【実施例】
【0189】
本発明を、以下の実施例によりさらに例示するが、それらは限定と解釈されるべきではない。実施例全体を通じて使用されるアッセイは、当技術分野において十分確立されている:すなわち、これらのアッセイにおける効力の証明により、対象における効力が予測されると一般的に考えられている。
【0190】
略記号
Ac アセチル
ACN アセトニトリル
AcOEt/EtOAc 酢酸エチル
AcOH 酢酸
aq 水性
Ar アリール
Bn ベンジル
Bu ブチル(nBu=n−ブチル、tBu=tert−ブチル)
CDI カルボニルジイミダゾール
CH
3CN アセトニトリル
DBU 1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデカ−7−エン
Boc
2O ジ−tert−ブチルジカーボネート
DCE 1,2−ジクロロエタン
DCM ジクロロメタン
DiBAl−H 水素化ジイソブチルアルミニウム
DIPEA N−エチルジイソプロピルアミン
DMAP ジメチルアミノピリジン
DMF N,N’−ジメチルホルムアミド
DMSO ジメチルスルホキシド
EI エレクトロスプレーイオン化
Et
2O ジエチルエーテル
Et
3N トリエチルアミン
エーテル ジエチルエーテル
EtOAc 酢酸エチル
EtOH エタノール
FC フラッシュクロマトグラフィー
h 時間(単数または複数)
HATU O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HBTU O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HCl 塩酸
HMPA ヘキサメチルホスホルアミド
HOBt 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
HPLC 高速液体クロマトグラフィー
H
2O 水
L リットル(単数または複数)
LC−MS 液体クロマトグラフィー質量分析法
LiHMDS リチウムビス(トリメチルシリル)アミド
MgSO
4 硫酸マグネシウム
Me メチル
MeI ヨードメタン
MeOH メタノール
mg ミリグラム
分 分(単数または複数)
mL ミリリットル
MS 質量分析法
NaHCO
3 重炭酸ナトリウム
Na
2SO
4 硫酸ナトリウム
NH
2OH ヒドロキシルアミン
Pd/C 活性炭担持パラジウム
Pd(OH)
2 水酸化パラジウム
PG 保護基
Ph フェニル
Ph
3P トリフェニルホスフィン
Prep 分取
Rf 移動率
RP 逆相
Rt 保持時間
rt 室温
SiO
2 シリカゲル
SOCl
2 塩化チオニル
TBAF フッ化テトラブチルアンモニウム
TBDMS t−ブチルジメチルシリル
TEA トリエチルアミン
TFA トリフルオロ酢酸
THF テトラヒドロフラン
TLC 薄層クロマトグラフィー
TsCl トルエンスルホニルクロリド
【0191】
本発明の化合物は、以下の反応スキームおよび実施例を参照して当業者に知られた有機合成の方法により製造することができる。式(I)の化合物を合成する一般的な方法は、下のスキームA〜Cに示す。
【0192】
一般的合成スキーム
式(II)の化合物を合成する一般的方法を、スキームAに描いて示す。第1のステップは、ニトリルオキシドを、その場でアルドキシムA−2から生成させることであり、これは次いでアルキンA−1と環化付加しイソオキサゾールA−3を生ずる。エステルA−4は、ヒドロキシルアミンおよび塩基の存在下で直接アミド合成によりヒドロキサム酸IIに変換することができる。あるいは、ヒドロキサム酸IIは、このエステルのケン化および該遊離酸のO−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)ヒドロキシルアミン(THPONH
2)を用いるアミド化に続く酸性条件下におけるTHPの脱保護(ステップ3および4)により合成することができる。
【0193】
【化10】
【0194】
スキームBは、イソオキサゾール中間体A3を調製するための別の方法を例示する。末端がアルキンのB2は、ブタ−1,3−ジイン−1−イルトリメチルシランB1を環化付加相手として使用することにより得ることができる。種々のZ基を、標準的な遷移金属を触媒とするカップリング反応により末端に付加することができる。
【0195】
【化11】
【0196】
式(III)の化合物を合成する一般的な方法を、スキームCに描いて示す。N−BocグリシンメチルエステルC1とアルデヒドC2との間のアルドール反応により付加物C3が得られる。t−ブチルオキシカルボニル基を酸性条件下で切断して第一級アミンC4を得、これは還元的アミノ化条件下でアルデヒドC5とカップリングすることができる。エステルC6は、ヒドロキシルアミンおよび塩基の存在下で直接アミド合成によりヒドロキサム酸IIIに変換することができる。
【0197】
【化12】
【0198】
一般的条件:
質量スペクトルは、エレクトロスプレーイオン化を使用して、LC−MSシステムで走査した。これらは、WATERS Acquity Single Quard検出器であった。[M+H]
+は、モノアイソトピック分子量を指す。
【0199】
NMRスペクトルは、オープンアクセス(open access)Varian 400またはVarian 500NMR分光計で走査した。スペクトルは、298Kで測定し、溶媒のピークを使用して照合した。
1H NMRに対する化学シフトは百万分率(ppm)で報告する。
【0200】
質量スペクトルは、LC−MSシステムで、以下の条件の1つで走査した:
1.SQD検出器を備えたWaters Acquity UPLC−Hクラスのシステム。
カラム:ACQUITY UPLC HSS C18(50
*2.1)mm、1.8μ。
カラム温度:周囲温度。
移動相:A)水中0.1%FA+5mM酢酸アンモニウム。
B)アセトニトリル中0.1%FA。
勾配:0.40分で5〜5%溶媒B、0.80分で5〜35%溶媒B、1.2分で35〜55%溶媒B、
2.5分で55〜100%溶媒B。
流速:0.55mL/分。
化合物は、Waters Photodiode Array検出器により検出した。
2.ZQ2000検出器を備えたWatersのLCMSシステム。
カラム:X−BRIDGE C18(50
*4.6)mm、3.5μ。
カラム温度:周囲温度。
移動相:A)水中0.1%NH3。
B)アセトニトリル中0.1%NH3。
勾配:5.00分で5〜95%溶媒B。
流速:1.0mL/分。
化合物は、Waters Photodiode Array検出器により検出した。
3.ZQ2000MSシステムを備えたWaters ACQUITY UPLCシステム。
カラム:PhenomenexによるKinetex、2.6μm、2.1×50mm
カラム温度:50℃
勾配:1.29分間にわたって2〜88%(または00〜45%、または65〜95%)溶媒B
流速:1.2mL/分。
化合物は、Waters Photodiode Array検出器により検出した。
【0201】
I.1.(R)−4−(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.1]の合成
【0202】
【化13】
方法A:
ステップ1.(シクロプロピルブタ−1,3−ジイン−1−イル)トリメチルシラン[1.1a]の合成
(ブロモエチニル)シクロプロパン(60g、414mmol)のピペリジン(345ml)中溶液に、0℃でエチニルトリメチルシラン(44.7g、455mmol)およびCuI(7.88g、41.4mmol)を加えた。次いで溶液を室温で2時間撹拌した。反応物を、飽和NH
4Cl水溶液を加えることによりクエンチし、次いでTBMEで抽出した。有機層を水、ブラインで洗浄し、MgSO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物は、ヘプタンを溶出液とし、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、生成物(42g、収率62%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3) 0.13 - 0.24 (m, 9 H) 0.72 - 0.91 (m, 4 H) 1.25 - 1.36 (m, 1 H)
【0203】
ステップ2.エチル5−クロロ−5−(ヒドロキシイミノ)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート[1.1b]の合成
NCS(10.8g、81mmol、1.2当量)を、エチル5−(ヒドロキシイミノ)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート(17g、67.6mmol)のDMF(34mL)中溶液に加え、得られた混合物を室温で3時間撹拌した。次いで溶媒を真空下で除去した。残留物をEtOAcに溶解し、水、ブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物(19g、収率98%)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。LCMS(m/z):286.2[M+H]
+。
【0204】
ステップ3.(R)−エチル4−(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.1c]の合成
1.1a(8.4g、51.8mmol)のMeOH(25mL)中溶液に、K
2CO
3(14.3g、104mmol)を加え、混合物を室温で18時間撹拌した。次いで混合物をCH
2Cl
2(75mL)で希釈し、濾過した。次いで濾液を氷水浴中に置き、1.1.b(14.79g、51.8mmol)を加えた。次いでTEA(14.43ml、104mmol)を30分かけて上記溶液に加え、混合物を室温で4時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した。残留物をTBMEで希釈し、水、ブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から60%により精製して、(±)−1.1c(9.0g、51%)を得た。2種のエナンチオマーをキラルHPLCにより分離した。
【0205】
分離条件:Chiral ADカラム;流速:30ml/分;溶媒:ヘプタン/EtOH=50/50;圧力1263psi。生成物1:tR3.76分、生成物2:tR4.73分。生成物2は所望の異性体1.1c(3.0g)である。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3) 0.84 - 1.08 (m, 4 H) 1.32 (t, J=7.14 Hz, 3 H) 1.45 - 1.56 (m, 2 H) 1.68 (s, 3 H) 2.17 (s, 1 H) 2.25 - 2.40 (m, 1 H) 2.53 -2.71 (m, 2 H) 2.80 (d, J=5.04 Hz, 1 H) 3.05 (s, 3 H) 4.27 (q, J=7.11 Hz, 2 H) 6.17 (s, 1 H).LCMS(m/z):340.3[M+H]
+。
【0206】
ステップ4.(R)−4−(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタン酸[1.1d]の合成
LiOH・H
2O(0.3g、2.0mmol)を、1.1c(1.2g、3.5mmol)のTHF/MeOH/水(12mL、1/1/1)中溶液に加え、得られた溶液を室温で1時間撹拌した。次いで溶媒を減圧下で除去した。残った物質を3.0N HCl水溶液で酸性化し、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物(1.1g、定量的収率)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。LCMS(m/z):312.3[M+H]
+。
【0207】
ステップ5.(2R)−4−(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−N−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ブタンアミド[1.1e]の合成
1.1d(1.1g、3.53mmol)のDMF(6mL)中溶液に、室温でアザ−HOBt(0.866g、6.36mmol)、EDC(1.016g、5.30mmol)およびO−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)ヒドロキシルアミン(0.621g、5.30mmol)、TEA(1.477ml、10.60mmol)を加えた。溶液を45℃で3時間次いで室温で18時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した。残留物をEtOAcで希釈し、飽和NaHCO
3水溶液で洗浄した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から70%により精製して、生成物1.2g(収率83%)を得た。LCMS(m/z):411.3[M+H]
+。
【0208】
ステップ6.(R)−4−(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.1]の合成
【0209】
【化14】
1.1e(1.2g、2.92mmol)のMeOH(5.0mL)およびDCM(5.0mL)中溶液に、0℃でHCl(0.731mL、ジオキサン中4.0M、2.92mmol)を加えた。溶液を室温で1時間撹拌した。次いで溶媒を減圧下で除去した。残った物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、アセトン/ヘプタン0から60%により精製して、生成物0.79g(収率81%)を得た。
1H NMR (400 MHz, DMSO): 10.97 (s, 1H), 9.24 (s, 1H), 6.73 (s, 1H), 3.06 (s, 3H), 2.71 (dd, J = 17.3, 9.1 Hz, 1H), 2.56 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 2.47 - 2.40 (m, 1H), 2.06 - 1.95 (m, 1H), 1.69 (ddd, J = 13.3, 8.3, 5.0 Hz, 1H), 1.50 (s, 3H), 0.99 (td, J = 6.8, 4.0 Hz, 2H), 0.88 - 0.82 (m, 2H).LCMS(m/z):327.3[M+H]
+。
【0210】
方法B
1.1cの代替合成
ステップ7.エチル2−メチル−2−(メチルスルホニル)ヘキサ−5−エノエート[1.1f]の合成
エチル2−(メチルスルホニル)プロパノエート(50g、277mmol)のDMF(277ml)中溶液に、0℃でNaH(14.43g、60%、361mmol)を加え、混合物を室温で2時間撹拌した。次いで混合物を0℃で冷却し、4−ブロモブタ−1−エン(41.2g、305mmol)を30分かけて加えた。次いで混合物を室温で18時間撹拌した。溶媒を高真空下で除去した。残留物にTBMEを加え、次いで飽和NH
4Cl水溶液でクエンチした。相を分離し、水層をTBMEで抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から50%により精製して、生成物を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.32 (t, J=7.14 Hz, 3 H) 1.62 (s, 3 H) 1.91 - 2.06 (m, 2 H) 2.12 - 2.42 (m, 2 H) 3.04 (s, 3 H) 4.28 (q, J=7.14 Hz, 2 H) 4.92 - 5.14 (m, 2 H) 5.64 - 5.86 (m, 1 H)
【0211】
ステップ8.1.1f−Iおよび1.1f−IIを得るための1.1fの分離
ラセミ体物質1.1fを、擬似移動床クロマトグラフィーによりエナンチオマー1.1f−Iおよび1.1f−IIに分離した。
【0212】
【表1】
2番目のピークは、所望の異性体エチル(R)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ヘキサ−5−エノエート1.1f−IIである。
【0213】
【化15】
【0214】
ステップ9.エチル(R)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−5−オキソペンタノエート[1.1g]の合成
【0215】
【化16】
1.1f−II(6g、25.6mmol)のジオキサン(128mL)および水(43mL)中溶液に、2,6−ルチジン(5.49g、51.2mmol)およびOsO
4(3.25g、水中4%、0.512mmol)を加えた。30分後、溶液を氷水浴中に置き、NaIO
4(21.91g、102mmol)を加えた。次いで混合物を室温で18時間撹拌した。次いで混合物を濾過し、濾液を濃縮した。残留物をEtOAcに溶解し、1.0N HCl水溶液、ブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。
1H NMR (400 MHz, 溶媒): 1.32 (t, J=7.14 Hz, 3 H) 1.61 (s, 3 H) 2.22 - 2.36 (m, 1 H) 2.43 - 2.62 (m, 2 H) 2.63 - 2.76 (m, 1 H) 3.07 (s, 3 H) 4.28 (q, J=7.14 Hz, 2 H) 9.69 - 9.92 (m, 1 H)
【0216】
ステップ10.エチル(R)−5−(ヒドロキシイミノ)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート[1.1h]の合成
ヒドロキシルアミン塩酸塩(2.0g、28.2mmol)の水(26mL)中溶液に、NaHCO
3(2.4g)を加えた。室温で10分間撹拌した後、1.1g(6.0g、25mmol)のEtOH(26mL)中溶液を加え、溶液を室温で18時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した。残った物質をEtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物6.4gを得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。LCMS(m/z):252.1[M+H]
