特許 6631717 パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6631717

(24)【登録日】2019年12月20日

(45)【発行日】2020年1月15日

(54)【発明の名称】パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物

(51)【国際特許分類】

   C09K 3/18 20060101AFI20200106BHJP

   C07F 7/18 20060101ALI20200106BHJP

   C07C 69/63 20060101ALI20200106BHJP

【ＦＩ】

   C09K3/18 104

   C07F7/18 N

   C07C69/63

【請求項の数】22

【全頁数】31

(21)【出願番号】特願2018-538370(P2018-538370)

(86)(22)【出願日】2017年8月30日

(86)【国際出願番号】JP2017031086

(87)【国際公開番号】WO2018047686

(87)【国際公開日】20180315

【審査請求日】2018年8月17日

(31)【優先権主張番号】特願2016-175842(P2016-175842)

(32)【優先日】2016年9月8日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002853

【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100101454

【弁理士】

【氏名又は名称】山田 卓二

(74)【代理人】

【識別番号】100132252

【弁理士】

【氏名又は名称】吉田 環

(72)【発明者】

【氏名】三橋 尚志

(72)【発明者】

【氏名】野村 孝史

(72)【発明者】

【氏名】能勢 雅聡

(72)【発明者】

【氏名】内藤 真人

【審査官】 小久保 敦規

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１３−１９９５５８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 中国特許出願公開第１０１４９７７４９（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−１４４９３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−０８４１０３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−１３６８３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１６／００６５８４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 ロシア国登録特許第２１５１１５１（RU 2151151 C1）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０９Ｋ ３／１８

Ｃ０９Ｄ １／００−２０１／１０

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＭＥＤＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０／ＪＳＴＣｈｉｎａ（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

少なくとも１種の下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物：

【化1】

［式中：
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥ^１は、それぞれ独立して、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｘ^１は、単結合または−（ＣＲ^８_２）_ｋ１−（Ｏ）_ｋ２−（ＮＲ^９）_ｋ３−、
（式中：
Ｒ^８は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｋ１は、１〜２０の整数であり；
ｋ２は、０〜１０の整数であり；
ｋ３は、０〜１０の整数であり；
ここに、ｋ１、ｋ２またはｋ３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基を表し；
Ｒ^１は、それぞれ独立して、−Ｘ^２−ＳｉＲ^ａ１_ｌ１Ｒ^ｂ１_ｍ１Ｒ^ｃ１_ｎ１を表し；
Ｘ^２は、−（ＣＲ^１０_２）_ｋ４−（Ｏ）_ｋ５−（ＮＲ^１１）_ｋ６−、
（式中：
Ｒ^１０は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｋ４は、１〜２０の整数であり；
ｋ５は、０〜１０の整数であり；
ｋ６は、０〜１０の整数であり；
ここに、ｋ４、ｋ５またはｋ６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基を表し；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^ａ２_ｌ２Ｒ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２を表し；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子またはＣ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）を表し；
Ｒ^ａ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表し；
Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義であり；
Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^ｂ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基またはフェニル基を表し；
ｐは、１または２である、
ただし、式中、少なくとも１つのＲ^ｂ１またはＲ^ｂ２が存在する。］
および
少なくとも１種の下記式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物：

【化2】

［式中：
Ｒ^３は、炭化水素基を表し；
Ｒ^４は、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ^２−Ｘ^３−を表し；
Ｒｆ^２は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥ^２は、それぞれ独立して、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｘ^３は、単結合または−（ＣＲ^１５_２）_ｋ７−（Ｏ）_ｋ８−（ＮＲ^１６）_ｋ９−、
（式中：
Ｒ^１５は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｋ７は、１〜２０の整数であり；
ｋ８は、０〜１０の整数であり；
ｋ９は、０〜１０の整数であり；
ここに、ｋ７、ｋ８またはｋ９を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基を表す。］
を含み、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対する、式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量が、４．１ｍｏｌ％以上３５ｍｏｌ％以下である、表面処理剤。

【請求項2】

Ｒｆ^１が、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。

【請求項3】

ＰＦＰＥ^１が下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１以上２００以下の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｑ− （ｃ）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｑは、２〜１００の整数である。］
である、請求項１または２に記載の表面処理剤。

