特許 6692562 有機発光装置およびその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6692562

(24)【登録日】2020年4月17日

(45)【発行日】2020年5月13日

(54)【発明の名称】有機発光装置およびその製造方法

(51)【国際特許分類】

   H05B 33/02 20060101AFI20200427BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20200427BHJP

   H05B 33/24 20060101ALI20200427BHJP

   H05B 33/12 20060101ALI20200427BHJP

   H05B 33/04 20060101ALI20200427BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20200427BHJP

   G02B 5/30 20060101ALI20200427BHJP

【ＦＩ】

   H05B33/02

   H05B33/14 A

   H05B33/24

   H05B33/12 B

   H05B33/04

   H05B33/10

   G02B5/30

【請求項の数】15

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2016-15373(P2016-15373)

(22)【出願日】2016年1月29日

(65)【公開番号】特開2016-149350(P2016-149350A)

(43)【公開日】2016年8月18日

【審査請求日】2019年1月18日

(31)【優先権主張番号】10-2015-0020948

(32)【優先日】2015年2月11日

(33)【優先権主張国】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】390019839

【氏名又は名称】三星電子株式会社

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100154922

【弁理士】

【氏名又は名称】崔 允辰

(74)【代理人】

【識別番号】100140534

【弁理士】

【氏名又は名称】木内 敬二

(72)【発明者】

【氏名】大山 毅

(72)【発明者】

【氏名】李 殷成

(72)【発明者】

【氏名】浜本 伸夫

【審査官】 川口 聖司

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００９−２５８７０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１０−５４１１８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００４／０８３９４３（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｂ ３３／００−３３／２８

Ｈ０１Ｌ ２７／３２

Ｈ０１Ｌ ５１／５０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

複数の画素を含む表示パネルと、
前記表示パネルと対向する円偏光板と、
を含み、
前記表示パネルは、青色画素である第１画素、緑色画素である第２画素、および赤色画素である第３画素を含み、
前記円偏光板は、前記表示パネルの画素に対応する複数の位相差を有し、
前記円偏光板は、
前記第１画素に対応し第１位相差を有する第１領域、前記第２画素に対応し第２位相差を有する第２領域、および前記第３画素に対応し第３位相差を有する第３領域を有する補償フィルムと、
偏光子と、を含み、
前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１または下記関係式２を満足することを特徴とする、有機発光装置：
［関係式１］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式２］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３
関係式１または関係式２において、
Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２、およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。

【請求項2】

前記表示パネルの画素は微細共振効果を有することを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項3】

前記第１位相差は、１２５ｎｍ〜１５５ｎｍであり、
前記第２位相差は、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、
前記第３位相差は、１１０ｎｍ〜１２５ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項4】

前記補償フィルムは硬化した液晶を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項5】

前記第１画素、第２画素、および第３画素の反射率はそれぞれ、５％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項6】

前記第１画素、第２画素、および第３画素の反射色変化（Δａ＊ｂ＊）はそれぞれ、５以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項7】

前記有機発光装置の反射色変化（Δａ＊ｂ＊）は５以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項8】

前記表示パネルと対向する封止基板をさらに含み、
前記補償フィルムは、前記封止基板の一面に付着されており、
前記偏光子は、前記封止基板の他の一面に付着されていることを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。

【請求項9】

複数の画素を含む表示パネルを準備する段階と、
複数の位相差を有する円偏光板を準備する段階と、
前記表示パネルと前記円偏光板を貼り合わせる段階と、
を含み、
前記表示パネルと前記円偏光板を貼り合わせる段階で、前記表示パネルの複数の画素と前記円偏光板の複数の位相差を対応するように貼り合わせ、
前記表示パネルは、青色画素である第１画素、緑色画素である第２画素、および赤色画素である第３画素を含み、
前記円偏光板を準備する段階は、
第１位相差を有する第１領域、第２位相差を有する第２領域、および第３位相差を有する第３領域を含む補償フィルムを準備する段階と、
偏光子を準備する段階と、
を含み、
前記表示パネルと前記円偏光板を貼り合わせる段階で、前記表示パネルの第１画素、第２画素、および第３画素と前記補償フィルムの第１領域、第２領域、および第３領域をそれぞれ対応するように貼り合わせ、
前記補償フィルムの位相差は下記関係式３または下記関係式４を満足することを特徴とする、有機発光装置の製造方法：
［関係式３］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式４］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３
関係式３または関係式４において、
Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２、およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。

【請求項10】

前記補償フィルムを準備する段階は、
基材の一面に補償フィルム用液晶層を形成する段階と、
前記補償フィルム用液晶層を温度を変化させながら前記第１領域、第２領域、および第３領域に分割して硬化する段階と、
を含むことを特徴とする請求項９に記載の有機発光装置の製造方法。

【請求項11】

前記補償フィルム用液晶層を硬化する段階は、
前記補償フィルム用液晶層の上にマスクを配置し第１温度で１次露光して第１領域を形成する段階と、
前記補償フィルム用液晶層の上にマスクを配置し第２温度で２次露光して第２領域を形成する段階と、
前記補償フィルム用液晶層を第３温度で３次露光して第３領域を形成する段階と、
を含むことを特徴とする請求項１０に記載の有機発光装置の製造方法。

【請求項12】

前記第２温度は前記第１温度より高く、前記第３温度は前記第２温度より高いことを特徴とする請求項１１に記載の有機発光装置の製造方法。

【請求項13】

前記補償フィルム用液晶層を形成する段階の前に、前記基材の上に配向膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の有機発光装置の製造方法。

【請求項14】

前記基材は封止基板であり、
前記基材の他の面に前記偏光子を付着する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の有機発光装置の製造方法。

