特許 6671122 印刷機

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6671122

(24)【登録日】2020年3月5日

(45)【発行日】2020年3月25日

(54)【発明の名称】印刷機

(51)【国際特許分類】

   B41F 17/10 20060101AFI20200316BHJP

   B41F 33/06 20060101ALI20200316BHJP

   B41F 15/08 20060101ALI20200316BHJP

   B41F 15/20 20060101ALI20200316BHJP

【ＦＩ】

   B41F17/10 H

   B41F33/06 S

   B41F15/08 301

   B41F15/20

【請求項の数】2

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2015-154957(P2015-154957)

(22)【出願日】2015年8月5日

(65)【公開番号】特開2017-30296(P2017-30296A)

(43)【公開日】2017年2月9日

【審査請求日】2018年8月2日

(73)【特許権者】

【識別番号】000184735

【氏名又は名称】株式会社小森コーポレーション

(74)【代理人】

【識別番号】100098394

【弁理士】

【氏名又は名称】山川 茂樹

(74)【代理人】

【識別番号】100064621

【弁理士】

【氏名又は名称】山川 政樹

(72)【発明者】

【氏名】松山 真也

【審査官】 亀田 宏之

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０２−０３９９０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭５５−１５１５６０（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開２０１１−１６１６６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１３／０２３９８３１（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ４１Ｆ １７／１０

Ｂ４１Ｆ １５／０８

Ｂ４１Ｆ １５／２０

Ｂ４１Ｆ ３３／０６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

供給された基材を上面に吸着保持するステージと、
前記上面に吸着保持された基材に、インキを転写してパターンを形成するパターン形成手段と、
前記上面に吸着保持された基材における端部の延在方向に沿って移動する移動部材と、
前記移動部材に回転可能に支持され、前記上面に吸着保持された基材の端部のみに転がり接触することにより、基材の端部を均す均しロールと、
前記均しロールの均し方向上流側に配置され、前記上面に吸着保持された基材の位置を検出する基材位置検出手段と、
前記基材位置検出手段によって検出された基材の位置に基づいて、前記上面に吸着保持された基材の見当が前記パターン形成手段に合うように、前記ステージの位置を調整するステージ位置調整手段とを備え、
前記基材位置検出手段は、前記均しロールの均し動作が行われると同時に、検出動作を行うように構成され、
基材に発生した変形が、均しロールによる１回の均し動作によって解消されない場合には、その変形が解消されるまで前記均し動作を行う
ことを特徴とする印刷機。

【請求項2】

請求項１に記載の印刷機において、
基材は、ウェブ状をなしており、その長手方向に沿って搬送され、
前記均しロールは、前記上面に吸着保持された基材の基材搬送方向左右両端部のみに転がり接触する
ことを特徴とする印刷機。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ウェブ状の基材にインキを転写して高精細なパターンの機能性膜（導電膜）を形成する印刷機に関する。

【背景技術】

【0002】

従来から、ウェブ状の基材にインキを転写してパターンを形成するようにした印刷機が、種々提供されている。そして、このような印刷機としては、例えば、特許文献１に開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１０−２３３９３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記従来の印刷機においては、ウェブ状の基材をステージの上面に向けて所定長ずつ繰り出しながら、そのステージの上面に吸着保持した基材に対して、印刷を行うようにしている。このとき、ウェブ状の基材は、繰出リールにおいてロール状に巻き付けられており、その繰出リールの回転によって、繰り出されると共に、張力が所定の大きさで付与されている。

【0005】

しかしながら、上述したように、ロール状に巻き付けられた基材を繰り出しながら、その基材に張力を付与すると、当該基材に変形が生じることがあり、特に、基材の左右両端部には、皺やかえりのような、波状の変形が発生し易くなる。このような変形は、基材の板厚が薄くなるに従って、顕著となっており、ウェブ状の基材に限らず、シート状の基材においても、不適切な断裁や保管状態によって、発生することがある。そして、このように、基材搬送時において、その左右両端部に変形が生じると、基材をステージの上面に適切に吸引保持することが困難となってしまい、印刷不良を招くおそれがある。

