(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さが、70nm以上300nm以下であり、前記第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さが、70nm以上300nm以下である、請求項1に記載の被覆ドリル。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明は下記本実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【0012】
本実施形態の被覆ドリルは、基材と、前記基材の上に形成された被覆層と、を含み、前記被覆ドリルは、チゼルエッジ部とマージン部とを備え、前記チゼルエッジ部及び前記マージン部における前記被覆層は、下記式(1):
(Al
1-xCr
x)N (1)
(式中、xはAl元素とCr元素との合計に対するCr元素の原子比を示し、0.10≦x≦0.60を満足する。)
で表される組成を有する化合物を含有する第1複合窒化物層と、下記式(2):
(Ti
1-ySi
y)N (2)
(式中、yはTi元素とSi元素との合計に対するSi元素の原子比を示し、0.05≦y≦0.30を満足する。)
で表される組成を有する化合物を含有する第2複合窒化物層とが交互に積層された交互積層構造を有し、前記チゼルエッジ部における前記第1複合窒化物層のAl元素とCr元素との合計に対するCr元素の原子比C
Crと、前記マージン部における前記第1複合窒化物層のAl元素とCr元素との合計に対するCr元素の原子比M
Crとは、下記式(A):
C
Cr>M
Cr (A)
で表される条件を満足する。
【0013】
本実施形態の被覆ドリルは、上記の構成を備えることにより、耐摩耗性及び耐欠損性を向上させることが可能となり、その結果、被覆ドリルの工具寿命を延長することができる。本実施形態の被覆ドリルの耐摩耗性が向上する要因は、以下のように考えられる。但し、本発明は以下の要因により何ら限定されない。すなわち、まず、前記式(1)において、Cr元素の原子比xが、0.10以上であることにより、耐摩耗性に劣る六方晶のAlの窒化物が形成されるのを抑制できること、さらにはCr元素の原子比xが0.60以下であることにより、耐摩耗性に劣るCrの窒化物が形成されるのを抑制できることに起因して、耐摩耗性が向上する。また、前記式(2)において、Si元素の原子比yが、0.05以上であることにより、硬度が向上すること、さらにはSi元素の原子比yが、0.30以下であることにより、耐摩耗性に劣るアモルファス相が形成されるのを抑制できることに起因して、耐摩耗性が向上する。さらに、前記式(A)で表される条件を満たすことにより、チゼルエッジ部の摩擦摩耗係数が低下することに起因して、特にチゼルエッジ部の耐摩耗性が向上し、さらにはマージン部の高温での硬度が向上することに起因して、特にマージン部の耐摩耗性が向上する。そして、これらの構成が組み合わされることにより、本実施形態の被覆ドリルは、耐摩耗性が顕著に向上し、特にチゼルエッジ部及びマージン部において耐摩耗性が顕著に向上するものと考えられる。一方、耐欠損性が向上する要因は、以下のように考えられる。但し、本発明は以下の要因により何ら限定されない。すなわち、まず、前記式(1)において、Cr元素の原子比xが0.60以下であることにより、組織が微細化することに起因して、第1複合窒化物層の残留応力が低下するのを抑制でき、密着性に優れ、その結果、耐欠損性に優れる。また、前記式(2)において、Si元素の原子比yが0.30以下であることにより、アモルファス相形成の抑制及び均質な微粒組織化することに起因して、第1複合窒化物層の残留応力が低下するのを抑制でき、密着性に優れ、その結果、耐欠損性に優れる。そして、これらの構成が組み合わされることにより、本実施形態の被覆ドリルは、耐欠損性が顕著に向上し、特にチゼルエッジ部及びマージン部において耐欠損性が顕著に向上するものと考えられる。
【0014】
本実施形態の被覆ドリルは、少なくともチゼルエッジ部とマージン部に被覆層が形成されていればよいが、その他の部位(例えば、切刃稜線部の一部又は全部)に被覆層が形成されていてもよい。
【0015】
本実施形態の基材は、例えば、チゼルエッジ部とマージン部とを備えたドリル状の形態を有してもよい。本明細書にいう「ドリル状の形態」とは、一般的なドリル(例えば、ソリッドドリル及びヘッド交換式ドリル)において、被削材と接触し、かつ被削材を切削する部位(切削部位)を少なくとも有している形態をいい、切削部位のみの形態であってもよい。ここで、ヘッド交換式ドリルにおいては、ドリルホルダ(保持部)に着脱可能に保持可能なドリルヘッドが切削部位に相当する。
【0016】
図1〜
図3に一般的なソリッドドリル(ドリル)を示す。このドリル100は、被削材を切削する切削部位1と、この切削部位1を保持する保持部2とを有している。この切削部位1の切刃の先端部分には、一対の先端切刃稜3、第1逃げ面4、第2逃げ面6、第2逃げ面6に開口した油穴5、及びクロスシンニング7によるチゼルエッジ部8が形成されている。また、
