(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記第3の工程において、前記造形領域内の前記治具プレート上に前記焼結体が積層された前記ベースプレートを載置した状態で、前記焼結体の上面を平坦に削り出すことを特徴とする請求項1に記載の三次元造形物の製造方法。
前記第3の工程後に前記加工面を基準面にして前記ベースプレートの裏面を平坦に削り出す第4の工程を含んでなる請求項1または請求項2に記載の三次元造形物の製造方法。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態中で示した各種特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。また、各特徴事項について独立して発明が成立する。
【0013】
(積層造形装置)
図1に示すように、本発明の実施形態に係る積層造形装置は、チャンバ1とレーザ光照射部13とを有する。
【0014】
チャンバ1は、所要の造形領域Rを覆い且つ所定濃度の不活性ガスで充満される。チャンバ1には、内部に粉体層形成装置3が設けられ、上面部にヒューム拡散装置17が設けられる。粉体層形成装置3は、ベース台4とリコータヘッド11とを有する。
【0015】
ベース台4は、三次元造形物が形成される造形領域Rを有する。造形領域Rは、造形テーブル5の上に形成される。造形テーブル5は、造形テーブル駆動機構31によって駆動されて上下方向(
図1の矢印A方向)に移動することができる。造形時には、造形テーブル5上に治具プレート7およびベースプレート33が配置され、その上に材料粉体層8が形成される。また、所定の照射領域は、造形領域R内に存在し、所望の
焼結体81の輪郭形状で囲われる領域とおおよそ一致する。
【0016】
造形テーブル5の周りには、粉体保持壁26が設けられる。粉体保持壁26と造形テーブル5とによって囲まれる粉体保持空間には、未焼結の材料粉体が保持される。
図1においては不図示であるが、粉体保持壁26の下側には、粉体保持空間内の材料粉体を排出可能な粉体排出部が設けられてもよい。かかる場合、積層造形の完了後に造形テーブル5を降下させることによって、未焼結の材料粉体が粉体排出部から排出される。排出された材料粉体は、シューターガイドによってシューターに案内され、シューターを通じてバケットに収容されることになる。
【0017】
リコータヘッド11は、
図2〜
図4に示すように、材料収容部11aと材料供給部11bと材料排出部11cとを有する。
【0018】
材料収容部11aは材料粉体を収容する。なお、材料粉体は、例えば金属粉(例:鉄粉)であり、例えば平均粒径20μmの球形である。材料供給部11bは、材料収容部11aの上面に設けられ、不図示の材料供給装置から材料収容部11aに供給される材料粉体の受口となる。材料排出部11cは、材料収容部11aの底面に設けられ、材料収容部11a内の材料粉体を排出する。なお、材料排出部11cは、リコータヘッド11の移動方向(矢印B方向)に直交する水平1軸方向(矢印C方向)に延びるスリット形状である。
【0019】
また、リコータヘッド11の両側面には、ブレード11fb、11rbとリコータヘッド供給口11fsとリコータヘッド排出口11rsとが設けられる。ブレード11fb、11rbは、材料排出部11cから供給される材料粉体を撒布して平坦にする。換言するとブレード11fb、11rbは、材料排出部11cから排出された材料粉体を平坦化して材料粉体層8を形成する。リコータヘッド供給口11fsおよびリコータヘッド排出口11rsは、リコータヘッド11の移動方向(矢印B方向)に直交する水平1軸方向(矢印C方向)に沿ってそれぞれ設けられ、不活性ガスの供給および排出を行う。本明細書において、「不活性ガス」とは、材料粉体と実質的に反応しないガスであり、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等が例示される。
【0020】
図1に示すように、切削装置50は、スピンドル60と撮像部41とが設けられた加工ヘッド57を有する。加工ヘッド57は、不図示の加工ヘッド駆動機構により制御可能に、スピンドル60と撮像部41とを所望の位置に鉛直1軸および水平2軸方向に同期させて移動させる。