【0006】

従って、本発明は上記課題を解決するものであって、基材の搬送時においてその端部に発生した変形を、伸ばして均すことにより、印刷時における基材の吸引保持を確実に行って、印刷不良の発生を抑制することができる印刷機を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決する第１の発明に係る印刷機は、
供給された基材を上面に吸着保持するステージと、
前記上面に吸着保持された基材に、インキを転写してパターンを形成するパターン形成手段と、
前記上面に吸着保持された基材における端部の延在方向に沿って移動する移動部材と、 前記移動部材に回転可能に支持され、前記上面に吸着保持された基材の端部のみに転がり接触することにより、基材の端部を均す均しロールと、
前記均しロールの均し方向上流側に配置され、前記上面に吸着保持された基材の位置を検出する基材位置検出手段と、
前記基材位置検出手段によって検出された基材の位置に基づいて、前記上面に吸着保持された基材の見当が前記パターン形成手段に合うように、前記ステージの位置を調整するステージ位置調整手段とを備え、
前記基材位置検出手段は、前記均しロールの均し動作が行われると同時に、検出動作を行うように構成され、
基材に発生した変形が、均しロールによる１回の均し動作によって解消されない場合には、その変形が解消されるまで、前記均し動作を行う
ことを特徴とする。

【0009】

上記課題を解決する第２の発明に係る印刷機は、
基材は、ウェブ状をなしており、その長手方向に沿って搬送され、
前記均しロールは、前記上面に吸着保持された基材の基材搬送方向左右両端部のみに転
がり接触する
ことを特徴とする。

【発明の効果】

【0010】

従って、本発明に係る印刷機によれば、ステージの上面に吸着保持した基材の端部のみに対して、均しロールを転がり接触させて、その端部に発生した変形を伸ばして均した後、その変形が解消された基材に対して、インキを転写してパターンを形成することができる。これにより、印刷時における基材の吸引保持を確実に行うことができるので、印刷不良の発生を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】本発明の一実施例に係る印刷機の概略構成図である。

【図2】図１におけるII−II矢視断面図である。

【図3】図２におけるIII−III矢視断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明に係る印刷機について、図面を用いて詳細に説明する。

【実施例】

【0013】

先ず、図１に示した印刷機１は、ウェブ状の基材Ｗに対して、凹版印刷法を用いてインキを転写させることにより、高精細なパターンの機能性膜（導電膜）を形成することができる印刷機となっている。なお、被印刷材となる基材Ｗは、例えば、比較的薄板となるステンレス鋼板となっている。

【0014】

そこで、図１に示すように、印刷機１には、繰出リール１１及び巻取リール１２が回転可能に支持されており、基材Ｗは、繰出リール１１から巻取リール１２に向けて搬送される途中で、印刷が施される。即ち、繰出リール１１は、ロール状に巻き付けられた基材Ｗを、巻取リール１２に向けて繰り出し可能となっている。一方、巻取リール１２は、繰出リール１１から繰り出された基材Ｗをロール状に巻き取り可能となっている。

【0015】

また、繰出リール１１と巻取リール１２との間における基材搬送経路の途中部分には、複数のガイドロール１３、吸引ロール１４、及び、バッファロール１５が、基材搬送方向上流側から下流側に向けて順に配置されると共に、回転可能に支持されている。

【0016】

このうち、吸引ロール１４は中空状をなしており、その中空部には、吸引ポンプ１６が接続されている。そして、吸引ロール１４の外周面には、複数の吸引孔が開口されており、これらの吸引孔は、中空部と連通している。更に、バッファロール１５は、基材Ｗが吸引ロール１４との間において弛むように、当該基材Ｗを支持しながら案内するものとなっている。

【0017】

つまり、繰出リール１１から繰り出された基材Ｗは、ガイドロール１３、吸引ロール１４、及び、バッファロール１５に案内された後、巻取ロール１２に巻き取られる。このとき、吸引ポンプ１６を駆動させることにより、吸引ロール１４の吸引孔から空気を吸引することができるので、搬送される基材Ｗの裏面（被印刷面となる表面の反対側の面）を、その吸引ロール１４の外周面に密着させることができる。

【0018】

これにより、吸引ロール１４が基材Ｗを吸引しながら回転駆動すると、基材Ｗに対して、搬送方向下流側に向けた張力が作用することになる。よって、このように張力が付与された基材Ｗは、繰出リール１１と吸引ロール１４との間において、弛むこと無く、搬送される。

【0019】

更に、複数のガイドロール１３のうち、基材搬送方向最下流側に位置するガイドロール１３と、吸引ロール１４との間には、支持台２１が設けられている。この支持台２１の上面には、基材搬送方向左右一対のガイドレール２２が、基材搬送方向に延設されている。そして、その対をなすガイドレール２２間における中央部には、見当調整装置（ステージ位置調整手段）２３が設けられており、この見当調整装置２３の上面には、ステージ２４が設けられている。このとき、見当調整装置２３及びステージ２４は、基材搬送経路（基材Ｗのパスライン）よりも下方に配置されている。