図2及び
図3に示すように、切削部位1の外周方向に一対のねじれ溝9が形成され、先端切刃稜3の外周には、マージン部10が形成されている。
【0017】
基材として、超硬合金、サーメット、セラミックス、立方晶窒化硼素焼結体、ダイヤモンド焼結体、及び高速度鋼を挙げることができる。それらの中でも、基材が、超硬合金、サーメット、セラミックス及び立方晶窒化硼素焼結体からなる群より選ばれる1種以上であると、耐欠損性に一層優れるので、さらに好ましい。
【0018】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、被覆層全体の平均厚さが1.5μm以上であると、耐摩耗性が更に向上する傾向がある。一方、被覆層全体の平均厚さが15.0μm以下であると、耐欠損性が一層向上する傾向がある。そのため、被覆層全体の平均厚さは、1.5μm以上15.0μm以下であることが好ましい。その中でも、上記と同様の観点から、被覆層全体の平均厚さは2.0μm以上10.0μm以下であるとより好ましく、3.0μm以上9.0μm以下であるとさらに好ましい。
【0019】
本実施形態の被覆層は、組成の異なる2種又は3種以上の層を交互に積層した交互積層構造を有する。その交互積層構造における少なくとも1層は、以下に説明する特定の層(以下、「第1複合窒化物層」という。)を含む。本実施形態に係る第1複合窒化物層は、下記式(1):
(Al
1-xCr
x)N (1)
で表される組成を有する化合物を含有する。本実施形態の第1複合窒化物層において上記式(1)で表される組成を有する化合物は、立方晶、又は立方晶と六方晶とを含むと好ましい。なお、上記式(1)において、xはAl元素とCr元素との合計に対するCr元素の原子比を表し、0.10≦x≦0.60を満足する。前述のように、Cr元素の原子比xが0.10以上であることにより、耐摩耗性に優れ、Cr元素の原子比xが0.60以下であることにより、耐摩耗性及び耐欠損性に優れる。その中でも、xが0.15以上0.50以下であると、耐摩耗性と耐欠損性とのバランスにより優れるため好ましい。
【0020】
本実施形態の被覆層の交互積層構造における少なくとも1層は、以下に説明する特定の層(以下、「第2複合窒化物層」という。)を含む。本実施形態に係る第2複合窒化物層は、下記式(2):
(Ti
1-ySi
y)N (2)
で表される組成を有する化合物を含有する。本実施形態の第2複合窒化物層において上記式(2)で表される組成を有する化合物は、立方晶を含むと好ましい。yはTi元素とSi元素との合計に対するSi元素の原子比を示し、0.05≦y≦0.30を満足する。前述のように、Si元素の原子比yが0.05以上であることにより、耐摩耗性に優れ、Si元素の原子比yが0.30以下であることにより、耐摩耗性及び耐欠損性に優れる。その中でも、yが0.10以上0.25以下であると、耐摩耗性と密着性とのバランスにより優れるため好ましい。
【0021】
なお、本実施形態において、各複合窒化物層の組成を(Al
0.70Cr
0.30)Nと表記する場合は、Al元素とCr元素との合計に対するAl元素の原子比が0.70、Al元素とCr元素との合計に対するCr元素の原子比が0.30であることを意味する。すなわち、Al元素とCr元素との合計に対するAl元素の量が70原子%、Al元素とCr元素との合計に対するCr元素の量が30原子%であることを意味する。
【0022】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、第1複合窒化物層は、前記式(1)で表される組成を有する化合物を含有することにより、特にチゼルエッジ部の耐摩耗性に優れる。この要因は、摩擦摩耗係数が低下することに主に起因するものと考えられるが、この要因により本発明は何ら限定されない。一方、第2複合窒化物層は、前記式(2)で表される組成を有する化合物を含有することにより、特にマージン部の耐摩耗性に優れる。この要因は、高温での硬度が向上することに主に起因するものと考えられるが、この要因により本発明は何ら限定されない。したがって、第1複合窒化物層と第2複合窒化物層との交互積層構造を有すると、特にチゼルエッジ部とマージン部との耐摩耗性及び耐欠損性のバランスが向上する。
【0023】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、チゼルエッジ部における第1複合窒化物層のAl元素とCr元素との合計に対するCr元素の元素比C
Crと、マージン部における第1複合窒化物層のAl元素とCr元素との合計に対するCr元素の原子比M
crとは、下記式(A):
C
cr>M
cr (A)
で表される条件を満足する。前記式(A)で表される条件を満足することにより、チゼルエッジ部の耐摩耗性が向上し、マージン部の耐摩耗性が向上する。この要因は、C