【請求項4】

Ｘ^１が、−（ＣＦ_２）_ｋ１’−または−（ＣＦ_２）_ｋ１’−（Ｏ）_ｋ２’−
［式中：
ｋ１’は、１〜６の整数であり；
ｋ２’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ１’またはｋ２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
であり、
Ｘ^２が、−（ＣＨ_２）_ｋ４’−または−（ＣＨ_２）_ｋ４’−Ｏ_ｋ５’−
［式中：
ｋ４’は、１〜６の整数であり；
ｋ５’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ４’またはｋ５’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項5】

Ｒ^２が、炭素数１〜３個のアルキル基またはフェニル基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項6】

Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２が、ＯＣＨ_３またはＯＣ_２Ｈ_５である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項7】

ｐが１である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項8】

Ｒｆ^２が、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項9】

ＰＦＰＥ^２が下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１以上２００以下の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｑ− （ｃ）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｑは、２〜１００の整数である。］
である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項10】

Ｘ^３が、−（ＣＦ_２）_ｋ７’−または−（ＣＦ_２）_ｋ７’−（Ｏ）_ｋ８’−
［式中：
ｋ７’は、１〜６の整数であり；
ｋ８’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ７’またはｋ８’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項11】

Ｒ^３が、炭素数１〜３のアルキル基である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項12】

式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対する、式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量が、４．５ｍｏｌ％以上３５ｍｏｌ％以下である、請求項１〜１１のいずれか１項に表面処理剤。

【請求項13】

含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。

【請求項14】

含フッ素オイルが、式（３）：
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（３）
［式中：
Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１３に記載の表面処理剤。

【請求項15】

さらに溶媒を含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項16】

防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項17】

請求項１〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。

【請求項18】

基材と、該基材の表面に、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。

【請求項19】

基材がガラスまたはサファイアガラスである、請求項１８に記載の物品。

【請求項20】

基材が、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスである、請求項１８に記載の物品。

【請求項21】

光学部材である、請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の物品。

【請求項22】

ディスプレイである、請求項１８〜２１のいずれか１項に記載の物品。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物およびカルボン酸エステル化合物を含んで成る表面処理剤に関する。

【背景技術】

【0002】

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

【0003】

そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を分子主鎖に有し、アミド結合を含む有機基を介して、含フッ素シラン化合物の末端または末端部に加水分解可能な基を有するＳｉ原子に結合した、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物が知られている（特許文献１〜３を参照のこと）。このパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む表面処理剤を基材に適用すると、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基が基材との間および化合物間で反応することにより結合して、表面処理層を形成し得る。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開平１１−２９５８５号公報

【特許文献2】特開２０００−１４３９９号公報

【特許文献3】特開２０００−３２７７７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、撥水性、撥油性、防汚性などの機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性および透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。とりわけ、これら用途においては、繰り返し摩擦を受けてもかかる機能を維持し得るように摩擦耐久性が求められる。

【0006】

本発明は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性を有し、かつ、高い摩擦耐久性を有する層を形成することのできるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含んで成る組成物を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物およびカルボン酸エステル化合物を含んで成る組成物を用いることにより、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0008】

即ち、本発明の第１の要旨によれば、少なくとも１種の下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物：

【化1】

［式中：
Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥ^１は、それぞれ独立して、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｘ^１は、単結合または２価の有機基を表し；
Ｒ^１は、−Ｘ^２−ＳｉＲ^ａ１_ｌ１Ｒ^ｂ１_ｍ１Ｒ^ｃ１_ｎ１を表し；
Ｘ^２は、２価の有機基を表し；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^ａ２_ｌ２Ｒ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２を表し；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^ａ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表し；
Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義であり；
Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^ｂ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^２は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
ｐは、１または２である、
ただし、式中、少なくとも１つのＲ^ｂ１またはＲ^ｂ２が存在する。］
および
少なくとも１種の下記式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物：

【化2】

［式中：
Ｒ^３は、炭化水素基を表し；
Ｒ^４は、有機基を表す。］
を含み、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対する、式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量が、４．１ｍｏｌ％以上３５ｍｏｌ％以下である、表面処理剤が提供される。

