特許 6690980 ガラス基板の搬送方法、ガラス基板搬送装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6690980

(24)【登録日】2020年4月13日

(45)【発行日】2020年4月28日

(54)【発明の名称】ガラス基板の搬送方法、ガラス基板搬送装置

(51)【国際特許分類】

   B65G 51/03 20060101AFI20200421BHJP

   B65G 49/06 20060101ALI20200421BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20200421BHJP

【ＦＩ】

   B65G51/03 E

   B65G49/06 Z

   H01L21/68 A

【請求項の数】4

【全頁数】16

(21)【出願番号】特願2016-73675(P2016-73675)

(22)【出願日】2016年3月31日

(65)【公開番号】特開2017-186098(P2017-186098A)

(43)【公開日】2017年10月12日

【審査請求日】2019年3月6日

(73)【特許権者】

【識別番号】598055910

【氏名又は名称】ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社

(73)【特許権者】

【識別番号】508271425

【氏名又は名称】安瀚視特股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ Ｔａｉｗａｎ Ｉｎｃ．

(74)【代理人】

【識別番号】110000165

【氏名又は名称】グローバル・アイピー東京特許業務法人

(72)【発明者】

【氏名】伊崎 靖浩

(72)【発明者】

【氏名】福島 達也

【審査官】 土田 嘉一

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００７−０１４８４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−１２３２５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１６／０７３６７１（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ６５Ｇ ５１／０３

Ｂ６５Ｇ ４９／０６

Ｈ０１Ｌ ２１／６７７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第１の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第１の側と反対側の第２の側に流れた前記気体を吸い込むステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第１の側に位置する前記ガラス基板の第１の領域の部分を浮上させる第１の浮上力と、前記第２の側に位置する前記ガラス基板の第２の領域の部分を浮上させる第２の浮上力と、を調節し、
前記ガラス基板の第１の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて、前記押付圧を受ける前記第１の領域の部分に与える第１の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。

【請求項2】

ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第１の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第１の側と反対側の第２の側に流れた前記気体を吸い込む吹出吸込ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第１の側に位置する前記ガラス基板の第１の領域の部分を浮上させる第１の浮上力と、前記第２の側に位置する前記ガラス基板の第２の領域の部分を浮上させる第２の浮上力と、を調節する調節機構を有し、
前記調節機構は、前記気体が吹き出される前記搬送経路上の位置において、前記第１の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて前記第１の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板搬送装置。

【請求項3】

ガラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出すステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記ガラス基板が前記気体から板厚方向に受ける押付圧を受ける前記ガラス基板の領域に与える浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。

【請求項4】

ガラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、
前記浮上状態に維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出す吹出ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記気体が吹き出される前記搬送経路上の位置において、前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて前記浮上力を調節する調節機構を有していることを特徴とするガラス基板搬送装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガラス基板の搬送方法、およびガラス搬送装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置やプラズマディスプレイ装置などのディスプレイの表示部の部品として平らなガラス板が使用される。以下の説明では、このようなガラス板をフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用ガラス基板、あるいは単にガラス基板という。例えば、液晶表示装置においては、ガラス基板の間に封入された液晶に印加される電界を変化させ、液晶の配向を変化させることにより、動画の表示が可能になる。液晶表示装置の画像の表示の際に電界を変化させる必要があるため、ガラス基板には、電圧を印加するための透明な電極が形成される。

【0003】

ガラス基板上の電極に印加される電圧のオン・オフを制御するため、高品質な表示が必要なテレビ受像機などに用いられる液晶表示装置では、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を使ったアクティブ・マトリクス方式の制御が採用されている。このＴＦＴもガラス基板上に形成される。具体的には、液晶ディスプレイでは、光の透過量を制御するＴＦＴ（Thin Film Transistor）と液晶、カラーフィルタとを構成要素としている。液晶ディスプレイにおけるカラーフィルタパネルの製造方法は、通常、ガラス基板の表面に黒色のマトリックスを形成し、続いて、赤、緑、青の異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンで形成する方法が用いられている。

【0004】

ディスプレイの高精細化に伴い、ガラス基板の表面に配置されるブラックマトリックスの線幅およびピッチは小さくなっている。例えば、ディスプレイの高コントラスト化を達成するために、ブラックマトリックスの高細線化・高精細化（具体的には、２０μｍ未満の線幅）による開口率の向上、および、ブラックマトリックスの高い寸法精度による遮光性の向上が必要になっている。また、ディスプレイ画素数の高密度化に伴い、パターンサイズはカラーフィルタの用途並びにそれぞれの色により異なるが、一例としては、赤、緑、青の画素は２００〜３００μｍから１００μｍへ、ブラックマトリックスは２０μｍから１０μｍ、さらには５μｍへと細線技術が開発されている。

【0005】

このように、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板のガラス面上に、極めて薄い金属膜や半導体によって電極やアクティブな素子が形成されるため、ガラス基板のガラス表面には、極めて高い平坦性と極めて高い清浄性が要求される。

【0006】

このようなガラス基板の搬送には、搬送用ローラを用いた搬送方式が広く用いられている。搬送用ローラを用いた搬送方式の一例として、例えば、特許文献１に記載された方法が提案されている。特許文献１では、ガラス基板の搬送方向に沿って間隔をあけて複数本並べられ、かつ、複数のローラがシャフトに取り付けられてなる搬送ローラが回転駆動することで、ガラス基板は、搬送ローラ上を略水平な姿勢で搬送方向に沿って搬送される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２００８−２８５２４３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