【0021】
スピンドル60は、不図示のエンドミル等の切削工具を取り付けて回転可能に構成されており、材料粉体を焼結して得られた焼結層の表面や不要な部分に対して切削加工を行うことができる。また切削工具は複数種類の切削工具であることが好ましく、使用する切削工具は不図示の自動工具交換装置によって、造形中にも交換可能である。なお、本実施形態における「焼結」とは、レーザ光Lが材料粉体に照射されることにより、材料粉体が加熱されて溶融した後に冷却されて固化することを意味する。
【0022】
撮像部41は、例えばCCD(Charge−Coupled Device)等の撮像素子であり、レーザ光Lが材料粉体を焼結することによって得られる焼結痕を未焼結の材料粉体と区別可能に撮像することができる。撮像部41が例えば焼結痕を撮像することで、レーザ光Lの造形テーブル5の高さでの実際の照射位置(実照射位置)を取得することができ、照射位置の補正処理に使用することができる。
【0023】
つまり、スピンドル60と撮像部41とは、ともに同一の駆動系(ここでは加工ヘッド57)に設けられているため、撮像部41の撮像より得られるレーザ光Lの実照射位置とスピンドル60に装着される切削工具の位置制御に係る平面座標系とは対応関係が既知となる。かかる構成によって、撮像部41を用いて切削工具の位置制御に係る平面座標系とレーザ光Lの位置制御に係る平面座標系との対応付けをより高精度に行うことができる。あるいは、撮像部41を光検出器に置き換え、ここに直接レーザ光Lを照射することによって、照射位置の補正処理を実行してもよい。
【0024】
チャンバ1の上面には、ウィンドウ1aを覆うようにヒューム拡散装置17が設けられる。ヒューム拡散装置17は、円筒状の筐体17aと、筐体17a内に配置された円筒状の拡散部材17cを備える。筐体17aと拡散部材17cの間に不活性ガス供給空間17dが設けられる。また、筐体17aの底面には、拡散部材17cの内側に開口部17bが設けられる。拡散部材17cには多数の細孔17eが設けられており、不活性ガス供給空間17dに供給された清浄な不活性ガスは細孔17eを通じて清浄室17fに充満される。そして、清浄室17fに充満された清浄な不活性ガスは、開口部17bを通じてヒューム拡散装置17の下方に向かって噴出される。
【0025】
図2に示すように、レーザ光照射部13は、チャンバ1の上方に設けられる。レーザ光照射部13は、造形領域R上に形成される材料粉体層8の所定箇所にレーザ光Lを照射して照射位置の材料粉体を焼結させる。具体的には、レーザ光照射部13は、レーザ光源42とフォーカス制御ユニット44とレーザ光走査ユニットとを有する。本実施形態のレーザ走査ユニットは、2軸のガルバノミラー43a、43bである。なお、各ガルバノミラー43a、43bは、それぞれガルバノミラー43a、43bを回転させるアクチュエータを備えている。
【0026】
レーザ光源42はレーザ光Lを照射する。ここで、レーザ光Lは、材料粉体を焼結可能なレーザであって、例えば、CO
2レーザ、ファイバーレーザ、YAGレーザ等を用いることができる。
【0027】
フォーカス制御ユニット44は、レーザ光源42より出力されたレーザ光Lを集光し所望のスポット径に調整する。2軸のガルバノミラー43a、43bは、レーザ光源42より出力されたレーザ光Lを制御可能に2次元走査する。特にガルバノミラー43aは、レーザ光Lを矢印B方向(X軸方向)に走査し、ガルバノミラー43bは、レーザ光Lを矢印C方向(Y軸方向)に走査する。ガルバノミラー43a、43bは、それぞれ、不図示の制御装置から入力される回転角度制御信号の大きさに応じて回転角度が制御される。かかる特徴により、ガルバノミラー43a、43bの各アクチュエータに入力する回転角度制御信号の大きさを変化させることによって、所望の位置にレーザ光Lを照射することができる。
【0028】
ガルバノミラー43a、43bを通過したレーザ光Lは、チャンバ1に設けられたウィンドウ1aを透過して造形領域Rに形成された材料粉体層8に照射される。ウィンドウ1aは、レーザ光Lを透過可能な材料で形成される。例えば、レーザ光LがファイバーレーザまたはYAGレーザの場合、ウィンドウ1aは石英ガラスで構成可能である。
