(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0013】
本出願の利点と特徴、そしてそれらを達成する方法は添付の図と共に詳細に後述する一例を参照すれば明確になるだろう。しかし、本出願は、以下で開示する一例に限定されるものではなく、異なる多様な形態で具現されるものであり、単に本出願の一例は、本出願の開示が完全になるようにし、本出願の発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らしめるために提供するものであり、本出願の発明は、請求項の範疇によって定義されるだけである。
【0014】
本出願の一例を説明するために図で開示した形状、大きさ、比率、角度、数などは例示的なものなので、本出願は、図に示した事項に限定されるものではない。明細書全体にわたって同一参照符号は同一の構成要素を指すことができる。また、本出願を説明するにおいて、関連する公知技術に対する詳細な説明が本出願の要旨を不必要に曖昧にすると判断される場合、その詳細な説明は省略する。
【0015】
本明細書で言及した「含む」、「有する」、「からなる」などが使用されている場合は、「〜だけ」が使用されていない限り、他の部分が追加され得る。構成要素を単数で表現する場合に、特に明示的な記載事項がない限り、複数が含まれる場合を含む。
【0016】
構成要素を解釈するに当たり、別途の明示的な記載がなくても誤差の範囲を含むものと解釈する。
【0017】
位置関係の説明である場合には、例えば、「〜上に」、「〜の上部に」、「〜の下部に」、「〜の隣に」など2つの部分の位置関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上、二つの部分の間に一つ以上の他の部分が位置することもできる。
【0018】
時間の関係に対する説明である場合には、例えば、「〜の後」、「〜に続いて」、「〜次に」、「〜前に」などで時間的前後関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上、連続していない場合も含むことができる。
【0019】
第1、第2などが多様な構成要素を記述するために使用されるが、このような構成要素はこのような用語によって制限されない。このような用語は、ただ一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるものである。したがって、以下に記載されている第1構成要素は、本出願の技術的思想内で第2構成要素であることもある。
【0020】
「少なくとも一つ」の用語は、一つ以上の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むものと理解されなければならない。たとえば、「第1項目、第2項目及び第3項目のうち少なくとも一つ」の意味は、第1項目、第2項目または第3項目のそれぞれのみならず、第1項目、第2項目及び第3項目の中で2つ以上から提示することができるすべての項目の組み合わせを意味する。
【0021】
本出願のいくつかの例のそれぞれの特徴が部分的または全体的に互いに結合または組み合わせ可能で、技術的に様々な連動と駆動が可能であり、それぞれの例が互いに独立して実施可能であり得、関連の関係で一緒に実施することもできる。
【0022】
以下では、本出願によるディスプレイ装置の例を添付された図面を参照して詳細に説明する。各図面の構成要素に参照符号を付加することにおいて、同一の構成要素については、たとえ他の図面上に表示されても、可能な限り同一の符号を有することができる。また、本出願の例を説明するにあたり、関連した公知の構成または機能に対する具体的な説明が本出願の要旨を曖昧にすることができていると判断される場合には、その詳細な説明は省略することができる。
【0023】
図1は、本出願の一例によるディスプレイ装置を示す図であり、
図2は、
図1に示した基板を示す平面図であり、
図3は、
図2に示した一つの画素を示す図である。
【0024】
図1〜
図3を参照すると、本出願の一例によるディスプレイ装置は、ディスプレイパネル100、およびディスプレイパネル100に実装されたゲート駆動チップアレイ部200と、データ駆動チップアレイ部300を含むことができる。
【0025】
前記ディスプレイパネル100は、互いに向かい合う基板110と対向基板190を含むことができる。前記基板110は、画素アレイ基板であり得る。対向基板190は、カラーフィルタを含むカラーフィルタアレイ基板であり得る。基板110は、対向基板190よりも大きいサイズを有し、これにより基板110の一方側端は対向基板190によって覆われないで露出し得る。
【0026】
前記基板110は、ベース基板として、ガラス、石英、セラミックス、またはプラスチックなどの絶縁性物質からなり得る。例えば、プラスチックからなる基板110は、ポリイミド(polyimide)フィルムであり得、高温蒸着工程による高温に耐えることができる耐熱性ポリイミドフィルムであり得る。基板110は、複数の画素領域を有する表示領域(DA)および非表示領域(NDA)を含むことができる。前記表示領域(DA)は、映像が表示される領域として定義することができ、前記非表示領域(NDA)は、映像が表示されない領域であって、表示領域を囲むように基板110の端部に定義することができる。
【0027】
一例による基板110は、第1方向(X)に沿って表示領域(DA)を通る第1〜第mゲートライン(GL)、第1方向(X)と交差する第2方向(Y)に沿って表示領域(DA)を通る第1〜第nデータライン(DL)を含むことができる。また、基板110は、第1〜第nデータライン(DL)それぞれと平行な第1〜第n画素駆動電源ライン(PL)を含むことができる。前記第1〜第mゲートライン(GL)と、第1〜第nデータライン(DL)は、互いに交差することにより、表示領域(DA)上に複数の画素領域を定義する。
【0028】
一例による基板110は、映像を表示するための複数の画素(P)を含む。
【0029】
前記複数の画素(P)のそれぞれは、画素駆動チップ120と発光部(ELP)を含むことができる。
【0030】
前記画素駆動チップ120は、各画素領域ごとに実装されて、隣接するゲートライン(GL)とデータライン(DL)および画素駆動電源ライン(PL)に接続するとともに、発光部(ELP)に接続する。前記複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、最小単位のマイクロチップ(microchip)または一つのチップセット(chip set)であり、2つ以上のトランジスタと一つ以上のコンデンサを有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。このような複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、画素駆動電源ライン(PL)から供給される画素駆動電源(Vdd)を基に、ゲートライン(GL)から供給されるゲートパルス(GP)に応答してデータライン(DL)から供給されるデータ電圧(Vdata)に対応するデータ電流を発光部(ELP)に供給することにより、発光部(ELP)の発光を制御する。
【0031】
一例による複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、第1〜第4バンプ(B1〜B4)、および画素駆動回路(PC)を含むことができる。
【0032】
前記第1バンプ(B1)(またはゲートバンプ)は、隣接したゲートライン(GL)と電気的に接続し、ゲートライン(GL)からゲートパルス(GP)を入力する。前記第2バンプ(B2)(またはデータバンプ)は、隣接したデータライン(DL)と電気的に接続し、データライン(DL)からデータ電圧(Vdata)を入力する。前記第3バンプ(B3)(または電源入力バンプ)は、隣接した画素駆動電源ライン(PL)と電気的に接続し、画素駆動電源ライン(PL)から画素駆動電源(Vdd)を入力する。前記第4バンプ(B4)(または出力バンプ)は、発光部(ELP)と電気的に接続し、データ電流を発光部(ELP)に提供する。
【0033】
前記画素駆動回路(PC)は、第1〜第4バンプ(B1〜B4)に接続し、第3バンプ(B3)を介して供給される画素駆動電源(Vdd)を基に、第1バンプ(B1)を介して供給されるゲートパルス(GP)に応答して、第2バンプ(B2)を介して供給されるデータ電圧(Vdata)に対応するデータ電流を第4バンプ(B4)に出力する。
【0034】
一例による画素駆動回路(PC)(または画素駆動内蔵回路)は、スイッチングトランジスタ(ST)、駆動トランジスタ(DT)、およびコンデンサ(Cst)を含むことができる。