ガラス基板は、板厚が薄いほど、また、サイズが大きいほど、撓みやすい。従来の搬送方式を用いて、板厚が薄いあるいはサイズが大きいガラス基板を搬送したときに、搬送中にガラス基板が撓んで、ガラス基板の搬送方向の先端部が、前方にあるローラの下方にもぐり込む場合があった。

【0009】

一方で、ガラス基板の製造工程では、成形されたガラス板を所定の基板サイズに切断する切断プロセスや、ガラス基板の端面を加工する端面加工プロセスなどで、切り屑などの異物が発生し、ガラス基板の表面に付着する場合がある。ガラス基板に異物が存在すると、パターンが良好に形成されず、最終製品であるＦＰＤの不良の原因となる。また、ガラス基板に付着した異物は、ガラス基板の表面に傷を生じさせて、ガラス基板の機械的強度を低下させる場合がある。

【0010】

本発明は、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することのできるガラス基板の搬送方法、およびガラス基板搬送装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明は、下記（１）から（４）を提供する。
（１）ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第１の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第１の側と反対側の第２の側に流れた前記気体を吸い込むステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第１の側に位置する前記ガラス基板の第１の領域の部分を浮上させる第１の浮上力と、前記第２の側に位置する前記ガラス基板の第２の領域の部分を浮上させる第２の浮上力と、を調節し、
前記ガラス基板の第１の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて、前記押付圧を受ける前記第１の領域の部分に与える第１の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。

【0012】

（２）ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第１の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第１の側と反対側の第２の側に流れた前記気体を吸い込む吹出吸込ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第１の側に位置する前記ガラス基板の第１の領域の部分を浮上させる第１の浮上力と、前記第２の側に位置する前記ガラス基板の第２の領域の部分を浮上させる第２の浮上力と、を調節する調節機構を有し、
前記調節機構は、前記気体が吹き出される前記搬送経路上の位置において、前記第１の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて前記第１の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板搬送装置。

【0013】

（３）ガラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップ
と、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向
に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側
で前記気体を吹き出すステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよ
う、前記ガラス基板が前記気体から板厚方向に受ける押付圧を受ける前記ガラス基板の領
域に与える浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。

【0014】

（４）ガラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニ
ットと、
前記浮上状態に維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユ
ニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向
に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側
で前記気体を吹き出す吹出ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記気体が吹
き出される前記搬送経路上の位置において、前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同
等の基準圧力に基づいて前記浮上力を調節する調節機構を有していることを特徴とするガ
ラス基板搬送装置。

【発明の効果】

【0015】

本発明によれば、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】ガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。

【図2】ガラス基板搬送装置の概略を示す図である。

【図3】ガラス基板搬送装置を側方から見て示す図である。

【図4】ガラス基板搬送装置を示す斜視図である。

【図5】（ａ）は、ガラス基板搬送装置の変形例を示す斜視図であり、（ｂ）は、ガラス基板搬送装置の別の変形例を示す斜視図である。

【図6】ガラス基板搬送装置のさらに別の変形例を説明する斜視図である。

【図7】図６のガラス基板搬送装置を上方から見て示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本実施形態のガラス基板の搬送方法、およびガラス基板搬送装置について説明する。
（１）ガラス基板の製造方法の概略
本実施形態で製造されるガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよび有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に用いられる。ガラス基板Ｇは、例えば、０.２ｍｍ〜０.８ｍｍの厚みを有し、かつ、縦６８０ｍｍ〜２２００ｍｍおよび横８８０ｍｍ〜２５００ｍｍのサイズを有する。

【0018】

ガラス基板Ｇの一例として、以下の組成を有するガラスが挙げられる。

【0019】

（ａ）ＳｉＯ₂：５０質量％〜７０質量％、
（ｂ）Ａｌ₂Ｏ₃：１０質量％〜２５質量％、
（ｃ）Ｂ₂Ｏ₃：５質量％〜１８質量％、
（ｄ）ＭｇＯ：０質量％〜１０質量％、
（ｅ）ＣａＯ：０質量％〜２０質量％、
（ｆ）ＳｒＯ：０質量％〜２０質量％、
（ｇ）ＢａＯ：０質量％〜１０質量％、
（ｈ）ＲＯ:５質量％〜２０質量％（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａから選択される少なくとも１種である。）、
（ｉ）Ｒ’₂Ｏ:０質量％〜２．０質量％（Ｒ’は、Ｌｉ、ＮａおよびＫから選択される少なくとも１種である。）、
（ｊ）ＳｎＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃およびＣｅＯ₂から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物。

【0020】

なお、上記の組成を有するガラスは、０．１質量％未満の範囲で、その他の微量成分の存在が許容される。

【0021】

図１は、ガラス基板Ｇの製造工程を表すフローチャートの一例である。ガラス基板Ｇの製造工程は、主として、成形工程（ステップＳ１）と、採板工程（ステップＳ２）と、切断工程（ステップＳ３）と、端面加工工程（ステップＳ４）と、粗面化工程（ステップＳ５）と、洗浄工程（ステップＳ６）と、検査工程（ステップＳ７）と、梱包工程（ステップＳ８）とからなる。

【0022】

成形工程Ｓ１では、ガラス原料を加熱して得られた熔融ガラスから、ダウンドロー法またはフロート法によって、ガラスシートが連続的に成形される。成形されたガラスシートは、歪みおよび反りが発生しないように温度制御されながら、ガラス徐冷点以下まで冷却される。

