５１ｂにフォトレジスト膜５３を塗布する（図１２のステップＳ２）。詳細には、図１７に示すように、被加工用管（第１の管ともいう）５１の内部に、先端に吐出部材を備えた管３１（第２の管ともいう）を挿入し、プランジャー３２を矢印３５の方向に押すことで、管３１の先端の吐出部材３３から適量のレジスト液４３ｂを吐出させながら、管３１を矢印３６の方向に引きつつ被加工用管５１を回転させる。これにより、被加工用管５１の内面５１ａにレジスト液４３ｂからなるフォトレジスト膜５３を均一に塗布することができる。次いで、フォトレジスト膜５３をベークする（図１２のステップＳ３）。このフォトレジスト膜５３は、光反応性レジスト膜である。

【0100】

次いで、被加工用管５１の外面４１ｂ上のフォトレジスト膜５３の全面を露光する（図１２のステップＳ４）。なお、ネガ型レジストの場合は外面４１ｂ上のフォトレジスト膜４３の全面露光を行うが、ポジ型レジストの場合は全面露光を行う必要がない。

【0101】

次いで、図１５（Ｃ）に示すように、被加工用管５１の内面５１ａ上のフォトレジスト膜５３に露光パターン（例えば図２に示すようなステントパターン４４）を描画する（図１２のステップＳ５）。以下に詳細に説明する。

【0102】

被加工用管５１内にファイバー光源（露光光照射装置）４０のガイドパイプ１１を挿入し、ガイドパイプ１１の開孔部１１ａを被加工用管５１の内面のフォトレジスト膜と対向するように配置する（図１３及び図１４参照）。

【0103】

次いで、光ファイバー１５ａによって伝送された露光光１６ａはレンズ１７によって集光され、この集光された露光光１６ａは平面ミラー１８によってガイドパイプ１１の長手方向に対して９０°程度進行方向が変えられて反射され、その反射した露光光は開孔部１１ａを通ってガイドパイプ１１の外側に出射される（図１３参照）。この出射された露光光１６ａを図１５（Ｃ）に示すように被加工用管５１の内面５１ａのフォトレジスト膜５３に照射する。この際、図１４に示すように、矢印θｐのようなガイドパイプ１１の回転動作と、矢印ｘｐのようなガイドパイプ１１の長手方向の移動動作と、露光光１６ａの照射のオンとオフを組み合わせて動作させる。この回転動作と移動動作は、サーボモーター等を含む駆動部によって行われる。露光光１６ａの照射のオンとオフの動作は、ファイバー光源４０の点灯消灯信号を連動させることによって行われる。その結果、点画の組み合せによって例えば図２に示すようなステントパターン４４がフォトレジスト膜に露光パターンとして描画される。

【0104】

図２に示す矢印θｐが図１４に示す矢印θｐのガイドパイプ１１の回転動作に対応し、図２に示す矢印ｘｐが図１４に示す矢印ｘｐのガイドパイプ１１の長手方向の移動動作に対応する。また、図２に示す光源ＯＮの点画１６ａが露光光１６ａの照射のオンに対応し、図２に示す光源ＯＦＦが露光光１６ａの照射のオフに対応する。これらの矢印θｐの回転動作と、矢印ｘｐの移動動作と、露光光１６ａの照射のオンとオフを組み合わせて動作させることで、図２に示すステントパターン４４を露光パターンとして描画することができる。

【0105】

詳細には、図２に示すように、光源をショットで１点１点打ち、これが少し重なるように位置決めを行う。例えばガイドパイプ１１を矢印θｐに連続的に回転させながら、ガイドパイプ１１を矢印ｘｐの方向に断続的に動かし、必要とされるステントパターン４４を点画で繋いで行くことにより、ステントパターン４４を隙間無く複雑な制御無く描画する事が可能になる。

【0106】

この後、図１５（Ｄ）に示すように、フォトレジスト膜５３を現像する（図１２のステップＳ６）。これにより、被加工用管５１の内面５１ａにレジストパターン５３ａを形成することができる。