cr>M
crであることにより、摩擦摩耗係数が低下することに主に起因して、チゼルエッジ部の耐摩耗性が向上し、またC
cr>M
crであることにより、マージン部の高温での硬度が向上することに主に起因して、マージン部の耐摩耗性が向上するものと考えられるが、この要因により本発明は何ら限定されない。
【0024】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、C
CrとM
Crとの差(C
Cr−M
Cr)は、下記式(B):
0.01≦C
Cr−M
Cr≦0.10 (B)
で表される条件を満足する。前記式(B)で表される条件を満足することにより、チゼルエッジ部及びマージン部の耐摩耗性がより一層向上する。この要因は、まず、(C
Cr−M
Cr)が0.01以上であることにより、摩擦摩耗係数が低下することに主に起因して、チゼルエッジ部の耐摩耗性が向上し、また(C
Cr−M
Cr)が0.01以上であることにより、マージン部の高温での硬度がより一層向上することに主に起因して、マージン部の耐摩耗性が向上するものと考えられるが、この要因により本発明は何ら限定されない。一方、C
CrとM
Crとの差(C
Cr−M
Cr)が0.10以下であると、耐摩耗性がより一層向上する。この要因は、(C
Cr−M
Cr)が0.10以下であることにより、耐摩耗性がより一層向上するものと考えられるが、この要因により本発明は何ら限定されない。同様の観点から、C
CrとM
Crとの差(C
Cr−M
Cr)は、下記式(C):
0.02≦C
Cr−M
Cr≦0.05 (C)
で表される条件を満足することが好ましい。
【0025】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、第1複合窒化物層及び第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さが、それぞれ70nm以上であると、被覆層の内部応力が高くなるのを抑えることができるため、耐欠損性が向上する。一方、第1複合窒化物層及び第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さが、それぞれ300nm以下であると、基材に向かって亀裂が進展するのを抑制する効果が得られるため、耐欠損性が向上する。同様の観点から、第1複合窒化物層及び第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さは、それぞれ100nm以上300nm以下であることが好ましく、150nm以上250nm以下であることがより好ましい。
【0026】
本実施形態において、第1複合窒化物層と、第2複合窒化物層とを1層ずつ形成した場
合、「繰り返し数」は1回であり、本実施形態の交互積層構造は、繰り返し数が1回であ
る形態も含む。
図4は本実施形態の被覆ドリルの断面組織の一例を示す模式図であるが、
以下、これを利用して繰り返し数について説明する。この被覆ドリル18は、基材11と
、基材11の表面に形成された被覆層17とを備える。被覆層17は、基材11側から順
に、後述の下部層12と、交互積層構造16と、後述の上部層15とを積層してなる。交
互積層構造16は、下部層12側から上部層15側に向かって順に、第1複合窒化物層1
3と、第2複合窒化物層14とを交互に積層してなり、第1複合窒化物層13及び第2複
合窒化物層14をそれぞれ4層ずつ有する。この場合、繰り返し数は、4回となる。また
、例えば、第1複合窒化物層13及び第2複合窒化物層層14を、下部層12側から上部
層15側に向かって順に、第1複合窒化物層13、第2複合窒化物層14、第1複合窒化
物層13、第2複合窒化物層14、第1複合窒化物層13、第2複合窒化物層14、第1
複合窒化物層13、第2複合窒化物層14、第1複合窒化物層13、第2複合窒化物層1
4と、第1複合窒化物層を5層、第2複合窒化物層を5層それぞれ形成した場合、繰り返
し数は、5回となる。また、図
4において、被覆層17は下部層12及び上部層15の両
方を備えるが、被覆層が下部層12及び上部層15のいずれかのみを備えてもよく、両方
備えていなくてもよい。
【0027】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、交互積層構造の平均厚さは、1.50μm以上であると耐摩耗性が一層向上し、12.00μm以下であると耐欠損性が一層向上する。そのため、交互積層構造の平均厚さは、1.50μm以上12.00μm以下であることが好ましい。その中でも、上記と同様の観点から、3.00μm以上9.00μm以下であるとより好ましい。
【0028】