【0023】

採板工程Ｓ２では、成形工程Ｓ１で成形されたガラスシートが切断されて、所定の寸法を有する素板ガラスが得られる。

【0024】

切断工程Ｓ３では、採板工程Ｓ２で得られた素板ガラスが切断されて、製品サイズのガラス基板Ｇが得られる。一般的に、素板ガラスは、カッターまたはレーザを用いて切断される。

【0025】

端面加工工程Ｓ４では、切断工程Ｓ３で得られたガラス基板Ｇの端面加工が行われる。端面加工は、例えば、ガラス基板Ｇの端面の研磨および研削、ガラス基板Ｇのコーナーカットである。

【0026】

粗面化工程Ｓ５では、端面加工工程Ｓ４で端面加工処理が行われたガラス基板Ｇの表面粗さを増加させる粗面化処理が行われる。ガラス基板Ｇの粗面化処理は、例えば、フッ化水素を含むエッチャントを用いるウェットエッチングである。

【0027】

洗浄工程Ｓ６では、粗面化工程Ｓ５で粗面化処理が行われたガラス基板Ｇが洗浄される。ガラス基板Ｇには、素板ガラスの切断、および、ガラス基板Ｇの端面加工によって生じた微小なガラス片や、雰囲気中に存在する有機物等の異物が付着している。ガラス基板Ｇの洗浄によって、これらの異物が除去される。

【0028】

検査工程Ｓ７では、洗浄工程Ｓ６で洗浄されたガラス基板Ｇが検査される。具体的には、ガラス基板Ｇが搬送されながら、ガラス基板Ｇの表面に存在する傷およびクラック、ガラス基板Ｇの表面に付着している異物、および、ガラス基板Ｇの内部に存在している微小な泡等の欠陥が、光学的に検知される。

【0029】

梱包工程Ｓ８では、検査工程Ｓ７における検査に合格したガラス基板Ｇが、ガラス基板Ｇを保護するための合紙と交互にパレット上に積層されて、梱包される。梱包されたガラス基板Ｇは、ＦＰＤの製造業者等に出荷される。

【0030】

本実施形態のガラス基板の搬送方法は、例えば、採板工程（Ｓ２）、切断工程（Ｓ３）、端面加工工程（Ｓ４）の各工程の後に行われる。図２に、一例として、切断工程（Ｓ５）の後に行われるガラス基板Ｇの搬送を概略的に示す。切断工程（Ｓ３）は、図２に示す例において、切断ゾーン１に配置された切断装置１０によって行われる。ガラス基板Ｇは、切断工程（Ｓ３）の後、端面加工工程（Ｓ４）の前に、切断ゾーン１を通過するように搬送方向（Ｘ方向）に沿って搬送される。切断ゾーン１に搬送されたガラス基板Ｇは、搬送を停止した状態で、あるいは、搬送されながら切断装置１０による端面加工が施され、端面加工されたガラス基板Ｇは、下流側に搬送され、切断ゾーン１から搬出される。本実施形態のガラス基板の搬送方法を行うガラス基板搬送装置は、図２に示す例において、切断ゾーン１内の切断装置１０の下流側に配置されている。

【0031】

（２）ガラス基板搬送装置の詳細
本実施形態のガラス基板搬送装置は、ガラス基板に浮上力を与えて、ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、浮上状態に維持しつつガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、ガラス基板の主表面上を一方向に沿った方向または一方向と交差する方向に気体が流れるよう、浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で（例えば主表面に向けて）気体を吹き出す吹出ユニットと、を備え、浮上ユニットは、ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、気体が吹き出される搬送経路上の位置において、気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて浮上力を調節する調節機構を有している。
このガラス基板搬送装置では、浮上状態に維持されつつ搬送されるガラス基板の主表面のうち、浮上力が与えられる主表面と反対側の主表面の側で気体が吹き出され、当該主表面上を、搬送方向（一方向）に沿った方向または搬送方向と交差する方向に気体が流れる。この気体の流れが、ガラス基板の主表面に付着した異物に接触することで、異物は主表面から除去される。一方で、ガラス基板に与えられる浮上力が上記のように調節されることによって、吹き出された気体から押付圧を受けたガラス基板の部分が、浮上力に抗して沈み込むことが抑制される。このため、ガラス基板の撓みの発生が抑えられ、ガラス基板を略水平な姿勢で搬送することができる。すなわち、本実施形態によれば、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することができる。なお、主表面の側で気体を吹き出す態様として、当該主表面に向けて気体を吹き出す態様のほか、吹き出された気体の少なくとも一部が当該主表面に吹き付けられる態様が含まれる。また、主表面の側という場合、主表面と平行な方向に延在する平面内の位置であってガラス基板の端から外側の位置も、主表面の側に含まれる。

【0032】

図３、図４、および図７を参照しながら、本実施形態に係るガラス基板搬送装置１００をより具体的に説明する。図３は、ガラス基板搬送装置１００を側方から（図７のＹ方向に）見て示す図である。図４は、ガラス基板搬送装置を示す斜視図である。図７は、ガラス基板搬送装置１００の変形例を上方から見て示す図である。ガラス基板搬送装置１００は、主として、浮上ユニット２０と、搬送ユニット３０（図７参照）と、吹出吸込ユニット５０とからなる。浮上ユニット２０は、図７の変形例においても同様に構成されているため、便宜的に図７を参照しながら説明する。図３および図４において、搬送ユニット３０の図示は省略されている。図３および図７において、吹出吸込ユニット５０の図示は省略されている。図３、図４、および図７において、ガラス基板Ｇの搬送方向（Ｘ方向）と直交する平面内の水平方向は、ガラス基板Ｇの幅方向（Ｙ方向）であり、ガラス基板Ｇの搬送方向と直交する平面内の鉛直方向は、ガラス基板Ｇの板厚方向（Ｚ方向）である。以降の説明において、ガラス基板Ｇの搬送方向に平行なガラス基板Ｇの端部を側端部といい、ガラス基板Ｇの幅方向に平行な端部を先端部および後端部という。なお、ガラス基板の側端部Ｇ１（図６参照）および側端部Ｇ２（図６参照）は、互いに平行でなくても良い。