【請求項15】

前記第１位相差は１２５ｎｍ〜１５５ｎｍであり、
前記第２位相差は１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、
前記第３位相差は１１０ｎｍ〜１２５ｎｍであることを特徴とする請求項９に記載の有機発光装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、有機発光装置およびその製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

近来、モニターまたはテレビなどの軽量化および薄形化が要求されており、このような要求により有機発光装置（ＯＬＥＤ：organic light emitting device）が注目されている。有機発光装置は、自ら発光する自発光型表示装置であって、別途のバックライトが必要なく、厚さを減らすことができるため、フレキシブル表示装置を実現するのに有利である。
一方、有機発光装置は、表示パネル（display panel）に形成された金属電極および金属配線によって外部光を反射させる可能性があり、反射された外部光によって視認性とコントラスト比が低下し表示品質が落ちることがある。これを減らすために表示パネルの一面に円偏光板を付着させて、反射された外部光が外側に漏れ出ることを減らすことができる。
しかし、現在開発されている円偏光板は波長依存性が強いため特定波長領域以外の波長領域の光に対して円偏光が歪みながら光漏れ現象が発生することがある。これを補完するために補償層を追加的に積層してもよいが、この場合、有機発光装置の全体厚さが厚くなり薄形化を実現するのが難しい。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

一実施形態は、厚さを増やさないながらも光漏れを防止し表示特性を改善することができる有機発光装置を提供する。
他の実施形態は、前記有機発光装置の製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0004】

一実施形態によれば、複数の画素を含む表示パネルと、前記表示パネルと対向する円偏光板とを含み、前記円偏光板は前記表示パネルの画素に対応する複数の位相差を有する有機発光装置を提供する。
前記表示パネルの画素は微細共振効果を有し得る。
前記表示パネルは、互いに異なる色を表示する第１画素、第２画素、および第３画素を含むことが可能であり、前記円偏光板は前記第１画素に対応し第１位相差を有する第１領域、前記第２画素に対応し第２位相差を有する第２領域、および前記第３画素に対応し第３位相差を有する第３領域を有する補償フィルムと、偏光子とを含むことが可能である。

【0005】

前記補償フィルムの位相差は、下記の関係式１または関係式２を満足することができる。
［関係式１］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式２］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３
関係式１または関係式２において、Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２、およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。
前記第１位相差は約１２５ｎｍ〜１５５ｎｍとすることが可能であり、前記第２位相差は約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍとすることが可能であり、前記第３位相差は約１１０ｎｍ〜１２５ｎｍとすることが可能である。
前記第１位相差は約１３５ｎｍ〜１４５ｎｍとすることが可能であり、前記第２位相差は約１３０ｎｍ〜１４０ｎｍとすることが可能であり、前記第３位相差は約１１５ｎｍ〜１２５ｎｍとすることが可能である。

【0006】

前記第１画素は青色画素とすることが可能であり、前記第２画素は緑色画素とすることが可能であり、前記第３画素は赤色画素とすることが可能である。
前記補償フィルムは硬化した液晶を含むことが可能である。
前記第１画素、第２画素、および第３画素の反射率はそれぞれ、約５％以下とすることが可能である。

【0007】

前記第１画素、第２画素、および第３画素の反射色変化（Δａ＊ｂ＊）はそれぞれ、約５以下とすることが可能である。
前記有機発光装置の反射色変化（Δａ＊ｂ＊）は約５以下とすることが可能である。
前記有機発光装置は前記表示パネルと対向する封止基板をさらに含むことが可能であり、前記補償フィルムは前記封止基板の一面に付着させることが可能であり、前記偏光子は前記封止基板の他の一面に付着させることが可能である。

【0008】

他の実施形態によれば、複数の画素を含む表示パネルを準備する段階と、複数の位相差を有する円偏光板を準備する段階と、前記表示パネルと前記円偏光板を貼り合わせる段階とを含み、前記表示パネルと前記円偏光板を貼り合わせる段階で、前記表示パネルの複数の画素と前記円偏光板の複数の位相差が対応するように貼り合わせる有機発光装置の製造方法を提供する。
前記表示パネルは互いに異なる色を表示する第１画素、第２画素、および第３画素を含むことが可能であり、前記円偏光板を準備する段階は第１位相差を有する第１領域、第２位相差を有する第２領域、および第３位相差を有する第３領域を含む補償フィルムを準備する段階と、偏光子を準備する段階とを含み、前記表示パネルと前記円偏光板を貼り合わせる段階で、前記表示パネルの第１画素、第２画素、および第３画素と前記補償フィルムの第１領域、第２領域、および第３領域をそれぞれ対応するように貼り合わせることが可能である。
前記補償フィルムを準備する段階は、基材の一面に補償フィルム用液晶層を形成する段階と、前記補償フィルム用液晶層を温度を変化させながら前記第１領域、第２領域、および第３領域に分割して硬化する段階とを含むことが可能である。
前記補償フィルム用液晶層を硬化する段階は、前記補償フィルム用液晶層の上にマスクを配置し第１温度で１次露光して第１領域を形成する段階と、前記補償フィルム用液晶層の上にマスクを配置し第２温度で２次露光して第２領域を形成する段階と、前記補償フィルム用液晶層を第３温度で３次露光して第３領域を形成する段階とを含むことが可能である。
前記第２温度は前記第１温度より高くすることが可能であり、前記第３温度は前記第２温度より高くすることが可能である。
前記製造方法は、前記補償フィルム用液晶層を形成する段階の前に、前記基材の上に配向膜を形成する段階をさらに含むことが可能である。
前記基材は封止基板とすることが可能であり、前記製造方法は前記基材の他の面に前記偏光子を付着する段階をさらに含むことが可能である。