【0020】

ステージ２４は中空状をなしており、その中空部には、吸引ポンプ２５が接続されている。そして、ステージ２４の上面２４ａには、複数の吸引孔が開口されており、これらの吸引孔は、中空部と連通している。一方、見当調整装置２３は、ステージ２４における、基材搬送方向（基材長手方向）位置、基材搬送方向と直交する基材幅方向位置（左右方向）、及び、基材搬送方向に対する基材幅方向への傾斜角度（鉛直軸周りの回転角度）を、調整可能となっている。

【0021】

つまり、吸引ポンプ２５を駆動させることにより、上面２４ａの吸引孔から空気を吸引することができるので、ステージ２４の上方に供給された基材Ｗの裏面を、その上面２４ａに吸引保持することができる。そして、このように、基材Ｗの裏面をステージ２４の上面２４ａに吸引保持すると、その被印刷面となる表面における被印刷部（被印刷範囲）は、ステージ２４の上面２４ａに配置されることになる。

【0022】

また、見当調整装置２３を駆動させることにより、後述する基材位置検出センサ６０の検出結果に基づいて、ステージ２４における上記３つの位置を調整することができる。これにより、後述する版胴３２及びブランケット胴３３に対して、上面２４ａに吸引保持された基材Ｗの見当を、適切に合せることができる。

【0023】

そして、左右一対のガイドレール２２における基材搬送方向上流側には、胴支持用移動フレーム３１が、ガイドレール２２に沿って、往復移動可能に支持されている。この対をなして立設した胴支持用移動フレーム３１間における上部には、ブランケット胴３３が、回転可能で、且つ、その胴支持用スライドフレーム３１に沿って昇降可能に支持されている。更に、胴支持用移動フレーム３１の上方には、版胴３２が回転可能に支持されている。

【0024】

即ち、ブランケット胴３３は、外周面が版胴３２の外周面と対接することができる待機位置と、外周面がステージ２４の上面２４ａに対して転動することができる印刷位置との間において、昇降可能となっている。このとき、版胴３２の外周面には、インキ供給装置（図示省略）によって、インキが供給可能となっている。

【0025】

なお、胴支持用移動フレーム３１は、例えば、リニアモータ、ラックアンドピニオン、ボールねじ、及び、ロッドレスシリンダ等の移動機構によって、往復移動可能となっている。また、胴支持用移動フレーム３１、版胴３２、及び、ブランケット胴３３は、パターン形成手段を構成するものとなっている。

【0026】

つまり、版胴３２及びブランケット胴３３を回転させて、ブランケット胴３３を待機位置に移動させることにより、版胴３２の外周面に巻き付けられた版に対応したインキを、ブランケット胴３３の外周面に転写させることができる。

【0027】

一方、ブランケット胴３３を印刷位置に位置決めした状態で、胴支持用移動フレーム３１を基材搬送方向下流側に向けて移動させることにより、ブランケット胴３３の外周面に供給されたインキを、上面２４ａに吸引保持された基材Ｗの表面における被印刷部に、転写させることができる。なお、ブランケット胴３３によるインキの転写が完了すると、当該ブランケット３３をステージ２４の上面２４ａから上方に向けて退避させた後、胴支持用移動フレーム３１を基材搬送方向上流側に向けて移動させる。

【0028】

これに対して、図１乃至図３に示すように、左右一対のガイドレール２２における基材搬送方向下流側には、ロール支持用移動フレーム（移動部材）４１が、ガイドレール２２に沿って、往復移動可能に支持されている。この対をなして立設したロール支持用移動フレーム４１の上端間は、連結板４２によって連結されている。なお、ロール支持用移動フレーム４１は、例えば、リニアモータ、ラックアンドピニオン、ボールねじ、及び、ロッドレスシリンダ等の移動機構によって、往復移動可能となっている。

【0029】

また、左右一対のロール支持用移動フレーム４１の各内面には、固定板４３の上端が、２つの固定ピン４４を介して固定されており、これらの固定板４３の下端間には、回転軸４５が回転可能に支持されている。この回転軸４５は、全体として、その回転軸方向と直交する横断面が矩形をなす角棒となるものの、固定板４３に回転可能に支持される軸方向両端部における横断面が円形をなす丸棒となっている。