【0029】
図1、
図3および
図4を参照して、不活性ガス給排系統について説明する。不活性ガス給排系統は、チャンバ1に設けられる複数の不活性ガスの供給口および排出口と、各供給口および各排出口と不活性ガス供給装置15およびヒュームコレクタ19とを接続する配管を含む。本実施形態では、リコータヘッド供給口11fs、チャンバ供給口1b、副供給口1e、およびヒューム拡散装置供給口17gを含む供給口と、チャンバ排出口1c、リコータヘッド排出口11rs、副排出口1fを含む排出口とを備える。
【0030】
図3および
図4に示すように、リコータヘッド供給口11fsは、チャンバ排出口1cの設置位置に対応してチャンバ排出口1cに対面するように設けられる。好ましくは、リコータヘッド供給口11fsは、リコータヘッド11が不図示の材料供給装置の設置位置に対して所定の照射領域を挟んで反対側に位置しているときにチャンバ排出口1cと対面するように、矢印C方向に沿ってリコータヘッド11の片面に設けられる。
【0031】
チャンバ排出口1cは、チャンバ1の側板にリコータヘッド供給口11fsに対面するように所定の照射領域から所定距離離れて設けられる。また、チャンバ排出口1cに接続するように不図示の吸引装置が設けられるとよい。当該吸引装置は、レーザ光Lの照射経路からヒュームを効率よく排除することを助ける。また、吸引装置によってチャンバ排出口1cにおいて、より多くの量のヒュームを排出することができ、造形空間1d内にヒュームが拡散しにくくなる。
【0032】
チャンバ供給口1bは、ベース台4の端上に所定の照射領域を間に置いてチャンバ排出口1cに対面するように設けられる。チャンバ供給口1bは、リコータヘッド11が所定の照射領域を通過してリコータヘッド供給口11fsが所定の照射領域を間に置かずにチャンバ排出口1cに直面する位置にあるとき、リコータヘッド供給口11fsからチャンバ供給口1bに選択的に切り換えられて開放される。そのため、チャンバ供給口1bは、リコータヘッド供給口11fsから供給される不活性ガスと同じ所定の圧力と流量の不活性ガスをチャンバ排出口1cに向けて供給するので、常に同じ方向に不活性ガスの流れを作り出し、安定した焼結を行える点で有利である。
【0033】
リコータヘッド排出口11rsは、リコータヘッド11のリコータヘッド供給口11fsが設けられている片面に対して反対側の側面に、矢印C方向に沿って設けられる。リコータヘッド供給口11fsから不活性ガスを供給できないとき、換言すれば、チャンバ供給口1bから不活性ガスを供給するときに、所定の照射領域のより近くで不活性ガスの流れを作り出していくらかのヒュームを排出するので、ヒュームをより効率よくレーザ光Lの照射経路から排除することができる。
【0034】
また、本実施形態の不活性ガス給排系統は、チャンバ排出口1cに対面するようにチャンバ1の側板に設けられヒュームコレクタ19から送給されるヒュームが除去された清浄な不活性ガスを造形空間1dに供給する副供給口1eと、チャンバ1の上面に設けられヒューム拡散装置17へ不活性ガスを供給するヒューム拡散装置供給口17gと、チャンバ排出口1cの上側に設けられチャンバ1の上側に残留するヒュームを多く含む不活性ガスを排出する副排出口1fとを備える。
【0035】
チャンバ1への不活性ガス供給系統には、不活性ガス供給装置15と、ヒュームコレクタ19が接続されている。不活性ガス供給装置15は、不活性ガスを供給する機能を有し、例えば、周囲の空気から窒素ガスを取り出す膜式窒素セパレータを備える装置である。本実施形態では、
図1に示すように、リコータヘッド供給口11fs、チャンバ供給口1b、およびヒューム拡散装置供給口17gと接続される。
【0036】
図1に示すように、ヒュームコレクタ19は、その上流側および下流側にそれぞれダクトボックス21、23を有する。チャンバ1からチャンバ排出口1cおよび副排出口1fを通じて排出されたヒュームを含む不活性ガスは、ダクトボックス21を通じてヒュームコレクタ19に送られ、ヒュームコレクタ19においてヒュームが除去された清浄な不活性ガスがダクトボックス23を通じてチャンバ1の副供給口1eへ送られる。このような構成により、不活性ガスの再利用が可能になっている。