【0009】

前記補償フィルムの位相差は下記の関係式３または関係式４を満足することができる。
［関係式３］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式４］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３
関係式３または関係式４において、
Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。
前記第１位相差は約１２５ｎｍ〜１５５ｎｍとすることが可能であり、前記第２位相差は約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍとすることが可能であり、前記第３位相差は約１１０ｎｍ〜１２５ｎｍとすることが可能である。
前記第１位相差は約１３５ｎｍ〜１４５ｎｍとすることが可能であり、前記第２位相差は約１３０ｎｍ〜１４０ｎｍとすることが可能であり、前記第３位相差は約１１５ｎｍ〜１２５ｎｍとすることが可能である。
前記第１画素は青色画素とすることが可能であり、前記第２画素は緑色画素とすることが可能であり、前記第３画素は赤色画素とすることが可能である。

【発明の効果】

【0010】

反射光の光漏れを効果的に防止して表示特性を改善することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】一実施形態による有機発光装置を概略的に示す断面図である。

【図2】図１の有機発光装置における表示パネルの複数の画素の配置の一例を示す平面図である。

【図3】図１の有機発光装置における位相差が異なる複数の領域を有する補償フィルムの平面図である。

【図4】一実施形態による有機発光装置における外光反射防止原理を示す概略図である。

【図5】図１の有機発光装置における表示パネルの複数の画素の配置の他の例を示す平面図である。

【図6】図５の画素配置を有する有機発光装置における位相差が異なる複数の領域を有する補償フィルムの平面図である。

【図7】一実施形態による有機発光装置の製造方法を示す断面図である。

【図8】一実施形態による有機発光装置の製造方法を示す断面図である。

【図9】一実施形態による有機発光装置の製造方法を示す断面図である。

【図10】一実施形態による有機発光装置の製造方法を示す断面図である。

【図11】一実施形態による有機発光装置の製造方法を示す断面図である。

【図12】実施例１による補償フィルムの硬化温度による位相差の変化を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、実施形態について技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、実施形態は様々な形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限定されない。
図面において様々な層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書全体にわたって類似の部分については同一図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるというとき、これは他の部分の「直上」にある場合だけでなくその中間にまた他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「直上」にあるというときには中間に他の部分がないことを意味する。
以下、図面を参照して一実施形態による有機発光装置を説明する。
図１は一実施形態による有機発光装置を概略的に示す断面図であり、図２は図１の有機発光装置における表示パネルの複数の画素の配置の一例を示す平面図である。
図１において、図面符号に「Ｒ」が含まれている構成要素は赤色画素Ｒの構成要素を意味し、図面符号に「Ｇ」が含まれている構成要素は緑色画素Ｇの構成要素を意味し、図面符号に「Ｂ」が含まれている構成要素は青色画素Ｂの構成要素を意味する。しかし、これは説明の便宜のためのものに過ぎず、これに限定されるのではない。
図１に示すように、一実施形態による有機発光装置は、表示パネル（display panel）１００と、表示パネル１００に対向する円偏光板２２５とを含む。

【0013】

まず、表示パネル１００を説明する。
図２に示すように、表示パネル１００は、青色を表示する青色画素Ｂ、緑色を表示する緑色画素Ｇ、および赤色を表示する赤色画素Ｒを含む。
青色画素Ｂ、緑色画素Ｇおよび赤色画素Ｒはフルカラー（full color）を表現するための基本画素であって、一つの群（group）を成して行および／または列に沿って交互に配置されている。図２では一つの群に一つの赤色画素Ｒ、二つの緑色画素Ｇ、および一つの青色画素Ｂが含まれている構造を例示したが、これに限定されない。また、白色画素がさらに含まれ、一つの赤色画素Ｒ、一つの緑色画素Ｇ、一つの青色画素Ｂ、および一つの白色画素Ｗが一つの群を成すことが可能である。画素の構成および配置は多様に変形可能である。

【0014】

図１に示すように、表示パネル１００は、ベース基板１１０、ベース基板１１０の上に配列されている薄膜トランジスタアレイ（thin film transistor array）Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および有機発光ダイオード１５０Ｂ、１５０Ｇ、１５０Ｒを含む。
ベース基板１１０は、ガラス基板、高分子基板、または半導体基板とすることができる。高分子基板は、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、これらの共重合体、これらの誘導体またはこれらの組み合わせとすることができ、高分子基板を用いた場合、フレキシブル素子を容易に実現することができる。
薄膜トランジスタアレイＱ１、Ｑ２、Ｑ３は各画素ごとに配置されているスイッチング薄膜トランジスタＱ_Ｓ１、Ｑ_Ｓ２、Ｑ_Ｓ３および駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３を含み、スイッチング薄膜トランジスタＱ_Ｓ１、Ｑ_Ｓ２、Ｑ_Ｓ３および駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３は電気的に接続されている。
スイッチング薄膜トランジスタＱ_Ｓ１、Ｑ_Ｓ２、Ｑ_Ｓ３は制御端子、入力端子および出力端子を有し、制御端子はゲート線に接続されており、入力端子はデータ線に接続されており、出力端子は駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３に接続されている。スイッチング薄膜トランジスタＱ_Ｓ１、Ｑ_Ｓ２、Ｑ_Ｓ３はゲート線に印加される走査信号に応答してデータ線に印加されるデータ信号を駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３に伝達する。
駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３も、制御端子、入力端子、および出力端子を有し、制御端子はスイッチング薄膜トランジスタＱ_Ｓ１、Ｑ_Ｓ２、Ｑ_Ｓ３に接続されており、入力端子は駆動電圧線に接続されており、出力端子は有機発光ダイオード１５０Ｂ、１５０Ｇ、１５０Ｒに接続されている。駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３は制御端子と出力端子との間に印加される電圧によってその大きさが変わる出力電流を流す。
薄膜トランジスタアレイＱ１、Ｑ２、Ｑ３の上には絶縁層１１１が形成されている。絶縁層１１１は、スイッチング薄膜トランジスタＱ_Ｓ１、Ｑ_Ｓ２、Ｑ_Ｓ３、および駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３の一部を露出する複数の接触孔を有する。
絶縁層１１１の上には有機発光ダイオード１５０Ｂ、１５０Ｇ、１５０Ｒが形成されている。有機発光ダイオード１５０Ｂ、１５０Ｇ、１５０Ｒは、下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒ、発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒ、および上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒを含む。