【0035】
前記スイッチングトランジスタ(ST)は、第1バンプ(B1)に接続したゲート電極、第2バンプ(B2)に接続した第1ソース/ドレイン電極、及び駆動トランジスタ(DT)のゲート電極に接続した第2ソース/ドレイン電極を含む。ここで、スイッチングトランジスタ(ST)の第1および第2ソース/ドレイン電極は、電流の方向によって、ソース電極またはドレイン電極になることができる。このようなスイッチングトランジスタ(ST)は、第1バンプ(B1)を介して供給されるゲートパルス(GP)によってスイッチングされ、第2バンプ(B2)を介して供給されるデータ電圧(Vdata)を駆動トランジスタ(DT)に供給する。
【0036】
前記駆動トランジスタ(DT)は、スイッチングトランジスタ(ST)の第2電極に接続したゲート電極、第3バンプ(B3)を介して画素駆動電源(Vdd)を入力するドレイン電極、及び第4バンプ(B4)に接続するソース電極を含む。このような駆動トランジスタ(DT)は、スイッチングトランジスタ(ST)から供給されるデータ電圧(Vdata)を基に、第3バンプ(B3)から第4バンプ(B4)を介して発光部(ELP)に流れるデータ電流を制御することにより、発光部(ELP)の発光を制御する。
【0037】
前記コンデンサ(Cst)は、駆動トランジスタ(DT)のゲート電極とソース電極間の重畳領域に設けられ、駆動トランジスタ(DT)のゲート電極に供給されるデータ電圧を保存し、保存した電圧で駆動トランジスタ(DT)をターンオンさせる。
【0038】
選択的に、画素駆動回路(PC)は、駆動トランジスタ(DT)のしきい電圧の変化を補償するための少なくとも一つの補償トランジスタをさらに含むことができ、さらに、少なくとも一つの補助コンデンサをさらに含むことができる。このような画素駆動回路(PC)は、トランジスタと補助コンデンサの数によって初期化電圧などの補償電源を追加で供給を受けることもできる。したがって、本例に係る画素駆動回路(PC)は、電流駆動方式により、発光部(ELP)を発光させる公知の発光表示装置の画素駆動回路(PC)に変更可能であり、この場合には、複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、画素駆動回路(PC)のトランジスタの数と電源の数によって、少なくとも一つのバンプをさらに含むことができ、これと共に、基板110上に電源に対応する電源ラインを追加で配置することができる。
【0039】
前記発光部(ELP)は、画素駆動チップ120から供給されるデータ電流によって発光する。このような発光部(ELP)の発光によって放出される光は、対向基板190を通過して外部に放出されることもあり、基板110を通過して外部に放出され得る。
【0040】
一例に係る発光部(ELP)は、画素駆動チップ120の第4バンプ(B4)に接続したアノード電極(または第1電極)、アノード電極に接続した発光層、および発光層に接続したカソード電極(または第2電極)(CE)を含むことができる。前記発光層は、有機発光層、無機発光層、及び量子ドット発光層のいずれか一つを含むか、有機発光層(または無機発光層)と量子ドット発光層の積層または混合構造を含むことができる。
【0041】
前記対向基板190は、基板110上に配置された複数の画素(P)を覆う。例えば、対向基板190は、ガラス基板、フレキシブル基板またはプラスチックフィルム(plastic film)であり得る。例えば、対向基板190は、ポリエチレンテレフタレート(polyethylene terephthalate)フィルムまたは透明ポリイミド(polyimide)フィルムであり得る。このような対向基板190は、透明接着層を介して基板110と合着することができる。
【0042】
前記ゲート駆動チップアレイ部200は、基板110の非表示領域(NDA)に実装して、第1〜第nゲートライン(GL)に接続する。ゲート駆動チップアレイ部200は、基板110の第1非表示領域(または上側非表示領域)に配置されたパッド部(PP)を介して供給されるゲートスタート信号とゲートクロックに応答して、ゲートパルス(GP)を順次にゲートライン(GL)に供給する。例えば、ゲート駆動チップアレイ部200は、第1〜第nゲートライン(GL)と一対一で接続した第1〜第nゲート駆動チップ210を含むことができる。
【0043】
一例として、ゲート駆動チップアレイ部200は、基板110の第2非表示領域(または左側非表示領域)または第3非表示領域(または右側非表示領域)に実装され、シングルフィーディング(single feeding)方式によって動作して、第1〜第nゲートライン(GL)に順次にゲートパルス(GP)を供給することができる。
【0044】
他の例としては、ゲート駆動チップアレイ部200は、基板110の第2非表示領域(または左側非表示領域)と第3非表示領域(または右側非表示領域)にそれぞれ実装され、ダブルフィーディング(double feeding)方式によって動作して、第1〜第nゲートライン(GL)に順次にゲートパルス(GP)を供給することができる。
【0045】
また他の例としては、ゲート駆動チップアレイ部200は、基板110の第2非表示領域(または左側非表示領域)と第3非表示領域(または右側非表示領域)にそれぞれ実装され、ダブルフィーディング(double feeding)方式のインターレース(interlacing)方式によって動作して、第1〜第nゲートライン(GL)に順次にゲートパルス(GP)を供給することができる。
【0046】
前記データ駆動チップアレイ部300は、基板110の非表示領域(NDA)に実装され、第1〜第nデータライン(DL)に接続する。データ駆動チップアレイ部300は、基板110の第1非表示領域(または上側非表示領域)に配置されたパッド部(PP)を介して供給されるデータ信号をデータ電圧(Vdata)に変換して、該当する第1〜第nデータライン(DL)に供給する。たとえば、データ駆動チップアレイ部300は、第1〜第mデータライン(DL)のそれぞれに該当するデータ電圧(Vdata)を供給するための複数のデータ駆動チップを含むことができる。
【0047】
本出願の一例によるディスプレイ装置は、制御ボード400、タイミングコントローラ500、電源管理回路600およびディスプレイ駆動システム700を含むことができる。
【0048】
前記制御ボード400は、インターフェースケーブル530を介して基板110の一方側非表示領域に配置されたパッド部(PP)に接続する。
【0049】
前記タイミングコントローラ500は制御ボード400に実装され、入力する映像信号の信号処理を介してデジタルデータ信号を生成して、データ駆動チップアレイ部300に提供し、ゲートクロックとゲートスタート信号を生成してゲート駆動チップアレイ部200に提供する。つまり、タイミングコントローラ500は、制御ボード400に設けられたユーザコネクタ510を介してディスプレイ駆動システム700から提供される映像信号とタイミング同期信号を受信する。タイミングコントローラ500は、タイミング同期信号を基に映像信号を表示領域(DA)の画素配置構造に適合するように整列してデジタルデータ信号を生成し、生成したデジタルデータ信号をデータ駆動チップアレイ部300に提供する。そして、タイミングコントローラ500は、ゲートクロックとゲートスタート信号を生成してゲート駆動チップアレイ部200に提供する。一例によるタイミングコントローラ500は、デジタルデータ信号と基準クロックおよびデータスタート信号を高速シリアルインターフェース方式、例えば、EPI(Embedded point to point interface)インターフェース方式、LVDS(Low−Voltage Differential Signaling)インターフェース方式、またはMini LVDSインターフェース方式を用いてデータ駆動チップアレイ部300に提供することができる。
【0050】
前記電源管理回路600は、ディスプレイ駆動システム700のパワーサプライ(power supply)から提供される入力電源を基にトランジスタロジック電圧とグランド電圧、画素駆動電源および、少なくとも一つの基準ガンマ電圧を生成することができる。トランジスタロジック電圧とグランド電圧は、タイミングコントローラ500とゲート駆動チップアレイ部200および、データ駆動チップアレイ部300などの駆動電源として使用することができ、グラウンド電圧と画素駆動電源(Vdd)は、複数の画素(P)とゲート駆動チップアレイ部200および、データ駆動チップアレイ部300のそれぞれで使用することができ、複数の基準ガンマ電圧は、データ駆動チップアレイ部300でデジタルデータをアナログデータ電圧に変換するために使用することができる。