【0037】
ヒューム排出系統として、チャンバ排出口1c、リコータヘッド排出口11rs、および副排出口1fとヒュームコレクタ19とがダクトボックス21を通じてそれぞれ接続される。ヒュームコレクタ19においてヒュームが取り除かれた後の清浄な不活性ガスは、チャンバ1へと返送され再利用される。
【0038】
(三次元造形物の製造方法)
図5〜
図16を用いて、上述した積層造形装置を用いた積層造形物の製造方法について説明する。なお、
図5〜
図16では、視認性を考慮し
図1〜
図4で示していた積層造形装置の構成要素を一部省略している。
【0039】
まず、
図5に示すように、造形テーブル5上に治具プレート7およびベースプレート33を載置した状態で造形テーブル5の高さを適切な位置に調整する。治具プレート7およびベースプレート33は、いずれも鉄または鋼鉄などの金属で構成される。治具プレート7およびベースプレート33は、同一の材質でもよく、または、異なる材質としてもよい。
【0040】
図6は、造形テーブル5上に載置される治具プレート7およびベースプレート33を示す斜視図である。
図6に示すように、治具プレート7は、その四隅において固定ボルト35で造形テーブル5に固定される。治具プレート7の上には、さらにベースプレート33が固定される。本実施形態では、治具プレート7およびベースプレート33は略正方形となる平面を備えるが、その例に限定されない。以降の説明のため、
図6に示すように、前後方向、左右方向、上下方向を定義する。
【0041】
図7は、治具プレート7およびベースプレート33を示す平面図である。
図8は、
図7における
D−
D断面における断面図である。
図7および
図8に示されるように、
第1の工程において、ベースプレート33は、固定部材としての固定ボルト37,37によって治具プレート7に対して固定される。
【0042】
本発明の積層造形による三次元造形物の製造方法における第1の工程は、ベースプレート33を治具プレート7に固定する工程である。本発明の三次元造形物の製造方法においては、基本的に、造形後に残留応力による変形が生じないようにするために、造形中にベースプレート33の変形を許容する。一般的に、引張りの残留応力によってベースプレート33の端縁が反り上がるように変形するので、ベースプレート33の真中の1点でベースプレート33を治具プレート7に固定することが望ましい。ただし、変形するときに発生する強い力が固定している箇所に集中して作用し、あるいは
外力を受けることによってベースプレート33の位置がずれてしまうおそれがあるので、ベースプレート33を位置ずれが生じないように固定する必要がある。したがって、ベースプレート33は、ベースプレート33の位置ずれが生じない範囲で可能な限りベースプレート33の中心に近い位置において可能な限り少ない1以上の箇所で治具プレート7に固定するようにする。
【0043】
図9は、ベースプレート33と固定ボルト37との位置関係を示す平面図である。どの位置を何箇所で固定するかは、ベースプレート33と焼結体81の材質、形状、サイズによって異なるが、固定部材が固定ボルト37であるときに検証した具体的な例を
図9に示す。
図9において、焼結体81の材質は、マルエージング鋼であり、ベースプレート33の材質は、機械構造用炭素鋼(S50C)でサイズが230mm×180mm×50mmである。ベースプレート33の重心Pから端部Qまでの長さをr1として示す。ここで、端部とは、平面視において重心Pから最も離れたベースプレート33の点を意味する。そして、ベースプレート33の重心Pを中心として、固定ボルト37,37をいずれも取り囲む円をCRとし、円CRの半径をr2として示す。このとき、r2/r1≦0.70となるように固定ボルト37の位置を定める。r2/r1の値は、具体的には例えば、0.05、0.10、0.15、0.20、0.25、0.30、0.35、0.40、0.45、0.50、0.55、0.60、0.65、0.70であり、ここで例示した数値のいずれか2つの間の範囲内であってもよい。
【0044】