+。
【0217】
ステップ11.(R)−エチル4−(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.1c]の合成
実施例1.1ステップ2−3の手順により、1.1hから化合物1.1cを合成した。1.1hはエナンチオマー的に純粋であるため、ステップ3においてキラル分離は必要ない。
【0218】
I.2.(R)−4−(5−(シクロブチルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.2]の合成
【0219】
【化17】
ステップ1.(ヨードエチニル)シクロブタン[1.2a]の合成
n−BuLi(53.6mL、ヘキサン中2.5M、86mmol)を、−78℃で6−クロロヘキサ−1−イン(5.21mL、42.9mmol)のTHF(107mL)中溶液に加え、得られた溶液を室温で24時間撹拌した。次いでヨウ素(10.88g、42.9mmol)を加え、溶液を室温で3時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残留物をTBMEと水との間で分配した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ヘプタン100%により精製して、生成物3.4g(収率38%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3) 1.79 - 1.96 (m, 2 H) 2.08 - 2.31 (m, 4 H) 3.16 (m, 1 H)
【0220】
ステップ2.(シクロブチルブタ−1,3−ジイン−1−イル)トリメチルシラン[1.2b]の合成
フラスコにピペリジン(11mL)を入れ、脱気した。0℃で、1a(2.8g、13.59mmol)を、続いてCuI(0.259g、1.359mmol)およびエチニルトリメチルシラン(1.468g、14.95mmol)を加えた。混合物を0℃で1時間および室温で1時間撹拌した。混合物をTBMEで希釈し、飽和NH
4Cl水溶液、ブラインで洗浄し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ヘプタン100%により精製して、生成物1.7g(収率71%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 0.12 - 0.28 (m, 9 H), 1.92 (m, 2 H), 2.09 - 2.33 (m, 4 H), 3.06 (m, 1 H)
【0221】
ステップ3.(R)−ベンジル2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタ−4−エノエート[1.2c]の合成
窒素の不活性雰囲気でパージし維持した20−Lの4ッ口丸底フラスコ中に、ベンジル2−メタンスルホニルプロパノエート(960g、3.96mol、1.00当量)、CH
3CN(14.4L)およびCs
2CO
3(2585g、7.93mol、2.00当量)を入れた。これに続いて0℃で30分間撹拌しながら3−ブロモプロパ−1−エン(667g、5.51mol、1.40当量)を滴下添加した。得られた溶液を室温で終夜撹拌した。固体を濾別した。固体をEtOAcで洗浄し、有機層を合わせた。得られた混合物を真空下で濃縮した。残留物を酢酸エチル/石油エーテル(1:15)を用いてシリカゲルカラム上に塗布して、生成物860g(77%)を得た。
1H NMR (300 MHz, CDCl
3): 1.61 (s, 3H), 2.56-2.63 (m, 1H), 2.97-3.05 (m, 4H), 5.13-5.28 (m, 4H), 5.54-5.68 (m, 1H), 7.34-7.41 (m, 5H).LCMS(m/z):283[M+H]
+。
【0222】
物質を擬似移動床クロマトグラフィーにより分離した:
カラム:CHIRALPAK AY−PREP
溶媒:ヘプタン/EtOH50/50
流速:1.0mL/分
エンジン:Agilent 1200 DAD Magellan
最初のピークは所望のエナンチオマー1.2c、tR6.9分である。
2番目のピークは望ましくないエナンチオマー:tR9.6分である。
【0223】
ステップ4.(R)−ベンジル5−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート[1.2d]の合成
1.2c(10g、35.4mmol)のTHF(38mL)中溶液に、0℃でBH
3・THF錯体(39.0mL、THF中1.0M溶液、39.0mmol)を加え、溶液を室温で30分間撹拌した。次いで溶液を氷水浴中に置き、内温を10℃未満に維持しながらH
2O
2(10.85mL、水中30%、177mmol)を10分かけて加えた。その後、NaOH水溶液(35.4mL、1.0N、35.4mmol)の溶液を5分かけて加えた。0℃で30分間撹拌した後、溶液をEtOAcで希釈した。相を分離した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から100%により精製して、生成物7.2g(収率67%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.13 - 1.70 (m, 4 H), 1.80-2.31 (m, 2 H), 3.01 (s, 3 H), 3.62 (m, 2 H), 5.25 (s, 2 H), 7.29 - 7.44 (m, 5 H).LCMS(m/z):301.3[M+H]
+。
【0224】
ステップ5.(R)−ベンジル2−メチル−2−(メチルスルホニル)−5−オキソペンタノエート[1.2e]の合成
塩化オキサリル(2.62mL、30.0mmol)のDCM(82mL)中溶液に、−78℃でDMSO(4.25mL、59.9mmol)を加えた。10分後、1.2d(7.5g、24.97mmol)のDCM(5mL)中溶液を加え、得られた溶液を−78℃で20分間撹拌した。次いでTEA(13.92mL、100mmol)を加え、混合物を−78℃で10分間撹拌した後、0℃にゆっくり加温した。次いで反応物を、飽和NH
4Cl水溶液を加えることによりクエンチした。相を分離し、水層をDCMで抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、MgSO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から60%により精製して、生成物5.3g(収率71%)を得た。LCMS(m/z):299.3[M+H]
+。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3) 1.62 (s, 3 H) 2.23 - 2.39 (m, 1 H) 2.43 - 2.55 (m, 2 H) 2.58 - 2.70 (m, 1 H) 2.99 (s, 3 H) 5.15 - 5.34 (m, 2 H), 7.30 - 7.50 (m, 6 H) 9.71 (s, 1 H)
【0225】
ステップ6.(R)−ベンジル5−(ヒドロキシイミノ)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート[1.2f]の合成
NaHCO
3(1.6g、19.5mmol)を、ヒドロキシルアミン塩酸塩(1.36g、19.5mmol)の水(30.0mL)中溶液に加えた。室温で10分間撹拌した後、1.2d(5.3g、17.7mmol)のEtOH(30mL)中溶液を加え、得られた溶液を室温で18時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残った物質をEtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、MgSO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。LCMS(m/z):314.5[M+H]
+。
【0226】
ステップ7.(R)−4−(5−(シクロブチルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.2]の合成
【0227】
【化18】
実施例1.1ステップ2〜6のプロセスにより、1.2bおよび1.2fから化合物1.2を合成した。
1H NMR (500 MHz, DMSO-d6): 10.98 (s, 1H), 9.24 (s, 1H), 6.77 (s, 1H), 3.46 - 3.38 (m, 1H), 3.06 (s, 3H), 2.70-2.76 (m, 1H), 2.43-2.57 (m, 2 H), 2.30-2.35 (m, 2 H), 2.22 - 2.12 (m, 2H), 2.06 - 1.88 (m, 3H), 1.51 (s, 3H).LCMS(m/z):341.3[M+H]
+。
【0228】
I.3.(R)−4−(5−(3,3−ジメチルブタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.3]の合成
【0229】
【化19】
実施例1.2のプロセスに従い、化合物1.3を合成した。
1H NMR (500 MHz, DMSO-d6): 1.31 (s, 9 H), 1.51 (s, 3 H), 1.84 - 2.10 (m, 1 H), 2.36 - 2.58 (m, 2 H), 2.67 - 2.80 (m, 1 H), 3.34 (s, 3 H), 6.76 (s, 1 H), 9.12 - 9.31 (m, 1 H), 10.89 - 11.04 (m, 1 H).LCMS(m/z):343.3[M+H]
+。
【0230】
I.4.(R)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−(プロパ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)ブタンアミド[1.4]の合成
【0231】
【化20】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、化合物1.4を合成した。中間体トリメチル(ペンタ−1,3−ジイン−1−イル)シランをTetrahedron Lett.1980, 21, 3111に記載されている通りに合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO): 1.49 (s, 3 H); 1.93 - 2.03 (m, 1 H); 2.15 (s, 3 H); 2.39 - 2.45; (m, 1 H); 2.51 - 2.55 (m, 1 H); 2.64 - 2.78 (m, 1 H); 3.03 (s, 3 H; 6.45 - 7.09 (m, 1 H); 8.96 - 9.65 (m, 1 H); 10.75 - 11.32 (m, 1 H).LCMS(m/z):300.1[M+H]
+。
【0232】
I.5.(R)−4−(5−(ブタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.5]の合成
【0233】
【化21】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、化合物1.5を合成した。中間体ヘキサ−1,3−ジイン−1−イルトリメチルシランをTetrahedron Lett.1980, 21, 3111に記載されている通りに合成した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD): 1.20-1.24 (t, 3 H) 1.60 (s, 3 H) 2.07-2.10 (m, 2 H) 2.44-2.52 (m, 1 H) 2.60-2.701.90 - 2.11 (m, 2 H) 2.78 - 2.83 (m, 1 H) 3.03 (s, 3 H) 6.42 (s, 3 H).LCMS(m/z):315.2[M+H]
+。
【0234】
I.6.(R)−N−ヒドロキシ−2−メチル−4−(5−(3−メチルブタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.6]の合成
【0235】
【化22】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、化合物1.6を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6): 1.11 - 1.25 (m, 6 H) 1.40 - 1.55 (m, 3 H) 1.88 - 2.09 (m, 1 H) 2.37 - 2.58 (m, 4 H) 2.63 - 2.80 (m, 1 H) 2.82 -2.96 (m, 1 H) 3.03 (s, 3 H) 6.73 (s, 1 H) 10.93 (br. s., 1 H).LCMS(m/z):329.3[M+H]
+。
【0236】
I.7.(R)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−(ペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)ブタンアミド[1.7]の合成
【0237】
【化23】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、化合物1.7を合成した。中間体ヘプタ−1,3−ジイン−1−イルトリメチルシランをTetrahedron 2004, 60, 11421に記載されている通りに合成した。
1H NMR (500 MHz, DMSO-d
6): 1.00 (t, J=7.39 Hz, 4 H) 1.46 - 1.55 (m, 4 H) 1.55 - 1.65 (m, 3 H) 2.03 (s, 1 H) 2.37 - 2.50 (m, 1 H) 2.59 -2.68 (m, 1 H) 2.68 - 2.81 (m, 1 H) 3.07 (s, 2 H) 6.69 - 6.84 (m, 1 H).LCMS(m/z):329.2[M+H]
+。
【0238】
I.8.(R)−N−ヒドロキシ−2−メチル−4−(5−((1−メチルシクロプロピル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.8]の合成
【0239】
【化24】
ステップ1:トリメチル((1−メチルシクロプロピル)ブタ−1,3−ジイン−1−イル)シラン[1.8a]の合成
(シクロプロピルブタ−1,3−ジイン−1−イル)トリメチルシラン(600mg、3.70mmol)のEt
2O(5mL)中溶液に、0℃でBuLi(1.479mL、3.70mmol)を滴下添加し、反応混合物を周囲温度で6時間撹拌した。次いで硫酸ジメチル(0.883mL、9.24mmol)を−10℃で滴下添加し、得られた溶液を10℃で次いで20℃で各30分間撹拌した。反応物を、飽和NH
4Cl水溶液を加えることによりクエンチし、次いで混合物を周囲温度で1時間撹拌した。水相をジエチルエーテル(20mL)で抽出し、合わせた有機層をブライン溶液(10mL)およびH
2O(10mL)で洗浄し、乾燥(MgSO
4)し、濃縮した。粗製の生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ヘプタン100%により精製して、生成物を得た。(470mg、収率72.1%)
【0240】
ステップ2:1−(ブタ−1,3−ジイン−1−イル)−1−メチルシクロプロパン[1.8b]の合成
トリメチル((1−メチルシクロプロピル)ブタ−1,3−ジイン−1−イル)シラン(200mg、1.134mmol)に、THF(1mL)、MeOH(0.5mL)、次いで続いてNaOH(0.681mL、3.40mmol)を加えた。得られた混合物を2時間撹拌した。混合物をDCM(3mL)で希釈し、Na
2SO
4で乾燥し、濾過し、濾過した溶液を次のステップで直ちに使用した。
【0241】
ステップ3:(R)−N−ヒドロキシ−2−メチル−4−(5−((1−メチルシクロプロピル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.8]の合成
【0242】
【化25】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、化合物1.8を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6): 0.70 - 1.09 (m, 5 H) 1.21 - 1.57 (m, 7 H) 1.88 - 2.11 (m, 1 H) 2.34 - 2.56 (m, 3 H) 2.59 - 2.80 (m, 1 H) 2.93 - 3.10 (m, 3 H) 6.59 - 6.84 (m, 1 H) 10.93 (br. s., 1 H).LCMS(m/z):341.2[M+H]
+。
【0243】
I.9.(R)−4−(5−(5−フルオロブタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.9]の合成
【0244】
【化26】
実施例1.2のプロセスに従い、化合物1.9を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6) 10.95 (s, 1H), 9.22 (s, 1H), 6.81 (s, 1H), 4.60 (dt, J = 46.8, 5.8 Hz, 2H), 3.05 (s, 3H), 3.05 - 2.92 (m, 2H), 2.79 - 2.64 (m, 1H), 2.51 - 2.39 (m, 2H), 2.15 - 1.93 (m, 1H), 1.51 (s, 3H).LCMS(m/z):333.1[M+H]
+。
【0245】
I.10 (R)−4−(5−(5−フルオロペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.10]の合成
ステップ1.(2R)−4−(5−(5−ヒドロキシペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−N−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ブタンアミド[1.10a]の合成