【0015】

下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒは駆動薄膜トランジスタＱ_Ｄ１、Ｑ_Ｄ２、Ｑ_Ｄ３の出力端子に接続されており、上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒは共通電圧に接続されている。
下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒとのうちのいずれか一方はアノード（anode）であり、他方はカソード（cathode）である。例えば、下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒをアノードとすることができ、上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒをカソードとすることができる。アノードは正孔（hole）が注入される電極であって、高い仕事関数（work function）を有する導電物質から形成することができ、カソードは電子（electron）が注入される電極であって、低い仕事関数を有する導電物質から形成することができる。
下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒとのうちの少なくとも一方は発光した光が外部に放出され得る透明または半透明導電物質から形成することができ、例えば、ＩＴＯまたはＩＺＯのような導電性酸化物薄膜および／またはＡｇ薄膜のような金属薄膜とすることができる。

【0016】

発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒは、下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒに電圧が印加された時、赤色、緑色または青色などの光を固有に発することができる有機物質を含むことができる。
下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒの間および／または上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒと発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒの間には付帯層（図示せず）をさらに含むことができる。付帯層は電子と正孔の均衡をとるための正孔伝達層（hole transporting layer）、正孔注入層（hole injecting layer）、電子注入層（electron injecting layer）および電子伝達層（electron transporting layer）を含むことができるが、これに限定されるものではない。
下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒ、発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒ、および上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒは微細共振効果（microcavity effect）を有する。微細共振効果は、発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒから放出された光が光路長（optical length）だけ離れている反射層と（半）透明層との間で反復的に反射されることによって補強干渉によって特定波長の光を増幅することであって、微細共振の共鳴波長に相応する波長の光は強化され他の波長の光は抑制される。
微細共振効果のために、下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒのうちの一つは反射層を含むことができ、他の一つは（半）透明層を含むことができる。微細共振効果で強化される光の波長範囲は光路長によって決定することができ、光路長は例えば下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒとの間の距離によって決定することができる。即ち、赤色画素Ｒは赤色波長領域の光が選択的に増幅され得る光路長を有することができ、緑色画素Ｇは緑色波長領域の光が選択的に増幅され得る光路長を有することができ、青色画素Ｂは青色波長領域の光が選択的に増幅され得る光路長を有することができる。このように微細共振効果によって各画素別に特定波長領域の光を選択的に強化することによって色の純度を高めることができる。

【0017】

対向基板２１０は表示パネル１００と対向する。対向基板２１０は、例えば封止基板とすることができる。封止基板はガラス、金属および／または高分子から形成することができ、高分子は例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、これらの共重合体、これらの誘導体および／またはこれらの組み合わせとすることができる。封止基板は有機発光ダイオード１５０Ｂ、１５０Ｇ、１５０Ｒを封止して外部から水分および／または酸素が流入するのを防止することができる。
円偏光板２２５は、表示パネル１００の画素に対応する複数の位相差を有することができる。一例として、円偏光板２２５は赤色画素Ｒに対応する位相差、緑色画素Ｇに対応する位相差および青色画素Ｂに対応する位相差をそれぞれ有することができる。

【0018】

円偏光板２２５は、偏光子２３０および補償フィルム２２０を含む。
偏光子２３０は対向基板２１０の一面に位置する。偏光子２３０は光が入射する側に配置することができ、入射光の偏光を線偏光に変換させる線形偏光子（linear polarizer）とすることができる。
偏光子２３０は、例えば、延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ：polyvinyl alcohol）から形成された偏光板とすることができ、偏光板は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを延伸し、ここにヨードまたは二色性染料を吸着させた後、ホウ酸処理および洗浄などの方法で形成することができる。
偏光子２３０は、例えば、高分子樹脂と二色性染料を溶融混合（melt blend）して準備された偏光フィルムとすることができ、偏光フィルムは、例えば、高分子染料を混合し高分子樹脂の溶融点以上の温度で溶融してシートとして製作する方法で形成することができる。

【0019】

補償フィルム２２０は、対向基板２１０の他の一面に配置することができ、対向基板２１０を挟んで偏光子２３０と対向することもできる。しかし、これに限定されず、対向基板２１０の一面に補償フィルム２２０と偏光子２３０とが順次に積層された構造とすることができ、場合によっては対向基板２１０を省略可能である。
補償フィルム２２０と対向基板２１０との間には配向膜２１が形成されている。配向膜２１は後述の補償フィルム２２０の液晶の配向性を制御することができ、例えば、ポリアミック酸、ポリイミドまたはこれらの組み合わせで形成することができる。配向膜２１の表面はラビング（rubbing）のような物理的処理または光配向のような光処理によって形成された複数の溝を有することができる。配向膜２１は場合によっては省略可能である。
補償フィルム２２０は硬化した液晶を含むことができる。液晶は一方向に伸びた棒（rod）状とすることができ、例えば、モノマー、オリゴマーまたは重合体とすることもできる。液晶は、例えば、正または負の複屈折値（Δｎ）を有することができる。複屈折値（Δｎ）は光軸に対して水平に進行する光の屈折率（ｎｅ）から光軸に対して垂直に進行する光の屈折率（ｎｏ）を引いた値である。

