(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、非鉛系圧電セラミックからなる圧電体を備える圧電素子において、変位量の向上を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明に係る圧電素子は、非鉛系圧電セラミックからなる圧電体と、圧電体に設けられた電極と、を備え、圧電体は、第一結晶粒を有し、第一結晶粒間の結晶粒界には、第一空孔が存在していると共に、第一結晶粒には、第二空孔が存在しており、第二空孔の平均径は、第一空孔の平均径よりも小さい。
【0006】
本発明に係る圧電素子では、第一結晶粒間の結晶粒界に第一空孔が存在している。仮に、第一結晶粒が隙間なく密集している場合、第一結晶粒の形状を変化させようとしても第一結晶粒同士が互いに干渉し合うことになる。これにより、第一結晶粒の形状の変化が抑制される結果、その分極が阻害されてしまう懼れがある。第一空孔によれば、第一結晶粒同士の干渉による応力が緩和されるので、第一結晶粒の形状の変化が許容され易くなる。したがって、第一結晶粒の分極が阻害され難く、優れた圧電特性が発現されることにより、変位量の向上を図ることができる。また、第一結晶粒には、第一空孔よりも平均粒径の小さい第二空孔が存在している。このような第二空孔によれば、第一結晶粒を柔らかくすることができるので、第一結晶粒の形状の変化が許容され易くなる。したがって、この点からも、変位量の向上を図ることができる。
【0007】
本発明に係る圧電素子において、圧電体は、第一結晶粒よりも平均粒径の小さい第二結晶粒を更に有し、結晶粒界は、第一空孔が存在している第一領域と、第二結晶粒が集合している第二領域と、を有してもよい。この場合、第一結晶粒間の結晶粒界には第一空孔だけでなく、第二結晶粒が存在しているので、第一結晶粒で発生した内部クラックが隣の第一結晶粒に延伸するのを抑制することができる。
【0008】
本発明に係る圧電素子において、第二結晶粒間の結晶粒界には、第三空孔が存在していてもよい。この場合、第三空孔によっても、第一結晶粒同士の干渉による応力が緩和されるので、第一結晶粒の形状の変化が更に許容され易くなる結果、圧電特性を更に向上させることができる。
【0009】
本発明に係る圧電素子において、第三空孔の平均径は、第二結晶粒の平均粒径よりも小さくてもよい。この場合、第二結晶粒が第三空孔内に脱落することを抑制可能となる。
【0010】
本発明に係る圧電素子において、第二空孔の内部空間は、多面体形状を呈していてもよい。この場合、内部空間が球状を呈する空孔に比べて、第二空孔では変形が容易である。このため、第一結晶粒の形状の変化が許容され易い。したがって、第二空孔によれば、第一結晶粒の空孔率が低くても、第一結晶粒を効率的に柔らかくすることができる。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、非鉛系圧電セラミックからなる圧電体を備える圧電素子において、変位量の向上を図ることができる。
【発明を実施するための形態】
【0013】
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【0014】
図1〜
図3を参照して、本実施形態に係る圧電素子1の構成を説明する。
図1は、実施形態に係る圧電素子の構成を示す断面図である。
図2は、
図1に示される圧電体の一部拡大断面図である。
図3は、圧電体の断面のSEM(走査型電子顕微鏡)写真である。
【0015】
圧電素子1は、
図1に示されるように、圧電体2と、圧電体2に設けられた一対の電極3,4と、を備えている。圧電素子1は、たとえば、デュアル・アクチュエータ方式のディスク装置において、ボイスコイルモータ以外の第二のアクチュエータとして用いられる。圧電素子1は、たとえば、矩形板状を呈している。圧電素子1の厚さは、たとえば、100μmである。
【0016】
圧電体2は、たとえば、矩形板状を呈している。圧電体2は、互いに対向する一対の主面2a,2bと、一対の主面2a,2bを連結するように一対の主面2a,2bの対向方向に延びる4つの側面2cと、を有している。圧電体2の厚さは、たとえば、95μmである。