本実施形態の被覆ドリルにおいて、第2複合窒化物層のX線回折における(200)面の半価幅は、0.4°以上であると、耐欠損性がより一層向上する。一方、第2複合窒化物層のX線回折における(200)面の半価幅は、1.0°以下であると、耐摩耗性がより一層向上する。これらの要因は、(200)面の半価幅が0.4°以上であると、第2複合窒化物層の粒径が微細であることに主に起因して、耐欠損性がより一層向上し、(200)面の半価幅が1.0°以下であると、格子ひずみが小さく、密着性に優れることに主に起因して、耐摩耗性がより一層向上するものと考えられるが、本発明はこれらの要因により何ら限定されない。そのため、(200)面の半価幅は、0.4°以上1.0°以下であることが好ましい。その中でも、上記と同様の観点から、半価幅は0.6°以上1.0°以下であることがより好ましく、0.7°以上1.0°以下であることがさらに好ましい。
【0029】
第2複合窒化物層のX線回折における(200)面の半価幅は、例えば、以下の測定条件によって測定することができる。
特性X線:CuKα線、モノクロメータ:Ni、発散スリット:1/2°散乱スリット:2/3°、受光スリット:0.15mm、サンプリング幅:0.01°
【0030】
本実施形態の被覆層は、各複合窒化物層の交互積層構造だけで構成されてもよいが、基材と交互積層構造との間(すなわち、交互積層構造の下層)に下部層を有すると、基材と交互積層構造との密着性が更に向上するため、好ましい。その中でも、下部層は、上記と同様の観点から、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、O及びBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと好ましく、Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、O及びBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むとより好ましく、Ti、Ta、Cr、W、Al、Si、及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物を含むとさらに好ましい。また、下部層は単層であってもよく2層以上の多層であってもよい。
【0031】
本実施形態において、下部層の平均厚さが0.1μm以上3.5μm以下であると、基材と被覆層との密着性が更に向上する傾向を示すため、好ましい。同様の観点から、下部層の平均厚さは、0.2μm以上3.0μm以下であるとより好ましく、0.3μm以上2.5μm以下であるとさらに好ましい。
【0032】
本実施形態の被覆層は、交互積層構造の基材とは反対側(すなわち、交互積層構造の上層)、好ましくは交互積層構造の表面、に上部層を有してもよい。上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、O及びBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと、耐摩耗性に一層優れるので、さらに好ましい。また、上記と同様の観点から、上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、O及びBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと好ましく、Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、O及びBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むとより好ましく、Ti、Nb、Ta、Cr、W、Al、Si、及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物を含むとさらに好ましい。また、上部層は単層であってもよく2層以上の多層であってもよい。
【0033】
本実施形態において、上部層の平均厚さが0.1μm以上3.5μm以下であると、耐摩耗性により優れる傾向を示すため好ましい。同様の観点から、上部層の平均厚さは、0.2μm以上3.0μm以下であるとより好ましく、0.3μm以上2.5μm以下であるとさらに好ましい。
【0034】
本実施形態の被覆ドリルにおける被覆層の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、スパッタ法、及びイオンミキシング法などの物理蒸着法が挙げられる。物理蒸着法を使用して、被覆層を形成すると、シャープエッジを形成することができるので好ましい。その中でも、アークイオンプレーティング法は、被覆層と基材との密着性に一層優れるので、より好ましい。
【0035】
本実施形態の被覆ドリルの製造方法について、以下に具体例を用いて説明する。なお、本実施形態の被覆ドリルの製造方法は、当該被覆ドリルの構成を達成し得る限り、特に制限されるものではない。
【0036】
まず、工具形状(ドリル形状)に加工した基材を物理蒸着装置の反応容器内に収容し、金属蒸発源を反応容器内に設置する。その後、反応容器内をその圧力が1.0×10