【0020】

液晶は反応性メソゲン液晶（reactive mesogenic liquid crystal）とすることができ、例えば、一つ以上のメソゲンモイエティ（mesogenic moiety）と一つ以上の重合性官能基を有することができる。反応性メソゲン液晶は、例えば、一つ以上の重合性官能基を有する棒状の芳香族誘導体、プロピレングリコール１−メチル、プロピレングリコール２−アセテートおよびＰ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２で表現される化合物（ここで、Ｐ１とＰ２は重合性官能基としてそれぞれ独立してアクリレート（acrylate）、メタクリレート（methacrylate）、アクリロイル（acryloyl）ビニル（vinyl）、ビニルオキシ（vinyloxy）、エポキシ（epoxy）またはこれらの組み合わせを含むことができ、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立して１，４−フェニレン（1,4-phenylene）、ナフタレン（naphthalene）−２，６−ジイル（diyl）基またはこれらの組み合わせを含むことができ、Ｚ１は単一結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−またはこれらの組み合わせを含むことができ、ｎは０、１または２である）のうちの少なくとも一つを含むことができ、これに限定されるものではない。
液晶は熱硬化性液晶または光硬化性液晶とすることができ、例えば、液晶は光硬化性液晶とすることができる。液晶が光硬化性液晶であるとき、光は約２５０ｎｍ〜４００ｎｍ波長の紫外光とすることができる。

【0021】

補償フィルム２２０は１種または２種以上の液晶を含むことができる。
補償フィルム２２０は液晶を含む組成物から形成することができ、組成物は液晶以外に反応開始剤、界面活性剤、溶解補助剤および／または分散剤のような各種添加剤と溶媒を含むことができる。組成物は、例えば、スピンコーティング、スリットコーティングおよび／またはインクジェットのような溶液工程で適用することができ、補償フィルム２２０の屈折率などを考慮して厚さを調節することができる。
補償フィルム２２０は、偏光子２３０を通過した線偏光された光を円偏光させて位相差を発生させることができ、例えば、λ／４プレートとすることができる。λ／４プレートは５５０ｎｍ波長の入射光に対して、例えば、約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍの面内位相差（Ｒ_ｅ：in-plane retardation）（以下、「位相差」という）を有することができる。
一方、補償フィルム２２０は、位相差が異なる二つ以上の領域を有することができる。

【0022】

図３は図１の有機発光装置における位相差が異なる複数の領域を有する補償フィルムの平面図である。
図３に示すように、補償フィルム２２０は位相差が異なる複数の領域２２０Ｂ、２２０Ｇ、２２０Ｒを有し、複数の領域２２０Ｂ、２２０Ｇ、２２０Ｒは図２に示された表示パネル１００の複数の画素の配置にそれぞれ対応させることができる。具体的に、補償フィルム２２０は、青色画素Ｂに対応する第１領域２２０Ｂ、緑色画素Ｇに対応する第２領域２２０Ｇ、および赤色画素Ｒに対応する第３領域２２０Ｒを有する。図３では第３領域２２０Ｒが別途に区画されていないが、赤色画素Ｒに対応するように区画することができる。
補償フィルム２２０の第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒのうちの少なくとも二つは、互いに異なる位相差を有することができ、第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒの位相差は、表示パネル１００の各画素別の反射光の波長によって決定することができる。
ここで、反射光は、外部から入射した光（以下、「外光（external light）」という）が表示パネルの電極などによって反射される光である。前述のように、表示パネル１００は微細共振効果を有するので、反射光のうちの一部の光は電極の間に閉じ込められるようになり、一部の光は外部に抜け出るようになる。反射光は偏光子２３０と補償フィルム２２０によって遮断または減少される。

【0023】

図４は、一実施形態による有機発光装置における外光反射防止原理を示す概略図である。
図４に示すように、外部から入射する非偏光の光（incident unpolarized light）、即ち、外光は偏光子２３０を通過しながら二つの偏光直交成分のうちの一方の偏光直交成分、即ち、第１偏光直交成分のみが透過され、偏光された光は補償フィルム２２０を通過しながら円偏光に変わる。円偏光された光は基板、電極などを含む表示パネル１００で反射されながら円偏光方向が変わるようになり、円偏光された光が補償フィルム２２０を再び通過しながら二つの偏光直交成分のうちの他方の偏光直交成分、即ち、第２偏光直交成分のみが透過され得る。第２偏光直交成分は偏光子２３０を通過せず外部に光が抜け出なくて外光反射防止効果を有し得る。
一方、前述のように、表示パネル１００の下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒの間の微細共振効果によって各画素別に特定波長の光が増幅され得る。即ち、微細共振によって赤色画素の発光層１３０Ｒから放出された光のうちの赤色波長領域の光がさらに増幅され、緑色画素の発光層１３０Ｇから放出された光のうちの緑色波長領域の光がさらに増幅され、青色画素の発光層１３０Ｂから放出された光のうちの青色波長領域の光がさらに増幅され得る。
この時、前述の反射光も下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒと上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒとの間の微細共振効果によって特定波長の光が閉じ込められ特定波長領域の光が反射され得る。例えば、微細共振効果によって、赤色画素では反射光のうちの赤色波長領域の光が内部に閉じ込められその他の波長の光が反射され、緑色画素では反射光のうちの緑色波長領域の光が内部に閉じ込められその他の波長の光が反射され、青色画素では反射光のうちの青色波長領域の光が内部に閉じ込められその他の波長の光が反射される。

【0024】

したがって、各画素別に内部に閉じ込められず反射される光の波長範囲に合わせて補償フィルム２２０の位相差を調節することによって反射光を効果的に抑制および／または減少させることができる。
補償フィルム２２０の位相差は各画素で微細共振によって閉じ込められる光以外の反射される波長領域に関連付けされており、例えば、微細共振によって短波長領域の光が閉じ込められる画素は位相差が大きい領域に対応するように配置され、長波長領域の光が閉じ込められる画素は位相差が小さい領域に対応するように配置することができる。