第2の工程は、第1の工程で固定されたベースプレート33の上において所定の厚さで平坦に撒布された材料粉体をレーザ光の照射によって加熱し溶融した後に冷却して固化することによって材料粉体を焼結して焼結層を形成することを繰り返して焼結体81を生成する工程である。焼結体81は、造形の途中の段階の複数の焼結層で形成された物体である場合と、所期の造形が完了して複数の焼結層で形成された物体である場合とを含む。
【0045】
具体的には、第2の工程は、
図10に示すように、材料収容部11a内に材料粉体が充填されているリコータヘッド11を矢印B方向に造形領域Rの左側から右側に移動させることによって、ベースプレート33上に1層目の材料粉体層8aを形成し、
1層目の材料粉体層8a中の所定部位にレーザ光Lを照射することで
1層目の材料粉体層8
aのレーザ光照射部位を焼結させることによって、ベースプレート33上に1層目の焼結層81aを形成する。
【0046】
次に、
図11に示すように、造形テーブル5の高さを1層目の焼結層81aの厚さ分下げ、リコータヘッド11を造形領域Rの右側から左側に移動させることによって、
1層目の焼結層81a上に2層目の材料粉体層8bを形成する。そして、
2層目の材料粉体層8b中の所定部位にレーザ光Lを照射することによって
2層目の材料粉体層8bのレーザ光照射部位を焼結させ、ベースプレート33上に2層目の焼結層81bを形成する。そして、複数の焼結層81a,81b...の形成を繰り返すことによって、焼結体81が形成される。このようにして順次積層される焼結層同士は、互いに強く固着される。
【0047】
図12は、ベースプレート33上に焼結体81が形成された状態を示す図である。ここで
図12に示すように、ベースプレート33は、端縁が上方に反り返るように変形している。これは、焼結体81を形成する際のレーザ光の照射によって、材料粉体層8が加熱されて溶融する際に膨張し、その後に冷却されて固化する際に収縮するため、焼結層81a,81b...と接触しているベースプレート33も焼結層81a,81b...の収縮に伴って、上方に反り返るように変形すると考えられる。そして、第1の工程において、ベースプレート33は、その重心Pの近傍が治具プレート7に対して固定されているため、ベースプレート33の端縁が上方に反り返ることとなる。
【0048】
第3の工程は、第2の工程で生成された焼結体81の少なくとも上面82を平坦に削り出す工程である。焼結体81の上面82は、切削または研削によって水平に平坦に削り出すことができる。取り代が比較的大きく焼結体81の上面82の面積が比較的小さい場合は、切削加工が有利であり、その反対は、研削加工が有利である。本発明の三次元造形物の製造方法を実施するための積層造形装置は、すでに説明されているように、スピンドル60を備えているので、切削によって焼結体81の上面
82を水平に平坦に削り出す。したがって、治具プレート7上に焼結体81
が積層されたベースプレート33を載置した状態でそのまま焼結体81の上面
82を平坦に削り出すことができるので、
治具プレート7を切削機械または研削機械に取り付け替えるときに生じる誤差の発生を防ぐとともに
治具プレート7の付替え作業の負担がない点で有利である。
【0049】
具体的には、第3の工程は、スピンドル60に装着された回転切削工具によって、焼結体81に対して切削加工を行う切削工程を実施する。
図13は、治具プレート7およびベースプレート33を右方向から左方向へ見た側面図を示す。
図13Aに示す例では、焼結体81の上面82は端縁が上方に反る形状となっている。ここで、焼結体81の上面82の反り具合は、ベースプレート33の反り具合に比べると緩やかとなる
。実施形態における第3の工程では、造形が完了した後の焼結体81の上面82に対して切削加工を行い、
図13Bに示す加工面84を形成する。本実施形態では、加工面84が水平面となるように平坦に削り出すようにしているが、その例に限定されない。ただし、第3の工程は、ベースプレート33の反り返りを伴う変形が終息してから行うのが好ましい。このようにすることで、焼結体81とベースプレート33の残留応力が釣り合っている状態で
上面82に対して加工を行うので、加工面84の形成後にベースプレート33が変形することがなく、加工面84の形状精度が低下することを防ぐことができる。なお、本実施形態における積層造形装置とは異なり、切削装置50を備えていない積層造形装置を用いる場合には、治具プレート7を造形テーブル5より取り外すことにより、上記切削工程を実施することが可能となる。第3の工程によって