【0009】

本発明の第２の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記本発明の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

【発明の効果】

【0010】

本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と、カルボン酸エステル化合物とを含む組成物を用いることにより、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の表面処理剤について説明する。

【0012】

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」または「２価の有機基」とは、それぞれ炭素を含有する１価または２価の基を意味する。かかる１価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

【0013】

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

【0014】

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

【0015】

本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

【0016】

本発明は、下記式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物：
性アミドシラン化合物：

【化3】

および
下記式（２）で表される少なくとも１種のアミン化合物：

【化4】

を含んでなる、表面処理剤を提供する（以下、「本発明の表面処理剤」ともいう）。

【0017】

以下、式（１）で表される化合物について説明する。

【化5】

【0018】

上記式（１）中、Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基を表す。

【0019】

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基における「Ｃ_１−１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６のアルキル基、特にＣ_１−３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３のアルキル基である。

【0020】

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６のパーフルオロアルキル基である。

【0021】

上記Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６のパーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

【0022】

上記式（１）中、ＰＦＰＥ^１は、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

【0023】

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

【0024】

一の態様において、上記ＰＦＰＥ^１は、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

【0025】

別の態様において、ＰＦＰＥ^１は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥ^１は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

【0026】

さらに別の態様において、ＰＦＰＥ^１は、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｑ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｑは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥ^１は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｑ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｑ−である。

【0027】

ＰＦＰＥ^１において、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」または「ＥＭ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

【0028】

上記式（１）中、Ｘ^１は、単結合または２価の有機基を表す。

【0029】

上記Ｘ^１における２価の有機基の例としては、特に限定するものではないが、
−（ＣＲ^８_２）_ｋ１−（Ｏ）_ｋ２−（ＮＲ^９）_ｋ３−、
［式中：
Ｒ^８は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｋ１は、１〜２０の整数であり；
ｋ２は、０〜１０の整数であり；
ｋ３は、０〜１０の整数であり；
ここに、ｋ１、ｋ２またはｋ３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基が挙げられる。

【0030】

好ましい態様において、Ｘ^１は、
−（ＣＦ_２）_ｋ１’−または−（ＣＦ_２）_ｋ１’−（Ｏ）_ｋ２’−
［式中：
ｋ１’は、１〜６の整数であり；
ｋ２’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ１’またはｋ２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である。

【0031】

上記式（１）中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、−Ｘ^２−ＳｉＲ^ａ１_ｌ１Ｒ^ｂ１_ｍ１Ｒ^ｃ１_ｎ１を表す。

【0032】

上記Ｘ^２は、２価の有機基を表す。

【0033】

上記Ｘ^２の２価の有機基の例としては、特に限定するものではないが、
−（ＣＲ^１０_２）_ｋ４−（Ｏ）_ｋ５−（ＮＲ^１１）_ｋ６−、
［式中：
Ｒ^１０は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｋ４は、１〜２０の整数であり；
ｋ５は、０〜１０の整数であり；
ｋ６は、０〜１０の整数であり；
ここに、ｋ４、ｋ５またはｋ６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基が挙げられる。

【0034】

好ましい態様において、Ｘ^２は、
−（ＣＨ_２）_ｋ４’−または−（ＣＨ_２）_ｋ４’−Ｏ_ｋ５’−
［式中：
ｋ４’は、１〜６の整数であり；
ｋ５’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ４’またはｋ５’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である。

【0035】

一の態様において、Ｘ^１は、
−（ＣＦ_２）_ｋ１’−または−（ＣＦ_２）_ｋ１’−（Ｏ）_ｋ２’−
［式中：
ｋ１’は、１〜６の整数であり；
ｋ２’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ１’またはｋ２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
であり、
Ｘ^２は、
−（ＣＨ_２）_ｋ４’−または−（ＣＨ_２）_ｋ４’−Ｏ_ｋ５’−
［式中：
ｋ４’は、１〜６の整数であり；
ｋ５’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ４’またはｋ５’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である。

【0036】

上記Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^ａ２_ｌ２Ｒ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２を表す。

【0037】

式中、Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

【0038】

上記Ｚ^１は、好ましくは、２価の有機基である。一の態様において、式（１）中Ｒ^ａ１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