【0246】
【化27】
実施例1.1のプロセスにより、ペンタ−4−イン−1−オールから化合物1.10aを合成した。
LCMS(m/z):345.2[M+H−THP]
+。
【0247】
ステップ2.(2R)−4−(5−(5−フルオロペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−N−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ブタンアミド[1.10b]の合成
【0248】
【化28】
1.10a(80mg、0.19mmol)のDCM(2mL)中撹拌溶液に、0℃でDAST(0.05mL、0.37mmol)を加えた。反応が完結した(1.5時間)後、混合物をDCMで希釈し、水、ブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン、40%から100%)により精製して、生成物1.10b(11.5mg、収率14%)を得た。LCMS(m/z):347.2[M−THP+H]
+。
【0249】
ステップ3.(R)−4−(5−(5−フルオロペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.10]
【0250】
【化29】
実施例1.1ステップ6のプロセスに従い、1.10bから化合物1.10を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6) 10.95 (s, 1H), 9.21 (s, 1H), 6.78 (s, 1H), 4.54 (dt, J = 47.3, 5.8 Hz, 2H), 3.05 (s, 3H), 2.75 - 2.67 (m, 1H), 2.64 (t, J = 7.1 Hz, 2H), 2.52 - 2.43 (m, 2H), 2.05 - 1.88 (m, 3H), 1.51 (s, 3H).LCMS(m/z):347.2[M+H]
+。
【0251】
I.11 化合物1.11の合成
【0252】
【化30】
ステップ1:(R)−ベンジル4−(5−(5−ヒドロキシペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.11a]の合成
実施例1.1のプロセスにより、ペンタ−4−イン−1−オールから化合物1.11aを合成した。LCMS(m/z):420.1[M+H]
+。
【0253】
ステップ2:(R)−ベンジル2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−(5−オキソペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)ブタノエート[1.11b]の合成
1.11a(100mg、0.238mmol)のDCM(0.9mL)中溶液に、0℃でDIPEA(0.200mL、1.14mmol)を、続いてPy・SO
3(114mg、0.715mmol)のDMSO(0.3mL)中溶液を加えた。溶液を0℃で30分間撹拌し、次いで飽和NH
4Cl水溶液を加えることによりクエンチした。混合物をEtOAcで抽出した。合わせた有機物をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濾過し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン40から90%)により精製して、生成物(73mg、収率73.4%)を得た。LCMS(m/z):418.3[M+H]
+。
【0254】
ステップ3:(R)−ベンジル4−(5−(5,5−ジフルオロペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.11c]の合成
【0255】
【化31】
1.11b(73mg、0.175mmol)のDCM(0.6mL)中溶液に、周囲温度でDAST(0.069mL、0.525mmol)を加え、得られた溶液を1時間撹拌した。反応物を、飽和NaHCO
3水溶液を加えることによりクエンチし、混合物をEtOAcで抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン、10〜70%)により精製して、生成物(67mg、収率87%)を得た。LCMS(m/z):440.3[M+H]
+。
【0256】
ステップ4:(R)−4−(5−(5,5−ジフルオロペンタ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.11]の合成
【0257】
【化32】
実施例1.1ステップ4〜6のプロセスにより、1.11cから化合物1.11を合成した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD): 6.54 (s, 1 H) 5.86 - 6.22 (m, 1 H) 3.08 (s, 3 H) 2.78 - 2.90 (m, 1 H) 2.58 - 2.77 (m, 4 H) 2.09 - 2.29 (m, 3 H) 1.65 (s, 3 H).LCMS(m/z):365.2[M+H]
+。
【0258】
I.12.(R)−4−(5−((3,3−ジフルオロシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.12]の合成
【0259】
【化33】
ステップ1.(3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブチル)メタノール[1.12a]の合成
LiAiH
4のTHF中溶液(77ml、THF中1.0M、1.1当量)を、0℃でメチル3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブタン−1−カルボキシレート(17g、69.6mmol)のTHF(139ml)中溶液に滴下添加し、得られた溶液を室温で2時間撹拌した。次いで反応混合物を氷水浴中で冷却し、飽和Na
2SO
4水溶液(10ml)を加えることによりクエンチした。室温で30分間撹拌した後、混合物を濾過し、濾液を濃縮した。残留物をEtOAcに溶解し、MgSO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。
【0260】
ステップ2.3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブタン−1−カルボアルデヒド[1.12b]の合成
塩化オキサリル(5.8ml、66.5mmol、1.2当量)のDCM(165mL)中溶液に、−78℃でDMSO(9.4ml、133mmol、2.4当量)を加えた。10分間撹拌した後、(3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブチル)メタノール(12g、55.5mmol)のDCM(20ml)中溶液を加え、得られた溶液を−78℃で20分間撹拌した。TEA(23mL、166mmol、3.0当量)を加え、混合物を−78℃で10分間撹拌し、次いで0℃にゆっくり加温した。反応物を、飽和NH
4Cl水溶液を加えることによりクエンチした。相を分離し、水層をDCMで抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、MgSO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から20%により精製して、生成物5.2g(収率44%)を得た。
1H NMR: (400 MHz, CDCl
3) -0.2 (s, 6 H), 0.8 (s, 9 H), 1.94 - 2.27 (m, 2 H), 2.48 - 2.65 (m, 2 H), 2.93 - 3.15 (m, 1 H), 4.17 -4.50 (m, 1 H), 9.8 (s, 1 H).
【0261】
ステップ3.tert−ブチル(3−エチニルシクロブトキシ)ジメチルシラン[1.12c]の合成
3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブタン−1−カルボアルデヒド(5.2g、24.2mmol、1.0当量)およびジメチル(1−ジアゾ−2−オキソプロピル)ホスホネート(10.10g、48.5mmol、2.0当量)のMeOH(81ml)中溶液に、0℃でK
2CO
3(10.06g、72.8mmol、3.0当量)を加え、得られた混合物を室温で18時間撹拌した。混合物を濾過し、濾液を濃縮した。残留物をEtOAcに溶解し、水、ブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から10%により精製して、生成物4.0g(収率78%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 0.04 (s, 6 H), 0.88 (s, 9 H), 2.1 (s, 1 H), 2.18 - 2.51 (m, 4 H) 2.80 - 3.04 (m, 1 H) 4.30 - 4.73 (m, 1 H)
【0262】
ステップ4.ベンジル(R)−4−(5−((3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.12d]の合成
【0263】
【化34】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、1.12cから化合物1.12dを合成した。LCMS(m/z):347.4[M+H]
+。
【0264】
ステップ5.ベンジル(R)−4−(5−((3−ヒドロキシシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.12e]の合成
TBAF溶液(THF中1.0M、4.4ml、4.4mmol、1.5当量)を、室温でベンジル(R)−4−(5−((3−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート(1.6g、2.93mmol、1.0当量)のTHF(5.8ml)中溶液に加え、得られた溶液を室温で30分間撹拌した。次いで混合物をシリカゲルに直接装填し、アセトン/ヘプタン0から60%でフラッシュして、生成物0.86g(収率68%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.69 (s, 3 H), 2.24 - 2.42 (m, 3 H), 2.51 - 2.66 (m, 4 H), 2.72 - 2.85, (m, 1 H), 2.96 (s, 3 H), 3.18 -3.35 (m, 1 H), 4.46 - 4.74 (m, 1 H), 5.23 (m, 2 H), 6.14 (s, 1 H) 7.30 - 7.43 (m, 5 H).LCMS(m/z):432.6[M+H]
+。
【0265】
ステップ6.ベンジル(R)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−((3−オキソシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)ブタノエート[1.12f]の合成
【0266】
【化35】
ベンジル(R)−4−(5−((3−ヒドロキシシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート(230mg、0.533mmol、1.0当量)のDCM(2.0ml)中溶液に、0℃でDIPEA(0.465ml、2.67mmol、5.0当量)およびピリジン硫黄トリオキシド(255mg、1.6mmol、3.0当量)のDMSO(0.6ml)中溶液を加えた。室温で30分間撹拌した後、反応物を、飽和NaHCO
3水溶液を加えることによりクエンチし、次いでEtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、アセトン/ヘプタン0から50%により精製して、生成物200mg(収率87%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.70 (s, 3 H), 2.26 - 2.40 (m, 1 H), 2.55 - 2.68 (m, 2 H), 2.78 - 2.87 (m, 1 H), 2.96 (s, 3 H), 3.29 -3.68 (m, 5 H), 5.24 (d, J=0.78 Hz, 2 H), 6.20 (s, 1 H), 7.38 (s, 5 H).LCMS(m/z):430.3[M+H]
+。
【0267】
ステップ7.ベンジル(R)−4−(5−((3,3−ジフルオロシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.12g]の合成
【0268】
【化36】
ベンジル(R)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−((3−オキソシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)ブタノエート(170mg、0.396mmol)のDCM(1.3ml)中溶液に、室温でDAST(0.157ml、1.187mmol、3.0当量)を加え、得られた溶液を室温で18時間撹拌した。反応物を、飽和NaHCO
3水溶液を加えることによりクエンチし、次いでEtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、アセトン/ヘプタン0から60%により精製して、生成物140mg(収率78%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.70 (s, 3 H); 2.23 - 2.41 (m, 1 H); 2.54 - 2.68 (m, 2 H); 2.74 - 2.88 (m, 3 H); 2.96 (s, 3 H); 2.99 -3.06 (m, 2 H); 3.11 - 3.27 (m, 1 H); 5.12 - 5.43 (m, 2 H); 6.19 (s, 1 H); 7.37 (m, 5 H).LCMS(m/z):452.0[M+H]
+。
【0269】
ステップ8.(R)−4−(5−((3,3−ジフルオロシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.12]の合成
【0270】
【化37】
実施例1.1ステップ4〜6のプロセスに従い、化合物1.12を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO): 1.49 (s, 3 H); 1.94 - 2.04 (m, 1 H); 2.4-2.51 (m, 1 H); 2.63 - 2.84 (m, 4 H); 3.03 (s, 3 H); 3.05 - 3.14 (m, 2 H); 3.34 -3.47 (m, 1 H); 5.53 - 5.95 (m, 1 H); 6.63 - 6.94 (m, 1 H); 8.98 - 9.56 (m, 1 H).LCMS(m/z):377.5[M+H]
+。
【0271】
I.13.(R)−4−(5−((3−フルオロシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.13]の合成
【0272】
【化38】
ステップ1:(R)−ベンジル4−(5−((3−フルオロシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.13a]
1.12e(55mg、0.13mmol)のDCM(1.2mL)中溶液に、0℃でDeoxoFluor、トルエン中50%(0.11mL、0.26mmol)を加えた。周囲温度に加温しながら反応物を終夜撹拌した。さらにDeoxoFluor、トルエン中50%(0.11mL、0.26mmol)を加え、反応物を24時間撹拌した。反応物をエタノール(0.149mL、2.55mmol)で、続いてpH7リン酸塩水性緩衝液でクエンチし、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濾過し、濃縮した。粗製物をシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン)により精製して、生成物16mg(収率29.0%)を得た。LCMS(m/z):434.3[M+H]
+。
【0273】
ステップ2:(R)−4−(5−((3−フルオロシクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.13]
【0274】
【化39】
実施例1.1ステップ4〜6のプロセスに従い、化合物1.13を調製した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD):LCMS(m/z):359.3[M+H]
+。
【0275】
I.14.(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−(5−ヒドロキシ−5−メチルヘキサ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.14]の合成
【0276】
【化40】
ステップ1:6−(トリメチルシリル)ヘキサ−5−イン−2−オン[1.14a]の合成
ジクロロ(p−シメン)ルテニウム(II)ダイマー(0.919g、1.50mmol)のベンゼン(150mL)中撹拌溶液に、ピロリジン(0.496mL、6.00mmol)を加え、次いで混合物を周囲温度で30分間撹拌した。TMS−アセチレン(4.24mL、30.0mmol)およびメチルビニルケトン(7.38mL、90.0mmol)を加えた。60℃で22時間撹拌した後、混合物を室温で冷却し、濾過した。濾液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー(ジエチルエーテル/ペンタン、0〜50%)により精製して、生成物1.47g(収率29.1%)を得た。LCMS(m/z):286.2[M+H+H
2O]
+。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 2.62 - 2.73 (m, 2 H) 2.42 - 2.53 (m, 2 H) 2.17 (s, 3 H) 0.13 (s, 9 H).