【0017】
圧電体2は、非鉛系圧電セラミックからなっている。ここでは、圧電体2は、非鉛系圧電セラミックからなっている。非鉛系圧電セラミックの主成分は、たとえば、ニオブ酸カリウムナトリウム(KNN)である。組成比を、たとえば、(K
1−xNa
x)
m(Nb
1−yTa
y)O
3とすることができる。m>0.95とすることにより、焼成が容易となる。非鉛系圧電セラミックには、Li,Sr,Zr,Bi,W,Mn,Cu,Ni等が適量添加されていてもよい。非鉛系圧電セラミックには、不可避成分として、Pbが少量(例えば、0.5%(=5000ppm)未満)含まれていてもよい。
【0018】
圧電体2は、
図2に示されるように、第一結晶粒G1及び第二結晶粒G2を有している。第一結晶粒G1の平均粒径は、たとえば、100μm程度であり、具体的には、10μm以上300μm以下である。第一結晶粒G1の平均粒径は、好ましくは50μm以上300μm以下である。第一結晶粒G1の平均粒径は、たとえば、以下のようにして求められる。圧電体2の断面のSEM写真を撮影する。撮影したSEM写真に対してソフトウェアにより画像処理を行い、第一結晶粒G1の境界を判別し、第一結晶粒G1の面積(断面積)を算出する。算出した第一結晶粒G1の面積を円相当径に換算して粒径(直径)を算出する。算出した粒径の平均値を第一結晶粒G1の平均粒径とする。圧電体2における第一結晶粒G1の占有率は、10%以上80%以下であり、好ましくは60%以上80%以下である。圧電体2における第一結晶粒G1の占有率は、たとえば、上述の画像処理によって算出した第一結晶粒G1の面積の和の、圧電体2の面積に対する比率(面積占有率)として算出される。
【0019】
第二結晶粒G2の平均粒径は、第一結晶粒G1の平均粒径よりも小さく、たとえば、5μm程度であり、具体的には、0.1μm以上5μm以下である。第二結晶粒G2の平均粒径は、たとえば、第一結晶粒G1の平均粒径と同様に算出される。圧電体2における第二結晶粒G2の占有率は、30%以上85%以下である。圧電体2における第二結晶粒G2の占有率は、たとえば、圧電体2における第一結晶粒G1の占有率と同様に算出される。
【0020】
第一結晶粒G1間の結晶粒界GBには、第一空孔(ポア)P1が存在している。結晶粒界GBは、第一領域R1及び第二領域R2を有している。第一領域R1は、第一空孔P1が存在している領域である。第一空孔P1は、結晶粒界GBに沿って存在している。ここで、結晶粒界には、2つの結晶粒間の二面間粒界、及び3つ以上の結晶粒間の粒界三重点が含まれる。なお、圧電体2における結晶粒界GBの中には、第一領域R1及び第二領域R2のいずれか一方のみを有するものもある。
【0021】
第一空孔P1の平均径は、3μm以上50μm以下である。第一空孔P1の平均径は、たとえば、第一結晶粒G1の平均粒径と同様に算出される。すなわち、撮影したSEM写真に対してソフトウェアにより画像処理を行い、第一空孔P1の境界を判別し、第一空孔P1の面積(断面積)を算出する。算出した第一空孔P1の面積を円相当径に換算して径(直径)を算出する。算出した径の平均値を第一空孔P1の平均径とする。圧電体2における第一空孔P1の占有率は、0.5%以上20%以下である。圧電体2における第一空孔P1の占有率は、たとえば、圧電体2における第一結晶粒G1の占有率と同様に算出される。圧電体2の断面の単位面積当たりに存在する第一空孔P1の数は、10個/mm
2以上1000個/mm
2以下である。
【0022】
第二領域R2は、第二結晶粒G2が集合している領域である。第二結晶粒G2間の結晶粒界には、第三空孔P3が存在している。第三空孔P3の平均径は、第二結晶粒G2の平均粒径よりも小さい。第三空孔P3の平均径は、0.1μm以上5μm以下である。第三空孔P3の平均径は、たとえば、第一空孔P1の平均粒径と同様に算出される。
【0023】
第二領域R2における第三空孔P3の占有率は、10%以上40%以下である。第二領域R2における第三空孔P3の占有率は、たとえば、圧電体2における第二領域R2の占有率、及び圧電体2における第三空孔P3の占有率をそれぞれ、圧電体2における第一結晶粒G1の占有率と同様に算出した後、これらの比率として算出される。第二領域R2の単位面積当たりに存在する第三空孔P3の数は、10個/mm