【0033】

（２−１）浮上ユニット
浮上ユニット２０は、略水平な姿勢で搬送されるガラス基板Ｇの下面に気体を吹き付けてガラス基板Ｇを浮上させるユニットである。水平な姿勢とは、ガラス基板Ｇの板厚方向が鉛直方向と一致するガラス基板Ｇの姿勢、言い換えると、ガラス基板Ｇの主表面が鉛直方向を向くガラス基板Ｇの姿勢をいう。略水平な姿勢には、水平な姿勢のほか、ガラス基板Ｇの板厚方向が鉛直方向に対し±１０度の範囲内で傾斜した姿勢が含まれる。以降の説明において、ガラス基板Ｇの主表面のうち上方を向く主表面を上面といい、下方を向く主表面を下面という。

【0034】

浮上ユニット２０は、複数のフロートパネル２２（図７参照）と、調節機構２６とを有している。
複数のフロートパネル２２は、図７に示される例において、ガラス基板Ｇの搬送方向に沿って並べられたフロートパネル２２の列を形成するとともに、フロートパネル２２の列がガラス基板Ｇの幅方向に沿って並べられたフロートパネルアレイ２４を形成している。幅方向に隣り合うフロートパネル２２の列同士は、接続部材２８により連結されている。フロートパネルアレイ２４を構成するすべてのフロートパネル２２の上面は、同じ高さ位置に位置しており、搬送されるガラス基板Ｇと対向する１つの平面が形成されている。また、図７に示す例において、幅方向に隣り合うフロートパネル２２の列の間で、フロートパネル２２の搬送方向の位置はオフセットされている。
フロートパネル２２は、例えば、多孔質な材料、あるいは、多数の孔が形成された中実の金属材料で構成されている。多孔質な材料は、例えば、カーボン、アルミナ、ジルコニア等の材料を成形し、焼結させたものである。なお、図３において、フロートパネルアレイ２４は、ガラス基板Ｇの搬送方向に沿った一部の領域のみが示される。

【0035】

フロートパネル２２は、図３に示されるように、噴出機構２２ａと、吸引機構２２ｃとを有する。
噴出機構２２ａは、フロートパネル２２の上方に向かって気体を噴出する機構である。噴出機構２２ａは、例えば、フロートパネル２２の表面に形成される多数の微小孔から、気体を噴出する。気体は、例えば圧搾されたエアである。なお、図３において、噴出機構２２ａは、便宜的に、１つのフロートパネル２２に２箇所に位置するように示される。噴出された気体は、搬送されるガラス基板Ｇの下面に吹き付けられる。これにより、搬送されるガラス基板Ｇは、上向きの力を受け、フロートパネル２２の上面から浮上する。噴出機構２２ａから噴出される気体は、エアに制限されず、例えば、窒素ガス、希ガス等であってもよい。また、噴出機構２２ａは、気体の代わりに、水等の液体を噴出するものであってもよい。

【0036】

吸引機構２２ｃは、フロートパネル２２の上面からフロートパネル２２内に気体を吸引する機構である。吸引機構２２ｃは、例えば、フロートパネル２２の上面側に開放された孔から、気体を吸引する。吸引機構２２ｃによって気体が吸引されることで、搬送されるガラス基板Ｇの下面と、フロートパネル２２の上面との間において、吸引機構２２ｃの近傍の空間は、負圧の状態になる。これにより、搬送されるガラス基板Ｇは、下向きの力を受ける。この下向きの力は、搬送されるガラス基板Ｇの形状をある程度強制する機能を有している。搬送されるガラス基板Ｇと対向するフロートパネルアレイ２４の領域で発生する、噴出機構２２ａによる上向きの力および吸引機構２２ｃによる下向きの力の合力が、ガラス基板Ｇを浮上させる浮上力である。浮上力は、鉛直方向の上方を向く力である。浮上力がガラス基板Ｇに与えられることで、ガラス基板Ｇの浮上状態が維持される。

【0037】

フロートパネルアレイ２４の幅方向の寸法は、ガラス基板Ｇの幅方向の寸法より長い。フロートパネル２２の搬送方向の寸法は、例えば、１００ｍｍ〜１５０ｍｍである。浮上しているガラス基板Ｇの下面と、フロートパネル２２の上面との間の距離は、例えば、２５μｍ〜３５μｍである。なお、図３において、ガラス基板Ｇとフロートパネル２２との間の間隔は誇張して示されている。