-2Pa以下の真空になるまで真空引きし、反応容器内のヒーターにより基材をその温度が200℃〜700℃になるまで加熱する。加熱後、反応容器内にArガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa〜5.0Paとする。圧力0.5Pa〜5.0PaのArガス雰囲気にて、基材に−500V〜−350Vのバイアス電圧を印加し、反応容器内のタングステンフィラメントに40A〜50Aの電流を流して、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を施す。基材の表面にイオンボンバードメント処理を施した後、反応容器内をその圧力が1.0×10
-2Pa以下の真空になるまで真空引きする。
【0037】
本実施形態の下部層を形成する場合、基材をその温度が400℃〜600℃になるまで加熱する。加熱後、反応容器内にガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa〜5.0Paとする。ガスとしては、例えば、下部層がTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物で構成される場合、N
2ガスが挙げられ、下部層がTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、N及びCとからなる化合物で構成される場合、N
2ガスとC
2H
2ガスとの混合ガスが挙げられる。混合ガスの体積比率としては、特に限定されないが、例えば、N
2ガス:C
2H
2ガス=95:5〜85:15であってもよい。次いで、基材に−80V〜−40Vのバイアス電圧を印加してアーク電流100A〜200Aのアーク放電により各層の金属成分に応じた金属蒸発源を蒸発させて下部層を形成するとよい。
【0038】
本実施形態の第1複合窒化物層を形成する場合、基材をその温度が400℃〜600℃になるように制御し、ガスを反応容器内に導入し、反応容器内の圧力を0.5〜5.0Paにする。ガスとしては、ArガスとN
2ガスとの混合ガスが挙げられ、混合ガスの体積比率としては、特に限定されないが、例えば、Arガス:N
2ガス=20:80〜80:20であってもよい。その後、基材に−80V〜−40Vのバイアス電圧を印加し、第1複合窒化物層の金属成分に応じた金属蒸発源を100A〜200Aとするアーク放電により蒸発させて、第1複合窒化物層を形成するとよい。
【0039】
本実施形態の被覆ドリルが前記式(A)で表される条件を満足するためには、C
Crを大きくすればよい。C
Crを大きくするためには、例えば、上記の反応容器内の圧力を小さくしたり、混合ガスにおけるArガスの体積比率を大きくしたりすればよい。また被覆ドリルのマージン部に対応する基材の部位を金属蒸発源に対向させて配置した状態で、第1複合窒化物層を形成することによっても、C
Crを大きくすることができる。この場合には、C
Crが大きくなるとともに、M
Crが小さくなる。
【0040】
本実施形態の第2複合窒化物層を形成する場合、基材をその温度が400℃〜600℃になるように制御する。なお、その基材の温度を、第1複合窒化物層を形成する際の基材の温度と同じにすると、第1複合窒化物層と第2複合窒化物層とを連続して形成することができるので好ましい。温度を制御した後、反応容器内に、第1複合窒化物層を形成する際の混合ガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa〜5.0Paとする。次いで、基材に−80V〜−40Vのバイアス電圧を印加し、アーク電流100A〜200Aのアーク放電により第2複合窒化物層の金属成分に応じた金属蒸発源を蒸発させて、第2複合窒化物層を形成するとよい。
【0041】
第1複合窒化物層と第2複合窒化物層との交互積層構造を形成するには、2種類以上の金属蒸発源を上述した条件にて、交互にアーク放電により蒸発させることによって、各複合窒化物層を交互に形成するとよい。金属蒸発源のアーク放電時間をそれぞれ調整することによって、交互積層構造を構成する各複合窒化物層の厚さを制御することができる。
【0042】
本実施形態の第2複合窒化物層におけるX線回折における(200)面の半価幅を所定の値にするには、交互積層構造を形成する時に、成膜温度を調整したり、バイアス電圧を調整したり、積層間隔を調整したりするとよい。より具体的には、より低い成膜温度にしたり、より高い負のバイアス電圧を印加したり、積層間隔を厚くしたりすると、(200)面の半価幅の値は、大きくなる。
【0043】
本実施形態の上部層を形成する場合、上述した下部層と同様の製造条件により形成するとよい。すなわち、まず、基材をその温度が400℃〜600℃になるまで加熱する。加熱後、反応容器内にガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa〜5.0Paとする。ガスとしては、例えば、上部層がTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物で構成される場合、N