【0277】
ステップ2:2−メチル−6−(トリメチルシリル)ヘキサ−5−イン−2−オール[1.14b]の合成
メチルマグネシウムブロミド(1:3THF/トルエン中1.4M、9.36mL、13.1mmol)を、0℃で1.14a(1.47g、8.73mmol)のTHF(40mL)中溶液に滴下添加し、得られた溶液を0℃で1時間撹拌した。反応物を飽和NH
4Cl水溶液でクエンチし、EtOAcで抽出した。合わせた有機物をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物1.61g(収率100%)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。LCMS(m/z):185.2[M+H]
+。
【0278】
ステップ3:2−メチルヘキサ−5−イン−2−オール[1.14c]の合成
1.14b(1.61g、8.73mmol)のメタノール(50mL)中溶液を、炭酸カリウム(3.62g、26.2mmol)で処理した。反応物を周囲温度で1時間撹拌した。反応物をDCM(100mL)で希釈し、濾過し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ヘプタン/EtOAc0〜60%上でのフラッシュクロマトグラフィーにより精製して、生成物(0.64g、収率53%)を得た。LCMS(m/z):113.1[M+H]
+。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3) δ ppm 2.31 (td, J=7.75, 2.69 Hz, 1 H) 1.97 (t, J=2.67 Hz, 1 H) 1.70 - 1.79 (m, 2 H) 1.24 (s, 6 H).
【0279】
ステップ4:2−メチル−8−(トリメチルシリル)オクタ−5,7−ジイン−2−オール[1.14d]の合成
1.14c(0.502g、4.48mmol)のピペリジン(3.8mL)中溶液に、0℃で(ブロモエチニル)トリメチルシラン(0.872g、4.92mmol)およびCuI(0.085g、0.448mmol)を加えた。溶液を周囲温度で2.5時間撹拌した。反応物を、飽和NH
4Cl水溶液を加えることによりクエンチし、次いでEtOAcで抽出した。合わせた有機層を水およびブラインで順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン0から50%)により精製して、生成物395mg(収率42.4%)を得た。LCMS(m/z):209.2[M+H]
+。
【0280】
ステップ5:(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−(5−ヒドロキシ−5−メチルヘキサ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.14]の合成
【0281】
【化41】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、1.14dから化合物1.14を合成した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD) δppm 6.45 (s, 1 H) 3.06 (s, 3 H) 2.73 - 2.88 (m, 1 H) 2.52 - 2.72 (m, 4 H) 2.09 - 2.23 (m, 1 H) 1.74 - 1.85 (m, 2 H) 1.62 (s, 3 H) 1.23 (s, 6 H).LCMS(m/z):373.3[M+H]
+。
【0282】
I.15.(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−((3−(メトキシメチル)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.15]の合成
【0283】
【化42】
ステップ1:メチル3−オキソシクロブタンカルボキシレート[1.15a]の合成
塩化オキサリル(5.25mL、60.0mmol)のDCM(200ml)中溶液に、−78℃でDMSO(7.10mL、100mmol)を加えた。30分後、メチル3−ヒドロキシシクロブタンカルボキシレート(6.51g、50mmol)の塩化メチレン(50mL)中溶液を加えた。混合物を−78℃で30分間撹拌し、次いでTEA(27.9mL、200mmol)を加えた。混合物を2時間かけて室温に加温した。次いで反応混合物に水を加え、層を分離した。有機相を水で洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物(定量的収率)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 3.14 - 3.32 (m, 3 H) 3.32 - 3.46 (m, 2 H) 3.73 (s, 3 H)
【0284】
ステップ2:メチル3−(メトキシメチレン)シクロブタンカルボキシレート[1.15b]の合成
(メトキシメチル)トリフェニル−ホスフィンブロミド(16.02g、46.8mmol)およびTHF(100mL)の混合物を氷/水浴中に置き、カリウムtert−ブトキシド(5.25g、46.8mmol)を加えた。次いで混合物を0℃で15分間および室温で90分間撹拌した。混合物を0℃に冷却し、メチル3−オキソシクロブタンカルボキシレート(3g、23.41mmol)をTHF(5mL)中の溶液として加えた。得られた混合物を室温で3時間、次いで70℃でさらに3時間撹拌した。混合物をEtOAcで希釈し、水で洗浄した。有機層を分離し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製の生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン、0から80%)により精製して、生成物1.2g(収率32.8%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 2.76 - 2.91 (m, 2 H) 2.91 - 3.01 (m, 2 H) 3.07 - 3.24 (m, 1 H) 3.47 - 3.58 (m, 3 H) 3.63 - 3.74 (m, 4 H) 5.80(五重線, J=2.29 Hz, 1 H)
【0285】
ステップ3:メチル3−ホルミルシクロブタンカルボキシレート[1.15c]の合成
メチル3−(メトキシメチレン)シクロブタンカルボキシレート(750mg、4.80mmol)のDCM(30mL)中溶液に、TFA(0.740mL、9.60mmol)および水(2.2mL)を加えた。得られた混合物を室温で3時間撹拌した。相を分離し、水層をDCMで抽出した。有機層を合わせ、濃縮した。粗製の生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン5から50%)により精製して、生成物640mg(収率94%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 2.28 - 2.66 (m, 4 H) 2.95 - 3.38 (m, 2 H) 3.57 - 3.81 (m, 3 H) 9.49 - 10.11 (m, 1 H)
【0286】
ステップ4:メチル3−エチニルシクロブタンカルボキシレート[1.15d]の合成
メチル3−ホルミルシクロブタンカルボキシレート(640mg、4.50mmol)のMeOH(14mL)中溶液に、0℃でジメチル(1−ジアゾ−2−オキソプロピル)ホスホネート(1.107mL、7.20mmol)および炭酸カリウム(1244mg、9.00mmol)を加えた。混合物を0℃で1時間次いで室温で3時間撹拌した。混合物をEtOAcで希釈し、水およびブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン)により精製して、生成物350mg(収率56.3%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 2.07 - 2.26 (m, 1 H) 2.30 - 2.67 (m, 4 H) 2.82 - 3.06 (m, 1 H) 3.06 - 3.35 (m, 1 H) 3.63 - 3.71 (m, 3 H)
【0287】
ステップ5:(3−エチニルシクロブチル)メタノール[1.15e]の合成
メチル3−エチニルシクロブタンカルボキシレート(377mg、2.73mmol)のTHF(20mL)中溶液に、0℃でLiAlH
4(2.73mL、2.73mmol)を加え、混合物を0℃で2時間撹拌した。次いで反応物を、水(0.45mL)およびNaOH溶液(0.115mL、水中5.0M、0.573mmol)を加えることによりクエンチした。5分間撹拌した後、混合物をNa
2SO
4で処理し、次いでセライトに通して濾過した。濾液を濃縮して、生成物(290mg、収率96%)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。
【0288】
ステップ6:1−エチニル−3−(メトキシメチル)シクロブタン[1.15f]の合成
(3−エチニルシクロブチル)メタノール(200mg、1.816mmol)およびMeI(0.227mL、3.63mmol)のTHF(4mL)中溶液を、0℃でNaH(116mg、2.91mmol)のTHF(5mL)中懸濁液に滴下添加した。室温で3時間撹拌した後、反応物を、水(0.1mL)を加えることによりクエンチした。次いで混合物をNa
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.87 - 1.96 (m, 1 H) 2.01 - 2.30 (m, 2 H) 2.33 - 2.54 (m, 2 H) 2.82 - 3.11 (m, 1 H) 3.24 - 3.44 (m, 5 H)
【0289】
ステップ7:(3−(メトキシメチル)シクロブチル)ブタ−1,3−ジイン−1−イル)トリメチルシラン[1.15g]の合成
1−エチニル−3−(メトキシメチル)シクロブタン(226mg、1.8mmol)のTHF(0.3mL)中溶液に、0℃でCuI(34.7mg、0.18mmol)、ピペリジン(2mL)および(ヨードエチニル)トリメチルシラン(0.307mL、2.0mmol)を加えた。得られた混合物を0℃で30分間次いで室温で3時間撹拌した。次いで混合物に飽和NH
4Cl水溶液およびTBMEを加えた。有機相を水およびブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン、0から10%)により精製して、生成物215mg(収率53.6%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 0.18 (s, 9H)1.91 (d, J=9.39 Hz, 2 H) 2.01 - 2.30 (m, 2 H) 2.30 - 2.54 (m, 2 H) 3.31 (br. s., 5 H)
【0290】
ステップ8:1−(ブタ−1,3−ジイン−1−イル)−3−(メトキシメチル)シクロブタン[1.15h]の合成
((3−(メトキシメチル)シクロブチル)ブタ−1,3−ジイン−1−イル)トリメチルシラン(215mg、0.976mmol)のTHF/MeOH(4.5mL、2/1)中溶液に、NaOH(水中5.0M、0.585mL、2.93mmol)を加え、得られた混合物を室温で2時間撹拌した。混合物をDCMで希釈し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物145mg(収率100%)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに使用した。
【0291】
ステップ9:(R)−ベンジル4−(5−((3−(メトキシメチル)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[1.15i]の合成
【0292】
【化43】
1−(ブタ−1,3−ジイン−1−イル)−3−(メトキシメチル)シクロブタン(142mg、0.957mmol)および(R,E)−ベンジル5−(ヒドロキシイミノ)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート(200mg、0.638mmol)のDCM(5mL)中溶液に、NaClO
2(水中0.5M、2.57mL、1.276mmol)を加え、混合物を室温で3時間撹拌した。次いで混合物をDCMで希釈し、水で洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン、10から80%)により精製して、生成物81mg(収率27.6%)を得た。LC−MS(m/z):460.3[M+H]
+。
【0293】
ステップ10:(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−((3−(メトキシメチル)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.15−1および1.15−2]の合成
【0294】
【化44】
(R)−ベンジル4−(5−((3−(メトキシメチル)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート(80mg、0.174mmol)のTHF/MeOH(2.0mL、1/1)中溶液に、NH
2OH(水中50%、0.460mL)およびNaOH(27.9mg、0.696mmol)を加えた。得られた溶液を25℃で1時間撹拌し、次いでDMSO(3.0mL)で希釈した。混合物を氷水浴中に置き、5.0N HCl水溶液で中和した。次いで溶媒を除去し、残った物質を逆相HPLC上で精製して、生成物を2種の分離した異性体、1.15−1(5.0mg、収率7.10%)および1.15−2(2mg、収率2.84%)として得た。
1.15−1:
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.53 - 1.64 (m, 3 H) 1.98 - 2.05 (m, 1 H) 2.09 - 2.24 (m, 1 H) 2.38 - 2.49 (m, 3 H) 2.49 - 2.66 (m, 5 H) 2.69 -2.85 (m, 3 H) 2.95 - 3.03 (m, 3 H) 3.29 (s, 3 H) 3.34 (d, J=5.92 Hz, 2 H) 6.35 - 6.49 (m, 1 H).LCMS(m/z):385.2[M+H]
+。
1.15−2:
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 1.59 (d, J=6.50 Hz, 3 H) 2.08 - 2.36 (m, 4 H) 2.60 - 2.85 (m, 6 H) 2.92 - 3.02 (m, 4 H) 3.27 - 3.35 (m, 3 H), 3.40 (d, J=6.70 Hz, 2 H) 6.28 - 6.51 (m, 1 H).LCMS(m/z):385.2[M+H]
+。
【0295】
I.16.(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−((3−(2−ヒドロキシプロパン−2−イル)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.16]の合成
【0296】
【化45】
ステップ1.2−(3−(ヒドロキシメチル)シクロブチル)プロパン−2−オール[1.16a]の合成
メチル3−(ヒドロキシメチル)シクロブタン−1−カルボキシレート(1.5g、10.4mmol)のTHF(50mL)中溶液に、0℃でメチルマグネシウムブロミド(27.7mL、1.5M溶液、41.6mmol)を加え、得られた混合物を室温で1時間撹拌した。反応混合物を氷水浴中に置き、飽和NH
4Cl水溶液およびEtOAcを加えることによりクエンチした。相を分離し、水層をEtOAcで抽出した。有機層を合わせ、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン、20%から100%により精製して、生成物1.16g(収率77%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 3.69 (d, J = 7.3 Hz, 1H, 異性体1種), 3.56 (d, J = 5.8 Hz, 1H, 異性体1種), 2.45 - 2.17 (m, 2H), 2.12 - 1.92 (m, 2H), 1.77 - 1.65 (m, 2H), 1.13 (s, 3H), 1.10 (s, 3H).
【0297】
ステップ2.3−(2−ヒドロキシプロパン−2−イル)シクロブタン−1−カルボアルデヒド[1.16b]の合成
塩化オキサリル(0.84mL、9.6mmol)のDCM(30mL)中溶液に、−78℃でDMSO(1.36mL、19.1mmol)を加えた。10分間撹拌した後、1.16a(1.15g、7.97mmol)のDCM(10mL)中溶液を加え、得られた溶液を−78℃で20分間撹拌した。次いでEt
3N(4.45mL、31.9mmol)を加え、混合物を−78℃で10分間撹拌し、次いで0℃にゆっくり加温した。次いで混合物に飽和NH
4Cl水溶液を加えた。相を分離し、水層をDCMで抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、MgSO
4で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から50%により精製して、生成物525mg(収率46%)をシス/トランス異性体の混合物として得た。
1H NMR (400 MHz, クロロホルム-d) 9.84 (d, J = 1.7 Hz, 1H, 異性体1種), 9.66 (s, 1H, 異性体1種), 3.04 - 2.87 (m, 1H), 2.42 - 2.31 (m, 1H), 2.31 - 1.98 (m, 4H), 1.12 (d, J = 7.5 Hz, 6H).