【0038】

調節機構２６は、ガラス基板Ｇが略水平な姿勢で搬送されるよう、吹出吸込ユニット５０の吸込装置５２（後述）に対して吹出装置５１（後述）が配置された側（第１の側）のガラス基板Ｇの領域の部分（第１の部分）を浮上させる第１の浮上力と、吹出装置５１に対して吸込装置５２が配置された側（第２の側）のガラス基板Ｇの領域の部分（第２の部分）を浮上させる第２の浮上力と、を調節する機構である。第１の部分は、図４に示される例において、吹出吸込ユニット５０の吹出装置５１（後述）から吹き出された気体が吹き付けられるガラス基板Ｇの領域の部分である。第２の部分は、図４に示される例において、第１の部分と搬送方向の下流側に間隔をあけて位置する領域であって、第１の部分が位置する領域と同じ幅方向位置の領域の部分である。第１の部分、第２の部分がそれぞれ延在する幅方向の長さはそれぞれ、例えば、吹出装置５１と吸込装置５２の間の搬送方向の間隔の１／１０〜１／３の長さである。
調節機構２６は、具体的に、噴出機構２２ａから噴出される気体の圧力、および、吸引機構２２ｃによる気体の吸込圧力を制御することで、第１の浮上力および第２の浮上力を調節する。調節機構２６は、より具体的に、第１の部分が気体から板厚方向に受ける押付圧（後述）と略同等の基準圧力に基づいて、第１の浮上力を調節することで、第１の浮上力および第２の浮上力を調節する。具体的な調節の方法は、後述する。

【0039】

なお、図４に示されるガラス基板搬送装置１００では、浮上搬送されるガラス基板Ｇは、フロートパネルアレイ２４を挟んで搬送方向の上流側および下流側に配置されたローラ４０に支持される。

【0040】

（２−２）搬送ユニット
搬送ユニット３０は、浮上ユニット２０によって浮上させたガラス基板Ｇを、搬送方向に沿って搬送するユニットである。搬送ユニット３０は、主として、図７に示されるように、保持部３２と、搬送部３４とを備える。

【0041】

保持部３２は、ガラス基板Ｇの端部（図７において側端部Ｇ１）を保持する。保持部３２は、例えば、ガラス基板Ｇを保持するための吸着機構を備えている。搬送部３４は、保持部３２を搬送方向に沿って移動させるリニア駆動機構を備えている。

【0042】

（２−３）吹出吸込ユニット
吹出吸込ユニット５０は、ガラス基板Ｇの第１の側において、搬送ユニット３０により搬送されるガラス基板Ｇよりも上方の位置から、ガラス基板Ｇの上面に向けて気体を噴出し、第２の部分の側に流れた気体を吸い込むユニットである。吹出吸込ユニット５０は、具体的に、ガラス基板Ｇの上面上を、第１の側から第２の側に気体が流れるよう、気体の吹き出しおよび吸い込みを行う。なお、気体の流れる方向は、図４に示される例においてガラス基板Ｇの搬送方向に沿った方向であるが、吹出装置５１が配置された側から、吸込装置５２が配置された側に流れる気流が形成されるのであれば、気体の流れる方向は、ガラスの搬送方向あるいは幅方向に対して傾斜していてもよい。また、気体の流れる方向は、複数あってもよい。この場合に、図５（ａ）において幅方向を向く複数の矢印で示されるように、隣り合った気体の流れる方向が互いに逆向きであってもよく、図５（ｂ）において搬送方向を向く矢印で示されるように、吹出装置５１の上流側および下流側において互いに逆向きであってもよい。なお、図５（ａ）は、ガラス基板搬送装置１００の変形例を示す斜視図であり、図５（ｂ）は、ガラス基板搬送装置１００の別の変形例を示す斜視図である。図５（ａ）に示す吹出吸込ユニット５０は、吹出装置５１および吸込装置５２をそれぞれ複数有している。吹出装置５１は、幅方向の両側に気体を吹き出す。図５（ｂ）において、吸込装置５２は、搬送方向の両側に気体を吹き出す。図５（ｂ）に示す吹出吸込ユニット５０は、１つの吹出装置５１および複数の吸込装置５２を有している。

【0043】

吹出吸込ユニット５０は、吹出装置５１と、吸込装置５２とを有している。
吹出装置５１は、気体をガラス基板Ｇの上面に向けて吹き出す装置である。気体は、例えば、空気、窒素ガス、希ガス等である。吹出装置５１は、ガラス基板Ｇの幅方向に沿って延びるよう開口された吹出口５１ａ（図６参照）を有している。図６は、ガラス基板搬送装置１００のさらに別の変形例を説明する斜視図である。吹出口５１ａは、搬送されるガラス基板Ｇより上方であってガラス基板Ｇに近傍位置に位置しており、図４に示す例において、搬送されるガラス基板Ｇの幅方向領域を超える幅方向領域にわたり位置している。吹出装置５１から気体が吹き出されると、搬送されるガラス基板Ｇの第１の部分には、吹き出された気体の圧力のうち、板厚方向の下方を向く押付圧が作用する。なお、吹出装置５１は、搬送方向に移動する保持部３２と接触しないよう配置される。吹出装置５１から吹き出される気体の圧力は、異物の除去力を高めるため、エアナイフで一般に用いられる吹出圧力よりも高いことが好ましい。

【0044】

吸込装置５２は、吹出装置５１から吹き出され、ガラス基板Ｇの上面上を第２の側に流れた気体を吸い込む装置である。吸込装置５２によって気体が吸い込まれることで、搬送されるガラス基板Ｇの上面上に、第１の側から第２の側に向かって流れる気体の流れが形成される。ガラス基板Ｇに付着した異物は、この気体の流れに接触することで、ガラス基板Ｇから脱離し、除去される。異物は、例えば、ガラス基板の採板、切断、端面加工によって発生した微小なガラス片（切り屑）や、雰囲気中に存在する埃等である。
吸込装置５２は、ガラス基板Ｇの幅方向に沿って延びるよう開口された吸込口５２ａを有している。吸込口５２ａは、図４に示される例において、吹出装置５１とほぼ同じ鉛直方向位置に配置されている。

