(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6666977
(24)【登録日】2020年2月26日
(45)【発行日】2020年3月18日
(54)【発明の名称】石をセッティングする方法
(51)【国際特許分類】
A44C 27/00 20060101AFI20200309BHJP
【FI】
A44C27/00
【請求項の数】10
【全頁数】9
(21)【出願番号】特願2018-201537(P2018-201537)
(22)【出願日】2018年10月26日
(65)【公開番号】特開2019-84350(P2019-84350A)
(43)【公開日】2019年6月6日
【審査請求日】2018年10月26日
(31)【優先権主張番号】17200365.9
(32)【優先日】2017年11月7日
(33)【優先権主張国】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】506425538
【氏名又は名称】ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100098394
【弁理士】
【氏名又は名称】山川 茂樹
(74)【代理人】
【識別番号】100064621
【弁理士】
【氏名又は名称】山川 政樹
(72)【発明者】
【氏名】ブルバン,ステュース
(72)【発明者】
【氏名】グロッセンバッハー,パスカル
(72)【発明者】
【氏名】マルタン,ジャン−クロード
(72)【発明者】
【氏名】スパソフ,ヴラディスラフ
(72)【発明者】
【氏名】バロン,セシル
(72)【発明者】
【氏名】ブラゼル,リオネル
(72)【発明者】
【氏名】カロ,ヤン
(72)【発明者】
【氏名】ジェルネ,シリル
(72)【発明者】
【氏名】ローペル,ステファーヌ
(72)【発明者】
【氏名】オーデ,アフマド
(72)【発明者】
【氏名】シュプリンガー,ジーモン
【審査官】
高田 基史
(56)【参考文献】
【文献】
特開平07−289323(JP,A)
【文献】
特開2008−099912(JP,A)
【文献】
特開平06−240487(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
A44C 1/00−3/00
A44C 7/00−27/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
テーブル(3)、クラウン(4)、ガードル(5)及びパビリオン(6)があるようにカットされた石(1)をマウンティング(2)に組み付けてアセンブリーを作る方法であって、
(a)ホットメルト接着層(10)を有する基材(8)を用意するステップと、
(b)前記基材(8)の前記ホットメルト接着層(10)上に前記石(1)を配置するステップと、
(c)前記ホットメルト接着層(10)を加熱するステップと、
(d)前記石(1)のクラウン(4)の一部又はパビリオン(6)の一部が、前記石(1)の残りを露出させるように、十分に柔らかくなった前記ホットメルト接着層(10)内に沈めることができるように、前記石(1)に圧力を与えるステップと、
(e)セッティングシート(12)と前記石(1)の間に周部自由空間(16)を形成するように、少なくとも前記ガードル(5)のレベル及び前記ガードル(5)に隣接しているクラウン(4)とパビリオン(6)の領域(4a、6a)のレベルにて、前記ホットメルト接着層(10)の上の前記石(1)のまわりに前記セッティングシート(12)を配置するステップと、
(f)前記ガードル(5)を金属性層(22)内にトラップするように、少なくとも前記ガードル(5)のレベル及び前記ガードル(5)に隣接しているクラウン(4)とパビリオン(6)の領域(4a、6a)のレベルにて、前記周部自由空間(16)に直流電気成長によって前記セッティングシート(12)から前記金属性層(22)を堆積させて、前記金属性層(22)と前記セッティングシート(12)が前記マウンティング(2)を形成するステップと、及び
(g)前記基材(8)から前記石(1)とそのマウンティング(2)を解放するステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項2】
前記ガードル(5)に隣接しているパビリオン(6)の領域(6a)及び前記ガードル(5)に隣接しているクラウン(4)の領域(4a)は、前記ガードル(5)の両側にて直接の近傍のみに延在しており、これによって、前記金属性層(22)は、実質的に前記ガードル(5)のまわりにのみ前記石(1)と前記セッティングシート(12)の間に形成される
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記セッティングシート(12)は、ニッケル、金、銀、白金、パラジウム、銅、黄銅及びこれらの合金からなる群から選ばれた金属性材料で作られている
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
【請求項4】
前記ステップ(e)は、前記ホットメルト接着層(10)と前記セッティングシート(12)の間に下側絶縁層(18)を配置し、前記セッティングシート(12)の自由表面上に上側絶縁層(20)を配置することを伴う
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
【請求項5】