【0039】

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

【0040】

式中、Ｒ^ａ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表す。Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義である。

【0041】

Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａ１において、Ｒ^ａ２が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ１中にＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ１中において直鎖状に連結される−Ｚ^１−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

【0042】

例えば、下記にＲ^ａ１中においてＺ^１基（下記では単に「Ｚ」と示す）を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

【化6】

【0043】

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

【0044】

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

【化7】

【0045】

一の態様において、Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

【0046】

上記Ｒ^ｂ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

【0047】

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

【0048】

好ましくは、Ｒ^ｂ２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、さらに好ましくはメチル基を表す）である。

【0049】

式中、Ｒ^ｃ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0050】

式中、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｌ２、ｍ２およびｎ２の和は３である。

【0051】

好ましい態様において、Ｒ^ａ１中の末端のＲ^ａ１’（Ｒ^ａ１’が存在しない場合、Ｒ^ａ１）において、上記ｍ２は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

【0052】

好ましい態様において、Ｒ^ａ１の末端部の少なくとも１つは、−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２）_２または−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２）_３であり得る。式中、（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２）の単位は、好ましくは（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_ｍ２Ｒ^ｃ２_ｎ２）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^ｂ２_３）_３であり得る。

【0053】

一の態様において、上記式（１）において、少なくとも１つのＲ^ｂ２が存在する。

【0054】

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

【0055】

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｂ１は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、さらに好ましくはメチル基を表す）である。

【0056】

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0057】

式中、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｌ１、ｍ１およびｎ１の和は、３である。

【0058】

一の態様において、ｌ１は０である。別の態様において、ｌ１は３である。

【0059】

上記式（１）中、Ｒ^２は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表す。低級アルキル基は、好ましくはＣ_１−６アルキル基を表す。Ｒ^２は、好ましくは水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくは水素原子またはメチル基である。

【0060】

一の態様において、Ｒ^２は、水素原子である。

【0061】

別の態様において、Ｒ^２は、低級アルキル基またはフェニル基である。好ましい態様において、Ｒ^２は、Ｃ_１−６アルキル基またはフェニル基、好ましくはＣ_１−３アルキル基またはフェニル基、さらに好ましくはエチル基またはメチル基、さらにより好ましくはメチル基であり得る。

【0062】

上記式（１）中、ｐは、１または２である。一の態様において、ｐは１である。

【0063】

上記式（１）中、少なくとも１つのＲ^ｂ１またはＲ^ｂ２が存在する。

【0064】

上記式で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ^１部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。

【0065】

上記式で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜２０，０００、より好ましくは２，５００〜１５，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

【0066】

上記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物は、パーフルオロカルボン酸誘導体と加水分解性基を有するアミノシランとの縮合反応によって製造することができる（特許文献１および２参照）。

【0067】

以下、式（２）で表される化合物について説明する。

【化8】

【0068】

上記式（２）中、Ｒ^３は、炭化水素基を表す。

【0069】

Ｒ^３は、好ましくは、低級アルキル基またはフェニル基である。低級アルキル基は、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはＣ_１−３アルキル基、さらに好ましくはエチル基またはメチル基であり、さらにより好ましくはメチル基である。

【0070】

上記式（２）中、Ｒ^４は、１価の有機基を表す。

【0071】

Ｒ^４は、好ましくは、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ^２−Ｘ^３−であり得る。

【0072】

上記式（２）中、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基を表す。

【0073】

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基における「Ｃ_１−１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６のアルキル基、特にＣ_１−３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３のアルキル基である。

【0074】

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６のパーフルオロアルキル基である。

【0075】

上記Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６のパーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

【0076】

上記式（２）中、ＰＦＰＥ^２は、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

【0077】

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

【0078】

一の態様において、上記ＰＦＰＥ^２は、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥ^２は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥ^２は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

【0079】

別の態様において、ＰＦＰＥ^２は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥ^２は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥ^２は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

【0080】

さらに別の態様において、ＰＦＰＥ^２は、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｑ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｑは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥ^２は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｑ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｑ−である。