【0030】

更に、回転軸４５には、左右一対のロール支持部材４６の上端が、回転軸方向において位置調整可能に支持されている。このロール支持部材４６は、基材幅方向から見た側面視において、Ｌ字状をなしている。そして、ロール支持部材４６の下端には、貫通軸４８が基材幅方向に貫通支持されており、この貫通軸４８は、ナット４９によって、その軸方向位置が固定されている。

【0031】

一方、ロール支持部材４６の下端における内面には、ロール支持軸５０が、貫通軸４８に対して偏心するように装着されている。このとき、貫通軸４８は、ロール支持部材４６の下端を基材幅方向に貫通して、ロール支持軸５０と連結しているため、そのロール支持軸５０は、貫通軸４８を回転中心として、回転可能となっている。そして、ロール支持軸５０には、均しロール５１が回転可能に支持されている。

【0032】

均しロール５１は、ステージ２４の上面２４ａに吸引保持された基材Ｗの中でも、その左右両端部Ｗａのみに転がり接触して、これを押圧することにより、当該左右両端部Ｗａに発生した変形を、伸ばして均すものとなっている。なお、均しロール５１の外周部は、例えば、シリコンゴム、エステルゴム、ブチルゴム等のような、弾性を有する高分子材料から形成されている。

【0033】

つまり、ナット４９を緩めて、貫通軸４８のロール支持部材４６に対する固定を解除することにより、ロール支持軸５０を、貫通軸４８に対して、偏心回転させることができる。これにより、均しロール５１の高さ方向位置を変更することができる。一方、ナット４９を締め付けて、貫通軸４８をロール支持部材４６に固定することにより、ロール支持軸５０における貫通軸４８を回転中心とした偏心回転を、規制することができる。これにより、均しロール５１を高さ方向において位置決めすることができる。

【0034】

このように、均しロール５１の高さ方向位置を変更することにより、均しロール５１における左右両端部Ｗａに対する押圧力を調整することができる。このとき、その押圧力は、例えば、基材Ｗの材質、板厚、及び、剛性等に応じて設定される。そして、均しロール５１は、基材Ｗの左右両端部Ｗａに転がり接触する際には、その左右両端部Ｗａを基材幅方向に跨ぐようにそれらを押圧する。

【0035】

また、ロール支持部材４６には、ハンドル部材４７が回転可能に付設されている。このハンドル部材４７のねじ軸部は、ロール支持部材４６のねじ孔と螺合しつつ、これを貫通して、その先端面が回転軸４５の外面と接触している。

【0036】

つまり、ハンドル部材４７を回転操作して、ねじ軸部を緩めることにより、ロール支持部材４６を回転軸方向に移動させることができる。一方、ハンドル部材４７を回転操作して、ねじ軸部を締め付けることにより、ロール支持部材４６を回転軸方向において位置決めすることができる。これにより、均しロール５１の基材幅方向位置（回転軸方向位置）を、基材Ｗの幅寸法、即ち、基材Ｗにおける左右両端部Ｗａの基材幅方向位置に応じて、調整することができる。

【0037】

更に、左右一対の固定板４３のうち、左側（一方側）の固定板４３の内面には、シリンダ支持軸５２が固定されており、このシリンダ支持軸５２には、エアシリンダ５３の基端が上下方向に揺動可能に支持されている。エアシリンダ５３は、伸縮可能となる駆動ロッド５３ａを有しており、その駆動ロッド５３を伸縮させることによって、左右一対の均しロール５１をステージ２４の上面２４ａに対して同時に着脱させることが可能となっている。このとき、駆動ロッド５３ａのロッド先端は、レバー部材５４の一端と連結されており、このレバー部材５４の他端は、回転軸４５と連結されている。

【0038】

つまり、図３において実線で示すように、エアシリンダ５３を駆動させて、駆動ロッド５３ａを伸長させることにより、レバー部材５４の一端を下方に向けて回動させることができる。これにより、回転軸４５が一方の回転方向に向けて回転するため、均しロール５１を、外周面がステージ２４の上面２４ａにおいて転動することができる均し位置まで、下降させることができる。

【0039】

一方、図３において破線で示すように、エアシリンダ５３を駆動させて、駆動ロッド５３ａを短縮させることにより、レバー部材５４の一端を上方に向けて回動させることができる。これにより、回転軸４５が他方の回転方向に向けて回転するため、均しロール５１を、外周面がステージ２４の上面２４ａから上方に退避した退避位置まで、上昇させることができる。