前記ステップ(f)において堆積された金属性層(22)は、ニッケル、金、銀、白金、ロジウム、パラジウム、銅及びこれらの合金からなる群から選ばれた材料で作られている
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
【請求項6】
前記基材(8)は、ガラス、セラミックス、ケイ素、金属、高分子及び石英からなる群から選ばれた材料をベースとしている
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
【請求項7】
前記ホットメルト接着層(10)は、可溶性接着剤の層である
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
【請求項8】
前記解放するステップ(g)は、前記ホットメルト接着層(10)を溶かすことによって行う
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
【請求項9】
プレートの形態のマウンティング(2)を形成するように前記ホットメルト接着層(10)上に複数の石(1)が配置されており、このプレートには、複数の石(1)が組み付けられている
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
【請求項10】
計時器又は装飾品の要素に石(1)をセッティングしてアセンブリーを作る方法であって、
請求項1〜9に記載の方法によって作られたアセンブリーを、計時器又は装飾品の要素に固定されるベゼルに取り付け、又は計時器又は装飾品の要素に直接取り付ける
ことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、テーブル、クラウン、ガードル及びパビリオンがあるようにカットされた石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法に関する。本発明は、さらに、前記方法によって作られた石とそのマウンティングを計時器又は装飾品の要素にセッティングする方法に関する。
【背景技術】
【0002】
爪、ビード又はレールを用いて貴石、準貴石又は合成石をセッティングする方法が知られている。爪を用いて天然石をベゼルにマウントすることによる伝統的なセッティングには、通常、石のカットの寸法精度が約5/100であることが必要となる。したがって、このタイプのセッティングは、約1/100の高り精度でカットされた人工ダイヤモンド、ジルコン及びルビーのような石が用いられるような連続的に生産される廉価な石のセッティングとは互換性がない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本発明の目的は、ダイヤモンドのような天然石が用いられる場合に発生する避けられない寸法的なばらつきを許容できるような石をセッティングする方法を提案することによって、前記課題を解決することである。
【課題を解決するための手段】
【0004】
このために、本発明は、まず、テーブル、クラウン、ガードル及びパビリオンがあるようにカットされた石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法に関し、この方法は、
(a)ホットメルト接着層を有する基材を用意するステップと、
(b)前記基材の前記ホットメルト接着層上に前記石を配置するステップと、
(c)前記ホットメルト接着層を加熱するステップと、
(d)前記石のクラウンの一部又はパビリオンの一部が、前記石の残りを露出させるように、すなわち、クラウンの残り、ガードル及びパビリオン、又はパビリオンの残り、ガードル及びクラウンのいずれかが露出されるように、十分に柔らかくなった前記ホットメルト接着層内に沈めることができるように、前記石に圧力を与えるステップと、
(e)当該セッティングシートと前記石の間に周部自由空間を形成するように、少なくとも前記ガードルのレベル及び前記ガードルに隣接しているクラウンとパビリオンの領域のレベルにて、前記ホットメルト接着層の上の前記石のまわりにセッティングシートを配置するステップと、
(f)前記ガードルを当該金属性層内にトラップするように、少なくとも前記ガードルのレベル及び前記ガードルに隣接しているクラウンとパビリオンの領域のレベルにて、前記周部自由空間に直流電気成長によって前記セッティングシートから金属性層を堆積させて、前記金属性層と前記セッティングシートが前記マウンティングを形成するステップと、及び
(g)前記基材から前記石とそのマウンティングを解放するステップと
を有する。
【0005】
本発明の方法に従うホットメルト接着剤層を用いる石の配置によって、石を受ける前に予め適切な大きさのハウジングを作ることが不要になる。したがって、本発明に係る方法によって、石の寸法的なばらつきを許容することができる。
【0006】
本発明は、さらに、計時器又は装飾品の要素に石をセッティングしてアセンブリーを作る方法に関する。この方法は、前記方法によって作られた石とそのマウンティングを、計時器又は装飾品の要素に固定されるベゼルに取り付け、又は計時器又は装飾品の要素に直接取り付ける。
【0007】
本発明は、さらに、前記方法によって作られた、マウンティングに組み付けられた石を少なくとも1つ有する計時器又は装飾品の要素に関する。
【0008】
添付の図面を参照しながら下にて与えられる例示的な説明を読むことで、他の特徴や利点が明確にわかるようになるであろう。なお、かかる説明にはまったく限定されない。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【