2ガスが挙げられ、上部層がTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、Si及びYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、N及びCとからなる化合物で構成される場合、N
2ガスとC
2H
2ガスとの混合ガスが挙げられる。混合ガスの体積比率としては、特に限定されないが、例えば、N
2ガス:C
2H
2ガス=95:5〜85:15であってもよい。次いで、基材に−80V〜−40Vのバイアス電圧を印加してアーク電流100A〜200Aのアーク放電により各層の金属成分に応じた金属蒸発源を蒸発させて、上部層を形成するとよい。
【0044】
本実施形態の被覆ドリルにおける被覆層を構成する各層の厚さは、被覆ドリルの断面組織から、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)などを用いて測定することができる。なお、本実施形態の被覆ドリルにおける各層の平均厚さは、チゼルエッジ部における3箇所以上の断面から各層の厚さを測定して、その平均値(相加平均値)を計算することで求めることができる。
【0045】
また、本実施形態の被覆ドリルにおける被覆層を構成する各層の組成は、本実施形態の被覆ドリルの断面組織から、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)や波長分散型X線分析装置(WDS)などを用いて測定することができる。
【0046】
本実施形態の被覆ドリルは、耐摩耗性及び耐欠損性に優れていることに起因して、従来よりも工具寿命を延長できるという効果を奏すると考えられる(ただし、工具寿命を延長できる要因は上記に限定されない)。
【実施例】
【0047】
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0048】
(実施例1)
基材として、DMP120のインサート形状(株式会社タンガロイ製)に加工し、89.6%WC−9.8%Co−0.6%Cr
3C
2(以上質量%)の組成を有する超硬合金を用意した。アークイオンプレーティング装置の反応容器内に、表1及び表2に示す各層の組成になるように金属蒸発源を発明品1〜32、比較品1、2、5〜7、及び9〜11については被覆ドリルとする際のマージン部に対応する基材の部位が対向するように配置した。一方、比較品3、4、8、及び12については表1及び表2に示す各層の組成になるように金属蒸発源を被覆ドリルとする際のチゼルエッジ部に対応する部位が対向するように配置した。用意した基材を、反応容器内の回転テーブルの固定金具に固定した。
【0049】
その後、反応容器内をその圧力が5.0×10
-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。真空引き後、反応容器内のヒーターにより、基材をその温度が450℃になるまで加熱した。加熱後、反応容器内にその圧力が2.7PaになるようにArガスを導入した。
【0050】
圧力2.7PaのArガス雰囲気にて、基材に−400Vのバイアス電圧を印加して、反応容器内のタングステンフィラメントに40Aの電流を流して、基材の表面に、Arガスによるイオンボンバードメント処理を30分間施した。イオンボンバードメント処理終了後、反応容器内をその圧力が5.0×10
-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。
【0051】
発明品1〜32については、真空引き後、基材をその温度が表3に示す成膜温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、アルゴンガス(Ar)及び窒素ガス(N
2)を表3に示す体積比で反応容器内に導入し、反応容器内を表3に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、基材に表3に示すバイアス電圧を印加して、表1に示す組成の第1複合窒化物層と第2複合窒化物層の金属蒸発源を交互に、表3に示す電流(アーク電流)のアーク放電により蒸発させて、基材の表面に第1複合窒化物層と第2複合窒化物層とを交互に形成した。このとき表3に示す反応容器内のガス条件と圧力になるよう制御した。また、第1複合窒化物層の厚さと第2複合窒化物層の厚さは、表1に示す厚さとなるように、それぞれのアーク放電時間を調整して制御した。
【0052】
比較品1及び2については、真空引き後、基材をその温度が表4に示す成膜温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、アルゴンガス(Ar)及び窒素ガス(N