【0081】

上記式（２）中、Ｘ^３は、単結合または２価の有機基を表す。

【0082】

上記Ｘ^３における２価の有機基の例としては、特に限定するものではないが、
−（ＣＲ^８_２）_ｋ１−（Ｏ）_ｋ２−（ＮＲ^９）_ｋ３−、
［式中：
Ｒ^８は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｋ１は、１〜２０の整数であり；
ｋ２は、０〜１０の整数であり；
ｋ３は、０〜１０の整数であり；
ここに、ｋ１、ｋ２またはｋ３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基が挙げられる。

【0083】

好ましい態様において、Ｘ^３は、
−（ＣＦ_２）_ｋ１’−または−（ＣＦ_２）_ｋ１’−（Ｏ）_ｋ２’−
［式中：
ｋ１’は、１〜６の整数であり；
ｋ２’は、１〜３の整数であり；
ここに、ｋ１’またはｋ２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である。

【0084】

上記したＲ^４としてのＲｆ^２−ＰＦＰＥ^２−Ｘ^３−は、式（１）におけるＲｆ^１−ＰＦＰＥ^１−Ｘ^１−と同じであってもよく、異なっていてもよい。

【0085】

一の態様において、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ^２−Ｘ^３−とＲｆ^１−ＰＦＰＥ^１−Ｘ^１−は、同じである。別の態様において、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ^２−Ｘ^３−とＲｆ^１−ＰＦＰＥ^１−Ｘ^１−は、異なっている。

【0086】

上記式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物において、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ^２部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。

【0087】

上記式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜２０，０００、より好ましくは２，５００〜１５，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。

【0088】

上記式（２）のカルボン酸エステル化合物は、上記式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を合成する際の原料化合物由来の化合物であってもよいし、別途添加したカルボン酸エステル化合物であってもよい。別途添加するカルボン酸エステル化合物は、合成に用いたカルボン酸エステル化合物と同じ化合物であってもよいし、異なる化合物であってもよい。

【0089】

一の態様において、本発明の表面処理剤中、式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量は、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と式（２）で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対して、４．１ｍｏｌ％以上３５ｍｏｌ％以下、好ましくは４．５〜３５ｍｏｌ％、より好ましくは４．５〜３０ｍｏｌ％、さらに好ましくは５．０〜２５ｍｏｌ％であり、例えば６．０ｍｏｌ％以上、８．０ｍｏｌ％以上または１０．０ｍｏｌ％以上であり、２０ｍｏｌ％以下、１８ｍｏｌ％以下または１５ｍｏｌ％であり得る。このような範囲とすることで、本発明の表面処理剤は高い安定性を有し、また、本発明の表面処理剤から得られる表面処理層の摩擦耐久性が向上する。

【0090】

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。

【0091】

本発明の表面処理剤は、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（１）およびカルボン酸エステル化合物（２）に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。

【0092】

他の表面処理化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）：

【化9】

［式中：
ＰＦＰＥ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１−（ＯＣＦ_２）_ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１およびｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１およびｆ１の和は少なくとも１であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１またはｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ３は、（−ＳｉＲ^２３_ｎ３Ｒ^２４_３−ｎ３）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのｎ３が、１〜３の整数であり；
Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
α１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^６は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
β１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^７１_ｐ１Ｒ^７２_ｑ１Ｒ^７３_ｒ１を表し；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ３’を表し；
Ｒ^ａ３’は、Ｒ^ａ３と同意義であり；
Ｒ^ａ３中、Ｚ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
Ｘ^９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^４−ＣＲ^８１_ｐ２Ｒ^８２_ｑ２Ｒ^８３_ｒ２を表し；
Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ３’を表し；
Ｒ^ｄ３’は、Ｒ^ｄ３と同意義であり；
Ｒ^ｄ３中、Ｚ^４基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ^８２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８５_ｎ２Ｒ^８６_３−ｎ２を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ^８５_ｎ２Ｒ^８６_３−ｎ２）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８５_ｎ２Ｒ^８６_３−ｎ２を表し；
Ｒ^ｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。

【0093】

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

【0094】

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

【0095】

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

【0096】

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。

【0097】

一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

【0098】

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。

【0099】

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

【0100】

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、Ｒｆ^１がＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