【0051】
前記ディスプレイ駆動システム700は、インターフェースケーブル710を介して制御ボード400のユーザコネクタ510に接続する。ディスプレイ駆動システム700は、映像ソースからの映像信号を生成してタイミングコントローラ500に提供することができる。ここで、映像信号は、高速シリアルインターフェース方式、例えばV−by−Oneインターフェース方式を使用してタイミングコントローラ500に提供することができる。
【0052】
図4は、
図1に示した線I−I’の断面図で、これは、
図1に示したディスプレイパネルに配置された隣接したる3つの画素の断面図である。
【0053】
図1〜
図4を参照すると、本出願の一例によるディスプレイ装置は、基板110、バッファ層111、複数の画素駆動チップ120、ゲート駆動チップアレイ部200、データ駆動チップアレイ部300、第1平坦化層113、ライン層、第2平坦化層115、発光部(ELP)、及び封止層117を含むことができる。
【0054】
前記基板110は、画素アレイ基板として、ガラス、石英、セラミックス、またはプラスチックなどの絶縁性物質からなり得る。このような基板110は、発光領域(EA)と回路領域(CA)、複数の画素領域(PA)を含むことができる。
【0055】
前記バッファ層111は、基板110上に設けられる。バッファ層111は、基板110を介して発光部(ELP)の方に水分が浸透することを防止する機能をする。一例によるバッファ層111は、無機物質からなる少なくとも一つの無機層を含むことができる。例えば、バッファ層111は、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)、シリコン酸窒化膜(SiON)、チタン酸化膜(TiOx)、およびアルミニウム酸化膜(AlOx)のいずれか一つの無機層が交互に積層した多重膜で形成することができる。
【0056】
前記複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、チップ実装(または転写)工程を通じて複数の画素領域(PA)それぞれの回路領域(CA)上のバッファ層111上に実装される。前記複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、1〜100マイクロメートルのスケールを有することができるが、これに限定されず、画素領域(PA)の回路領域(CA)が占める領域を除いた残りの発光領域(EA)のサイズよりも小さいサイズを有することができる。このような複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、前述したように、第1〜第4バンプ(B1〜B4)および画素駆動回路(PC)を含むので、これに対する重複説明は省略することにする。
【0057】
前記複数の画素駆動チップ120は、接着層を媒介としてバッファ層111上に付着することができる。前記接着層は、複数の画素駆動チップ120それぞれの裏面(または背面)のみに形成することができる。この場合、チップ実装工程では、画素駆動チップ120の裏面(または背面)に接着層がコーティングされた画素駆動チップ120を真空吸着ノズルで真空吸着して、該当する画素領域(PA)のバッファ層111上に実装(または転写)することができる。
【0058】
選択的に、前記複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、複数の画素領域(PA)それぞれの回路領域(CA)に形成された複数の凹部112それぞれに実装することもできる。
【0059】
前記複数の凹部112のそれぞれは、回路領域(CA)に配置されたバッファ層111の前面から凹に形成することができる。たとえば、複数の凹部112のそれぞれは、バッファ層111の前面から一定の深さを有する溝(groove)またはカップ(cup)形態を有することができる。このような複数の凹部112のそれぞれは、複数の画素駆動チップ120を個別に収納して固定することにより、複数の画素駆動チップ120の厚さ(または高さ)によるディスプレイ装置の厚さの増加を最小限に抑える。一例による複数の凹部112のそれぞれは、画素駆動チップ120と対応する形態を有しながら、一定の角度で傾斜した傾斜面を有するように凹に形成することにより画素駆動チップ120をバッファ層111上に実装する実装工程時に、回路領域(CA)と画素駆動チップ120間のミスアライメントを最小限に抑えることができる。
【0060】
一例による複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、複数の凹部112のそれぞれにコーティングされた接着層を媒介に複数の凹部112のそれぞれの底面に付着することができる。他の例に係る複数の画素駆動チップ120のそれぞれは、複数の凹部112を含むバッファ層111の前面全体にコーティングされた接着層を媒介に複数の凹部112それぞれの底面に付着することができる。
【0061】
前記ゲート駆動チップアレイ部200は、基板110の非表示領域(NDA)に実装され、第1〜第nゲートライン(GL)と一対一で接続した第1〜第nゲート駆動チップ210を含むことができる。第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、画素駆動チップ120と同様に接着剤を媒介にして、該当する画素領域(PA)のバッファ層111上に実装(または転写)したり画素領域(PA)のバッファ層111に設けられた凹部112に配置することができる。
【0062】
前記データ駆動チップアレイ部300は、基板110の非表示領域(NDA)に実装され、第1〜第mデータライン(DL)と一対一で接続した第1〜第mのデータ駆動チップグループ(3001〜300m)を含むことができる。第1〜第mのデータ駆動チップグループ(3001〜300m)のそれぞれは、少なくとも一つのデータ駆動チップを含み、データ駆動チップは、画素駆動チップ120と同様に接着剤を媒介にして、該当する画素領域(PA)のバッファ層111上に実装(または転写)したり画素領域(PA)のバッファ層111に設けられた凹部112に配置することができる。
【0063】
前記第1平坦化層113は、基板110の前面上に配置され、複数の画素駆動チップ120と、第1〜第nゲート駆動チップ210を覆う。すなわち、第1平坦化層113は、基板110上に配置されたバッファ層111と、複数の画素駆動チップ120と、第1〜第nゲート駆動チップ210のすべてを覆うことで、バッファ層111と、複数の画素駆動チップ120および、第1〜第nゲート駆動チップ210上に平坦面を提供しながら、複数の画素駆動チップ120と、第1〜第nゲート駆動チップ210を固定する。例えば、第1平坦化層113は、アクリル系樹脂(acryl resin)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、フェノール樹脂(phenolic resin)、ポリアミド系樹脂(polyamides resin)、またはポリイミド系樹脂(polyimides resin)などからなり得る。
【0064】
前記ライン層は、第1金属ライン(ML1)、絶縁層114、及び第2金属ライン(ML2)を含むことができる。
【0065】
前記第1金属ライン(ML1)は、第1方向(X)または第2方向(Y)に沿って表示領域(DA)を通るように、第1平坦化層113上に配置される。第1金属ライン(ML1)は、ゲートライン(GL)に使用したり、データライン(DL)および画素駆動電源ライン(PL)に使用することができる。例えば、第1金属ライン(ML1)は、ゲートライン(GL)に使用することができる。この場合には、第1金属ライン(ML1)からなるゲートライン(GL)は、各画素領域(PA)の回路領域(CA)上に延長されたり突出して、第1平坦化層113に設けられた第1チップのコンタクトホール(CH1)を介して該当する画素駆動チップ120の第1バンプ(B1)と電気的に接続することにより画素駆動チップ120の第1バンプ(B1)にゲートパルス(GP)を供給する。
【0066】
前記絶縁層114は、第1金属ライン(ML1)を覆うように基板110上に配置される。例えば、絶縁層114は、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)、シリコン酸窒化膜(SiON)、またはこれらの多重層であり得る。
【0067】