【0040】

そして、上述した構成をなすことにより、ロール支持用移動フレーム４１の移動方向、及び、均しロール５１の転動方向は、ステージ２４の上面２４ａに吸引保持された基材Ｗにおける左右両端部Ｗａの延在方向と一致することになる。

【0041】

これにより、均しロール５１を均し位置に位置決めした状態で、ロール支持用移動フレーム４１を基材搬送方向上流側に向けて移動させることにより、均しロール５１を、上面２４ａに吸引保持された基材Ｗの中でも、左右両端部Ｗａのみに転がり接触させることができる。よって、均しロール５１による押圧力を、左右両端部Ｗａのみに作用させることができるため、その左右両端部Ｗａに発生した変形を、効率的に伸ばして均すことができる。

【0042】

なお、均しロール５１による変形の均しが完了すると、当該均しロール５１を退避位置に退避させた後、ロール支持用移動フレーム４１を基材搬送方向下流側に向けて移動させる。

【0043】

更に、均しロール５１の均し方向（均しロール５１の均し動作時における転動方向）は、基材搬送方向下流側から上流側に向かう方向となっており、基材搬送方向と逆向きになるだけでなく、ブランケット胴３３の印刷方向（ブランケット胴３３の印刷動作時における転動方向）とも逆向きになっている。

【0044】

そして、ロール支持用移動フレーム４１における均しロール５１の基材搬送方向下流側、言い換えれば、ロール支持用移動フレーム４１における均しロール５１の均し方向上流側には、左右一対の基材位置検出センサ（基材位置検出手段）６０が支持されている。この基材位置検出センサ６０は、ステージ２４の上面２４ａに吸着保持された基材Ｗを撮像し、当該基材Ｗの上面２４ａに対する位置を検出するものとなっている。

【0045】

従って、基材位置検出センサ６０を、ロール支持用移動フレーム４１が基材搬送方向上流側に向けて移動するのに伴って、均しロール５１に追従させることができるので、均しロール５１の均し動作が開始されると同時に、当該基材位置検出センサ６０による検出を開始することができる。

【0046】

次に、印刷機１の動作について、図１乃至図３を参照しながら、詳細に説明する。

【0047】

先ず、ハンドル部材４７を回転操作して、均しロール５１の基材幅方向位置を、基材Ｗにおける左右両端部Ｗａの基材幅方向位置に応じて設定する。また、ロール支持軸５０を貫通軸４８に対して偏心回転させて、均しロール５１における基材Ｗに対する押圧力を、当該基材Ｗの材質、板厚、及び、剛性等に応じて設定する。

【0048】

次いで、繰出リール１１から基材Ｗを所定長ずつ繰り出しながら、その繰り出した基材を、ガイドロール１３、吸引ロール１４、及び、バッファロール１５によって案内させて、巻取リール１２に巻き取る。これと同時に、吸引ポンプ１６を駆動させて、吸引ロール１４による吸引及び回転駆動によって生じる張力を、基材Ｗに付与する。

【0049】

そして、基材Ｗの表面における被印刷部が、ステージ２４の上面２４ａにおける所定位置に搬送されると、吸引ポンプ２５を駆動させて、基材Ｗをステージ２４の上面２４ａに吸引保持する。

【0050】

このとき、ロール状に巻き付けられた基材Ｗを繰り出しながら、その基材Ｗに張力を付与すると、特に、その左右両端部Ｗａに、皺やかえりのような、波状の変形が生じる場合がある。このような変形が生じると、基材Ｗを吸引保持しても、その変形部分がステージ２４の上面２４ａに密着しないおそれがある。

【0051】

そこで、エアシリンダ５３の駆動ロッド５３ａを伸長させて、均しロール５１を均し位置に移動させる。続いて、ステージ２４における基材搬送方向下流側に待機していたロール支持用移動フレーム４１を、均しロール５１がステージ２４を基材搬送方向上流側に通り過ぎるまで、当該基材搬送方向上流側に向けて移動させる。

【0052】

これにより、均しロール５１は、基材Ｗの左右両端部Ｗａをその上方から押圧しながら、それらの表面上を転動するため、左右両端部Ｗａに発生した変形は、伸ばし均されて平らになる。この結果、基材Ｗの左右両端部Ｗａは、その裏面がステージ２４の上面２４ａに隙間無く密着するように、当該上面２４ａに吸引保持される。