図1】本発明に係る石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法の順次的なステップの1つを示している。
【
図2】本発明に係る石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法の順次的なステップの1つを示している。
【
図3】本発明に係る石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法の順次的なステップの1つを示している。
【
図4】本発明に係る石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法の順次的なステップの1つを示している。
【
図5】本発明に係る石をマウンティングに組み付けてアセンブリーを作る方法の順次的なステップの1つを示している。
【発明を実施するための形態】
【0010】
図1〜5を参照する。本発明は、テーブル3、クラウン4、ガードル5及びパビリオン6があるようにカットされた石1をマウンティング2に組み付けてアセンブリーを作る方法に関する。このような石は、好ましくは、寸法が1つ1つ変わっていることがあるようなダイヤモンドやエメラルドのような天然起源の石である。もちろん、天然石か合成石かどうかにかかわらず、前記石は他の種類であることができる。本発明に係る方法は、このような石に対しても同等に有利な方法として用いることができる。
【0011】
本発明に係る石1をマウンティング2に組み付けてアセンブリーを作る方法の第1のステップ(a)は、ホットメルト接着層10を有する基材8を用意することを伴う。
【0012】
好ましくは、基材8は、プレートの形態であり、ガラス、セラミックス、高分子、金属、ケイ素、石英又は他の適切な平坦な面がある支持体をベースとしている。好ましいことに、基材8はガラスプレートである。
【0013】
ホットメルト接着層10は、好ましくは、高温の水や溶媒内にて溶ける接着層であり、例えば、Crystalbond(商標)やWafer-Mount(商標)の接着剤、又は他のいずれかの同様な適切なマウンティング製品である。
【0014】
本発明に係る石1をマウンティング2に組み付けてアセンブリーを作る方法の第2のステップ(b)は、基材8のホットメルト接着層10上に石1を配置することを伴う。有利であり、特に望ましい方法において、
図1に示しているように、石1は、そのテーブル3が接着層10と接触するように配置される。この方法でいくつかの石を基材上に配置することができる。石の配置を、所望の最終形状、例えば、特異パターン、に対応させることができる。
【0015】
本発明のアセンブリーを作る方法の第3のステップ(c)は、少なくとも石1をホットメルト接着層10内に沈めることができるように十分に柔らかくするようにホットメルト接着層10を加熱することを伴う。
【0016】
本発明の組み付け方法の第4のステップ(d)は、ここに示している変種によれば、石1のクラウン4の一部のみを十分に柔らかくなったホットメルト接着層10内に沈めることができるように、石1に圧力をかけることを伴う。これによって、
図2に示しているように、クラウン4、ガードル5及びパビリオン6の残りが露出され続ける。好ましくは、石1は、そのテーブル3が基材8と接触するまで沈められ、これによって、テーブル3が平坦であることが確実になる。
【0017】
もちろん、ステップ(b)とステップ(c)の順序は逆であることができる。ステップ(b)は、好ましくは、ステップ(c)の後に実行することができる。特に、十分に柔らかくされたホットメルト接着層内に部分的に沈められるのがパビリオン6であって石の残りが露出されたままとなるように石1が配置され、これによって、パビリオン6、ガードル5及びクラウン4の残りが露出され続ける。
【0018】
ホットメルト接着層10の深さは、クラウン4(又は用いられる変種に依存してパビリオン6)が実際上ホットメルト接着層10内に完全に沈められ、基材8と接触し、小さな厚みeを有するクラウン4(又はパビリオン6の)の一部のみ(
図2を参照)がガードル5の下で露出されたままとなるように、選ばれる。この部分には、下で定められるように、ガードル5に隣接しているクラウン4の領域4a(又はパビリオン6の領域6a)がある。
【0019】
得られたアセンブリーは、冷却のために放置されて、接着層10が固化して、基材8に適切なハウジングを形成することを必要とせずに、基材8上に石1を保持する。
【0020】
本発明の方法は、ステップ(e)に続く。このステップ(e)は、セッティングシート12を(冷却され固化された)接着層10の上に配置し、このセッティングシート12は、石のまわりにてカットされて、少なくともガードル5のレベル及びクラウン4の領域4aとパビリオン6の領域6bのレベルにて、セッティングシート12の部分14と前記石1の間に周部自由空間16を形成する。領域4a及び6aは、ガードル5に隣接している領域である。
【0021】
セッティングシート12は、導電材料で作られており、これは、例えば、ニッケル、金、銀、白金、パラジウム、銅、黄銅及びこれらの合金からなる群から選ばれた金属性材料である。したがって、周部自由空間16の限界は、セッティングシート12の部分14の導電性面によって定められる。
【0022】