前記第2金属ライン(ML2)は、第1金属ライン(ML1)と交差する方向に沿って表示領域(DA)を通るように絶縁層114上に配置される。第2金属ライン(ML2)は、ゲートライン(GL)に使用したり、データライン(DL)および画素駆動電源ライン(PL)に使用することができる。例えば、第1金属ライン(ML1)がゲートラインに使用される場合には、第2金属ライン(ML2)は、データライン(DL)および画素駆動電源ライン(DL)に使用することができる。この場合、第2金属線(ML2)からなるデータライン(DL)は、各画素領域(PA)の回路領域(CA)上に延長されたり突出して絶縁層114と、第1平坦化層113に設けられた第2チップコンタクトホール(CH2)を介して該当する画素駆動チップ120の第2バンプ(B2)と電気的に接続することにより、画素駆動チップ120の第2バンプ(B2)にデータ電圧を供給する。そして、第2金属線(ML2)からなる画素駆動電源ライン(PL)は、各画素領域(PA)の回路領域(CA)上に延長されたり突出して絶縁層114と、第1平坦化層113に設けられた第3チップコンタクトホールを介して、該当する画素駆動チップ120の第3バンプ(B3)と電気的に接続することにより画素駆動チップ120の第3バンプ(B3)に画素駆動電源(Vdd)を供給する。ここで、第3チップコンタクトホールは、第2チップのコンタクトホール(CH2)と一緒に形成される。
【0068】
前記第1金属ライン(ML1)と第2金属ライン(ML2)のそれぞれは、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、金(Au)、チタニウム(Ti)、ニッケル(Ni)、ネオジウム(Nd)、銅(Cu)、またはそれらの合金からなり得、前記金属または合金の単一層または2層以上の多重層からなり得る。
【0069】
前記第2平坦化層115は、ライン層を覆うように基板110上に配置される。すなわち、第2平坦化層115は、第2金属ライン(ML2)と絶縁層114を覆うように基板110上に形成されることで、第2金属ライン(ML2)と絶縁層114上に平坦面を提供することができる。例えば、第2平坦化層115は、アクリル系樹脂(acryl resin)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、フェノール樹脂(phenolic resin)、ポリアミド系樹脂(polyamides resin)、またはポリイミド系樹脂(polyimides resin)などからなり得るが、これに限定されない。
【0070】
前記発光部(ELP)は、複数のアノード電極(AE)、バンク層(BL)、発光層(EL)、およびカソード電極(CE)を含むことができる。
【0071】
前記複数のアノード電極(AE)のそれぞれは、各画素領域(PA)ごとに個別にパターニングされる。複数のアノード電極(AE)のそれぞれは、該当する画素領域(PA)上の第2平坦化層115に設けられたアノードコンタクトホール(CH3)を介して該当する画素駆動チップ120の第4バンプ(B4)に電気的に接続することにより、画素駆動チップ120の第4バンプ(B4)を介してデータ電流を供給する。一例による複数のアノード電極(AE)のそれぞれは、反射率の高い金属物質を含むことができる。例えば、複数のアノード電極(AE)のそれぞれは、アルミニウム(Al)とチタン(Ti)の積層構造(Ti/Al/Ti)、アルミニウム(Al)とITO(Indium Tin Oxide)の積層構造(ITO/Al/ITO)、APC(Ag/Pd/Cu)合金、およびAPC合金とITOの積層構造(ITO/APC/ITO)のような多層構造で形成したり、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、金(Au)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、またはバリウム(Ba)の中から選択されたいずれか一つの物質または2以上の合金材料からなる単層構造を含むことができる。
【0072】
前記バンク層(BL)は、複数の画素領域(PA)のそれぞれに発光領域(EA)を定義することで、画素定義膜(または分離膜)と表現することもできる。バンク層(BL)は、複数のアノード電極(AE)のそれぞれの端と第2平坦化層115上に設けられて画素領域(PA)の回路領域(CA)と重畳することにより、各画素領域(PA)内に発光領域(EA)を定義する。一例として、バンク層(BL)は、アクリル樹脂(acryl resin)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、フェノール樹脂(phenolic resin)、ポリアミド樹脂(polyamide resin)、ポリイミド樹脂(polyimide resin)、ベンゾシクロブテン(benzocyclobutene)樹脂、およびフッ素樹脂のいずれか一つの有機物質からなり得る。他の例として、バンク層(BL)は、黒色顔料を含む感光物質からなり得、この場合には、バンク層(BL)は、遮光パターンの役割をすることができる。
【0073】
前記発光層(EL)は、複数のアノード電極(AE)上の発光領域(EA)上に配置される。
【0074】
一例による発光層(EL)は、白色光を放出するための2以上のサブ発光層を含む。例えば、発光層(EL)は、第1光と第2光の混合によって白色光を放出するための第1サブ発光層と第2サブ発光層を含むことができる。ここで、第1サブ発光層は、第1光を放出するもので、青色発光層、緑色発光層、赤色発光層、黄色発光層、および黄緑色発光層のいずれかを含むことができる。第2サブ発光層は、青色発光層、緑色発光層、赤色発光層、黄色発光層、および黄緑色発光層のうち、第1光と補色関係を有する光を放出する発光層を含むことができる。このような前記発光層(EL)は、白色光を放出するので、画素領域(PA)ごとに個別にパターニングせずに、複数のアノード電極(AE)とバンク層(BL)を覆うように基板110上に形成することができる。
【0075】
さらに、発光層(EL)は、発光層の発光効率および/または寿命を向上させるための少なくとも一つ以上の機能層をさらに含むことができる。
【0076】
前記カソード電極(CE)は、発光層(EL)を覆うように配置される。一例によるカソード電極(CE)は、発光層(EL)から放出される光が対向基板190に向かって透過するように、TCO(Transparent Conductive Oxide)のような透明導電性物質であるITO(Indium Tin Oxide)、またはIZO(Indium Zinc Oxide)などで形成される。
【0077】
前記封止層117は、発光部(ELP)を覆うように基板110上に配置される。一例による封止層117は、発光部(ELP)の発光層(EL)に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。一例による封止層117は、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)、シリコン酸窒化膜(SiON)、チタン酸化膜(TiOx)、およびアルミニウム酸化膜(AlOx)のいずれか一つの無機物質を含むことことができる。
【0078】
選択的に、封止層117は、少なくとも一つの有機膜をさらに含むことができる。有機膜は、異物(particles)が封止層117を突き抜けて発光素子層に浸透することを防止するために十分な厚さで形成することができる。一例による有機膜は、アクリル樹脂(acryl resin)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、フェノール樹脂(phenolic resin)、ポリアミド樹脂(polyamide resin)、ポリイミド樹脂(polyimide resin)、ベンゾシクロブテン(benzocyclobutene)樹脂、およびフッ素樹脂のいずれか一つの有機物質からなり得る。
【0079】
本出願の一例による基板110は、表示領域(DA)を通るように絶縁層114上に少なくとも一つのデータライン(DL)を挟んで互いに並んで配置された複数のカソード電源ラインをさらに含むことができる。
【0080】
前記複数のカソード電源ラインのそれぞれは、パッド部(PP)を介して電源管理回路600からカソード電源、例えばグランド電圧を入力することができる。前記複数のカソード電源ラインのそれぞれは、第2金属ライン(ML2)の中から選択することができる。つまり、第2金属ライン(ML2)の一部は、複数のカソード電源ラインに使用することができる。複数のカソード電源ラインのそれぞれは、表示領域(DA)上でカソード電極(CE)と電気的に接続する。このため、バンク層(BL)は、