2)を表4に示す体積比で反応容器内に導入し、反応容器内を表4に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、基材に表4に示すバイアス電圧を印加して、表4に示すアーク電流のアーク放電により表2に示す組成の金属蒸発源を蒸発させて、基材の表面に表2に示す厚さを有する単層(A層又はB層)を形成した。
【0053】
比較品3〜12については、真空引き後、基材をその温度が表4に示す成膜温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、アルゴンガス(Ar)及び窒素ガス(N
2)を表4に示す体積比で反応容器内に導入し、反応容器内を表4に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、基材に表4に示すバイアス電圧を印加して、表2に示す組成のA層とB層の金属蒸発源を交互に、表4に示す電流(アーク電流)のアーク放電により蒸発させて、基材の表面にA層とB層とを交互に形成した。このとき表4に示す反応容器内のガス条件と圧力になるよう制御した。また、A層の厚さとB層の厚さは、表2に示す厚さとなるように、それぞれのアーク放電時間を調整して制御した。
【0054】
基材の表面に表1及び表2に示す所定の平均厚さまで各層を形成した後に、ヒーターの電源を切り、試料温度が100℃以下になった後で、反応容器内から試料を取り出した。
【0055】
【表1】
【0056】
【表2】
*「A層」及び「B層」の欄における、「−」とは、それぞれの層が形成されていないことを意味する。
【0057】
【表3】
【0058】
【表4】
【0059】
得られた試料の各層の平均厚さは、被覆ドリルのチゼルエッジ部において、3箇所の断面をTEM観察し、各層の厚さを測定し、その平均値(相加平均値)を計算することで求めた。それらの結果も、表1及び表2に併せて示す。
【0060】
得られた試料の各層の組成は、被覆ドリルのチゼルエッジ部において、TEMに付属するEDSを用いて測定した。それらの結果も、表1及び表2に併せて示す。なお、表1及び表2の各層の金属元素の組成比は、各層を構成する金属化合物における金属元素全体に対する各金属元素の原子比を示す。
【0061】
さらに得られた試料の第1複合窒化物層又はA層について、被覆ドリルのチゼルエッジ部及びマージン部の各断面において、TEMに付属するEDSを用いて測定し、得られた測定値に基づいて、C
Cr及びM
crを算出した。測定結果を表5及び表6に示す。
【0062】
【表5】
【0063】
【表6】
【0064】
得られた試料の第2複合窒化物層又はB層における(200)面の半価幅は、以下の測定条件によって測定した。その結果を、表7及び表8に示す。
特性X線:CuKα線、モノクロメータ:Ni、発散スリット:1/2°散乱スリット:2/3°、受光スリット:0.15mm、サンプリング幅:0.01°
【0065】
【表7】
【0066】
【表8】
【0067】
得られた試料を用いて、以下の切削試験を行い、評価した。
【0068】
[切削試験]
被削材:S55C(200HB)、
被削材形状:150mm×200mm×40mmの直方体ブロック、
加工形態:止まり穴、
切削速度:110m/min、
1回転当たりの送り量:0.27mm/rev、
クーラント:水溶性(内部給油方式)、
評価項目:チゼルエッジが欠損(チゼルエッジに欠けが生じる)したとき(表中、「欠損」と記載)、マージン部に送りマークが生じたとき、又は逃げ面摩耗が0.3mmに至ったとき(表中、「正常摩耗」と記載)を工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工長さを測定した。
【0069】
なお、切削試験の工具寿命に至るまでの加工長さについて、100m以上を「A」、60m以上100m未満を「B」、60m未満を「C」として評価した。この評価では、「A」が最も優れ、その次に「B」が優れ、「C」が最も劣っていることを意味し、「A」又は「B」の評価を多く有するほど切削性能に優れることを意味する。具体的には、加工長さが長いことは、耐欠損性及び耐摩耗性に優れていることを意味する。得られた評価の結果を表9及び表10に示す。
【0070】
【表9】
【0071】
【表10】
【0072】
表9及び表10に示す結果より、発明品の切削試験の評価はいずれも「A」又は「B」の評価であり、比較品の評価は、すべて「C」であった。
【0073】
以上の結果より、耐摩耗性及び耐欠損性を向上させたことにより、発明品の工具寿命が長くなっていることが分かる。
【0074】
(実施例2)
基材として、DMP120のインサート形状(株式会社タンガロイ製)に加工し、89.6%WC−9.8%Co−0.6%Cr
3C
2(以上質量%)の組成を有する超硬合金を用意した。アークイオンプレーティング装置の反応容器内に、表11に示す各層の組成になるように金属蒸発源を被覆ドリルとする際のマージン部に対応する基材の部位が対向するように配置した。用意した基材を、反応容器内の回転テーブルの固定金具に固定した。