【0298】
ステップ3.2−(3−エチニルシクロブチル)プロパン−2−オール[1.16c]の合成
1.16b(168mg、1.18mmol)のMeOH(8mL)中溶液に、0℃でOhira Bestmann試薬(340mg、1.77mmol)および炭酸カリウム(327mg、2.36mmol)を順次加えた。次いで反応混合物を室温で2時間撹拌した。次いで反応混合物に水およびEt
2Oを加えた。相を分離し、水層をEt
2Oで2回抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン0から20%により精製して、生成物138mg(収率85%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 2.93 - 2.85 (m, 0.5 H), 2.83 - 2.73 (m, 0.5 H), 2.67 - 2.53 (m, 0.5 H), 2.33 - 2.20 (m, 2.5 H), 2.16 (d, J = 2.4 Hz, 0.5H), 2.13 (d, J = 2.3 Hz, 0.5 H), 2.08 - 2.00 (m, 2H), 1.12 (s, 3H), 1.10 (s, 3H).
【0299】
ステップ4.(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−((3−(2−ヒドロキシプロパン−2−イル)シクロブチル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[1.16]の合成
【0300】
【化46】
実施例1.1方法Bのプロセスにより、1.16cから化合物1.16を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6) δ 10.95 (s, 1H), 6.74 (s, 1H), 3.11 -3.00 (m, 1H), 3.05 (s, 3H), 2.77 - 2.67 (m, 1H), 2.51 - 2.38 (m, 2H), 2.24 - 1.95 (m, 6H), 1.50 (s, 3H), 0.96 (s, 6H).LCMS(m/z):399.2[M+H]
+。
【0301】
II.1 N−ヒドロキシ−4−(5−((4−(ヒドロキシメチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.1]の合成
【0302】
【化47】
ステップ1.ブタ−1,3−ジイン−1−イルトリメチルシラン[2.1a]の合成
氷浴で冷却した1,4−ビス(トリメチルシリル)ブタ−1,3−ジイン(12.5g、64.3mmol)のジエチルエーテル(400mL)中溶液に、不活性雰囲気下メチルリチウム−臭化リチウム錯体(エーテル中1.5M、100mL、150mmol)をカヌーレを用いて加えた。溶液を周囲温度で3.5時間撹拌した。溶液を氷水浴中で冷却し、メタノール(6.06mL、150mmol)を滴下添加することによりクエンチした。混合物を飽和NH
4Cl水溶液およびブラインで順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、部分的に濃縮して、生成物2.1a(エーテル中約23重量%溶液26g)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 2.10 (s, 1 H), 0.20 (s, 9 H).
【0303】
ステップ2.エチル4−(5−エチニルイソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[2.1b]の合成
1.1b(4.3g、15mmol)のMeOH(4mL)およびDCM(12mL)中溶液に、粗製の2.1aのエーテル溶液(12mL、17mmol)を加えた。次いでトリエチルアミン(4.2ml、30mmol)を30分かけて滴下添加し、混合物を周囲温度で2時間撹拌した。反応混合物を水(30mL)で希釈し、ジエチルエーテルで抽出した。合わせた抽出物をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物を周囲温度で終夜静置して、TMS基を開裂させた。次いで残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ヘプタン/EtOAc20〜70%により精製して、生成物2.1b(1.8g、41%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 6.39 (s, 1 H) 4.28 (q, J=7.16 Hz, 2 H) 3.61 (s, 1 H) 3.06 (s, 3 H) 2.81 - 2.94 (m, 1 H) 2.66 - 2.78 (m, 1 H) 2.60 (ddd, J=13.52, 11.30, 5.26 Hz, 1 H) 2.33 (ddd, J=13.52, 11.40, 5.16 Hz, 1 H) 1.69 (s, 3 H) 1.33 (t, J=7.14 Hz, 3 H).LCMS(m/z):300.0[M+H]
+。
【0304】
ステップ3.エチル4−(5−(ブロモエチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[2.1c]の合成
【0305】
【化48】
臭素(0.114mL、2.21mmol)を、氷浴中で冷却した3.0M水酸化ナトリウム水溶液(1.67mL、5.01mmol)に滴下添加した。予め冷却した2.1b(600mg、2.00mmol)のTHF(0.8mL)中溶液を5分かけて滴下添加した。2相混合物を0℃で30分間激しく撹拌した。反応物を、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることによりクエンチし、ジエチルエーテルで抽出した。合わせた抽出物をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン10〜50%により精製して、生成物575mg(収率76%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 6.33 (s, 1 H) 4.28 (q, J=7.14 Hz, 2 H) 3.06 (s, 3 H) 2.79 - 2.94 (m, 1 H) 2.65 - 2.78 (m, 1 H) 2.59 (ddd, J=13.53, 11.24, 5.26 Hz, 1 H) 2.33 (ddd, J=13.55, 11.37, 5.16 Hz, 1 H) 1.69 (s, 3 H) 1.33 (t, J=7.12 Hz, 3 H).LCMS(m/z):377.9/379.9[M+H]
+。
【0306】
ステップ4.エチル4−(5−((4−(ヒドロキシメチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[2.1d]の合成
【0307】
【化49】
脱気した2.1c(120mg、0.317mmol)および(4−(ヒドロキシメチル)フェニル)ボロン酸(72.3mg、0.476mmol)のDMF(1.5mL)および2.0M炭酸ナトリウム水溶液(0.555mL、1.11mmol)中混合物に、PdCl
2(dppf)・CH
2Cl
2付加物(25.9mg、0.032mmol)を加えた。反応混合物をマイクロ波中110℃で15分間加熱した。反応混合物を水で希釈し、EtOAcで抽出した。合わせた抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、MeOH/DCM0〜8%により精製して、2.1d(40mg、収率31%)を得た。LCMS(m/z):406.1[M+H]
+。
【0308】
ステップ5.N−ヒドロキシ−4−(5−((4−(ヒドロキシメチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.1]の合成
【0309】
【化50】
粉体化した水酸化ナトリウム(19.7mg、0.493mmol)を、2.1d(40mg、0.099mmol)およびヒドロキシルアミン(0.151mL、2.47mmol)の1:1THF:MeOH(1mL)中混合物に加えた。反応物を周囲温度で15分間撹拌した。揮発物を減圧下で除去した。粗製物を逆相HPLCにより精製して、2.1(9mg、収率20%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD): 7.54 - 7.60 (m, 2 H), 7.41 - 7.46 (m, 2 H), 6.64 - 6.67 (m, 1 H), 4.63 - 4.67 (m, 2 H), 3.08 (s, 3 H), 2.81 - 2.92 (m, 1 H), 2.61 - 2.76 (m, 2 H), 2.14 - 2.28 (m, 1 H), 1.65 (s, 3 H).LCMS(m/z):393.3[M+H]
+。
【0310】
II.2 N−ヒドロキシ−4−(5−((4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.2]の合成
【0311】
【化51】
実施例2.1のプロセスに従い、化合物2.2を調製した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD): 7.48 - 7.53 (m, 2 H) 7.30 - 7.35 (m, 2 H) 6.63 - 6.65 (m, 1 H) 3.75 - 3.83 (m, 2 H) 3.05 - 3.09 (s, 3 H) 2.78 - 2.93 (m, 3 H) 2.59 - 2.76 (m, 2 H) 2.13 - 2.27 (m, 1 H) 1.62 - 1.68 (s, 3 H).LCMS(m/z):407.3[M+H]
+。
【0312】
II.3 N−ヒドロキシ−4−(5−((4−(2−ヒドロキシ−1−メトキシエチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.3]の合成
【0313】
【化52】
実施例2.1のプロセスに従い、化合物2.3を調製した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD):7.56 - 7.62 (m, 2 H) 7.39 - 7.45 (m, 2 H) 6.65 - 6.68 (m, 1 H) 4.27 - 4.36 (m, 1 H) 3.52 - 3.71 (m, 2 H) 3.04 - 3.10 (s, 3 H) 2.79 - 2.93 (m, 1 H) 2.60 - 2.76 (m, 2 H) 2.14 - 2.26 (m, 1 H) 1.61 - 1.68 (s, 3 H).LCMS(m/z):437.3[M+H]
+。
【0314】
II.4 N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−(フェニルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)ブタンアミド[2.4]の合成
【0315】
【化53】
実施例2.1のプロセスに従い、化合物2.4を調製した。1H NMR (400 MHz, CD
3OD): 7.54 - 7.61 (m, 2 H) 7.40 - 7.49 (m, 3 H) 6.64 - 6.68 (m, 1 H) 3.07 (s, 3 H) 2.79 - 2.91 (m, 1 H) 2.60 - 2.76 (m, 2 H) 2.13 - 2.26 (m, 1 H) 1.64 (s, 3 H).LCMS(m/z):363.1[M+H]
+。
【0316】
II.5 N−ヒドロキシ−4−(5−((4−((R)−2−ヒドロキシプロピル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.5]の合成
【0317】
【化54】
実施例2.1のプロセスに従い、化合物2.5を調製した。
1H NMR (400 MHz, CD
3OD): 7.48 - 7.53 (m, 2 H) 7.27 - 7.33 (m, 2 H) 6.62 - 6.64 (m, 1 H) 3.92 - 4.03 (m, 1 H) 3.05 - 3.10 (s, 3 H) 2.59 - 2.91 (m, 5 H) 2.14 - 2.26 (m, 1 H) 1.60 - 1.68 (s, 3 H) 1.12 - 1.22 (m, 3 H).LCMS(m/z):421.0[M+H]
+。
【0318】
II.6 (R)−N−ヒドロキシ−4−(5−((4−((S)−2−ヒドロキシ−1−メトキシエチル)フェニル)エチニル)−イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.6]の合成
ステップ1.ベンジル(R)−4−(5−エチニルイソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[2.6a]の合成
実施例1.1ステップ2〜3のプロセスに従い、1.2fおよび2.1aから化合物2.6aを合成した。LCMS(m/z):362.0[M+H]
+。
【0319】
ステップ2.(R)−N−ヒドロキシ−4−(5−((4−((S)−2−ヒドロキシ−1−メトキシエチル)フェニル)エチニル)−イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.6]の合成
【0320】
【化55】
実施例2.1ステップ3〜4および実施例1.1ステップ4〜6のプロセスに従い、2.6aから化合物2.6を調製した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6): 10.15 (d, J=0.88 Hz, 1 H) 8.40 (d, J=1.47 Hz, 1 H) 6.82 (d, J=8.22 Hz, 2 H) 6.59 (d, J=8.17 Hz, 2 H) 6.15 (s, 1 H) 4.04 (s, 1 H) 3.44 (d, J=1.71 Hz, 1 H) 2.68 - 2.79 (m, 1 H) 2.58 - 2.67 (m, 1 H) 2.39 (s, 3 H) 2.25 (s, 3 H) 1.90 - 2.03 (m, 1 H) 1.70 - 1.82 (m, 1 H) 1.17 - 1.31 (m, 1 H) 0.71 (s, 3 H).LCMS(m/z):437.0[M+H]
+。
【0321】
II.7 (R)−4−(5−((4−((S)−1,2−ジヒドロキシエチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.7]の合成
【0322】
【化56】
実施例2.6のプロセスに従い、化合物2.7を調製した。
1H NMR (500 MHz, CD
3OD): 7.57 (d, J=8.20 Hz, 2 H) 7.47 (d, J=8.20 Hz, 2 H) 6.67 (s, 1 H) 4.73 (d, J=7.25 Hz, 1 H) 4.61 (s, 1 H) 3.57 - 3.68 (m, 1 H) 3.07 (s, 3 H) 2.84 (m, 1 H) 2.58 - 2.75 (m, 2 H) 2.13 - 2.26 (m, 1 H) 1.64 (s, 3 H).LCMS(m/z):423.2[M+H]
+。
【0323】
II.8 (R)−4−(5−((4−((R)−1,2−ジヒドロキシエチル)フェニル)エチニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[2.8]の合成
【0324】
【化57】
実施例2.6のプロセスに従い、化合物2.8を調製した。
1H NMR 400 MHz, CD
3OD): 7.55 - 7.64 (m, 2 H) 7.49 (d, J=8.17 Hz, 2 H) 6.68 (s, 1 H) 4.75 (dd, J=6.68, 5.06 Hz, 1 H) 3.58 - 3.73 (m, 2 H) 3.10 (s, 3 H) 2.82 - 2.95 (m, 1 H) 2.61 - 2.79 (m, 2 H) 2.15 - 2.28 (m, 1 H) 1.67 (s, 3 H).LCMS(m/z):423.2[M+H]
+。
【0325】
III.1 (2S,3R)−2−(((5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)−N,3−ジヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパンアミド[3.1]の合成
【0326】
【化58】
ステップ1.エチル5−(トリブチルスタンニル)イソオキサゾール−3−カルボキシレート[3.1a]の合成
トリブチル(エチニル)スタンナン(4g、12.7mmol、1.0当量)およびエチル(E)−2−クロロ−2−(ヒドロキシイミノ)アセテート(1.92g、12.7mmol、1.0当量)をジエチルエーテル(40mL)に溶解した。TEA(6.41g、63.5mmol、5.0当量)を滴下添加し、反応混合物を室温で4時間撹拌した。反応物を水でクエンチし、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン中10〜15%EtOAc)により精製して、生成物(2.5g、収率45.7%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl
3) δ 6.82 (s, 1H), 4.46 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 1.62 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.58 - 1.53 (m, 2H), 1.44 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.34 (ddd, J = 26.0, 16.7, 9.4 Hz, 8H), 1.26 - 1.14 (m, 6H), 0.92 (t, J = 7.3 Hz, 9H).