図5に示すように、複数のカソード電源ライン(CPL)のそれぞれとカソード電極(CE)が電気的に接続する複数のカソード補助コンタクト部(CSCP)を含むことがことができる。
【0081】
前記複数のカソード補助コンタクト部(CSCP)のそれぞれは、複数のカソード接続電極(CCE)と複数の電極露出部(EEP)を含むことができる。
【0082】
前記複数のカソード接続電極(CCE)は、バンク層(BL)と重畳する第2平坦化層115上に島の形態で配置されるもので、アノード電極(AE)と一緒に同じ物質で形成される。カソード接続電極(CCE)の中央部を除いた残りの端部はバンク層(BL)によって囲まれることによって、隣接するアノード電極(AE)と離隔して電気的に分離される。カソード接続電極(CCE)は、第2平坦化層115に設けられたカソードコンタクトホール(CH4)を介して該当するカソード電源ライン(CPL)と電気的に接続する。ここで、一つのカソード電源ライン(CPL)は、少なくとも一つのカソードコンタクトホール(CH4)を介して少なくとも一つのカソード接続電極(CCE)と電気的に接続することができる。
【0083】
前記複数の電極の露出部(EEP)のそれぞれは、複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれと重畳するバンク層(BL)に配置され、複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれを露出させる。これにより、カソード電極(CE)は、複数の電極露出部(EEP)のそれぞれを介して露出した複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれと電気的に接続し、複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれを介して複数のカソード電源ライン(CPL)のそれぞれと電気的に接続することにより、相対的に低い抵抗を有することができる。特に、複数のカソード電源ライン(CPL)のそれぞれから複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれを介してカソード電源の供給を受けることで、カソード電極(CE)に供給されるカソード電圧の電圧降下(IR drop)による輝度むらを防止することができる。
【0084】
さらに、本出願の一例による基板110は、隔壁部140をさらに含むことができる。
【0085】
前記隔壁部140は、複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれに配置された隔壁支持部141、および隔壁支持部141上に配置された隔壁143を含むことができる。
【0086】
前記隔壁支持部141は、複数のカソード接続電極(CCE)のそれぞれの中央部に台形の形態の断面を有するテーパ構造で形成することができる。
【0087】
前記隔壁143は、隔壁支持部141上に、下面の幅が上面の幅よりも狭い逆テーパー構造を有するように形成され、該当する電極の露出部(EEP)を覆う。例えば、隔壁143は、隔壁支持部141に支持された第1の幅を有する下面、第1の幅よりも大きく電極の露出部(EEP)の幅と同じかまたは大きい第2の幅を有する上面、下面と上面の間に傾斜して配置されて電極露出部(EEP)を覆う傾斜面を含むことができる。このような隔壁143の上面は、平面的に電極露出部(EEP)の大きさと同じか、大きいサイズを有するように形成して電極露出部(EEP)を覆うことで、発光層(EL)の蒸着時に発光物質が電極露出部(EEP)に露出したカソード接続電極(CCE)に浸透することを防止し、これにより、カソード電極(CE)の蒸着時にカソード電極物質が電極露出部(EEP)に露出したカソード接続電極(CCE)と電気的接続するようにする。隔壁143の傾斜面と電極露出部(EEP)に露出したカソード接続電極(CCE)間には浸透空間(または空隙)が設けられ、カソード電極(CE)の端は、浸透空間を通って電極露出部(EEP)に露出したカソード接続電極(CCE)と電気的に接続する。
【0088】
再び
図1〜
図4を参照すると、前記対向基板190は、カラーフィルタアレイ基板と定義することができる。一例による対向基板190は、バリア層191、ブラックマトリックス193、およびカラーフィルター層195を含む。
【0089】
前記バリア層191は、基板110と向き合う対向基板190の一面全体に形成して、外部からの水分や湿気が浸透することを防止する。一例によるバリア層191は、無機物質からなる少なくとも一つの無機層を含むことができる。例えば、バリア層191は、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)、シリコン酸窒化膜(SiON)、チタン酸化膜(TiOx)、およびアルミニウム酸化膜(AlOx)のいずれか一つの無機層が交互に積層した多重膜で形成することができる。
【0090】
前記ブラックマトリックス193は、基板110に設けられたバンク層(BL)と重畳するようにバリア層191上に配置することによって、各画素領域(PA)の発光領域(EA)と重畳する複数の透過部を定義することができる。一例によるブラックマトリックス193は、クロム(CrまたはCrOx)などの不透明金属物質または樹脂物質で構成したり、光吸収物質からなり得る。
【0091】
前記カラーフィルター層195は、ブラックマトリックス193によって設けられた複数の透過部のそれぞれに配置される。一例によるカラーフィルター層195は、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタのいずれか一つのカラーフィルタを含むことができる。前記赤色カラーフィルタと緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタは、第1方向(X)に沿って繰り返して配置することができる。
【0092】
選択的に、カラーフィルター層195は、発光層(EL)から入射する光によって再発光して、あらかじめ設定された色相の光を放出するサイズを有する量子ドットを含むことができる。ここで、量子ドットは、CdS、CdSe、CdTe、CdZnSeS、ZnS、ZnSe、GaAs、GaP、GaAs−P、Ga−Sb、InAs、InP、InSb、AlAs、AlP、またはAlSbなど選択することができる。例えば、赤色カラーフィルタは、赤色光を放出するCdSeまたはInPの量子ドットを含むことができ、緑色カラーフィルタは、緑色光を放出するCdZnSeSの量子ドットを含むことができ、青色カラーフィルタは、青色光を放出するZnSeの量子ドットを含むことができる。このように、カラーフィルターが量子ドットを含む場合には、色再現率が高くなり得る。
【0093】
前記対向基板190は、透明接着層150を媒介にして基板110と対向して合着することができる。
【0094】
前記透明接着層150は、充填剤と表現することもできる。一例による透明接着層150は、基板110と対向基板190間に充填することができる物質で構成され、光を透過させることができる透明エポキシ材質からなり得るが、必ずしもこれに限定されない。このような透明接着層150は、インクジェット(inkjet)、スリットコーティング(slit coating)、またはスクリーン印刷(screen printing)などの工程により、基板110上に形成することができるが、これに限定されず、対向基板190に形成することもできる。
【0095】
さらに、本出願の一例によるディスプレイ装置は、透明接着層150の外郭部を囲むダムパターン170をさらに含むことができる。
【0096】
前記ダムパターン170は、対向基板190の端に閉ループ形態で設けられる。一例によるダムパターン170は、対向基板190に設けられたバリア層191の端に一定の高さを有するように設けられる。ダムパターン170は、透明接着層150の広がりやオーバーフローを防止する役割を果たし、基板110と対向基板190を合着させる役割もする。一例によるダムパターン170は、紫外線などの光によって硬化することができる高粘度レジン、例えばエポキシ(epoxy)材料からなり得る。さらに、ダムパターン170は、水分および/または酸素を吸着することができるゲッター(getter)材質を含むエポキシ(epoxy)材質からなり得るが、必ずしもこれに限定されない。このようなダムパターン170は、外部の水分および/または酸素が合着した基板110と対向基板190の間に浸透することを遮断し、水分および/または酸素から発光層(EL)を保護することにより、水分および/または酸素による発光層(EL)の寿命低下を防止して、発光層(EL)の信頼性を増加させる。