【0107】

次いで、図１５（Ｅ）に示すように、レジストパターン５３ａをマスクとして被加工用管５１をウェットエッチングすることで、レジストパターン５３ａから露出する被加工用管５１がエッチングされ、レジストパターン５３ａで保護された被加工用管５１が残される（図１２のステップＳ７）。この残された部分の被加工用管が管状物のステント５１ｃとなる。ウェットエッチングのエッチング液としては、塩酸、硝酸、硫酸、無水クロム酸、フッ化水素酸、フッ化アンモン、塩化第二鉄液、過硫酸アンモン、王水、シアン化ソーダ、過酸化水素、過硫酸塩、カ性ソーダ、及びこれらの混合液等を用いることができる。なお、ウェットエッチングにより被加工用管５１を加工するため、被加工用管のエッチングされた部分にはテーパーが形成される。このテーパー形状は、ウェットエッチングの際の条件により調整することができる。

【0108】

次いで、図１５（Ｆ）に示すように、被加工用管５１の内面５１ａ上のレジストパターン５３ａ及び外面５１ｂ上のフォトレジスト膜５３を剥離する（図１２のステップＳ８）。これにより、エッチング加工された被加工用管５１からなる管状物のステント５１ｃを製造することが可能となる。

【0109】

その後、必要に応じてステント５１ｃの表面研磨や端面Ｒ処理等の表面処理を施してもよいし、ステント５１ｃの表面に貴金属をコーティングしてもよい。

【0110】

なお、フォトレジスト膜にはポジ型とネガ型があるため、それに応じて露光すべき領域が決められる。

【0111】

図２に示すステントパターン４４の外形精度は被加工用管５１の内面５１ａ上のフォトレジスト膜５３での露光光１６ａの焦点の大きさと位置決め精度に依存し、最小では数μｍ以下のレジストパターン描画が可能となる。例えば、途中で線の太さを変えて線材強度を制御した形状のステントが作製出来たり、被加工用管５１の内面５１ａに描画可能なため、例えばバイファケーションの様な枝分かれする管の結合部分も内側から描画可能であり、これまでに無い形状が作製可能となる。

【0112】

なお、本実施形態では、露光光１６ａを被加工用管５１の内面５１ａ上のフォトレジスト膜５３に照射する際に、矢印θｐのような回転動作と矢印ｘｐのような移動動作をガイドパイプ１１が行っているが、ガイドパイプ１１の位置を固定し、矢印θｐのような回転動作と矢印ｘｐのような移動動作を被加工用管５１が行うことでもフォトレジスト膜に露光パターンを描画することができる。

【0113】

また、被加工用管５１の外面５１ｂ上のフォトレジスト膜に、被加工用管５１の外側に配置した描画ユニットにて露光パターンを描画すれば、被加工用管５１の外面５１ｂ上にレジストパターンを形成することが可能である。この場合、被加工用管５１の外面５１ｂ上のレジストパターンをマスクとしてエッチングすることで被加工用管５１を加工してステントを形成することも可能となる。

【0114】

また、本実施形態では、外径及び内径が一定である同径の被加工用管５１を用いているが、例えば図１１（Ａ）に示すように、端部の径が異なる被加工用管を用いることも可能であり、また図１１（Ｂ）に示すように、枝状に分岐した被加工用管を用いることも可能である。この場合、被加工用管の内面に露光パターンを描画可能なため、被加工用管の端部の径が異なる部分をエッチング加工することが可能であり、また被加工用管の枝状に分岐した部分をエッチング加工することが可能である。従って、従来技術では製造できない管状物を製造することが可能となる。

【0115】

［第６の実施形態］
図６は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を実施する際の線状パターンを露光する方法を説明するための模式図である。

【0116】

本実施形態では、図１２のステップＳ５のフォトレジスト膜５３に露光パターンを描画する方法が第５の実施形態と異なり、その他の部分は第５の実施形態と同様であるので、異なる部分についてのみ説明する。

【0117】

図６に示すように、ステントパターン５４の内側を線画によって描画する際には、矢印θｐのようなガイドパイプ１１の回転動作と、矢印ｘｐのようなガイドパイプ１１の長手方向の移動動作と、移動機構によって光ファイバー１５ａをガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる動作を組合せて露光光１６ｂの焦点を調整する。これにより、点画１６ｂの大きさを大きくして線画の太さを太くしたり、点画の大きさを小さくして線画の太さを細くすることができる。その結果、ステントパターン５４の内側を効率良く短時間で描画することができる。