【0053】

これと同時に、基材位置検出センサ６０は、ロール支持用移動フレーム４１の移動に伴って、基材Ｗの上面２４ａに対する位置を検出する。

【0054】

次いで、エアシリンダ５３の駆動ロッド５３を短縮させて、均しロール５１を退避位置に移動させる。続いて、ロール支持用移動フレーム４１を基材搬送方向下流側に向けて移動させて、均しロール５１を元の位置に復帰させる。

【0055】

なお、基材Ｗの左右両端部Ｗａに発生した変形が、均しロール５１による１回の均し動作によって、解消されない場合には、その変形が解消されるまで、上述した均し動作を行う。また、このような場合には、均しロール５１を、均し位置に位置決めしたままの状態で、ロール支持用移動フレーム４１を基材搬送方向下流側に向けて移動させても構わない。

【0056】

そして、基材位置検出センサ６０によって検出された基材Ｗの位置に基づいて、見当調整装置２３を駆動させて、ステージ２４の上面２４ａに吸着保持された基材Ｗの見当を、版胴３２及びブランケット胴３３に合わせる。

【0057】

次いで、版胴３２及びブランケット胴３３を回転させた後、ブランケット胴３３を待機位置まで上昇させる。これにより、ブランケット胴３３が版胴３２と対接することになり、インキは版胴３２からブランケット胴３３に転写される。

【0058】

そして、ブランケット胴３３を印刷位置まで下降させた後、胴支持用移動フレーム３１を基材搬送方向下流側に向けて移動させる。これにより、インキは、ブランケット胴３３から基材Ｗの表面における被印刷部に転写されることになり、その被印刷部には、高精細なパターンの機能性膜が形成される。

【0059】

次いで、ブランケット胴３３を上昇させて、ステージ２４の上面２４ａから退避させた後、胴支持用移動フレーム３１を基材搬送方向上流側に向けて移動させる。続いて、ブランケット胴３３を待機位置に移動させておく。

【0060】

そして、吸引ポンプ２５の駆動を停止して、基材Ｗを、ステージ２４の上面２４ａによる吸引保持から解放する。

【0061】

更に、上述した動作を繰り返し行うことによって、基材Ｗの表面には、高精細なパターンの機能性膜が、所定の間隔で形成されることになる。

【0062】

従って、本発明に係る印刷機１によれば、ステージ２４の上面２４ａに吸着保持したウェブ状の基材Ｗにおける左右両端部Ｗａのみに対して、均しロール５１を転がり接触させて、その左右両端部Ｗａに発生した変形を伸ばして均した後、その変形が解消された基材Ｗに対して、インキを転写してパターンを形成することができる。これにより、印刷時における基材Ｗの吸引保持を確実に行うことができるので、印刷不良の発生を抑制することができる。

【0063】

また、基材位置検出センサ６０を、均しロール５１の均し方向上流側に設けることにより、均しロール５１の均し動作を行うと同時に、基材位置検出センサ６０の検出動作を行うことができる。これにより、均しロール５１の均し動作が完了すると同時に、ステージ２４の上面２４ａに吸引保持された基材Ｗの見当合わせを、行うことができる。よって、非印刷時間の短縮を図ることができるので、生産性の向上を図ることができる。

【0064】

なお、上述した実施形態においては、基材Ｗの左右両端部Ｗａに発生した変形を、左右一対の均しロール５１を用いて、同時に均すようにしているが、基材Ｗの左右両端部Ｗａに発生した変形を、１つの均しローラを用いて、それぞれ片方ずつ均すようにしても構わない。ここで、基材Ｗの左右両端部Ｗａに発生した変形を、１つの長尺な均しロールを用いて、同時に均すようにすることも考えられるが、このような構成を採用すると、変形が生じていない幅方向中央部までも、大きな押圧力で押圧することになり、その幅方向中央部の表面を傷付けてしまうおそれがある。従って、基材Ｗの左右両端部Ｗａに発生した変形を均す場合には、左右一対の均しロール５１を用いて同時に均すことが好適であると考えられる。

【符号の説明】

【0065】

１ 印刷機
２３ 見当調整装置
２４ ステージ
２４ａ 上面
２５ 吸引ポンプ
３１ 胴支持用移動フレーム
３２ 版胴
３３ ブランケット
４１ ロール支持用移動フレーム
４５ 回転軸
４６ ロール支持部材
４７ ハンドル部材
４８ 貫通軸
４９ ナット
５０ ロール支持軸
５１ 均しロール
５３ エアシリンダ
５４ レバー部材
６０ 基材位置検出センサ
Ｗ 基材
Ｗａ 端部

【図1】

【図2】

【図3】