特許6656260基板を処理するためにイオンビーム電流を制御する装置及び方法並びにイオン注入機

発明の名称　基板を処理するためにイオンビーム電流を制御する装置及び方法並びにイオン注入機

出願人　ヴァリアン　セミコンダクター　イクイップメント　アソシエイツ　インコーポレイテッド　（識別番号 500239188）

　　　　特許公開件数ランキング 31602 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25652 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6656260

公報発行日　2020年3月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6656260

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