【0097】
一方、
図4に示したバリア層191とブラックマトリックス193、およびカラーフィルター層195は、
図6に示すように、対向基板190に配置しないで基板110の封止層117上に配置することもできる。
【0098】
図6を参照すると、前記ブラックマトリックス193は、基板110に設けられたバンク層(BL)と重畳するように封止層117の前面に直接に形成することにより、各画素領域(PA)の発光領域(EA)と重畳する複数の透過部を定義することができる。
【0099】
前記カラーフィルター層195は、ブラックマトリックス193によって設けられた複数の透過部のそれぞれによって露出した封止層117の前面に形成される。このようなカラーフィルター層195は、封止層117に形成することを除いては、前述したのと同様であるため、これに対する重複説明は省略することにする。
【0100】
一例によるバリア層191は、カラーフィルター層195とブラックマトリックス193を覆うように封止層117の前面に形成してブラックマトリックス193とカラーフィルター層195上に平坦面を提供する。ここで、バリア層191を、高温の工程によって形成する場合には、基板110上に配置されている発光層(EL)などが高温によって破損し得る。それゆえ、バリア層191は、高温に弱い発光層(EL)の損傷を防止するために摂氏100度以下の低温で形成可能なアクリル系、エポキシ系、またはシロキサン(Siloxan)系の有機絶縁物質で形成することが好ましい。
【0101】
前記対向基板190は、透明接着層150の代わりに光学粘着部材197を媒介にしてバリア層191の前面に付着することができる。ここで、光学粘着部材197としては、OCA(Optically Clear Adhesive)、OCR(Optically Clear Resin)、またはPSA(Pressure Sensitive Adhesive)を挙げることができる。
【0102】
一方、対向基板190を光学粘着部材197を媒介にしてバリア層191の前面に付着することにより、前述したダムパターン170は省略することもできる。
【0103】
そして、
図6に示したカラーフィルター層195は、
図7に示すように、各画素領域(PA)の発光領域(EA)と重畳するようアノード電極(AE)と基板110間に配置することができる。例えば、カラーフィルター層195は、各画素領域(PA)の発光領域(EA)と重畳する第2平坦化層115またはバッファ層111上に配置することができる。この場合、アノード電極(AE)は、透明導電性物質で形成され、カソード電極(CE)は、反射率の高い金属物質で形成することにより、発光層(EL)から放出される光は、カラーフィルター層195と基板110を順番に通過して外部に放出される。このようなカラーフィルター層195の配置構造を適用する場合、対向基板190は、光学粘着部材197を媒介にして封止層117に付着し、バリア層191とブラックマトリックス193は省略される。
【0104】
図8は、
図2に示したゲート駆動チップアレイ部を示す図であり、
図9は、
図8に示した一つのゲート駆動チップを示す図であり、
図10は、
図8に示したゲート駆動チップアレイ部の入出力信号を示す波形図である。
【0105】
図8〜
図10を参照すると、本出願の一例によるゲート駆動チップアレイ部200は、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)と一対一で接続した第1〜第nゲート駆動チップ210を含むことができる。ここで、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0106】
前記第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、カスケード方式で相互に接続することによって、第1ゲート駆動チップ210から第nゲート駆動チップ210まで順次に動作して、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)に順次ゲートパルス(GP)を供給する。
【0107】
前記第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、ゲートクロック(GCLK)によって、ゲートスタート信号(Vst)を該当するゲートライン(GL)にゲートパルス(GP)で出力し、出力信号(Vout)とゲートクロック(GCLK)を次の段に配置されたゲート駆動チップ210に供給することができる。ここで、ゲートスタート信号(Vst)は、タイミングコントローラから一つのゲートスタート信号ライン201を介して第1ゲート駆動チップ210に供給され、ゲートクロック(GCLK)は、タイミングコントローラから一つのゲートクロックライン202を介して第1ゲート駆動チップ210に供給することができる。
【0108】
一例による第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、シフトレジスタ211とおよびベルシフター215を含むことができる。例えば、第1〜第nのゲート駆動チップ210のそれぞれは、第1〜第8端子(T1〜T8)を含むことができる。
【0109】
前記第1ゲート駆動チップ210のシフトレジスタ211は、第2端子(T2)を介して供給されるゲートクロック(GCLK)によって、第1端子(T1)を介して供給されるゲートスタート信号(Vst)をシフトさせてシフト信号で出力する。例えば、シフトレジスタ211は、ゲートクロック(GCLK)のライジング時点ごとにゲートスタート信号(Vst)の電圧レベルに対応する電圧レベルを有するシフト信号を出力することができる。
【0110】
前記第1ゲート駆動チップ210のレベルシフター215は、ゲートオン電圧(Von)とゲートオフ電圧(Vss)を用いて、シフトレジスタ211から出力されるシフト信号をゲートオン電圧(Von)またはゲートオフ電圧(Vss)を有するゲートパルス(GP)にレベルシフトさせて出力する。前記ゲートパルス(GP)は、第5端子(T5)を介して第1ゲートライン(GL1)に供給されるのと同時に、第8端子(T8)を介してゲートスタート信号(Vst)として、第2ゲート駆動チップ210の第1端子(T1)に供給することができる。そして、前記第1ゲート駆動チップ210の第2端子(T2)を介して供給されるゲートクロック(GCLK)は、第7端子(T7)を介して、ゲートクロック(GCLK)として第2ゲート駆動チップ210の第2端子(T2)に供給することができる。ここで、ゲートオン電圧(Von)は、電源管理回路600から提供される画素駆動電圧であり、第4端子(T4)を介してレベルシフター215に供給することができ、ゲートオフ電圧(Voff)は、電源管理回路600から提供されるグラウンド電圧であり、第6端子(T6)を介してレベルシフター215に供給することができる。
【0111】
前記第2〜第nゲート駆動チップ210それぞれのシフトレジスタ211は、第1端子(T1)を介して、以前の段のゲート駆動チップ210の第8端子(T8)及び第7端子(T7)それぞれから供給されるゲートスタート信号(Vst)とゲートクロック(GCLK)をそれぞれ受信し、受信したゲートクロック(GCLK)によって、ゲートスタート信号(Vst)をシフト信号で出力する。
【0112】
前記第2〜第nゲート駆動チップ210それぞれのレベルシフター215は、ゲートオン電圧(Von)とゲートオフ電圧(Vss)を用いて、シフトレジスタ211から出力されるシフト信号をゲートオン電圧(Von)またはゲートオフ電圧(Vss)を有するゲートパルス(GP)にレベルシフトさせて出力する。ここで、前記第2〜第nゲート駆動チップ210それぞれのレベルシフター215から出力されるゲートパルス(GP)は、該当するゲートラインに供給されるとともに、次段のゲート駆動チップ210のゲートスタート信号に新たに供給し、前記第2〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれに供給されるゲートクロック(GCLK)も次段のゲート駆動チップ210のゲートクロック(GCLK)に新たに供給することができる。
【0113】
さらに、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、レベルシフター215の出力端子と第5端子(T5)間にバッファをさらに含むことができる。
【0114】