2以上50000個/mm
2以下である。
【0024】
第一結晶粒G1には、第二空孔P2が存在している。第二空孔P2は、第一結晶粒G1中に略均一に分散して存在している。第一結晶粒G1における第二空孔P2の占有率は、0.5%以上20%以下である。第一結晶粒G1における第二空孔P2の占有率は、たとえば、圧電体2における第一結晶粒G1の占有率を上述のように算出するとともに、圧電体2における第二空孔P2の占有率を同様に算出した後、これらの比率として算出される。第一結晶粒G1の単位体積当たりに存在する第二空孔P2の数は、10個/mm
2以上30000個/mm
2以下である。
【0025】
第二空孔P2の平均径は、第一空孔P1の平均径よりも小さい。第二空孔P2の平均径は、0.1μm以上10μm以下である。第二空孔P2の平均径は、たとえば、第一空孔P1の平均粒径と同様に算出される。第二空孔P2の内部空間は、多面体形状を呈している。このため、第二空孔P2の断面は、
図3にも示されるように、正方形又は長方形に準ずる形状を呈している。第二空孔P2の内部空間がこのような多面体形状を呈するのは、結晶構造由来の安定した状態のためと考えられる。
【0026】
一対の電極3,4は、
図1に示されるように、一対の主面2a,2b上に設けられている。電極3が主面2aに設けられ、電極4が主面2bに設けられている。一対の電極3,4は、たとえば、スパッタリング法又は蒸着法により、一対の主面2a,2b上に形成されている。一対の電極3,4は、一対の主面2a,2b全体を覆っている。一対の電極3,4は、圧電体2に電界を印加するための電極として機能している。一対の電極3,4は、たとえば、Au,Ni,Cr,Cu又はPtからなる。一対の電極3,4の厚さは、たとえば、5μm以下程度である。
【0027】
圧電体2の側面2cは、一対の電極3,4から露出している。側面2cは、樹脂(不図示)で覆われていてもよい。この場合、樹脂は側面2c全体を覆うように配置されていてもよい。樹脂の材料としては、たとえば、エポキシ樹脂が挙げられる。
【0028】
次に、圧電素子1の製造方法について説明する。まず、混合した原料粉末を一旦700℃ほどで熱処理(仮焼き)して、(K
1−xNa
x)
m(Nb
1−yTa
y)O
3を主成分とする圧電材料(圧電セラミック粉体)を得る。原料粉末は、仮焼き後の組成比に応じて調製される。ここで、あえて十分な熱処理を行わないことにより、焼結後に得られる圧電材料の粒度が分かれるので、目的の焼結体が得られ易くなる。ただし、圧電セラミックの組成に応じて、このような熱処理に適した温度範囲が変化し易い。この場合、800℃ほどで十分な熱処理した粉体と、600℃ほどで熱処理した粉体とを混ぜ合わせることによっても、比較的容易に目的の焼結体が得られる。
【0029】
続いて、メチルエチルケトン(MEK)を溶媒にしたアクリル系バインダを使用し、圧電セラミック粉体のペーストを得る。次に、ペーストからグリーンシートを作成する。グリーンシートは、たとえば、ドクターブレード法により作成される。本実施形態の圧電素子1は、単板型で内部電極を備えない構成であるが、目的の製品構造に応じて、積層型とする場合は、作成したグリーンシートを重ね合せる。また、内部電極を備える構成とする場合は、グリーンシート上にAgPd又はCu等を使用した電極を印刷により設けてから、グリーンシートを重ね合せる。積層体は、温間等方圧プレス(WIP:Warm Isostatic Press)又は一軸圧プレスを実施することで、圧電体グリーンとする。
【0030】
得られた圧電体グリーンに脱バインダ処理を施す。脱バインダ処理は、450℃で6時間ほどかけて行われる。続いて、圧電体グリーンを焼成し、圧電体を得る。焼成は、たとえば、酸素分圧を管理した上で実施される。温度勾配をΔ500℃/h以上とすると、比較的容易に焼結することができる。続いて、圧電体の各主面に対して、それぞれ電極膜を形成する。電極膜は、たとえば、Au,Ni,Cr,Cu又はPtからなる。電極膜はたとえば、スパッタリング法又は蒸着法により形成される。これにより、圧電体及び電極膜を備える圧電素子基板が得られる。