【0327】
ステップ2.エチル5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−カルボキシレート[3.1b]の合成
(ヨードエチニル)シクロプロパン(8g、0.041mmol、1.2当量)および3.1(15g、34.0mmol、1.0当量)を1,4−ジオキサン(80mL)に溶解した。反応混合物を10分間脱気した。PdCl
2(PPh
3)
2(0.48g、0.6mmol、0.02当量)を加え、反応混合物を100℃で2時間撹拌した。反応混合物を水でクエンチし、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。粗製の残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(10〜25%EtOAc/ヘキサン)により精製して、生成物(4.02g、収率50%)を得た。LCMS(m/z):206.1[M+H]
+。
【0328】
ステップ3.(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メタノール[3.1c]の合成
エチル5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−カルボキシレート(4g、19.0mmol、1.0当量)をTHF(40mL)に溶解し、0℃に冷却した。水素化ホウ素ナトリウム(1.52g、39.0mmol、2.0当量)を少しずつ加えた。次いでメタノール(4mL)を加え、反応混合物を室温で4時間撹拌した。反応混合物を水でクエンチし、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。粗製の残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(30〜40%EtOAc/ヘキサン)により精製して、生成物(1.72g、収率65%)を得た。LCMS(m/z):163.8[M+H]
+。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6) δ ppm 0.84 - 0.88 (m, 2 H) 0.97 - 1.02 (m, 2 H) 1.69 (m, 1 H) 5.52 (t, J=5.95 Hz, 1 H) 6.67 (s, 1 H).
【0329】
ステップ4.5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−カルボアルデヒド[3.1d]の合成
(5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メタノール(1.72g、10.0mmol、1.0当量)をジクロロメタン(50mL)に溶解し、0℃に冷却した。デス−マーチンペルヨージナン(6.71g、15.0mmol、1.5当量)を少しずつ加え、反応混合物を室温で5時間撹拌した。反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液:チオ硫酸ナトリウム溶液(1:1)でクエンチし、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。粗製の残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(10〜12%EtOAc/ヘキサン)により精製して、生成物(1.2g、収率68%)を得た。LCMS(m/z):162.1[M+H]
+。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6) δ ppm 0.89 - 0.92 (m, 2 H) 1.01 - 1.05 (m, 2 H) 1.69 - 1.78 (m, 1 H) 7.15 (s, 1 H) 10.07 (s, 1 H).
【0330】
ステップ5.(2S,3R)−メチル2−((tert−ブトキシカルボニル)アミノ)−3−ヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパノエート[3.1e]の合成
【0331】
【化59】
ジイソプロピルアミン(16.97mL、119mmol)のTHF(60mL)中溶液に、ブチルリチウム(74.4mL、119mmol)をゆっくり加えた。反応物を−78℃で1時間撹拌し、この時点で(S)−メチル2−((tert−ブトキシカルボニル)アミノ)プロパノエート(11g、54.1mmol)のTHF(40mL)中溶液を加えた。反応物をさらに2時間撹拌し、この時点でTHF(10mL)中の5−メチルイソオキサゾール−3−カルボアルデヒド(7.82g、70.4mmol)を加えた。反応物を−78℃でさらに2時間撹拌し、次いで−40℃に加温した。反応物を飽和NH
4Cl水溶液でクエンチし、次いで室温に加温した。混合物をEtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘプタン、0〜30%)により精製して、(±)−3.1e(5.3g、収率31%)および(±)−3.1.e’(5.4g、17.18mmol、収率31.7%)を得た。低極性のフラクションは所望のジアステレオマー(±)−3.1eである。
(±)−3.1e:
1H NMR (400 MHz, CDCl3) 6.03-6.14 (m, 1H), 6.00 (s, 1H), 5.78-5.89 (m, 1H), 5.31 (d, J=9.5 Hz, 1H), 3.85 (s, 3H), 2.40 (d, J=0.6 Hz, 3H), 1.70 (s, 3H), 1.43 (s, 9H).LCMS(m/z):315.3[M+H]
+。
【0332】
ジアステレオマー(±)−3.1eをキラルSFCにより分離して、2種のエナンチオマー:異性体1:tR1.45分および異性体2:tR2.76分を得た。異性体2は所望のエナンチオマー3.1eである。
【0333】
SFC分離条件:
Chiral ADカラム;流速100ml/分;CO
2/EtOH=90/10;293bar。
【0334】
ステップ6.(2S,3R)−メチル2−アミノ−3−ヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパノエートHCl塩[3.1f]の合成
【0335】
【化60】
3.1e(2.1g、6.68mmol)およびMeOH中HCl(66.8ml、66.8mmol)の溶液を室温で24時間撹拌した。反応物を真空で濃縮して、3.1fをHCl塩として得た(1.5g、5.74mmol、収率86%)。
1H NMR (DMSO-d
6) 8.72 (br. s., 3H), 7.05 (d, J=5.4 Hz, 1H), 6.21 (s, 1H), 5.00 (d, J=5.0 Hz, 1H), 3.62-3.80 (m, 3H), 2.39-2.43 (m, 3H), 1.34-1.57 (m, 3H).LCMS(m/z):216.3[M+H]
+。
【0336】
ステップ7.(2S,3R)−メチル2−(((5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)−3−ヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパノエート[3.1g]の合成
【0337】
【化61】
トリエチルアミン(0.280ml、2.007mmol)を、3.1d(420mg、2.007mmol)および3.1f(528mg、2.107mmol)のDCE中溶液に加えた。10分後、次いでAcOH(0.230ml、4.01mmol)を加え、反応物を室温で18時間撹拌した。次いでトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム(1.2g、5.66mmol)を加え、混合物を3時間撹拌した。反応物を、水および飽和NaHCO
3水溶液を加えることによりクエンチした。混合物をDCMで抽出した。有機層をNa
2SO
4で乾燥し、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン、0から100%により精製して、生成物436mg(収率60%)を得た。LCMS(m/z):360.4[M+H]
+。
【0338】
ステップ8.(2S,3R)−2−(((5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)−N,3−ジヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパンアミド[3.1]の合成
【0339】
【化62】
ヒドロキシルアミン溶液(水中50%、5662mg、86mmol)および水酸化ナトリウム(110mg、2.75mmol)を、3.1g(880mg、1.7mmol)のMeOH中溶液に加え、得られた溶液を室温で3時間撹拌した。次いで混合物を濃縮し、残留物を逆相HPLC(10〜50%MeCN−水、3.75mM酢酸アンモニウム緩衝液)により精製して、生成物177mg(収率27%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl
3): 0.82 - 1.05 (m, 4 H), 1.33 (s, 3 H), 1.47-1.51 (m, 1 H), 2.39 (s, 3 H) 3.68 - 4.03 (m, 2 H), 5.10 (s, 1 H) 6.10 (s, 1 H) 6.24 (s, 1 H).LCMS(m/z):361.3[M+H]
+。
【0340】
III.2.(2S,3R)−2−(((5−(シクロブチルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)−N,3−ジヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパンアミド[3.2]の合成
【0341】
【化63】
実施例3.1のプロセスにより、化合物3.2を合成した。
1H NMR (500 MHz, CDCl
3): 1.41 (s, 3H), 1.86 - 2.08 (m, 2 H), 2.16 - 2.43 (m, 5 H), 2.46 (s, 3 H), 3.28-3.32 (m, 1 H), 3.83 (m, 1 H), 4.09 (m, 1 H), 5.06 - 5.31 (m, 1 H), 6.03 - 6.19 (m, 2 H) 6.28 (s, 1 H).LCMS(m/z):375.2[M+H]
+。
【0342】
III.3 (2S,3R)−N,3−ジヒドロキシ−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)−2−(((5−(フェニルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)プロパンアミド[3.3]の合成
【0343】
【化64】
実施例3.1のプロセスにより、化合物3.3を合成した。
1H NMR (500 MHz, DMSO-d6): 1.14 (s, 3 H), 2.38 (s, 3 H), 3.70-3.80 (m, 2 H), 4.76-4.77 (m, 1 H), 5.91 - 6.02 (m, 1 H) 6.14 (s, 1 H), 6.97 (s, 1 H), 7.39 - 7.57 (m, 3 H), 7.63 - 7.76 (m, 2 H), 8.68 - 8.88 (m, 1 H).LCMS(m/z):397.3[M+H]
+。
【0344】
III.4.N,3−ジヒドロキシ−3−(5−(ヒドロキシメチル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(((5−(フェニルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)プロパンアミド][3.4]の合成
【0345】
【化65】
実施例3.1のプロセスにより、化合物3.4を合成した。
1H NMR (メタノール-d4) d: 7.58-7.65 (m, 2H), 7.42-7.53 (m, 3H), 6.77 (s, 1H), 6.39 (s, 1H), 4.96 (s, 1H), 4.67 (s, 2H), 3.90-3.95 (m, 1H), 3.81-3.88 (m, 1H), 1.36 (s, 3H).LCMS(m/z):413.2[M+H]
+。
【0346】
III.5.(2S,3R)−N,3−ジヒドロキシ−2−(((5−(6−メトキシヘキサ−1−イン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)−2−メチル−3−(5−メチルイソオキサゾール−3−イル)プロパンアミド[3.5]の合成
【0347】
【化66】
実施例3.1のプロセスにより、化合物3.5を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO) δ 10.38 (s, 1H), 8.76 (s, 1H), 6.72 (s, 1H), 6.12 (s, 1H), 5.94 (s, 1H), 4.75 (s, 1H), 3.68 (s, 2H), 3.36 (s, 2H), 3.24 (s, 3H), 2.56 (s, 2H), 2.37 (s, 3H), 1.62 (s, 4H), 1.14 (s, 3H).LCMS(m/z):407.6[M+H]
+。
【0348】
III.6.2−(((5−(シクロプロピルエチニル)イソオキサゾール−3−イル)メチル)アミノ)−3−(5−シクロプロピルイソオキサゾール−3−イル)−N,3−ジヒドロキシ−2−メチルプロパンアミド[3.6]の合成
【0349】
【化67】
実施例3.1のプロセスにより、化合物3.6を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO) δ 6.66 (s, 1H), 6.07 (s, 1H), 5.99 (s, 1H), 4.71 (s, 1H), 3.65 (s, 2H), 2.62 (m, 1H), 2.10 (ddd, J = 13.3, 8.4, 4.9 Hz, 1H), 1.69 (ddd, J = 13.2, 8.3, 5.1 Hz, 1H), 1.11 (s, 3H), 1.08 - 0.93 (m, 4H), 0.90 - 0.82 (m, 4H).LCMS(m/z):387.3[M+H]
+。
【0350】
IV.1.(R,E)−4−(5−(ブタ−1−エン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.1]の合成
【0351】
【化68】
ステップ1:(2R)−ベンジル4−(5−(2−ヒドロキシブチル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート[4.1a]の合成
【0352】
【化69】
ヘキサ−5−イン−3−オール(125mg、1.276mmol)および(R,E)−ベンジル5−(ヒドロキシイミノ)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ペンタノエート(200mg、0.638mmol)のDCM(5mL)中溶液に、NaClO
2(2.66g、1.276mmol)を加え、混合物を室温で15時間撹拌した。次いで反応混合物をDCMで希釈し、相を分離した。有機層を水で洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮した。残った物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、EtOAc/ヘプタン5から80%により精製して、生成物91mg(収率34.8%)を得た。LCMS(m/z):410.3[M+H]
+。
【0353】
ステップ2:ベンジル(2R)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−(2−((メチルスルホニル)オキシ)ブチル)イソオキサゾール−3−イル)ブタノエート[4.1b]の合成
【0354】
【化70】