【0075】
その後、反応容器内をその圧力が5.0×10
-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。真空引き後、反応容器内のヒーターにより、基材をその温度が450℃になるまで加熱した。加熱後、反応容器内にその圧力が2.7PaになるようにArガスを導入した。
【0076】
圧力2.7PaのArガス雰囲気にて、基材に−400Vのバイアス電圧を印加して、反応容器内のタングステンフィラメントに40Aの電流を流して、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を30分間施した。イオンボンバードメント処理終了後、反応容器内をその圧力が5.0×10
-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。
【0077】
発明品33、34、36〜46については、真空引き後、基材をその温度が表12に示す温度(成膜開始時の温度)になるまで加熱し、反応容器内の圧力が3.0Paになるようにガスを反応容器内に導入した。ここで、発明品33、34、36〜41、及び43〜46については、ガスとしてN
2ガスを導入し、発明品42については、ガスとしてN
2ガスとC
2H
2ガスとの混合ガスを90:10の体積比率で混合して導入した。その後、基材に表12に示すバイアス電圧を印加して、表12に示すアーク電流のアーク放電により表11に示す組成の金属蒸発源を蒸発させて、下部層を形成した。
【0078】
次いで、発明品33〜35については、発明品1の交互積層構造の製造条件と同様にし、発明品36〜38については、発明品11の交互積層構造の製造条件と同様にし、発明品39〜42については、発明品23の交互積層構造の製造条件と同様にし、発明品43〜46については、発明品25の交互積層構造の製造条件と同様にし、下部層又は基材の表面に第1複合窒化物層と第2複合窒化物層とを交互に形成した。
なお、表11中の各発明品33〜46の交互積層構造に記載された試料番号は、各発明品33〜46の交互積層構造と、該当する試料番号の交互積層構造が同一であることを意味する。例えば、発明品33の交互積層構造は、発明品1の交互積層構造と同一である。
【0079】
次いで、発明品34〜36、及び38〜46については、真空引き後、基材をその温度が表12に示す温度(成膜開始時の温度)になるまで加熱し、反応容器内の圧力が表12に示す圧力になるようにガスを反応容器内に導入した。ここで、発明品34〜36、38、及び40〜46については、ガスとしてN
2ガスを導入し、発明品39については、ガスとしてN
2ガスとC
2H
2ガスとの混合ガスを90:10の体積比率で混合して導入した。その後、基材に表12に示すバイアス電圧を印加して、表12に示すアーク電流のアーク放電により表11に示す組成の金属蒸発源を蒸発させて、上部層を形成した。
【0080】
基材の表面に表11に示す所定の平均厚さまで各層を形成した後に、ヒーターの電源を切り、試料温度が100℃以下になった後で、反応容器内から試料を取り出した。
【0081】
【表11】
*「下部層」及び「上部層」の欄における、「−」とは、下部層又は上部層が形成されていないことを意味する。
【0082】
【表12】
【0083】
得られた試料の各層の平均厚さは、被覆ドリルのチゼルエッジ部において、3箇所の断
面をTEM観察し、各層の厚さを測定し、その平均値(相加平均値)を計算することで求
めた。この結果も、表
11に併せて示す。
【0084】
得られた試料の下部層及び上部層の組成は、被覆ドリルのチゼルエッジ部の断面において、TEMに付属するEDSを用いて測定した。この結果も、表11に併せて示す。なお、表11の各層の金属元素の組成比は、各層を構成する金属化合物における金属元素全体に対する各金属元素の原子比を示す。
【0085】
各発明品33〜46の第1複合窒化物層におけるM
crとC
crとの関係、第2複合窒化物層における(200)面の半価幅(°)、及び交互積層構造の平均厚さは、対応する交互積層構造に記載された試料番号の交互積層構造の特性と同じであった。
【0086】
得られた試料を用いて、実施例1と同じ切削試験を行い、評価した。切削試験の工具寿命に至るまでの加工長について、100m以上を「A」、60m以上100m未満をB、60m未満を「C」として評価した。この評価では、「A」が最も優れ、その次に「B」が優れ、「C」が最も劣っていることを意味し、「A」又は「B」の評価を多く有するほど切削性能に優れることを意味する。具体的には、加工長が長いことは、耐欠損性及び耐摩耗性に優れていることを意味する。得られた評価の結果を表13に示す。
【0087】
【表13】
【0088】
表13に示す結果より、切削試験の評価はいずれも「A」の評価であった。
【0089】
したがって、発明品は、上部層及び/又は下部層を有したとしても、耐摩耗性及び耐欠損性に優れ、工具寿命が長くなっていることが分かる。