(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、本発明に係る測定器の一実施形態を、図面を参照して具体的に説明する。なお、以下の説明において、上下左右の方向を示す場合は、図示正面から見た場合の上下左右をいうものとする。
【0022】
本実施形態に係る測定器は、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する際に使用されるもので、特に、円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さの測定に有用である。
図1に示すように、測定器1は、測定器本体2と、測定台3とで構成されている。この測定器本体2は、従来周知の構造のもので、円筒形状のゲージ本体20と、このゲージ本体20に貫通し、ゲージ本体20の下部に設けられているステム20a内を上下方向(実線位置から破線位置、破線位置から実線位置、矢印Y1方向参照)に摺動可能なように支持されているスピンドル21と、このスピンドル21の基端側に一体的に設けられている測定子22と、で構成されている。このゲージ本体20には、前面に、外周に沿って等間隔に目盛20b1が刻設されている目盛板20bが設けられ、ゲージ本体20の中心には指針20cが設けられている。そしてさらに、このゲージ本体20には、目盛板20b及び指針20cを保護する外枠23が取り付けられている。なお、指針20cは、上下方向(実線位置から破線位置、破線位置から実線位置、矢印Y1方向参照)に摺動可能なように支持されているスピンドル21と、このスピンドル21の基端側に一体的に設けられている測定子22の動きに連動して回転するようになっている。これにより、測定子22を被測定対象物に当接させれば、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さに応じて、測定子22が上下動、すなわち、スピンドル21が上下動することとなるから、それに合わせて、指針20cが回転し、もって、指針20cが指し示す目盛20b1を確認すれば、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。
【0023】
一方、測定台3は、
図3に示すように、正面視、略凸状に形成されており、
図1及び
図2(a)に示すように、中心位置に、頂面3aから底面3bに向かって、円形状の支持孔3cが貫通して設けられている。この支持孔3cの外径は、ゲージ本体20のステム20aの外径よりも若干径大となっており、この支持孔3c内に、ゲージ本体20のステム20a及びスピンドル21並びに測定子22が挿入できるようになっている。これにより、
図3に示すように、測定器本体2を測定台3にて支持できることとなる。
【0024】
一方、
図1,
図2(a),
図3に示すように、測定台3の側面3dには、頂部側(頂面3a側)端部に、一対のネジ孔3eが幅方向(測定台3の前後方向)に向かって貫通して設けられている。この一対のネジ孔3e内には、それぞれ、
図1に示すように、ネジNが螺合される。これにより、測定器本体2を測定台3にてしっかりと支持することができる。すなわち、
図1,
図2(a)に示すように、支持孔3cの左右には、支持孔3cの前後方向に僅かな隙間ができるように、測定台3に形成された断面視矩形状の調整孔3fが連通している。そして、この調整孔3fは、一対のネジ孔3eとも連通している。これにより、支持孔3c内に、ゲージ本体20のステム20a及びスピンドル21並びに測定子22を挿入した状態で、
図1に示すように、ネジ孔3e内に、それぞれ、ネジNを螺合させれば、調整孔3fに形成されている前後方向の僅かな隙間が僅かながら縮まる。これに伴い、支持孔3cの外径が僅かながら縮まることで、支持孔3c内の外径とゲージ本体20のステム20aの外径が同一となる。これにより、ゲージ本体20のステム20aが支持孔3c内に密着固定されることとなるから、測定器本体2を測定台3にてしっかりと支持できることとなる。
【0025】
また一方、
図1,
図2(b)に示すように、測定台3の底面3b側には、測定台3の長手方向(図示左右方向)に沿って、第1当接部3gが形成されている。この第1当接部3gは、
図2(b)に示すように、底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる山型に形成されている。しかして、このような形状とすることにより、
図4(a)に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物W1に、測定台3を安定して載置することができる。すなわち、
図5(a)に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物W1に、測定台3の底面3b側を載置させれば、測定台3の底面3b側に形成されている第1当接部3gが、先細り形状となる山型に形成されているから、長尺円柱構造の被測定対象物W1に点接触することとなる。より詳しく説明すると、
図5(a)に示すように、第1当接部3gの一対の斜面にそれぞれ、長尺円柱構造の被測定対象物W1が点P1,P2の2点で接触し、もって、長尺円柱構造の被測定対象物W1が第1当接部3gに当接することとなる。しかして、長尺円柱構造の被測定対象物W1に、測定台3の底面3b側を載置させれば、第1当接部3gが、長尺円柱構造の被測定対象物W1に2点で接触し当接することとなるから、測定台3のバランスが安定することとなる。これにより、長尺円柱構造の被測定対象物W1に、測定台3を安定して載置することができることとなる。それゆえ、長尺円柱構造の被測定対象物W1の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。