【0045】

吹出装置５１の吹出量と吸込装置５２の吸込量は等しくてもよく、吹出装置５１の吹出量よりも吸込装置５２の吸込量が多くてもよい。また、吹出吸込ユニット５０は、図４に示す例において、ガラス基板Ｇの搬送経路上の所定位置に固定されているが、搬送方向に移動するよう構成されていてもよい。この場合、例えば、ガラス基板Ｇの搬送を一時的に停止させ、吹出吸込ユニット５０を搬送方向に移動させることで、ガラス基板Ｇを搬送方向の全体にわたって異物の除去を行うことができる。
また、吹出吸込ユニット５０は、搬送経路上の複数の位置に配置されていてもよい。この場合に、吹出装置および吸込装置の互いの配置位置が、吹出吸込ユニット５０の間で異なっていてもよい。例えば、図４に示される例とは逆に、吹出装置５１が第２の側に配置され、吸込装置５２が第１の側に配置されていてもよい。また、吹出吸込ユニット５０の間で、吹出量および吸込量が異なっていてもよい。
また、吹出装置５１は、ガラス基板Ｇに付着した異物を振動させ、除去しやすくするために、気体を吹き出すほか、さらに超音波を照射するものであっても良い。

【0046】

次に、本実施形態のガラス基板の搬送方法について説明する。
本実施形態のガラス基板の搬送方法は、ガラス基板に浮上力を与えて、ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、浮上状態を維持しつつガラス基板を一方向に搬送するステップと、ガラス基板の主表面上を一方向に沿った方向または一方向と交差する方向に気体が流れるよう、浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で（例えば主表面に向けて）気体を吹き出すステップと、を備え、浮上状態を維持するステップでは、ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、ガラス基板が気体から板厚方向に受ける押付圧を受けるガラス基板の領域に与える浮上力を調節する。
このガラス基板の搬送方法では、浮上状態に維持されつつ搬送されるガラス基板の主表面のうち、浮上力が与えられる主表面と反対側の主表面の側で気体が吹き出され、当該主表面上を、搬送方向（一方向）に沿った方向または搬送方向と交差する方向に気体が流れる。この気体の流れが、ガラス基板の主表面に付着した異物に接触することで、異物は主表面から除去される。一方で、ガラス基板に与えられる浮上力が上記のように調節されることによって、吹き出された気体から押付圧を受けたガラス基板の部分が、浮上力に抗して沈み込むことが抑制される。このため、ガラス基板の撓みの発生が抑えられ、ガラス基板を略水平な姿勢で搬送することができる。すなわち、本実施形態によれば、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することができる。なお、主表面の側で気体を吹き出す態様として、当該主表面に向けて気体を吹き出す態様のほか、吹き出された気体の少なくとも一部が当該主表面に吹き付けられる態様が含まれる。また、主表面の側という場合、主表面と平行な方向に延在する平面内の位置であってガラス基板の端から外側の位置も、主表面の側に含まれる。

【0047】

より具体的に、本実施形態のガラス基板の搬送方法を説明する。
図２に示す例において、端面加工工程（Ｓ４）が終了すると、ガラス基板Ｇは、ガラス基板搬送装置１００によって搬送方向に沿って搬送される。具体的に、ガラス基板Ｇは、ローラ４０で支持されながら、浮上ユニット２０から吹き出される気体によってフロートパネルアレイ２４の上面から所定の浮上高さ浮上した状態が維持される。この状態で搬送されることで、ガラス基板Ｇは浮上状態を維持しつつ搬送される。そして、ガラス基板Ｇは、搬送経路上の所定位置で、吹出吸込ユニット５０によって形成された、第１の部分の側から第２の部分の側に流れる気流に接触することで、ガラス基板Ｇの上面に付着したガラス屑等の異物は、ガラス基板Ｇの上面から脱離し、除去される。

【0048】

このとき、ガラス基板Ｇの第１の部分には、吹出装置５１によって吹き出された気体によって板厚方向の下方に押付圧が作用し、第１の部分は下方に沈み込もうとする。調節機構２６は、このような沈み込みを抑制するために、第１の浮上力と第２の浮上力とを調節する。具体的には、第１の浮上力を、押付圧と略同等の基準圧力に基づいて調節することで、第１の浮上力と第２の浮上力とを調節する。押付け圧と略同等の基準圧力とは、圧力の大きさが押付圧と略同等であり、かつ、圧力の向きが押付圧と逆向きである圧力をいう。圧力の大きさが略同等であるとは、基準圧力の大きさが、例えば、押付圧の絶対値の±１０％の範囲内にあることをいう。また、基準圧力に基づいて第１の浮上力を調節するとは、具体的には、基準圧力に、気体が吹き出される第１の部分の領域の面積を乗じて計算される力に基づいて、第１の浮上力を調節することをいう。第１の部分の領域の面積は、例えば、第１の部分の幅方向長さに第１の部分の搬送方向長さを掛けることで計算される。第１の浮上力は、具体的には、第１の部分と対向するフロートパネルアレイ２４の領域における、噴出機構２２ａから噴出される気体による上向きの力と、吸引機構２２ｃによって気体が吸引されることで生じる下向きの力との合力である。基準圧力に基づいて第１の浮上力を調整することの具体的な態様として、第１の浮上力を、上記計算される力と等しくなるよう、噴出機構２２ａ及び吸引機構２２ｃを調節することが挙げられる。このように基準圧力に基づいて第１の浮上力を調節することで、押圧力に抗して第１の部分の浮上高さを維持することができ、ガラス基板Ｇを略水平な状態に保つことができる。なお、第１の浮上力の調節は、例えば、フロートパネルアレイ２４の上面からの第１の部分の浮上高さを測定しながら行うことができる。

