特許6670453化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び化合物又は樹脂の精製方法

発明の名称　化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び化合物又は樹脂の精製方法

出願人　三菱瓦斯化学株式会社　（識別番号 4466）

　　　　特許公開件数ランキング 490 位（58件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 190 位（151件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6670453

公報発行日　2020年3月25

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6670453

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