特許6657355ルテニウム／レニウムを含むスパッタリングターゲット、ルテニウム／レニウムを含む層およびその製法

発明の名称　ルテニウム／レニウムを含むスパッタリングターゲット、ルテニウム／レニウムを含む層およびその製法

出願人　光洋應用材料科技股▲分▼有限公司　（識別番号 502294194）

　　　　特許公開件数ランキング 13870 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 3848 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6657355

公報発行日　2020年3月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6657355

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