【0049】

このように第１の浮上力を調節することにより、ガラス基板Ｇの第１の部分が下方への沈み込みが抑制され、ガラス基板Ｇの撓みが抑制される。これにより、ガラス基板Ｇを略水平な姿勢で搬送することができる。本実施形態によれば、搬送中のガラス基板Ｇの撓みを抑制しつつ、ガラス基板Ｇの表面に付着した異物を除去することができる。

【0050】

なお、調節機構２６による第１の浮上力および第２の浮上力の調節には、第１の浮上力を行うことによって、第２の浮上力が第１の浮上力に対して相対的に調節されることも含まれる。すなわち、第１の浮上力の調節だけを行い、第２の浮上力の調節を行わなくてもよい。一方で、第１の浮上力および第２の浮上力の両方の調節を行ってもよい。第２の浮上力の調節は、第２の部分、あるいは、吹出装置５１と対向するフロートパネルアレイ２４の領域にある噴出機構２２ａおよび吸引機構２２ｃを調節することで行うことができる。

【0051】

第１の浮上力の調節は、ガラス基板Ｇが吹き飛ばない程度の吸着力を維持するため、噴出機構２２ａおよび吸引機構２２ｃの少なくとも一方を調節することにより行うことができる。また、第１の浮上力を精度よく調節するために、調節機構２６は、搬送方向にわたって存在する噴出機構２２ａおよび吸引機構２２ｃのうち、同じ搬送方向位置にある噴出機構２２ａおよび吸引機構２２ｃごとに、第１の浮上力を調節してもよい。
また、調節機構２６による調節は、第１の浮上力の第２の浮上力の調節に制限されず、第１の部分および第２の部分を除く領域の浮上力の調節を含むものであってもよく、ガラス基板Ｇ全体を浮上させる浮上力の調節であってもよい。

【0052】

図６を参照して、ガラス基板搬送装置１００の変形例を説明する。
この変形例の構成、および、変形例によって行われるガラス基板の搬送方法は、以降の説明を除いて、上記実施形態と同様である。
なお、図６において、搬送ユニット３０の図示は省略されている。また、図６に示すフロートパネルアレイ２４は、吹出吸込ユニット５０をわかりやすく説明するために、ガラス基板Ｇの幅方向の領域のうち、両端を含む領域が省略されている。図６において、ガラス基板Ｇとフロートパネル２２との間の間隔は誇張して示されている。

【0053】

この変形例の調節機構２６は、ガラス基板Ｇが略水平な姿勢で搬送されるよう、ガラス基板Ｇの一方の側端部Ｇ１（第１の端部）を浮上させる第１の浮上力と、他方の側端部Ｇ２（第２の端部）を浮上させる第２の浮上力と、を調節する機構である。側端部Ｇ１および側端部Ｇ２は、ガラス基板Ｇの幅方向の端を含む部分であって、幅方向の端から幅方向の内側に向かって延在する部分をいう。側端部Ｇ１、側端部Ｇ２がそれぞれ延在する幅方向の長さはそれぞれ、例えば、ガラス基板Ｇの幅方向長さの１／１０〜１／３の長さであり、例えば、幅方向の端から幅方向に０ｍｍを超え４０ｍｍ以下の長さである。なお、図６において、側端部Ｇ１は、後述する吹出吸込ユニット５０によって気体が吹き出される領域によって示され、側端部Ｇ２は、この領域と同じ搬送方向位置の領域で示される。

【0054】

搬送ユニットは、上記説明した搬送ユニット３０である。

【0055】

吹出吸込ユニット５０は、ガラス基板Ｇの側端部Ｇ１の側において、搬送ユニット３０により搬送されるガラス基板Ｇよりも上方の位置から、ガラス基板Ｇの上面に向けて気体を噴出し、側端部Ｇ２の側に流れた気体を吸い込むユニットである。吹出吸込ユニット５０は、具体的に、ガラス基板Ｇの上面上を、側端部Ｇ１の側から側端部Ｇ１の側に気体が流れるよう、気体の吹き出しおよび吸い込みを行う。なお、気体の流れる方向は、図６に示される例においてガラス基板Ｇの幅方向に沿った方向であるが、吹出装置５１が配置された幅方向の側（第１の側）から吸込装置５２が配置された幅方向の側（第２の側）に流れる気流が形成されるのであれば、気体の流れる方向は、ガラスの搬送方向あるいは幅方向に対して、Ｘ方向の側あるいはＸ方向と逆側に傾斜した方向であってもよい。

【0056】

吹出吸込ユニット５０は、吹出装置５１と、吸込装置５２とを有している。
吹出装置５１は、気体をガラス基板Ｇの上面に向けて吹き出す装置である。気体は、例えば、空気、窒素ガス、希ガス等である。吹出装置５１は、ガラス基板Ｇの搬送方向に沿って延びるよう開口された吹出口５１ａを有している。吹出口５１ａは、搬送されるガラス基板Ｇより上方に位置しており、図６に示す例において、搬送されるガラス基板Ｇの幅方向の外側に位置している。吹出装置５１から気体が吹き出されると、搬送されるガラス基板Ｇの側端部Ｇ１には、吹き出された気体の圧力に応じた大きさの、板厚方向の下方を向く押付圧が作用する。なお、吹出装置５１は、搬送方向に移動する保持部３２と接触しないよう配置される。