(2R)−ベンジル4−(5−(2−ヒドロキシブチル)イソオキサゾール−3−イル)−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタノエート(92mg、0.225mmol)のジクロロメタン(2mL)中溶液に、0℃でメタンスルホニルクロリド(0.021mL、0.270mmol)およびTEA(0.063mL、0.449mmol)を加えた。反応物を室温で3時間撹拌した後、水を加えることによりクエンチした。相を分離し、有機層をDCMで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、Na
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物108mg(収率99%)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに続けた。LCMS(m/z):488.3[M+H]
+。
【0355】
ステップ3:(R,E)−4−(5−(ブタ−1−エン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.1]の合成
【0356】
【化71】
(2R)−ベンジル2−メチル−2−(メチルスルホニル)−4−(5−(2−((メチルスルホニル)オキシ)ブチル)イソオキサゾール−3−イル)ブタノエート(108mg、0.221mmol)のMeOH(1mL)およびTHF(1mL)中溶液に、室温でNH
2OH(0.585mL、水中50%、8.86mmol)およびNaOH(89mg、2.215mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後、次いで混合物をDMSO(1.5mL)で希釈し、揮発性溶媒を真空下で除去した。混合物を3N HClで中和し、次いで濾過した。粗製物を逆相分取HPLCにより精製して、生成物10mg(収率13.98%)を得た。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6): 1.02 (t, J=7.41 Hz, 3 H) 1.41 - 1.54 (m, 3 H) 1.97 (td, J=12.36, 4.87 Hz, 1 H) 2.13 - 2.28 (m, 2 H) 2.32 - 2.45(m, 2 H) 2.58 - 2.74 (m, 1 H) 2.98 - 3.10 (m, 3 H) 6.33 - 6.43 (m, 2 H) 6.45 - 6.63 (m, 1 H) 10.94 (s, 1 H).LCMS(m/z):317.2[M+H]
+。
【0357】
IV.2.(R,E)−4−(5−(2−シクロプロピルビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.2]の合成
【0358】
【化72】
ステップ1:(E)−(4−シクロプロピルブタ−3−エン−1−イン−1−イル)トリメチルシラン、(Z)−(4−シクロプロピルブタ−3−エン−1−イン−1−イル)トリメチルシラン[4.2a]の合成
トリフェニル[3−(トリメチルシリル)プロパ−2−イン−1−イル]ホスホニウムブロミド(1.4g、3.09mmol)のTHF(15mL)中懸濁液に、−78℃でn−BuLi(1.360mL、ヘプタン中2.5M、3.40mmol)を加え、得られた反応混合物を−78℃で45分間撹拌した。シクロプロパンカルボアルデヒド(0.231mL、3.09mmol)のTHF(4.0mL)中溶液をゆっくり加え、次いで混合物を−78℃で30分間および室温で2時間撹拌した。揮発性溶媒を真空下で除去した。残留物をシリカゲルカラムに通して濾過し、ヘプタンで濯いだ。濾液を真空下で濃縮して、生成物158mg(収率31.1%)をシスおよびトランス異性体の混合物として得た。
【0359】
ステップ2:(R,E)−4−(5−(2−シクロプロピルビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.2]の合成
【0360】
【化73】
実施例1.15ステップ8〜10のプロセスに従い、化合物4.2を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6): 0.45 - 0.66 (m, 2 H) 0.77 - 0.94 (m, 2 H) 1.46 - 1.53 (m, 3 H) 1.54 - 1.70 (m, 1 H) 1.84 - 2.10 (m, 2 H) 2.26 -2.44 (m, 2 H) 2.57 - 2.74 (m, 2 H) 3.03 (s, 3 H) 5.91 - 6.07 (m, 1 H) 6.26 - 6.36 (m, 1 H) 6.39 - 6.55 (m, 1 H).LCMS(m/z):329.0[M+H]
+。
【0361】
IV.3.(R,E)−4−(5−(ブタ−2−エン−2−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.3−1]および(R,Z)−4−(5−(ブタ−2−エン−2−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.3−2]の合成
【0362】
【化74】
実施例4.1のプロセスに従い、市販されている3−メチルペンタ−1−イン−3−オールを出発物として、化合物4.3−1および4.3−2を合成した。2種の異性体を逆相HPLCにより分離した。
4.3−1:
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6): 1.45 - 1.54 (m, 3 H) 1.78 (d, J=7.04 Hz, 3 H) 1.85 - 1.93 (m, 3 H) 1.98 (td, J=12.43, 4.82 Hz, 1 H) 2.33 - 2.45 (m, 1 H) 2.50 - 2.57 (m, 1 H) 2.59 - 2.75 (m, 1 H) 3.04 (s, 3 H) 6.26 - 6.38 (m, 1 H) 6.44 (s, 1 H).LCMS(m/z):317.3[M+H]
+。
4.3−2:
1H NMR (400 MHz, DMSO-d
6): 1.09 (t, J=7.41 Hz, 3 H) 1.43 - 1.54 (m, 4 H) 1.99 (td, J=12.35, 4.89 Hz, 2 H) 2.32 - 2.43 (m, 3 H) 2.51 - 2.60 (m, 1 H) 2.61 - 2.77 (m, 1 H) 2.99 - 3.11 (m, 3 H) 5.32 (s, 1 H) 5.71 (s, 1 H) 6.61 (s, 1 H).LCMS(m/z):317.3[M+H]
+。
【0363】
IV.5およびIV.6.(R,Z)−4−(5−(2−シクロプロピル−1−フルオロビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミドおよび(R,E)−4−(5−(2−シクロプロピル−1−フルオロビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.5−1]および[4.5−2]の合成
【0364】
【化75】
ステップ1:(E)−(2−ブロモ−2−フルオロビニル)シクロプロパン[4.5a]の合成
シクロプロパンカルボアルデヒド(0.897mL、12mmol)、トリブロモフルオロメタン(1.648mL、16.80mmol)およびPPh
3(6.29g、24.00mmol)のTHF(7mL)中混合物を、20mlのマイクロ波バイアル(20mL)中で密封し、75℃で6時間撹拌した。反応混合物を周囲温度に冷却し、ペンタンで希釈した。混合物を濾過し、揮発性溶媒を真空下で注意深く除去して、生成物を薄黄色のTHF溶液として得た。生成物はトランス/シス異性体の混合物である。
【0365】
ステップ2:(4−シクロプロピル−3−フルオロブタ−3−エン−1−イン−1−イル)トリメチルシラン[4.5b]の合成
4.5a(0.5g、3.03mmol)、CuI(0.029g、0.152mmol)およびPdCl
2(PPh
3)
2(0.053g、0.076mmol)の混合物に、エチニルトリメチルシラン(0.476g、4.85mmol)およびEt
3N(2.71mL、21.21mmol)を加えた。得られた混合物を密封し、25℃で16時間撹拌した。次いで揮発性溶媒を真空で除去し、残留物にDCMを加えた。混合物を濾過し、濾液を濃縮した。粗製の生成物をさらには精製せずに次のステップで使用した。
【0366】
ステップ3.(R,Z)−4−(5−(2−シクロプロピル−1−フルオロビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミドおよび(R,E)−4−(5−(2−シクロプロピル−1−フルオロビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.5−1]および[4.5−2]の合成
実施例1.15ステップ8〜10のプロセスに従い、化合物4.5を合成した。粗製の生成物を逆相分取HPLCにより精製して、純粋な異性体4.5−1および4.5−2を得た。
4.5−1:
1H NMR (400 MHz, CD
3CN): 0.49 - 0.60 (m, 4 H) 0.89 - 1.03 (m, 4 H) 1.61 (t, J=3.99 Hz, 7 H) 2.00 - 2.10 (m, 2 H) 2.10 - 2.27 (m, 4 H) 2.51 - 2.70 (m, 8 H) 2.72 - 2.90 (m, 3 H) 2.93 - 3.04 (m, 5 H) 5.12 - 5.34 (m, 2 H) 6.36 - 6.63 (m, 2 H).LCMS(m/z):347.2[M+H]
+
4.5−2:
1H NMR (400 MHz, CD
3CN): 0.53 - 0.70 (m, 3 H) 0.88 - 1.04 (m, 3 H) 1.52 - 1.66 (m, 4 H) 1.76 - 1.90 (m, 2 H) 2.05 - 2.29 (m, 2 H) 2.47 - 2.67 (m, 4 H) 2.71 - 2.86 (m, 2 H) 2.91 - 3.06 (m, 4 H) 5.20 - 5.41 (m, 1 H) 6.31 - 6.45 (m, 1 H) 9.58 (br. s., 1 H).LCMS(m/z):347.2[M+H]
+
【0367】
IV.7 (R,Z)−4−(5−(2−シクロプロピル−2−フルオロビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.7]の合成
【0368】
【化76】
ステップ1.(Z)−(2−ブロモ−1−フルオロビニル)シクロプロパン[4.7a]の合成
NBS(2.3g、12.98mmol)およびフッ化銀(3.71g、29.5mmol)のアセトニトリル/水(18/1、19mL)中混合物に、エチニルシクロプロパン(780mg、11.80mmol)を加えた。得られた混合物を密封し、80℃で18時間撹拌した。混合物を室温で冷却し、濾過した。濾液にEtOAcを加え、溶液を再度濾過した。濾液をNa
2SO
4で乾燥し、濃縮して、生成物1.0g(収率51.4%)を得た。粗製物をさらには精製せずに次のステップに使用した。
1H NMR (500 MHz, CDCl
3): 0.72 - 0.84 (m, 4 H) 1.60 (d, J=18.29 Hz, 1 H) 5.16 - 5.43 (m, 1 H).
【0369】
ステップ2:(Z)−(4−シクロプロピル−4−フルオロブタ−3−エン−1−イン−1−イル)トリメチルシラン[4.7b]の合成
Ph
3P(0.079g、0.303mmol)、CuI(0.058g、0.303mmol)およびPdCl
2(PPh
3)
2(0.106g、0.152mmol)の混合物に、アセトニトリル(8mL)、(Z)−(2−ブロモ−1−フルオロビニル)シクロプロパン(0.5g、3.03mmol)およびエチニルトリメチルシラン(0.476g、4.85mmol)を、続いてEt
3N(1.356mL、10.61mmol)を加えた。得られた混合物を密封し、70℃で10時間撹拌した。混合物を周囲温度に冷却し、揮発性溶媒を真空で除去した。粗製物を溶出液としてDCMを用いるシリカカラムクロマトグラフィーにより精製して、生成物0.552g(収率100%)を得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl
3): 0.15 - 0.32 (m, 9 H) 0.75 - 0.92 (m, 4 H) 1.58 (s, 1 H) 4.72 - 5.04 (m, 1 H)
【0370】
ステップ3.(R,Z)−4−(5−(2−シクロプロピル−2−フルオロビニル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.7]の合成
【0371】
【化77】
実施例1.15ステップ8〜10のプロセスに従い、化合物4.7を合成した。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6): 0.75 - 0.97 (m, 4 H) 1.49 (s, 3 H) 1.77 - 2.07 (m, 2 H) 2.33 - 2.57 (m, 2 H) 2.59 - 2.76 (m, 1 H) 3.03 (s, 3 H) 5.99 - 6.25 (m, 1 H) 6.42 (d, J=1.66 Hz, 1 H) 10.93 (br. s., 1 H).LCMS(m/z):347.2[M+H]
+。
【0372】
IV.8.(R)−4−(5−(シクロヘキサ−1−エン−1−イル)イソオキサゾール−3−イル)−N−ヒドロキシ−2−メチル−2−(メチルスルホニル)ブタンアミド[4.8]の合成
【0373】
【化78】
実施例1.1方法Bのプロセスに従い、1−エチニルシクロヘキサ−1−エンから化合物4.8を合成した。
1H NMR (500 MHz, DMSO-d
6): (t, J = 4.0 Hz, 1H), 6.44 (s, 1H), 3.06 (s, 3H), 2.77 - 2.62 (m, 1H), 2.60 - 2.36 (m, 7H), 2.33 - 2.14 (m, 4H), 2.00 (td, J = 12.5, 4.9 Hz, 1H), 1.78 - 1.56 (m, 4H), 1.52 (s, 3H).LCMS(m/z):343.3[M+H]
+。
【0374】
薬学的活性
緑膿菌(P. aeruginosa)LpxC阻害アッセイ
緑膿菌(P. aeruginosa)LpxCタンパク質は、Hylandらの一般的方法(Journal of Bacteriology 1997 179, 2029-2037: Cloning, expression and purification of UDP-3-O-acyl-GlcNAc deacetylase from Pseudomonas aeruginosa: a metalloamidase of the lipid A biosynthesis pathway)に従って産生される。LC−MS/MSのLpxC生成物の定量方法は、Applied Biosystems MDS Sciex 4000 QTRAP質量分光計と連結したAgilent 1200毛細管HPLCシステムを使用して開発した。機器は両方共Applied Biosystems MDS Sciex Analystソフトウェアを使用して制御する。LpxC反応生成物(UDP−3−O−(R−3−ヒドロキシアシル)−グルコサミン)を、緑膿菌(P. aeruginosa)LpxCを触媒とするLpxC基質の加水分解により産生させて、Phenomenex Luna C18(2)4.6×50mmカラムで逆相クロマトグラフィーを使用して精製した。LpxC生成物の較正曲線を作製してLC−MS/MS方法の感度および動作範囲を推定した。簡単に説明すると、化合物を1nMの緑膿菌(P. aeruginosa)LpxCと共に室温で30分間予備的にインキュベートした。反応は、2μM UDP−3−O−(R−3−ヒドロキシデカノイル)−GlcNAcの添加により開始される。反応は、384ウェルのプレート中で、50mMリン酸ナトリウム(pH7.5、0.005%Trition X−100)の合計体積50μLを含有する各ウェル中において、室温で20分間実施する。1.8%HOAc(5μLの20%HOAcを各ウェルに加える)で反応をクエンチした後、反応混合物をLC−MS/MS方法を使用して分析し、ピーク面積を、LpxC生成物較正曲線を使用して生成物濃度に変換する。全活性(0%阻害の対照)を阻害剤無添加の反応から得て、100%阻害対照は、反応が開始する前に反応をクエンチさせた試料を使用するバックグラウンドである。IC