図3に示しているように、ステップ(e)は、さらに、接着層10とセッティングシート12の間に下側絶縁層18を配置し、セッティングシート12の自由表面上に上側絶縁層20を配置することを伴う。これらの絶縁層18及び20は、石1のまわりにて切り取られ、セッティングシート12を挟んでいる。これらの絶縁層18及び20は、例えば、高分子、樹脂、ラッカーのような有機材料のシートの形態であることができ、あるいは、例えば、SiO
2、Al
2O
3、TiO
2、AlN、Si
3N
4などの薄い誘電体層のPVD(物理的蒸着)、ALD(原子層堆積)、CVD(化学的蒸着)又は他の同様な堆積の方法によって作られる。
【0023】
次に、本発明の方法のステップ(f)は、少なくともガードル5のレベル及びガードル5に隣接しているクラウン4とパビリオン6の領域4a及び6aのレベルにおいて、セッティングシート12の部分14から前記周部自由空間16に直流電気成長によって金属性層22を堆積させることを伴う。これによって、
図4に示しているように、前記金属性層22の前記ガードル5をトラップする。石1のガードル5が金属性層22内にトラップされるので、石1は、セッティングシート12と一体化されており、セッティングシート12の続きにある金属性層22がシートと組み合わさって前記マウンティング2を形成する。
【0024】
好ましくは、ガードル5に隣接しているパビリオン6の領域6a及びガードル5に隣接しているクラウン4の領域4aは、露出されたままのクラウンの部分の厚みeよりも小さな厚みにわたって、ガードル5の両側にて直接の近傍にのみ延在しており、これによって、前記金属性層22を、石1とセッティングシート12の間の実質的にガードルのまわりにのみ、すなわち、ガードル5のレベルであって前記ガードル5の両側にて直接の近傍にのみ、形成する。
【0025】
金属性層22は、好ましくは、ニッケル、金、銀、白金、ロジウム、パラジウム、銅及びこれらの合金からなる群から選ばれた材料で作られる。
【0026】
電鋳の条件、特に、槽の組成、システムの幾何学的構成、電圧と電流密度は、電鋳の分野において周知な技術にしたがって、電鋳される金属や合金それぞれに対して選ばれる(例えば、文献、Di Bari G.A., "Electroforming", Electroplating Engineering Handbook 4th Edition, L.J. Durney編集, Van Nostrand Reinhold Company Inc., N.Y. USA 1984年出版を参照)。
【0027】
次のステップ(g)は、マウンティング2に組み付けられた石1を基材8から解放することを伴う。このステップ(g)は、例えば、ホットメルト接着層10を有機溶媒に溶かすことによって行われる。絶縁層は、機械的な剥離、有機溶媒への溶解、又は化学薬剤による侵食(エッチング)によって取り除かれる。
【0028】
結果として、
図5に示しているように、石1がそのマウンティング2に組み付けられる。
【0029】
ステップ(b)において、複数の石1がホットメルト接着層10上に配置されると、結果として、組み付けられた複数の石1を有するプレートの形態のマウンティングが得られ、これらの石1がパターンを形成していることができる。
【0030】
もちろん、マウンティング2の寸法は、セッティングシート12の寸法によって定められる。特に、セッティングシート12の厚みは、好ましくは、金属性層22が、実質的に上記のようにガードル5の両側にて直接の近傍のみに延在しているガードル5のレベル及びクラウン4とパビリオン6の領域4a、6aのレベルにおいてのみ堆積され、これによって、
図5に示しているように、マウンティング2は、実質的にガードル5のまわりのみに位置する。マウンティング2は、ガードル5に隣接しているクラウン4とパビリオン6の領域4a及び6aの上にてわずかに延在するが、クラウン4及びパビリオン6のほとんどの部分は自由なままである。
【0031】
本発明に係る組み付け方法によって、石1の寸法的なばらつきに適応させることができ、これによって、石を受ける適切な寸法を有する異なるハウジングを予め形成することを必要とせずに、石をマウンティングに組み付けることができる。
【0032】
このようにして解放されると、このマウンティング2に組み付けられた石1を本発明に係るセッティング方法において用いることができる。
【0033】
計時器又は装飾品の要素上に前記石をセッティングしてアセンブリーを作る方法は、前記の組み付け方法にしたがって作られた石1とそのマウンティング2をベゼルに取り付けることを伴う。ベゼルは、計時器又は装飾品の要素に取り付けられる。
【0034】
別の変種において、上記の組み付け方法によって作られた石1とそのマウンティング2は、計時器又は装飾品の要素に直接取り付けられる。
【0035】
ベゼル38上にて又は直接計時器又は装飾品の要素上にて石1を支えるマウンティング2は、クリッピング、押し付け、セッティング又は他の方法によって取り付けることができる。
【0036】
計時器又は装飾品の要素は、例えば、表盤、ベゼル、回転式ベゼル、ケースミドル部、ケースのホーン、リュウズ、針、ポインター、リンク又は他の腕輪要素、ペンダント、リング、ネックレスなどの要素、いずれの内側又は外側のライニング要素、又はセッティングすることができるいずれの計時器又は装飾品の要素であることができる。
【符号の説明】
【0037】
1 石
2 マウンティング
3 テーブル
4 クラウン
5 ガードル
6 パビリオン
8 基材
10 ホットメルト接着層
12 セッティングシート
16 周部自由空間
18 下側絶縁層
20 上側絶縁層
22 金属性層