【0025】

一例として、補償フィルム２２０の第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒの位相差をそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差というとき、補償フィルム２２０の位相差は、例えば、下記の関係式５または関係式６を満足することができる。
［関係式５］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式６］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３

【0026】

関係式５または関係式６において、Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２、およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。
一例として、関係式５または関係式６を満足する範囲内で、第１位相差は約１２５ｎｍ〜１５５ｎｍとすることができ、第２位相差は約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍとすることができ、第３位相差は約１１０ｎｍ〜１２５ｎｍとすることができる。
一例として、関係式５または関係式６を満足する範囲内で、第１位相差は約１３５ｎｍ〜１４５ｎｍとすることができ、第２位相差は約１３０ｎｍ〜１４０ｎｍとすることができ、第３位相差は約１１５ｎｍ〜１２５ｎｍとすることができる。
補償フィルム２２０の第１、第２、および第３領域の位相差が前記範囲である場合、青色画素Ｂ、緑色画素Ｇ、および赤色画素Ｒの反射率はそれぞれ、約５％以下とすることができる。
また、補償フィルム２２０の第１、第２、および第３領域の位相差が前記範囲である場合、青色画素Ｂ、緑色画素Ｇ、および赤色画素Ｒの反射色の変化（Δａ＊ｂ＊）はそれぞれ、約５以下とすることができる。
また、前述の補償フィルム２２０を通じて各画素の反射光の色変化を調節することができるので、各画素の反射色の変化が約５以下にならない場合であっても、赤色画素、緑色画素、および青色画素の反射色の変化を効果的に調節することによって、有機発光装置全体の反射色の変化を約５以下に合わせることができる。

【0027】

このように各画素別に反射光の波長範囲によって補償フィルム２２０の位相差を調節することにより反射光の光漏れを減らすだけでなく、例えば、青みがかった（bluish）色感のような特定波長領域が強化された反射光による特定色感によって色変化が発生するのを防止することができる。これにより、視認性低下を減らし表示特性を改善することができる。
表示パネル１００と対向基板２１０とはシーラント（sealant）５０によって貼り合わせることができ、表示パネル１００、対向基板２１０およびシーラント５０によって区画された空間に充填材（filler）を満たすことができる。

【0028】

以下、図面を参照して他の実施形態による有機発光装置を説明する。
図５は、図１の有機発光装置における表示パネルの複数の画素の配置の他の例を示す平面図である。
図５に示すように、表示パネル１００は前述の実施形態と同様に赤色を表示する赤色画素Ｒ、緑色を表示する緑色画素Ｇ、および青色を表示する青色画素Ｂを含む。
しかし、本実施形態は前述の実施形態とは異なり、第１列には複数個の緑色画素Ｇが所定間隔離隔して配置されており、第２列には赤色画素Ｒと青色画素Ｂが交互に配置されており、第３列には緑色画素Ｇが所定間隔離隔して配置されており、第４列には青色画素Ｂと赤色画素Ｒが交互に配置されており、このような配列は第Ｎ列まで反復配置されている。このような画素配置構造をペンタイルマトリックス（PenTile Matrix）といい、隣接した画素を共有して色を表現するレンダリング（Rendering）駆動を適用することによって、少ない数の画素で高解像度を実現することができる。しかし、画素の構成および配置は多様に変形することができる。

【0029】

図６は、図５の画素配置を有する有機発光装置における位相差が異なる複数の領域を有する補償フィルムの平面図である。
図６に示すように、補償フィルム２２０は位相差が異なる複数の領域２２０Ｂ、２２０Ｇ、２２０Ｒを有し、複数の領域２２０Ｂ、２２０Ｇ、２２０Ｒは図５に示された表示パネル１００の複数の画素の配置にそれぞれ対応する。具体的には、補償フィルム２２０は青色画素Ｂに対応する第１領域２２０Ｂ、緑色画素Ｇに対応する第２領域２２０Ｇ、および赤色画素Ｒに対応する第３領域２２０Ｒを有する。図６では第３領域２２０Ｒが別途に区画されていないが、赤色画素Ｒに対応するように区画することができる。
補償フィルム２２０の第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒのうちの少なくとも二つは互いに異なる位相差を有することができ、第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒの位相差は表示パネル１００の各画素別の反射光の波長によって決定され得る。具体的な内容は前述のとおりである。

【0030】

一例として、補償フィルム２２０の第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒの位相差をそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差というとき、補償フィルム２２０の位相差は、例えば、下記の関係式７または関係式８を満足することができる。
［関係式７］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式８］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３
関係式７または関係式８において、Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２、およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。
一例として、関係式７または関係式８を満足する範囲内で、第１位相差は約１２５ｎｍ〜１５５ｎｍとすることができ、第２位相差は約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍとすることができ、第３位相差は約１１０ｎｍ〜１２５ｎｍとすることができる。
一例として、関係式７または関係式８を満足する範囲内で、第１位相差は約１３５ｎｍ〜１４５ｎｍとすることができ、第２位相差は約１３０ｎｍ〜１４０ｎｍとすることができ、第３位相差は約１１５ｎｍ〜１２５ｎｍとすることができる。
補償フィルム２２０の第１、第２および第３領域の位相差が前記範囲である場合、青色画素Ｂ、緑色画素Ｇ、および赤色画素Ｒの反射率はそれぞれ、約５％以下とすることができる。
また、補償フィルム２２０の第１、第２および第３領域の位相差が前記範囲である場合、青色画素Ｂ、緑色画素Ｇ、および赤色画素Ｒの反射色の変化（Δａ＊ｂ＊）はそれぞれ、約５以下とすることができる。また、有機発光装置の反射色の変化（Δａ＊ｂ＊）も約５以下とすることができる。