【0031】
次に、圧電素子基板に分極処理を行う。分極処理では、たとえば、100℃の温度下で、電界強度2kV/mmの電圧を3分間印加する。続いて、分極処理後の圧電素子基板をダイサーなどの切断機で製品形状に加工する。これにより、個片化された圧電体2及び一対の電極3,4を備える圧電素子1が得られる。
【0032】
以上のように構成された圧電素子1では、第一結晶粒G1間の結晶粒界GBに第一空孔P1が存在している。仮に、第一結晶粒G1が隙間なく密集している場合、第一結晶粒の形状を変化させようとしても第一結晶粒G1同士が互いに干渉し合うことになる。これにより、第一結晶粒G1の形状の変化が抑制される結果、その分極が阻害されてしまう懼れがある。第一空孔P1によれば、第一結晶粒G1同士の干渉による応力が緩和されるので、第一結晶粒G1の形状の変化が許容され易くなる。したがって、第一結晶粒G1の分極が阻害され難く、優れた圧電特性が発現されることにより、変位量の向上を図ることができる。
【0033】
KNNを主成分とする非鉛系圧電セラミックは、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の圧電セラミックと比べて、強度が高く、割れ欠け等が発生し難い。しかしながら、従来のKNNは、硬すぎるため電歪特性が不十分であった。これに対して、圧電素子1では、上述のように電歪特性等の圧電特性を向上させることができる。
【0034】
第一結晶粒G1には、第一空孔P1よりも平均径の小さい第二空孔P2が存在している。このような第二空孔P2によれば、第一結晶粒G1を柔らかくすることができる。つまり、第一結晶粒G1の変形により第一結晶粒G1内に生じる応力が、第二空孔P2によって緩和されるので、第一結晶粒G1の変形に対する抵抗を小さくことができる。このため、第二空孔P2によれば、第一結晶粒G1の形状の変化が許容され易くなる。したがって、この点からも、変位量の向上を図ることができる。
【0035】
圧電体2は、第一結晶粒G1よりも平均粒径の小さい第二結晶粒G2を更に有している。結晶粒界GBは、第一空孔P1が存在している第一領域R1と、第二結晶粒G2が集合している第二領域R2と、を有している。このように、結晶粒界GBには第一空孔P1だけでなく、第二結晶粒G2が存在しているので、第一結晶粒G1で発生した内部クラックが隣の第一結晶粒G1に延伸するのを抑制することができる。
【0036】
第二結晶粒G2間の結晶粒界には、第三空孔P3が存在している。このため、第三空孔P3によっても、第一結晶粒G1同士の干渉による応力が緩和される。これにより、第一結晶粒G1の形状の変化が更に許容され易くなる結果、圧電特性を更に向上させることができる。
【0037】
第三空孔P3の平均径は、第二結晶粒G2の平均粒径よりも小さい。このため、第二結晶粒G2が第三空孔P3内に脱落することを抑制可能となる。
【0038】
第二空孔P2の内部空間は、多面体形状を呈している。このため、第二空孔P2では、内部空間が球状を呈する空孔に比べて、変形が容易である。したがって、第一結晶粒G1の形状の変化が許容され易い。この結果、第二空孔P2によれば、第一結晶粒G1の空孔率が低くても、第一結晶粒G1を効率的に柔らかくすることができる。
【0039】
第一結晶粒G1の平均粒径は、好ましくは50μm以上であり、また、圧電体2における第一結晶粒G1の占有率は、好ましくは60%以上である。このように十分に粒成長した第一結晶粒G1が圧電体2に多く含まれる場合、圧電素子1の電気諸特性、強度、及び信頼性等を向上させることができる。
【0040】
本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
【0041】
たとえば、圧電素子1は、積層型圧電素子としてもよいし、内部電極を備えてもよい。また、圧電素子1の形状は、上述の形状に限られず、目的の製品構造に応じて、適宜変更することができる。第一結晶粒G1等の占有率は、第一結晶粒G1等の体積占有率として算出されてもよい。