【0101】

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

【0102】

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

【0103】

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

【0104】

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

【0105】

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

【0106】

触媒は、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

【0107】

本発明の表面処理剤は、１つの溶液（または懸濁液もしくは分散液）の形態であってもよく、あるいは、別個の上記パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物の溶液と、上記カルボン酸エステル化合物の溶液とを使用直前に混合する形態であってもよい。

【0108】

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

【0109】

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性および高い摩擦耐久性を基材に対して付与することができることから、表面処理剤として好適に使用される。具体的には、本発明の表面処理剤は、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

【0110】

次に、本発明の物品について説明する。

【0111】

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

【0112】

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、サファイアガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

【0113】

上記ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。

【0114】

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

【0115】

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

【0116】

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

【0117】

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

【0118】

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

【0119】

本発明の表面処理剤の膜形成は、本発明の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

【0120】

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

【0121】

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

【0122】

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

【0123】

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびパーフルオロポリエーテル変性化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

【0124】

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

【0125】

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

【0126】

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

【0127】

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

【0128】

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

【0129】

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

【0130】

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

【0131】

このような雰囲気下では、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。

【0132】

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

【0133】

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

【0134】

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い摩擦耐久性を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

【0135】

すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

【0136】

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

【0137】

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

【0138】

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

【0139】

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

【0140】

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

【実施例】

【0141】

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の存在順序は任意である。

【0142】

・パーフルオロポリエーテル変性メチルエステル化合物の合成
合成例１
反応器に、メタノール２４０ｇおよびトリエチルアミン１９．６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_３２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＦで表されるパーフルオロポリエーテル変性酸フルオライド化合物５００ｇを滴下し、その後、室温まで昇温させて、撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン３００ｇを加えて撹拌した後、分液ロートに移送し静置後、パーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、３規定塩酸水溶液による洗浄操作を行った。次に、パーフルオロヘキサン層に無水硫酸マグネシウム３０ｇを加えて、撹拌した後、不溶物を濾別した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にメチルエステル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有エステル体（Ａ）４７６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₂CF₂CF₂CO₂CH₃

【0143】

合成例２
・パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物の合成
反応器に、合成例１にて合成した末端にメチルエステルを有するパーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）４５０ｇを仕込み、窒素気流下、室温でアミノプロピルトリメキシシラン（ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）１５．３８ｇを滴下した後、６５℃まで昇温させ撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物Ｂ）４７０ｇを得た。
・パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₂CF₂CF₂CONHCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃

【0144】

実施例１
上記合成例２で得たパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）および上記合成例１で得たパーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）を、モル比９５．５：４．５で混合し、ノベック７２００（スリーエム社製）に溶解させて、濃度２０ｗｔ％になるように、表面処理剤１を調製した。

【0145】

上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇを蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。

【0146】

（実施例２〜４）
化合物（Ｂ）と化合物（Ａ）の混合比（モル比）を下記表に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

【0147】

【表1】

【0148】

比較例１〜３
化合物（Ｂ）と化合物（Ａ）の混合比（モル比）を下記表に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

【0149】

【表2】

【0150】

比較例４
上記合成例２で得たパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）を単独で用いること以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

【0151】

上記の実施例１〜４および比較例１〜４にて基材表面に形成された表面処理層について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数５００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、表３に示す。

【0152】

【表3】

【0153】

上記の結果から、実施例１〜４では、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）単独の比較例４よりも、高い消しゴム耐久性を有しており、パーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）を加えることによる摩擦耐久性の向上効果が確認された。また、比較例１〜３では、パーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）を加えてはいるが、その含有量が少ない場合は効果が得られず、過剰である場合は消しゴム耐久性が劣化することが確認された。

【0154】

本発明はいかなる理論によっても拘束されないが、これは、パーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）が、表面処理層作成時に、水分で加水分解されてカルボン酸へと変換され、酸性の触媒として作用し、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と基材表面との反応性を向上させ、その結果、優れた消しゴム耐久性が得られたと考えられる。また、パーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物（Ａ）が過剰な場合は、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と基材表面との反応を阻害するため、消しゴム耐久性が劣化すると考えられる。

【産業上の利用可能性】

【0155】

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。