【0031】

以下、図１の有機発光装置の製造方法について、図１と共に図７〜図１１を参考にして説明する。
図７〜図１１は一実施形態による有機発光装置の製造方法を示す断面図である。
まず、表示パネル１００を準備する。
図７に示すように、ベース基板１１０の上にゲート電極を含むゲート線、ゲート絶縁膜、半導体層、データ線を含むソース電極およびドレイン電極を積層して薄膜トランジスタアレイＱ１、Ｑ２、Ｑ３を形成する。
その次に、薄膜トランジスタアレイＱ１、Ｑ２、Ｑ３の上に絶縁層１１１を形成し、絶縁層１１１に薄膜トランジスタアレイＱ１、Ｑ２、Ｑ３の一部を露出させる接触孔を形成する。
その次に、絶縁層１１１の上に導電層を積層しパターニングして下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒを形成する。その次に、下部電極１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒの上に発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒを形成する。その次に、発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒの上に導電層を積層して発光層１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒの全面を覆う上部電極１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒを形成する。
その次に、補償フィルム２２０を準備する。

【0032】

図８に示すように、対向基板２１０の一面に配向膜２１を形成する。配向膜２１は、例えば、ポリアミック酸を溶液工程で塗布し硬化して形成することができ、ラビングのような物理的処理または光配向のような光処理によって複数の溝を形成することができる。これにより、配向膜の表面に後述の液晶を効果的に配向することができる。
その次に、配向膜２１の一面に液晶組成物を塗布して補償フィルム用液晶層２２０ａを形成する。液晶組成物は液晶、反応開始剤、界面活性剤、溶解補助剤および／または分散剤のような各種添加剤と溶媒を含むことができ、例えば、インクジェット印刷、バーコーティング、スリットコーティング、スピンコーティングなどの溶液工程で塗布されてもよい。
その次に、補償フィルム用液晶層２２０ａを硬化する。補償フィルム用液晶層２２０ａの硬化は複数の領域に分割して複数回実行することができ、各硬化時ごとに温度を変化させることもできる。これにより、位相差が異なる複数の領域を有する補償フィルム２２０を形成することができる。

【0033】

図９に示すように、補償フィルム用液晶層２２０ａの上に複数の開口部４０ａを有するマスク（mask）４０を配置する。この時、開口部４０ａは表示パネル１００の青色画素Ｂに対応する位置に配置することができる。しかし、これに限定されず赤色画素Ｒまたは緑色画素Ｇに対応する位置に配置することができる。その次に、第１温度で１次露光して補償フィルム用液晶層２２０ａの中のマスク４０の開口部４０ａによって露出された領域を硬化し第１位相差を有する第１領域２２０Ｂを形成する。第１温度は、例えば、常温（約２５℃）とすることができるが、これは第１領域２２０Ｂの所望の位相差によって決定することができる。

【0034】

その次に、図１０に示すように、補償フィルム用液晶層２２０ａの上に複数の開口部４０ａを有するマスク４０を配置する。補償フィルム用液晶層２２０ａの温度は第１温度より高い第２温度に設定することができ、例えば、補償フィルム用液晶層２２０ａが形成された対向基板２１０をホットプレート、オーブンのような加熱器の上に配置して温度を上昇させることができる。マスク４０の開口部４０ａは表示パネル１００の緑色画素Ｇに対応する位置に配置することができるが、これに限定されず、赤色画素Ｒまたは青色画素Ｂに対応する位置に配置することができる。その次に、２次露光して補償フィルム用液晶層２２０ａの中のマスク４０の開口部４０ａによって露出された領域を硬化し第２位相差を有する第２領域２２０Ｇを形成する。第２温度は、例えば、約３０〜６０℃とすることができるが、これは第２領域２２０Ｇの所望の位相差によって決定することができる。
その次に、図１１に示すように、補償フィルム用液晶層２２０ａの温度をさらに上昇させて補償フィルム用液晶層２２０ａを３次露光する。これにより、第１領域２２０Ｂおよび第２領域２２０Ｇを除いた領域が硬化され第３位相差を有する第３領域２２０Ｒが形成される。第３温度は、例えば、約６３〜約９０℃とすることができ、これは第３領域２２０Ｒの所望の位相差によって決定することができる。
これにより、液晶層２２０ａを硬化して第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域Ｒを有する補償フィルム２２０が準備できる。第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒは前述のように異なる温度で硬化されそれぞれ異なる位相差を有し得る。

【0035】

補償フィルム２２０の第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｒの位相差をそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差というとき、補償フィルム２２０の位相差は、例えば、下記の関係式９または関係式１０を満足することができる。
［関係式９］
Ｒ_ｅ１＞Ｒ_ｅ２≧Ｒ_ｅ３
［関係式１０］
Ｒ_ｅ１≧Ｒ_ｅ２＞Ｒ_ｅ３
関係式９または関係式１０において、Ｒ_ｅ１、Ｒ_ｅ２、およびＲ_ｅ３はそれぞれ、第１位相差、第２位相差、および第３位相差である。
一例として、関係式９または関係式１０を満足する範囲内で、第１位相差は約１２５ｎｍ〜１５５ｎｍとすることができ、第２位相差は約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍとすることができ、第３位相差は約１１０ｎｍ〜１２５ｎｍとすることができる。
一例として、関係式９または関係式１０を満足する範囲内で、第１位相差は約１３５ｎｍ〜１４５ｎｍとすることができ、第２位相差は約１３０ｎｍ〜１４０ｎｍとすることができ、第３位相差は約１１５ｎｍ〜１２５ｎｍとすることができる。
ここでは位相差を変化させる方法の一例として、補償フィルム２２０の露光温度を変化させる方法を例示したが、位相差が異なる複数の領域を形成することができる方法であれば特に制限されない。
ここでは一例として、青色画素Ｂ、緑色画素Ｇ、および赤色画素Ｒに対応する順に露光して第１領域、第２領域、および第３領域を形成したが、これは一例に過ぎず、露光順序を限定するものではない。
その次に、対向基板２１０の他の一面に偏光子２３０を付着する。しかし、これに限定されず、対向基板２１０の一面に補償フィルム２２０と偏光子２３０を順次に積層することができる。偏光子２３０は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）から製造された偏光板であるか、高分子樹脂と二色性染料を溶融混合して準備された偏光フィルムとすることができる。