【0026】
しかして、第1当接部3gが、長尺円柱構造の被測定対象物W1に対して、2点で接触し当接できれば、測定台3のバランスが安定することとなるから、第1当接部3gを先細り形状となる山型に形成することにより、
図5(a)に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物W1よりも径小の長尺円柱構造の被測定対象物W1a,長尺円柱構造の被測定対象物W1aよりも径小の長尺円柱構造の被測定対象物W1bであっても、第1当接部3gが2点で接触し当接できることとなる。これにより、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物W1,W1a,W1bに対して、測定台3を安定して載置することができることとなるから、様々な長尺円柱構造の被測定対象物W1,W1a,W1bの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。
【0027】
また一方、
図1,
図2(a)に示すように、測定台3の底面3b側中央位置には、測定台3の幅方向(測定台3の前後方向)に沿って、第2当接部3hが形成されている。この第2当接部3hは、
図2(a)に示すように、底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されている。しかして、このような形状とすることにより、
図4(b)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2に、測定台3を安定して載置することができる。すなわち、
図5(b)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2に、測定台3の底面3b側を載置させれば、測定台3の底面3b側中央位置に形成されている第2当接部3hが、先細り形状となる尻窄まり形状に形成されているから、短尺円柱構造の被測定対象物W2に点接触することとなる。より詳しく説明すると、
図5(b)に示すように、第2当接部3hの一対の斜面にそれぞれ、短尺円柱構造の被測定対象物W2が点P10,P11の2点で接触し、もって、短尺円柱構造の被測定対象物W2が第2当接部3hに当接することとなる。しかして、短尺円柱構造の被測定対象物W2に、測定台3の底面3b側を載置させれば、第2当接部3hが、短尺円柱構造の被測定対象物W2に2点で接触し当接することとなるから、測定台3のバランスが安定することとなる。これにより、短尺円柱構造の被測定対象物W2に、測定台3を安定して載置することができることとなる。それゆえ、短尺円柱構造の被測定対象物W2の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。
【0028】
しかして、第2当接部3hが、短尺円柱構造の被測定対象物W2に対して、2点で接触し当接できれば、測定台3のバランスが安定することとなるから、第2当接部3hを先細り形状となる尻窄まり形状に形成することにより、
図5(b)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2よりも径小の短尺円柱構造の被測定対象物W2a,短尺円柱構造の被測定対象物W2aよりも径小の短尺円柱構造の被測定対象物W2bであっても、第2当接部3hが2点で接触し当接できることとなる。これにより、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物W2,W2a,W2bに対して、測定台3を安定して載置することができることとなるから、様々な短尺円柱構造の被測定対象物W2,W2a,W2bの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。
【0029】
また一方、
図1,
図2(a),
図3に示すように、測定台3の底面3b側中央位置には、測定台3の幅方向(測定台3の前後方向)に向かって、正面視略矩形状の貫通孔3iが貫通して設けられている。この貫通孔3iは、
図2(a)に示すように、第2当接部3hに連通し、支持孔3cに連通している。しかして、支持孔3c内に、ゲージ本体20のステム20a及びスピンドル21並びに測定子22を挿入すれば、
図3に示すように、貫通孔3iより測定子22が外部に露呈することとなる。これにより、使用者が測定器1を使用する際、測定子22を容易に確認することができることとなるから、被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等に上記測定子22を容易に当接させることができる。
【0030】
かくして、上記のように構成される測定器1は、次のように使用される。
【0031】
まず、
図1に示すように、支持孔3c内に、ゲージ本体20のステム20a及びスピンドル21並びに測定子22を挿入する。そして、この状態で、ネジ孔3e内に、それぞれ、ネジNを螺合する。これにより、
図3に示すように、測定器本体2が測定台3にてしっかりと支持されることとなる。
【0032】
次いで、この測定器1を使用し、例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、