【0118】

また、ステントパターン５４の外形を線画によって描画する際には、矢印θｐの回転動作と、矢印ｘｐの移動動作と、ガイドパイプ１１の長手方向ｘｆに移動させる動作を組合せて露光光１６ｃの焦点を調整する。これにより、点画１６ｃの大きさを小さくして線画の太さを細くすることで、ステントパターン５４の外形を精度良く描画することができる。

【0119】

つまり、上記のように被加工用管の内面で焦点を結ぶ露光光の焦点を可変にし、θｐ、ｘｐ、ｘｆを全て制御しながらステントパターン５４を描画することで、一区切りのパターンの外形とその内面を最小限の描画距離で書くことが出来るため、高速露光が可能となる。

【0120】

また、本実施形態においても第５の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0121】

［第７の実施形態］
図１３に示す露光光照射装置では、ガイドパイプ１１内にレンズ１７及び平面ミラー１８を配置しているのに対し、本実施形態による露光光照射装置では、図１８に示すように、ガイドパイプ１１内に集光ミラー１９を配置する点が第５の実施形態と異なり、この点以外については第５の実施形態と同様であるので詳細な説明は省略する。

【0122】

この集光ミラー１９は、光ファイバー１５ａによって伝送された露光光１６ａを集光させて反射するミラーであり、例えば集光機能を兼ね備えた非軸放物面ミラーや楕円ミラーを用いることができる。

【0123】

本実施形態においても第５の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0124】

［第８の実施形態］
図１９及び図２０は、本発明の一態様に係る管状物の製造方法を説明するための断面図である。なお、図１９及び図２０は、被加工用管を長手方向に平行な面で切断した断面図である。本実施形態では、管状物としてステントを例に挙げて説明する。

【0125】

まず、図１９（Ａ）に示すように、小径の被加工用管（基材管ともいう）６１を用意する。被加工用管６１の外径、厚さ及び長さは第５の実施形態の被加工用管５１と同様である。また、被加工用管６１は、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ステンレス、Ｎｉ−Ｔｉ合金等の第５の実施形態の被加工用管５１と同様の材質を用いることができる。

【0126】

次に、図１９（Ｂ）に示すように、被加工用管６１の内面６１ａ及び外面６１ｂに電解メッキ法によりメタルマスク用メッキ膜６２を形成する。このメタルマスク用メッキ膜６２は、後の工程で被加工用管６１をエッチングする際のエッチングマスクとして用いるため、被加工用管６１に対するエッチング選択比が取れる材質であればよく、例えばＣｕ、Ａｕ、Ｐｔ及びＰｔ合金等を用いることができる。

【0127】

次いで、図１９（Ｃ）に示すように、メタルマスク用メッキ膜６２上にネガ型レジスト膜６３を第５の実施形態と同様の方法で塗布し、ベークする。

【0128】

次いで、被加工用管６１の外面６１ｂ上のネガ型レジスト膜６３の全面を露光する。

【0129】

次いで、図１９（Ｄ）に示すように、被加工用管６１内に露光光照射装置のガイドパイプ１１を挿入し、ガイドパイプ１１の開孔部を被加工用管６１の内面６１ａのネガ型レジスト膜６３と対向するように配置する。次いで、第５の実施形態と同様の方法で、ガイドパイプ１１の開孔部から露光光１６ａを被加工用管６１の内面６１ａのネガ型レジスト膜６３に照射する。これにより、ネガ型レジスト膜６３に露光パターンが描画される。

【0130】

この後、図２０（Ａ）に示すように、ネガ型レジスト膜６３を現像することにより、被加工用管６１の内面６１ａのメタルマスク用メッキ膜６２上にレジストパターン６３ａが形成される。次いで、レジストパターン６３ａをマスクとしてマスク用メッキ膜６２をエッチングすることで、被加工用管６１の内面６１ａにはメタルマスク６２ａが形成される。

【0131】

次いで、図２０（Ｂ）に示すように、レジストパターン６３ａを剥離する。

【0132】

次に、図２０（Ｃ）に示すように、メタルマスク６２ａをマスクとして被加工用管６１をウェットエッチングすることで、メタルマスク６２ａから露出する被加工用管６１がエッチングされ、メタルマスク６２ａで保護された被加工用管６１が残される。この残された部分の被加工用管が管状物のステント６１ｃとなる。ウェットエッチングのエッチング液としては、第５の実施形態と同様のものを用いることができる。なお、ウェットエッチングにより被加工用管６１を加工するため、被加工用管のエッチングされた部分にはテーパーが形成される。このテーパー形状は、ウェットエッチングの際の条件により調整することができる。