平坦な加工面84が形成された所望の三次元造形物Eを得ることができる。
【0050】
第4の工程は、第3の工程後にベースプレート33を治具プレート7から取り外し、平坦に仕上
げられた焼結体81の
加工面84が下側に位置するように反転して所定の加工台D上に焼結体81を設置する。そして、ベースプレート33の裏面39を水平に平坦に削り出す。このとき、ベースプレート33と焼結体81との間で残留応力が釣り合っていて変形が生じないので、
図16に示されるように、形状精度が良好な三次元造形物Eを得ることができる。ベースプレート33の裏面39は、面積が比較的大きいので、研削によって水平に平坦に加工することが望ましいが、切削によって水平に平坦に削り出すことも可能である。
【0051】
本実施形態では、第3の工程において焼結体81の上面82を水平に平坦に削り出した後に、ベースプレート33の上面に複数の支柱38を取り付けて、複数の支柱38の上面をそれぞれ同じ高さの水平面上で水平に平坦に削り出してから複数の支柱38によってベースプレート33を上下逆に支持するようにする工程を実施する。
図14は、治具プレート7およびベースプレート33を右方向から左方向へ見た側面図を示す。具体的には、
図14Aに示すように、ベースプレート33の上面に複数の支柱38を取り付ける。本実施形態では、角柱状の支柱38をベースプレート33の上面における四隅に埋め込んでいるが、この例に限定されない。ここで、ベースプレート33に取り付けた支柱38の高さが、加工面84よりも高くなるようにする。その後、
図14Bに示すように、支柱38の上面に対して切削加工を行い、水平面38aを形成する。
【0052】
次に、
図15Aに示すように、ベースプレート33を治具プレート7から取り外し、所定の加工台D上にベースプレート33を逆さに載置する。このとき、ベースプレート33は、支柱38の水平面38aが加工台Dに接するように載置される。そして、
図15Bに示すように、ベースプレート33の裏面39を水平に平坦に削り出す第4の工程を実施し、ベースプレート33の裏面
39を削り出し水平面33aを形成する。最後に、支柱38を取り外してベースプレート33を含む三次元造形物Eを得る。支柱38を使用して仕上
げることによって、焼結体81の
加工面84に依存しないで焼結体81の
加工面84に平行な水平の基準面でベースプレート33を水平に平坦に削り出すことができるので、形状精度がより良好な三次元造形物Eを得ることができる。また、焼結体81の
加工面84の面積が小さいか殆ど存在しないときにもベースプレート33の裏面39を水平に平坦に削り出すことができる。したがって、実施形態の三次元造形物の製造方法は、ベースプレート33と一体で三次元造形物Eを得る場合に特に有効である。
【0053】
以上のようにして、
図16に示す三次元造形物Eが製造される。この三次元造形物Eは、例えば樹脂成形用の金型として利用することができる。上記方法では、焼結体81が形成される際にベースプレート33の変形を許容しているため、焼結体81とベースプレート33との間で残留応力が釣り合っており、それ以上変形することがない。そして、ベースプレート33の変形が終息した後に焼結体81の上面82
に対して、好ましくはさらにベースプレート
33の裏面39に対して水平に平坦に削り出す加工を行うため、依然として焼結体81とベースプレート33との間で残留応力が釣り合ったままであって水平に平坦に削り出す加工後にベースプレート33がさらに変形することはなく、三次元造形物
Eの形状精度を維持することができる。
【0054】
(他の実施形態)
なお、本願における技術的思想の適用範囲は、上記実施形態に限定されない。たとえば、上記実施形態にはおいては、ベースプレート33の中央を治具プレート7に対して2点で固定しているが、3点または4点などで固定してもよく、1点のみで固定してもよい。1点で固定する場合は、ベースプレート33が治具プレート7に対して回転しないように、側部に回転止めを設ける等の工夫があると好ましい。このように2点固定以外の場合においても、上記実施形態と同様の効果を奏することができる。