前記バッファは、インバータタイプのバッファであり、レベルシフター215の出力端子と第5端子(T5)間に直列接続した偶数個のインバータを含むことができる。このようなバッファは、ゲートオン電圧(Von)とゲートオフ電圧(Vss)を用いて、レベルシフター215から出力されるゲートパルス(GP)をバッファリングして第5端子(T5)に出力することにより、ゲートライン(GL)全体の負荷によるゲートライン(GL)の位置別ゲートパルス(GP)のポーリング時間の偏差を最小限に抑える。
【0115】
このような本例に係る第1〜第nのゲート駆動チップ210は、互いにカスケード方式で接続されてゲートスタート信号とゲートクロックを次段のゲート駆動チップ210にカスケード方式で伝達することにより、ゲート駆動チップアレイ部200で必要とされるラインの数を減らすことができる。
【0116】
本例に係る第1〜第nのゲート駆動チップ210のそれぞれは、ゲートパルス変調器213をさらに含むことができる。
【0117】
前記ゲートパルス変調器213は、第3端子(T3)を介して供給されるゲート変調信号(GMS)によってシフトレジスタ211から出力されるシフト信号のゲートオン電圧(Von)をゲートパルス変調電圧(Vgpm)に変調する。ここで、ゲート変調信号(GMS)は、タイミングコントローラから第3端子(T3)を介して、ゲートパルス変調器213に供給されるもので、シフト信号がゲートオン電圧(Von)からゲートパルス変調電圧(Vgpm)に減少する傾きまたは時間を変調することにより、画素駆動チップに内蔵されたスイッチングトランジスタのターンオフ時に発生するキックバック電圧による画質の劣化を防止するための信号である。これにより、ゲートパルス変調器213は、ゲート変調信号(GMS)によってシフトレジスタ211から出力されるシフト信号のゲートオン電圧(Von)をゲートパルス変調電圧(Vgpm)に変調することにより、前記キックバック電圧による画質の劣化を防止する。
【0118】
選択的に、本例に係る第1〜第nのゲート駆動チップ210のそれぞれは、第3端子(T3)を介して供給されるゲート変調信号(GMS)の供給を受けずに、第2端子(T2)を介して入力するゲートクロック(GCLK)を基に自律的にゲート変調信号(GMS)を生成するゲート変調信号生成部をさらに含むことができる。
【0119】
一例として、ゲート変調信号生成部は、RC遅延回路を含むことができる。前記RC遅延回路は、あらかじめ設定された抵抗値とコンデンサの値によるRC時定数によってゲートクロック(GCLK)を遅延させて、ゲート変調信号(GMS)を生成することができる。
【0120】
他の例として、ゲート変調信号生成部は、第1端子(T1)を介して入力するゲートスタート信号(Vst)に応答して、内部クロック信号を生成する内部発振器、および内部クロック信号をカウントして、ゲート変調信号(GMS)を生成する内部カウンタを含むことができる。
【0121】
そして、前記第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれのレベルシフター215は、ゲートオン電圧(Von)とゲートオフ電圧(Vss)を用いて、ゲートパルス変調器213から出力される変調されたシフト信号をゲートオン電圧(Von)またはゲートオフ電圧(Vss)を有するゲートパルス(GP)にレベルシフトさせて出力する。
【0122】
さらに、本例に係る第1〜第nのゲート駆動チップ210のそれぞれは、クロック遅延器217をさらに含むことができる。
【0123】
前記クロック遅延器217は、レベルシフター215から入力するゲートパルス(GP)を予め設定された時間だけ遅延させて第8端子(T8)を介して出力することができる。たとえば、クロック遅延器217は、RC時定数を用いたRC回路で具現することができる。これにより、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれから、次段のゲート駆動チップのゲートスタート信号(Vst)に伝送(または伝達)されるゲートパルス(GP)の出力時点は、ゲートクロック(GCLK)の出力時点から遅延することができる。すなわち、本例では、ゲート駆動チップ210から出力されるゲートスタート信号(Vst)の出力時点をゲートクロック(GCLK)の出力時点より遅く設定することにより、次段のゲート駆動チップ210に供給されるゲートスタート信号(Vst)の安定的なライジング時間を確保することができる。
【0124】
本例に係る第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、クロックバッファ219をさらに含むことができる。
【0125】
前記クロックバッファ219は、第2端子(T2)を介して入力するゲートクロック(GCLK)をバッファリングして第7端子(T7)を介して出力することができる。例えば、クロックバッファ219は、インバータタイプのバッファであり、第2端子(T2)と第7端子(T7)間に直列接続した偶数個のインバータを含むことができる。このようなクロックバッファ219は、ゲートオン電圧(Von)とゲートオフ電圧(Vss)を用いて、第2端子(T2)を介して入力するゲートクロック(GCLK)をバッファリングして第7端子(T7)に出力することにより、カスケード方式で伝達される過程で発生するゲートクロック(GCLK)の電圧降下を最小限に抑える。
【0126】
選択的に、クロックバッファ219は、クロック遅延回路を含むことができる。前記クロック遅延回路は、第2端子(T2)を介して入力するゲートクロック(GCLK)またはバッファリングされたゲートクロック(GCLK)を予め設定された時間だけ遅延させて第7端子(T7)を介して出力することができる。これにより、ゲート駆動チップ210から出力するゲートクロック(GCLK)の出力時点がゲートスタート信号(Vst)の出力時点より遅く設定されることにより、次段のゲート駆動チップ210に供給されるゲートスタート信号(Vst)の安定したライジング時間を確保することができる。このように、クロックバッファ219がクロック遅延回路を含む場合には、前述したクロック遅延器217は、省略することができる。
【0127】
図11は、本出願の一例によるディスプレイ装置のゲートバッファチップを説明するための図であり、
図12は、
図11に示したゲートバッファチップの構造を概略的に示す図であり、
図13は、
図11に示す線II−II’の断面図である。
【0128】
図11〜
図13を参照すると、本出願の一例によるディスプレイ装置は、基板の表示領域(DA)に実装され、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)のそれぞれに接続したゲートバッファチップ250をさらに含むことができる。ここで、ゲートバッファチップ250は、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットであり、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0129】
まず、高解像度および大面積のディスプレイパネルを含むディスプレイ装置では、120Hz以上のフレーム周波数によって高速駆動をするようになり、これにより、一つのゲートライン(GL)に印加されるゲートパルスは、ゲートライン(GL)全体のロードによるゲートライン(GL)の位置別のポーリング時間が異なることにより、ディスプレイパネルの左右間の輝度偏差による画質不良が発生し得る。これにより、本例では、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)のそれぞれに少なくとも一つのゲートバッファチップ250を配置することにより、ゲートライン(GL)のロード偏差に起因する画質不良を防止する。
【0130】
本例に係る第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)のそれぞれは、表示領域(DA)上に配置された分離部によって分割された第1及び第2分割ライン(GLa、GLb)を含むことができる。第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)のそれぞれの第1及び第2分割ライン(GLa、GLb)は、第1平坦化層113上に配置された第1金属ライン(ML1)であり得る。
【0131】
前記ゲートバッファチップ250は、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)のそれぞれの第1及び第2分割ライン(GLa、GLb)間の分離部と重畳するようバッファ層111上に実装したりバッファ層111に設けられた凹部112に実装して、第1及び第2分割ライン(GLa、GLb)間を電気的に接続し、第1分割ライン(GLa)を介して供給されるゲートパルスをバッファして、第2分割ライン(GLb)に供給する。