50を決定するために、Microsoft Excelで、ピーク面積を阻害率(パーセント)に変換する。XLfitを使用して、阻害率(パーセント)の値を、化合物濃度の対数に対してプロットする。XLfitでデータを、非線形退縮アルゴリズムを使用して、4−パラメータのロジスティック曲線の方程式に合わせ、IC
50およびhill勾配値を得る。
【0375】
細菌のスクリーニングおよび培養
単離した細菌を−70℃で凍結したストックから、2回続けて35℃で終夜周囲空気中において、5%血液寒天(Remel、カンサス州Lenexa.)上で継代接種により培養した。品質管理株、緑膿菌(P. aeruginosa)ATCC 27853、A.バウマニ(A. baumannii)ATCC 19606および大腸菌(E. coli)ATCC 25922は、American Type Culture Collection(ATCC;メリーランド州、Rockville、)からのものであり、PAO1は、Dr.K.Pooleから受け取った。
【0376】
感受性試験
最小阻害濃度(MIC)は、Clinical and Laboratories Institute(CLSI)の指針(CLSI M100−S25、Performance Standards for Antimicrobial Susceptibility Testing;Twenty−fifth Informational Supplement)に従って、ブロス微量希釈法により決定した。簡単に説明すると、終夜培養した新鮮な細菌を、滅菌食塩水に再懸濁させて、マクファーランド比濁法の0.5濁度標準に調整し、次にカチオンにより調整されたミューラー−ヒントン培養液II(MHB;Remel BBL )で2000倍に希釈して約5×10
5コロニー形成単位(CFU)/mLの最終接種原を得た。化合物の逐次2倍希釈を100%ジメチルスルホキシド(DMSO)中で調製し、100倍で最高最終アッセイ濃度とした。生じた化合物の希釈シリーズを滅菌水で1:10に希釈した。10%DMSO中の10μlの薬物希釈シリーズを、マイクロタイターウェルに移して、90μlの細菌懸濁液をウェルに接種した。既知の抗生物質の活性を増強する化合物の能力を試験するために、アッセイを以下のように改変した;知られた抗生物質を細菌接種材料に、表Aに示した最終アッセイ濃度の1.1倍で添加した。全ての接種されたマイクロ希釈トレーを、周囲空気中35℃で20時間インキュベートした。インキュベーションの後、アッセイプレートをマイクロタイタープレートリーダーで読み、600nmおよび視覚を用いて検査して、MIC終点ウェルをOD値について確認した。可視的増殖を防止した化合物の最低濃度をMICとして記録した。アッセイの性能は、CLSIの指針に従い、研究室品質管理株に対してシプロフロキサシンを試験することによりモニターした。
【0377】
緑膿菌(P. aeruginosa)からのLpxCに対する、選択された本発明の化合物のLpxC阻害活性を表Aで報告する。他の抗菌剤との相乗効果についての可能性を明らかにするために、緑膿菌(P. aeruginosa)、大腸菌(E. coli)およびA.バウマニ(A. baumannii)についてのMICアッセイも、阻害濃度未満のリファンピシンの存在下で、実施した。表Bを参照されたい。
【0378】
【表2-1】
【0379】
【表2-2】
【0380】
【表3-1】
【0381】
【表3-2】
【0382】
当業者は、日常的を超えない実験を使用して、本明細書に記載された特定の実施形態および方法と等価の多くの事物を認識するであろうし、または確かめることができるであろう。そのような等価の事物は、以下の特許請求の範囲により包含されることが意図されている。
本発明は、以下の態様を含む。
[1]
式(I)の化合物:
【化79】
または薬学的に許容されるその塩:
(式中、
Xは−NH−であり、R1は−CH(OH)−Yであり;
または
Xは−CH2−であり、R1は−CH(OH)−Yもしくは−SO2R2であり、ここでR2はC1〜C3アルキルであり;
R3は、Hまたはハロであり;
Yは、環メンバーとしてN、OおよびSから選択される1〜3個のヘテロ原子を含有する5員ヘテロアリール環、フェニル、およびC1−3アルキルから選択され、各Yは、1から3個のR4で場合により置換されており;
各R4は、ハロ、C1−3アルキル、およびC3−6シクロアルキルから独立に選択され、ここで、前記C1−3アルキルおよびC3−6シクロアルキルは、各々ハロ、CNおよび−OHから選択される3個までの基で場合により置換されており;
Lは、−C≡C−もしくは−CR5=CR5−であり;
R5は、出現ごとに、H、ハロおよびメチルから独立に選択され;
および
Zは、C1−6アルキル、C3〜C6シクロアルキル、ピリジニル、およびフェニルから選択され、その各々は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−4アルコキシ、C1−4ハロアルコキシ、CN、ならびにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、CN、およびC1−3アルコキシから選択される1から3個の基で場合により置換されているC1−4アルキルから選択される3個までの基で場合により置換されており;
またはLが−CR5=CR5−である場合には、Zは、R5基の1つおよびZを前記R5基に接続する任意の原子と一緒になって、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−4アルコキシ、C1−4ハロアルコキシ、CN、ならびにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、CN、およびC1−3アルコキシから選択される1から3個の基で場合により置換されているC1−4アルキルから選択される3個までの基で場合により置換されている3〜7員シクロアルキルもしくはシクロアルケニル基を形成していてもよい)。
[2]
R1が−CH(OH)−Yである、[1]に記載の化合物。
[3]
R1が−SO2R2である、[1]に記載の化合物。
[4]
Xが−CH2−である、[1]〜[3]のいずれかに記載の化合物。
[5]
Xが−NH−である、[1]〜[2]のいずれかに記載の化合物。
[6]
Yが、1個または2個のR4で場合により置換されているイソオキサゾールであり、[2]、[4]または[5]に記載の化合物。
[7]
Yが、
【化80】
である、[6]に記載の化合物。
[8]
Zが、ハロゲン、C1−4アルコキシ、C1−4ハロアルコキシ、CN、ならびにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、CN、およびC1−3アルコキシから選択される1から3個の基で場合により置換されているC1−4アルキルから選択される3個までの基で置換されているフェニルである、[1]〜[7]のいずれかに記載の化合物。
[9]
Zが、C1〜C4アルキルまたはC3〜C6シクロアルキルであり、
Zは、ハロゲン、C1−4アルコキシ、C1−4ハロアルコキシ、CN、ならびにハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、CN、およびC1−3アルコキシから選択される1から3個の基で場合により置換されているC1−4アルキルから選択される3個までの基で場合により置換されている、[1]〜[7]のいずれかに記載の化合物。
[10]
Lが−C≡C−である、[1]〜[9]のいずれかに記載の化合物。
[11]
前記化合物が、式(II):
【化81】
のものである[1]に記載の化合物。
[12]
前記化合物が、式(III):
【化82】
のものである、[1]〜[11]のいずれかに記載の化合物。
[13]
[1]から[12]のいずれかに記載の化合物および
薬学的に許容される担体
を含む医薬組成物。
[14]
[1]から[12]のいずれかに記載の化合物、
抗菌的有効量の第2の治療剤、および
薬学的に許容される担体
を含む薬学的組合せの組成物。
[15]
前記第2の治療剤が、アンピシリン、ピペラシリン、ペニシリンG、チカルシリン、イミペラネム、メロペネム、アジスロマイシン、エリスロマイシン、アズトレオナム、セフェピム、セホタキシム、セファトリアキソン、セフタジジム、シプロフロキサシン、レボフロキサシン、クリンダマイシン、ドキシサイクリン、ゲンタマイシン、アミカシン、トブラマイシン、テトラサイクリン、チゲサイクリン、リファンピシン、バンコマイシンおよびポリミキシンからなる群から選択される、[14]に記載の薬学的組合せの組成物。
[16]
グラム陰性菌中のデアセチラーゼ酵素を阻害する方法であって、グラム陰性菌を、[1]から[12]に記載の化合物と接触させることを含む方法。
[17]
グラム陰性菌に感染した対象を治療する方法であって、抗菌的有効量の[1]から[12]のいずれかに記載の化合物を、それを必要とする対象に投与することを含む方法。
[18]
前記グラム陰性菌感染が、緑膿菌(Pseudomonas aeruginosa)および他のシュードモナス属(Pseudomonas)の種、ステノトロホモナス・マルトフィリア(Stenotrophomonas maltophilia)、バークホルデリア・セパシア(Burkholderia cepacia)および他のバークホルデリア属(Burkholderia)の種、アルカリゲネス・キシロソキシダンス(Alcaligenes xylosoxidans)、アシネトバクター属(Acinetobacter)の種、アクロモバクター属(Achromobacter)の種、アエロモナス属(Aeromonas)の種、エンテロバクター属(Enterobacter)の種、大腸菌(Eschericia coli)、ヘモフィルス属(Haemophilus)の種、クレブシエラ属(Klebsiella)の種、モラクセラ属(Moraxella)の種、バクテロイデス属(Bacteroides)の種、フランシセラ属(Francisella)の種、赤痢菌(Shigella)、プロテウス属(Proteus)の種、ポルフィロモナス属(Porphyromonas)の種、プレボテーラ属(Prevotella)の種、マンヘミア・ヘモリチカ(Mannheimia haemolyiticus)、パスツレラ属(Pastuerella)の種、プロビデンシア属(Providencia)の種、ビブリオ属(Vibrio)の種、サルモネラ属(Salmonella)の種、ボルデテラ属(Bordetella)の種、ボレリア属(Borrelia)の種、ヘリコバクター属(Helicobacter)の種、レジオネラ属(Legionella)の種、シトロバクター属(Citrobacter)の種、セデセア属(Cedecea)の種、セラチア属(Serratia)の種、カンピロバクター属(Campylobacter)の種、エルシニア属(Yersinia)の種、フソバクテリウム属(Fusobacterium)の種、およびナイセリア属(Neisseria)の種からなる群から選択される少なくとも1種の細菌を含む感染である、[17]に記載の方法。
[19]
前記細菌が、シュードモナス目(Pseudomonadales)から選択される腸内細菌科(Enterobacteriaceae)、ならびにシュードモナス属(Pseudomonas)、アシネトバクター属(Acinetobacter)、ステノトロホモナス属(Stenotrophomonas)、バークホルデリア属(Burkholderia)、セラチア属(Serratia)、プロテウス属(Proteus)、クレブシエラ属(Klebsiella)、エンテロバクター属、シトロバクター属(Citrobacter)、サルモネラ属(Salmonella)、赤痢菌(Shigella)、プロビデンシア属(Providencia)、モルガネラ属(Morganella)、セデセア属(Cedecea)、エルシニア属(Yersina)およびエドワードシエラ属(Edwardsiella)の種および大腸菌(Escherichia coli)からなる群から選択される腸内細菌科(Enterobacteriaceae)の種である、[18]に記載の方法。
[20]
医薬として使用するための、[1]から[12]に記載の化合物または薬学的に許容されるその塩。
[21]
グラム陰性菌感染の治療に使用するための、[1]から[12]に記載の化合物または薬学的に許容されるその塩。
[22]
前記細菌感染が、シュードモナス属(Pseudomanas)、アシネトバクター属(Acinetobacter)、ステノトロホモナス属(Stenotrophomonas)、バークホルデリア属(Burkholderia)、セラチア属(Serratia)、プロテウス属(Proteus)、クレブシエラ属(Klebsiella)、エンテロバクター属(Enterobacter)、シトロバクター属(Citrobacter)、サルモネラ(Salmonella)、赤痢菌(Shigella)、プロビデンシア属(Providencia)、モルガネラ属(Morganella)、セデセア属(Cedecea)、エルシニア属(Yersina)およびエドワードシエラ属(Edwardsiella)の種および大腸菌(Escherichia coli)からなる群から選択されるシュードモナス目(Pseudomonadales)および腸内細菌科(Enterobacteriaceae)の種から選択される、グラム陰性菌感染の治療に使用するための、[1]から[12]に記載の化合物または薬学的に許容されるその塩。
[23]
前記細菌感染が、シュードモナス属(Pseudomanas)、アシネトバクター属(Acinetobacter)、ステノトロホモナス属(Stenotrophomonas)、バークホルデリア属(Burkholderia)、セラチア属(Serratia)、プロテウス属(Proteus)、クレブシエラ属(Klebsiella)、エンテロバクター属(Enterobacter)、シトロバクター属(Citrobacter)、サルモネラ(Salmonella)、赤痢菌(Shigella)、プロビデンシア属(Providencia)、モルガネラ属(Morganella)、セデセア属(Cedecea)、エルシニア属(Yersina)およびエドワードシエラ属(Edwardsiella)の種および大腸菌(Escherichia coli)からなる群から選択されるシュードモナス目(Pseudomonadales)および腸内細菌科(Enterobacteriaceae)の種から選択される、対象におけるグラム陰性菌感染を治療するための医薬を調製するための、[1]から[12]に記載の化合物の使用。
[24]
前記細菌感染が、シュードモナス属(Pseudomanas)、アシネトバクター属(Acinetobacter)、ステノトロホモナス属(Stenotrophomonas)、バークホルデリア属(Burkholderia)、セラチア属(Serratia)、プロテウス属(Proteus)、クレブシエラ属(Klebsiella)、エンテロバクター属(Enterobacter)、シトロバクター属(Citrobacter)、サルモネラ(Salmonella)、赤痢菌(Shigella)、プロビデンシア属(Providencia)、モルガネラ属(Morganella)、セデセア属(Cedecea)、エルシニア属(Yersina)およびエドワードシエラ属(Edwardsiella)の種および大腸菌(Escherichia coli)からなる群から選択されるシュードモナス目(Pseudomonadales)および腸内細菌科(Enterobacteriaceae)の種による、[23]に記載の使用。
[25]
式(I)の化合物が免疫調節剤との組合せで使用される、[17]に記載の方法。