図4(a)に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物W1に対して、測定台3の底面3b側を載置させれば、測定台3の底面3b側に形成されている第1当接部3gが、先細り形状となる山型に形成されているから、長尺円柱構造の被測定対象物W1に点接触(
図5(a)参照)することとなる。これにより、長尺円柱構造の被測定対象物W1に、測定台3を安定して載置することができることとなる。それゆえ、
図3に示す、貫通孔3iより外部に露呈している測定子22を、
図4(a)に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物W1の溝、凹み、孔、疵等に、的確に当接できることとなる。これにより、長尺円柱構造の被測定対象物W1の溝、凹み、孔、疵等の深さに応じて、測定子22が上下動、すなわち、スピンドル21が上下動することとなるから、それに合わせて、指針20cが回転し、もって、指針20cが指し示す目盛20b1を確認すれば、長尺円柱構造の被測定対象物W1の溝、凹み、孔、疵等の深さを的確に測定できることとなる。
【0033】
また、この測定器1を使用し、例えば、
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、
図4(b)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2に対して、測定台3の底面3b側を載置させれば、測定台3の底面3b側中央位置に形成されている第2当接部3hが、先細り形状となる尻窄まり形状に形成されているから、短尺円柱構造の被測定対象物W2に点接触(
図5(b)参照)することとなる。これにより、短尺円柱構造の被測定対象物W2に、測定台3を安定して載置することができることとなる。それゆえ、
図3に示す、貫通孔3iより外部に露呈している測定子22を、
図4(b)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2の溝、凹み、孔、疵等に、的確に当接できることとなる。これにより、短尺円柱構造の被測定対象物W2の溝、凹み、孔、疵等の深さに応じて、測定子22が上下動、すなわち、スピンドル21が上下動することとなるから、それに合わせて、指針20cが回転し、もって、指針20cが指し示す目盛20b1を確認すれば、短尺円柱構造の被測定対象物W1の溝、凹み、孔、疵等の深さを的確に測定できることとなる。
【0034】
しかして、以上説明した本実施形態によれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。
【0035】
なお、本実施形態においては、被測定対象物として、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)を例に説明したが、それに限らず、平らな被測定対象物にも適用可能である。すなわち、
図2(b)に示すように、測定台3の底面3bは平らな面を有しているから、その面が平らな被測定対象物に当接することができるため、もって、平らな被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。
【0036】
また、本実施形態において例示した測定器本体2、測定台3の形状はあくまで一例であり、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において種々の変形・変更が可能である。例えば、本実施形態において、測定台3の第1当接部3gは、
図2(b)に示すように、底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる山型に形成されている例を示したが、これに限らず、長尺円柱構造の被測定対象物W1に対して、2点で接触し当接できれば、どのような形状でも良い。しかしながら、様々な長尺円柱構造の被測定対象物W1,W1a,W1bの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定するのであれば、第1当接部3gは、
図2(b)に示すように、底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる山型に形成されるのが好ましい。
【0037】
また、本実施形態において、測定台3の第2当接部3hは、
図2(a)に示すように、底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されている例を示したが、これに限らず、短尺円柱構造の被測定対象物W2に対して、2点で接触し当接できれば、どのような形状でも良い。しかしながら、様々な短尺円柱構造の被測定対象物W2,W2a,W2bの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定するのであれば、第2当接部3hは、
図2(a)に示すように、底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されるのが好ましい。
【0038】
ところで、上記説明した測定器1は、そのままでも十分使用可能であるが、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定するのであれば、
図6〜
図9に示すようなガイド機構を備えた測定器ガイド装置を用いるのが好ましい。
【0039】