【0036】

その次に、表示パネル１００、補償フィルム２２０および偏光子２３０を貼り合わせる。
貼り合わせは表示パネル１００と対向基板２１０を対向するように貼り合わせることができ、表示パネル１００に補償フィルム２２０と偏光子２３０を転写し対向基板２１０を除去することができる。
図１に示すように、表示パネル１００の青色画素Ｂ、緑色画素Ｇ、および赤色画素Ｒと補償フィルム２２０の第１領域２２０Ｂ、第２領域２２０Ｇ、および第３領域２２０Ｂをそれぞれ対応するように貼り合わせることができる。
表示パネル１００と対向基板２１０とはシーラント５０で貼り合わせることができ、表示パネル１００、対向基板２１０およびシーラント５０によって区画された空間に充填材を満たすことができる。

【0037】

以下、実施例を通じて前述の実施形態をより詳細に説明する。但し、下記の実施例は単に説明の目的のためのものであり、本発明の範囲を制限するものではない。
〔実施例〕
補償フィルムの準備

【0038】

＜実施例１＞
ガラス基板の上にポリアミック酸（日産化学（Nissan Chemical）社製、サンエバー（sunever）ＳＥ７４９２）を塗布し、２００℃で１時間焼成して配向膜を形成する。その次に、配向膜の上に液晶組成物（ＲＭＳ０３−０１３Ｃ）を１５００ｒｐｍで１５秒間スピンコーティングし、８０℃で予熱して液晶層を形成する。その次に、液晶層の上にマスクを配置し、基板温度２５℃、ＵＶ照射量５００ｍＪで１次露光して硬化された第１領域を形成する。その次に、マスクを移動させ、基板温度５０℃、ＵＶ照射量５００ｍＪで２次露光して硬化された第２領域を形成する。その次に、マスクを除去し、基板温度７０℃、ＵＶ照射量５００ｍＪで３次露光して硬化された第３領域を形成し、補償フィルムを準備する。

【0039】

＜比較例１＞
ガラス基板の上にポリアミック酸（日産化学社製、サンエバーＳＥ７４９２）を塗布し、２００℃で１時間焼成して配向膜を形成する。その次に、配向膜の上に液晶組成物（ＲＭＳ０３−０１３Ｃ）を１５００ｒｐｍで１５秒間スピンコーティングし、８０℃で予熱して液晶層を形成する。その次に、液晶層を基板温度５０℃、ＵＶ照射量５００ｍＪで硬化して補償フィルムを準備する。

【0040】

＜評価１＞
実施例１による補償フィルムの第１、第２および第３領域の位相差を評価する。
位相差は回転検光子法で評価する。
その結果は、図１２および表１のとおりである。
図１２は、実施例１による補償フィルムの硬化温度による位相差を示すグラフである。

【0041】

【表1】

【0042】

表１および図１２に示すように、約２５℃で硬化して得られた第１領域、約５０℃で硬化して得られた第２領域、および約７０℃で硬化して得られた第３領域の位相差が互いに異なるのを確認することができる。

【0043】

＜評価２＞
実施例１と比較例１による補償フィルムを適用した有機発光装置の反射率および反射色の変化をシミュレーションで評価する。
ここで表示パネルは、上部発光（top emission）タイプのＯＬＥＤパネルを採用したと設定し、ＯＬＥＤパネルは微細共振効果を有する赤色画素、緑色画素および青色画素を含み、赤色画素、緑色画素および青色画素の発光層の反射特性が互いに異なり、各画素の発光を最適化する膜の厚さに設定する。また、補償フィルムの液晶はフラット（flat）波長分散特性を有するものであって各画素が表１の位相差を有すると設定する。
前記条件下で青色画素、緑色画素および赤色画素のそれぞれの反射率および反射色の変化をシミュレーションで評価し、その結果は表２のとおりである。

【0044】

【表2】

【0045】

表２に示すように、実施例１による補償フィルムを適用した有機発光装置は５％以下の反射率、５以下の反射色の変化を満足するのを確認することができ、比較例１による補償フィルムを適用した有機発光装置と比較して反射率は同等であり、反射色の変化が大きく改善されたのを確認することができる。

【0046】

以上で本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、次の請求範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形および改良形態も本発明の権利範囲に属する。

【符号の説明】

【0047】

２１ 配向膜
４０ マスク
４０ａ マスクの開口部
５０ シーラント
１００ 表示パネル
１１０ ベース基板
１１１ 絶縁層
１２０Ｂ、１２０Ｇ、１２０Ｒ 下部電極
１３０Ｂ、１３０Ｇ、１３０Ｒ 発光層
１４０Ｂ、１４０Ｇ、１４０Ｒ 上部電極
１５０Ｂ、１５０Ｇ、１５０Ｒ 有機発光ダイオード
２１０ 対向基板
２２０ 補償フィルム
２２０Ｂ 補償フィルムの第１領域
２２０Ｇ 補償フィルムの第２領域
２２０Ｒ 補償フィルムの第３領域
２２５ 円偏光板
２３０ 偏光子

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】