特許6665105原子層堆積装置およびその装置を使用した基板処理方法

発明の名称　原子層堆積装置およびその装置を使用した基板処理方法

出願人　エーエスエム　インターナショナル　エヌ．　ヴェー．　（識別番号 510283650）

　　　　特許公開件数ランキング 30447 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 24615 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6665105

公報発行日　2020年3月13

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6665105

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