図6に示す測定器ガイド装置Gは、水平台G1と、この水平台G1の一側端部に立設固定されている垂直台G2と、この垂直台G2に取り付けられているガイド機構G3とを備えている。このガイド機構G3は、垂直台G2の内側面上部側長手方向に沿って固定されている水平ガイドレールG3aと、この水平ガイドレールG3aにスライド可能に取り付けられている正面視矩形状の水平案内板G3bと、この水平案内板G3bの右側面に立設固定されている垂直ガイドレールG3cと、この垂直ガイドレールG3cにスライド可能に取り付けられている正面視矩形状の垂直案内板G3dと、で構成されている。そして、このガイド機構G3と、測定器1とを接続するため、垂直案内板G3dと、測定器1の測定台3の側面3dとを繋ぐL字状金具Kを用いている。これにより、測定器1を垂直ガイドレールG3cに沿って、上下方向(
図6(a)に示す矢印Y10方向)に移動させることができ、さらに、測定器1を水平ガイドレールG3aに沿って、左右方向(
図6(a)に示す矢印Y11方向)に移動させることができる。
【0040】
しかるに、
図6に示す測定器ガイド装置Gを用いて、測定器1を使用するにあたっては、まず、水平台G1に、測定を所望する、例えば、
図6に示すような短尺円柱構造の被測定対象物W2を載置する。次いで、測定器1を垂直ガイドレールG3cに沿って、上下方向(
図6(a)に示す矢印Y10方向)に移動させて、
図6(b)に示すように、測定台3の底面3b側中央位置に形成されている第2当接部3hを、短尺円柱構造の被測定対象物W2に点接触させ、当接させる。そしてこの状態で、水平ガイドレールG3aに沿って、左右方向(
図6(a)に示す矢印Y11方向)に測定器1を移動させれば、短尺円柱構造の被測定対象物W2の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。
【0041】
しかして、このような測定器ガイド装置Gを用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。
【0042】
なお、本実施形態における測定器ガイド装置Gでは、短尺円柱構造の被測定対象物W2の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する例を示したが、長尺円柱構造の被測定対象物W1(
図4(a)参照)の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、水平ガイドレールG3aに沿って、測定器1が左右方向(
図6(a)に示す矢印Y11方向)に移動できるように、L字状金具Kを取り外し、
図6(a)に示す測定器1を右に90度回転させ、その右に90度回転させた測定器1の測定台3の左側面と垂直案内板G3dとをL字状金具Kを用いて繋ぐようにすれば良い。このようにすれば、長尺円柱構造の被測定対象物W1(
図4(a)参照)の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを、測定器ガイド装置Gを用いて測定することが可能となる。
【0043】
一方、このような測定器ガイド装置は、
図6に示すようなものに限らず、
図7に示すような測定器ガイド装置GAでも良い。
【0044】
図7に示す測定器ガイド装置GAは、一対のガイド機構GA1を備えている。このガイド機構GA1は、
図7(a),(c)に示すように、測定器1の測定台3の第2当接部3hより前後方向に突出して設けられている。そして、このガイド機構GA1は、
図7(b)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2に点接触できるように、測定台3の底面3bから頂面3aに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されている。
【0045】
しかるに、
図7に示す測定器ガイド装置GAを用いて、測定器1を使用するにあたっては、一対のガイド機構GA1を
図7(a)に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物W2に点接触させ、当接させる。そしてこの状態で、一対のガイド機構GA1に沿って、使用者が測定器1を前後方向に移動させれば、短尺円柱構造の被測定対象物W2の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。
【0046】
しかして、このような測定器ガイド装置GAを用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。
【0047】
なお、本実施形態における測定器ガイド装置GAでは、短尺円柱構造の被測定対象物W2の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する例を示したが、長尺円柱構造の被測定対象物W1の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、測定器1の測定台3の第1当接部3gより左右方向に突出してガイド機構を設けるようにすれば良い。このようにすれば、長尺円柱構造の被測定対象物W1(
図4(a)参照)の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを、測定器ガイド装置GAを用いて測定することが可能となる。
【0048】
一方、このような測定器ガイド装置は、
図6,
図7に示すようなものに限らず、
図8に示すような測定器ガイド装置GBでも良い。
【0049】