【0057】

吸込装置５２は、吹出装置５１から吹き出され、ガラス基板Ｇの上面上を側端部Ｇ２の側に流れた気体を吸い込む装置である。吸込装置５２によって気体が吸い込まれることで、搬送されるガラス基板Ｇの上面上に、側端部Ｇ１の側から側端部Ｇ２の側に向かって流れる気体の流れが形成される。
吸込装置５２は、ガラス基板Ｇの搬送方向に沿って延びるよう開口された吸込口５２ａを有している。吸込口５２ａは、図６に示される例において、搬送されるガラス基板Ｇとほぼ同じ鉛直方向位置に配置され、搬送されるガラス基板Ｇの幅方向の外側に位置している。

【0058】

吹出吸込ユニット５０は、図６に示す例において、ガラス基板Ｇの搬送経路上の所定位置に固定されているが、搬送方向に移動するよう構成されていてもよい。この場合、例えば、上記搬送部３４によってガラス基板Ｇの搬送を一時的に停止させ、吹出吸込ユニット５０を搬送方向に移動させることで、ガラス基板Ｇを搬送方向の全体にわたって異物の除去を行うことができる。
また、吹出吸込ユニット５０は、例えば、図６に示される例とは逆に、吹出装置５１が側端部Ｇ２の側に配置され、吸込装置５２が側端部Ｇ１の側に配置されていてもよい。

【0059】

図６に示す変形例では、ガラス基板Ｇは、保持部３２によって側端部Ｇ１が保持されとともに、浮上ユニット２０から吹き出される気体によってフロートパネルアレイ２４の上面から所定の浮上高さ浮上した状態が維持される。この状態で搬送部３４により搬送されることで、ガラス基板Ｇは浮上状態を維持しつつ搬送される。そして、ガラス基板Ｇは、搬送経路上の所定位置で、吹出吸込ユニット５０によって形成された、側端部Ｇ１の側から側端部Ｇ２の側に流れる気流に接触することで、ガラス基板Ｇの上面に付着したガラス屑等の異物は、ガラス基板Ｇの上面から脱離し、除去される。

【0060】

このとき、ガラス基板Ｇの側端部Ｇ１には、吹出装置５１によって吹き出された気体によって板厚方向の下方に押付圧が作用し、側端部Ｇ１は下方に沈み込もうとする。調節機構２６は、このような沈み込みを抑制するために、第１の浮上力と第２の浮上力とを調節する。具体的には、第１の浮上力を、押付圧と略同等の基準圧力に基づいて調節することで、第１の浮上力と第２の浮上力とを調節する。押付け圧と略同等の基準圧力とは、圧力の大きさが押付圧と略同等であり、かつ、圧力の向きが押付圧と逆向きである圧力をいう。圧力の大きさが略同等であるとは、基準圧力の大きさが、例えば、押付圧の絶対値の±１０％の範囲内にあることをいう。また、基準圧力に基づいて第１の浮上力を調節するとは、具体的には、基準圧力に、気体が吹き出される側端部Ｇ１の領域の面積を乗じて計算される力に基づいて、第１の浮上力を調節することをいう。第１の浮上力は、具体的には、側端部Ｇ１と対向するフロートパネルアレイ２４の領域における、噴出機構２２ａから噴出される気体による上向きの力と、吸引機構２２ｃによって気体が吸引されることで生じる下向きの力との合力である。基準圧力に基づいて第１の浮上力を調整することの具体的な態様として、第１の浮上力を、上記計算される力と等しくなるよう、噴出機構２２ａ及び吸引機構２２ｃを調節することが挙げられる。このように基準圧力に基づいて第１の浮上力を調節することで、押圧力に抗して側端部Ｇ１の浮上高さを維持することができ、ガラス基板Ｇを略水平な状態に保つことができる。なお、第１の浮上力の調節は、例えば、フロートパネルアレイ２４の上面からの側端部Ｇ１の浮上高さを測定しながら行うことができる。

【0061】

このように第１の浮上力を調節することにより、ガラス基板Ｇの側端部Ｇ１が下方への沈み込みが抑制され、ガラス基板Ｇの撓みが抑制される。これにより、ガラス基板Ｇを略水平な姿勢で搬送することができる。本実施形態によれば、搬送中のガラス基板Ｇの撓みを抑制しつつ、ガラス基板Ｇの表面に付着した異物を除去することができる。

【0062】

なお、第２の浮上力の調節は、側端部Ｇ２と対向するフロートパネルアレイ２４の領域にある噴出機構２２ａおよび吸引機構２２ｃを調節することで行うことができる。また、調節機構２６による調節は、第１の浮上力の第２の浮上力の調節に制限されず、側端部Ｇ１および側端部Ｇ２を除く領域の浮上力の調節を含むものであってもよく、ガラス基板Ｇ全体を浮上させる浮上力の調節であってもよい。

【0063】

以上、本発明のガラス基板の搬送方法およびガラス基板搬送装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
ガラス基板の搬送方法は、端面加工工程の後に制限されず、例えば、採板工程の後、端面加工工程の後に行われてもよい。また、複数の工程の後に行われてもよい。
また、ガラス基板に浮上力を与えることを、ガラス基板に流体を吹き付けることによって行うことに制限されず、他の手段を用いて行ってもよい。

【符号の説明】

【0064】

２０ 浮上ユニット
２６ 調節機構
３０ 搬送ユニット
５０ 吹出吸込ユニット
１００ ガラス基板搬送装置
Ｇ ガラス基板
Ｇ１ 第１の側端部
Ｇ２ 第２の側端部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】