【0133】

次いで、図２０（Ｄ）に示すように、ステント６１ｃがメタルマスク６２ａから離され、ステント６１ｃが製造される。

【0134】

その後、必要に応じてステント６１ｃの表面研磨や端面Ｒ処理等の表面処理を施してもよいし、ステント６１ｃの表面に貴金属をコーティングしてもよい。

【0135】

なお、本実施形態では、外径及び内径が一定である同径の被加工用管６１を用いているが、例えば図１１（Ａ）に示すように、端部の径が異なる被加工用管を用いることも可能であり、また図１１（Ｂ）に示すように、枝状に分岐した被加工用管を用いることも可能である。この場合、被加工用管の内面に露光パターンを描画可能なため、被加工用管の端部の径が異なる部分をエッチング加工することが可能であり、また被加工用管の枝状に分岐した部分をエッチング加工することが可能である。従って、従来技術では製造できない管状物を製造することが可能となる。

【0136】

本実施形態においても第５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、本実施形態では、レジストパターンに比べてエッチング耐性の高いメタルマスク６２ａを用いているため、エッチング加工の精度をより高くすることができる。

【0137】

なお、上記の第１〜第８の実施形態を互いに組み合わせて実施することも可能である。

【0138】

また、本実施形態に従う構造とされたステントは、Ｙ字形の分岐形状やテーパー形状、端部厚肉形状の他、基幹筒部と分岐筒部の径寸法が異なるステントや、それら基幹筒部と分岐筒部の少なくとも一方がテーパー筒形状とされたステント、長さ方向で部分的にテーパーが付されたステントや、長さ方向の端部や中央部分に厚肉部分が設けられたステント、カバードステントのカバーを除くステント本体、長さ方向中間部分で湾曲または屈曲したステントなど、各種の異形状のステントに対して適用可能である。

【0139】

更にまた、本実施形態に従う構造とされたステントは、脳動脈瘤治療用におけるフローダイバータの場合にも適用される。フローダイバータとは、例えば脳動脈瘤の血管内治療のために改良された間隙率の低い血流迂回デバイス等のことである。また、本発明の態様に従う構造とされたステントは、ステントレトリバーシステムにおける先端部分の場合にも適用される。ステントレトリバーシステムとは、例えば網で効率よく血栓を圧しつけ絡めて取り除くための網型筒形状の血栓回収デバイス等のことである。

【0140】

更にまた、本実施形態に従う構造とされたステントは、上記製品群以外にも、脳血管用コイル、ガイドワイヤ、造影用マーカ、下大動脈フィルタ、末梢保護フィルタ、医療用クリップ、医療用針、バネ類を用いた金属で作製可能な医療機器であればあらゆる態様で採用される。

【符号の説明】

【0141】

１１ ガイドパイプ（管）
１１ａ 開孔部
１５ａ 光ファイバー
１６ａ 露光光、点画（レジストの液滴）
１６ｂ，１６ｃ 露光光
１７ レンズ
１８ 平面ミラー
１９ 集光ミラー
２０ 緩衝部材
３０ ディスペンサー
３１ 管
３２ プランジャー
３３ 吐出部材
３３ａ 液溜まり部
３５，３６ 矢印
４０ ファイバー光源（露光光照射装置）
４１ 犠牲管、円柱状部材
４１ａ 内面
４１ｂ 側面
４２ 導電膜
４３ フォトレジスト膜
４３ａ レジストパターン
４３ｂ レジスト液
４４ メッキ膜（電鋳膜），ステントパターン
５１ 被加工用管
５１ａ 内面、被加工用管の内部
５１ｂ 外面
５１ｃ 管状物のステント
５３ フォトレジスト膜
５３ａ レジストパターン
５４ ステントパターン
６１ 金属管，被加工用管、耐エッチング剤
６１ａ 内面
６１ｂ 外面
６１ｃ 管状物のステント
６２ メタルマスク用メッキ膜
６２ａ メタルマスク
６３ ネガ型レジスト膜
６３ａ レジストパターン

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】