図8に示す測定器ガイド装置GBは、水平台GB1と、この水平台GB1に取り付けられているガイド機構GB2とを備えている。このガイド機構GB2は、水平台GB1の両側端部に立設固定されている一対の垂直台GB2aと、この一対の垂直台GB2aに対して上下方向(
図8(a)に示す矢印Y20方向)にスライド可能なようにそれぞれ取り付けられている一対の支持台GB2bとを備えている。この垂直台GB2aは、
図8(a)に示すように、内側左右方向端部に一対の凹孔GB2a1が設けられ、長手方向に沿って、一定間隔をおいて、複数の長孔GB2a2(図示では、3個)が幅方向に向かって貫通して設けられている。そして、支持台GB2bは、内側左右方向端部に一対の突部GB2b1が設けられ、この突部GB2b1が垂直台GB2aの凹孔GB2a1に嵌合されることにより、支持台GB2bが垂直台GB2aに対して上下方向(
図8(a)に示す矢印Y20方向)にスライド可能となる。そしてさらに、支持台GB2bの側面、すなわち、垂直台GB2aに接触する側面には、頭部N1aが長孔GB2a2の径よりも径大である調整ネジN1が螺合できるようになっている。これにより、支持台GB2bを垂直台GB2aに対して上下方向(
図8(a)に示す矢印Y20方向)にスライドさせ、所望箇所で支持台GB2bを固定しておきたい場合、複数の長孔GB2a2から、それぞれ、複数の調整ネジN1を支持台GB2bの側面、すなわち、垂直台GB2aに接触する側面に螺合すれば、複数の調整ネジN1の頭部N1aが垂直台GB2aの外側面に接触し移動が規制されることとなり、もって、これら調整ネジN1によって、支持台GB2bを所望箇所にて固定できることとなる。
【0050】
しかるに、
図8に示す測定器ガイド装置GBを用いて、測定器1を使用するにあたっては、まず、水平台GB1に、測定を所望する、例えば、
図8に示すような短尺円柱構造の被測定対象物W2を載置する。次いで、支持台GB2bを垂直台GB2aに対して上下方向(
図8(a)に示す矢印Y20方向)にスライドさせ、複数の長孔GB2a2から、それぞれ、複数の調整ネジN1を支持台GB2bの側面、すなわち、垂直台GB2aに接触する側面に螺合する。これにより、支持台GB2bを所望箇所にて固定する。この状態で、
図8(b)に示すように、測定器1の測定台3の底面3b側中央位置に形成されている第2当接部3hを、短尺円柱構造の被測定対象物W2に点接触させ、当接させる。この際、測定器1の測定台3が一対の支持台GB2bの上面に支持されることとなるから、支持台GB2bに沿って、左右方向(
図8(a)に示す矢印Y21方向)に測定器1を移動させれば、短尺円柱構造の被測定対象物W2の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。
【0051】
しかして、このような測定器ガイド装置GBを用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。
【0052】
なお、本実施形態における測定器ガイド装置GBでは、短尺円柱構造の被測定対象物W2の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する例を示したが、長尺円柱構造の被測定対象物W1の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、
図8(a)に示す測定器1を右に90度回転させ、その右に90度回転させた測定器1の測定台3の底面3bを一対の支持台GB2bに載置すれば良い。仮に、一対の支持台GB2bの幅が狭く、測定器1の測定台3の底面3bを載置できなければ、一対の支持台GB2bの幅を広くすればよい。このようにすれば、長尺円柱構造の被測定対象物W1(
図4(a)参照)の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを、測定器ガイド装置GAを用いて測定することが可能となる。
【0053】
ところで、
図8に示す測定器ガイド装置GBの一対の支持台GB2bは、別々に移動することができるため、一対の支持台GB2bの高さが一致しない可能性がある。そのため、一対の支持台GB2bの高さを一致させるために、
図8(a)に示すように目盛Mを設けるようにしても良い。
【0054】
また、
図9に示すように、一対の支持台GB2bを連結する横架材GB2b2を前後左右に設けるようにしても良い。このようにすれば、一対の支持台GB2bが垂直台GB2aに対して上下方向(
図8(a)に示す矢印Y20方向)に一度にスライドできることとなるから、一対の支持台GB2bの高さが一致しないということがない。なお、
図9に示す測定器ガイド装置GBには、
図8(a)に示すような目盛Mを設けていないが、勿論、設けても良い。
【0055】
しかして、以上説明した
図6〜
図9に示すようなガイド機構を備えた測定器ガイド装置を用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。
【0056】
なお、このようなガイド機構を備えた測定器ガイド装置は、従来の測定器にも適用可能であるが、上記説明した測定器1に対して使用した方が好ましい。被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物(例えば、
図4(a)に示す長尺円柱構造の被測定対象物W1,
図4(b)に示す短尺円柱構造の被測定対象物W2)の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定することができるためである。