【0132】
一例によるゲートバッファチップ250は、第1〜第4バンプ(B1〜B4)、直列接続した第1及び第2インバータ251、253を含むことができる。
【0133】
前記第1バンプ(B1)は、第1分割ライン(GLa)と電気的に接続し、第1分割ライン(GLa)からゲートパルスを入力する。例えば、第1バンプ(B1)は、第1分割ライン(GLa)と重畳する第1平坦化層113に設けられた第1バンプコンタクトホール(CHb1)を介して第1分割ライン(GLa)と電気的に接続することができる。
【0134】
前記第2バンプ(B2)は、第2分割ライン(GLb)と電気的に接続し、偶数個のインバータ251,253から出力されるゲートパルスを第2分割ライン(GLb)に出力する。例えば、第2バンプ(B2)は、第2分割ライン(GLb)と重畳する第1平坦化層113に設けられた第2バンプコンタクトホール(CHb2)を介して第2分割ライン(GLb)と電気的に接続することができる。
【0135】
前記第3バンプ(B3)は、隣接した画素駆動電源ライン(PL)と電気的に接続し、画素駆動電源ライン(PL)から画素駆動電源(Vdd)を入力する。例えば、第3バンプ(B3)は、隣接した画素駆動電源ラインから突出した突出電極(PLa)と重畳する絶縁層114と、第1平坦化層113に設けられた第3バンプコンタクトホールを介して画素駆動電源ライン(PL)と電気的に接続することができる。
【0136】
前記第4バンプ(B4)は、隣接したカソード電源ライン(CPL)と電気的に接続し、カソード電源ラインからカソード電源(Vss)を入力する。例えば、第4バンプ(B4)は、隣接したカソード電源ライン(CPL)から突出した突出電極(CPLa)と重畳する絶縁層114と、第1平坦化層113に設けられた第4バンプコンタクトホールを介してカソード電源ライン(CPL)と電気的に接続することができる。選択的に、第4バンプ(B4)は、ゲートバッファチップ250の実装位置によって、カソード電源ライン(CPL)と電気的に接続せずに、
図5に示すように、複数のカソード接続電極(CCE)を介してカソード電極(CE)と直接に接続することもできる。
【0137】
前記第1インバータ251は、第3バンプ(B3)を介して供給される画素駆動電源(Vdd)と第4バンプ(B4)を介して供給されるカソード電源(Vss)を用いて、第1バンプ(B1)を介して第1分割ライン(GLa)から供給されるゲートパルスを論理反転させて第2インバータ253に出力する。
【0138】
前記第2インバータ253は、第3バンプ(B3)を介して供給される画素駆動電源(Vdd)と第4バンプ(B4)を介して供給されるカソード電源(Vss)を用いて、第1インバータ251から供給される論理反転したゲートパルスを再び論理反転させて第2バンプ(B2)に出力する。
【0139】
さらに、
図11では、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)それぞれに一つのゲートバッファチップ250を接続することを例示したが、これに限定されず、第1〜第nゲートライン(GL1〜GLn)それぞれにはゲートライン(GL)の全体ロードを基に、2つ以上のゲートバッファチップ250を接続することができる。
【0140】
このようなゲートバッファチップ250は、インバータタイプのバッファであり、画素駆動電源(Vdd)とカソード電源(Vss)を用いて、該当するゲートライン(GL1〜GLn)に供給されるゲートパルスをバッファすることにより、ゲートライン(GL)の全体ロードによるゲートライン(GL)の位置別ゲートパルス(GP)のポーリング時間の偏差を最小限に抑え、これにより、ゲートライン(GL)のロード偏差による画質不良を防止する。この場合、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれに内蔵されたバッファは、省略したりまたは、比較的小さなサイズを有するように構成することができる。したがって、本例は、表示領域(DA)上に配置されたゲートライン(GL)のそれぞれに、ゲートバッファチップ250を配置することで、第1〜第nゲート駆動チップ210それぞれの大きさを減少させることができ、第1〜第nゲート駆動チップ210だけで超大面積のディスプレイパネルに配置されたゲートラインを駆動することができる。
【0141】
一方、表示領域(DA)上に配置されたゲートバッファチップ250は、カソード電源ラインまたはカソード電極(CE)に接続してカソード電源(Vss)入力を受けることによって、カソード電極(CE)に供給されるカソード電源(Vss)をゲートバッファチップ250の動作によって変化させることができる。しかし、本出願は、複数のカソード電源ライン(
図5のCPL)を介してカソード電源(Vss)をカソード電極(CE)により安定的かつより均一に供給することにより、カソード電極(CE)に印加されるカソード電源(Vss)がゲートバッファチップ250の動作によって変化することを防止することができる。
【0142】
図14は、
図2に示したデータ駆動チップアレイ部を示す図である。
【0143】
図14を
図1及び
図2と結びつけると、本例に係るデータ駆動チップアレイ部300は、データ受信チップアレイ310、第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)、及び第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)を含むことができる。ここで、第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)、及び第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとし、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0144】
前記データ受信チップアレイ310は、入力するデジタルデータ信号(Idata)を受信し、少なくとも1水平ライン単位の画素データを出力する。データ受信チップアレイ310は、高速シリアルインタフェース方式、例えば、EPI(Embedded point to point interface)インターフェース方式、LVDS(Low−Voltage Differential Signaling)インタフェース方式、またはMini LVDSインターフェース方式によってタイミングコントローラ500から伝送される差動信号によるデジタルデータ信号を受信し、受信したデジタルデータ信号を基に、少なくとも1水平ライン単位の画素データを生成し、差動信号から基準クロックとデータスタート信号を生成する。
【0145】
一例によるデータ受信チップアレイ310は、第1〜第i(iは2以上の自然数)のデータ受信チップ3101〜310iを含むことができる。ここで、第1〜第iデータ受信チップ3101〜310iのそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとし、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0146】
前記第1〜第iデータ受信チップ3101〜310iのそれぞれは、一つのインターフェースケーブル530を介してタイミングコントローラ500から伝送される差動信号からj(jは2以上の自然数)個の画素に供給するデジタルデータ信号を個別に受信し、受信したデジタルデータ信号を基にj個の画素に供給する画素データを個別に生成し、差動信号から基準クロックとデータスタート信号を個別に生成する。例えば、インターフェースケーブル530が第1〜第iペア(Pair)を有している場合は、第1データ受信チップ3101は、インターフェースケーブル530の第1ペアを介してタイミングコントローラ500から伝送される差動信号から第1〜j画素それぞれに該当するデジタルデータ信号を個別に受信し、受信したデジタルデータ信号を基に、第1〜j画素それぞれに該当する画素データを個別に生成し、差動信号から基準クロックとデータスタート信号を個別に生成する。そして、第iデータ受信チップ310iは、インターフェースケーブル530の第iペアを介してタイミングコントローラ500から伝送された差動信号から第m−j+1〜m画素のそれぞれに該当するデジタルデータ信号を個別に受信し、受信したデジタルデータ信号を基に、第m−j+1〜m画素のそれぞれに該当する画素データを個別に生成し、差動信号から基準クロックとデータスタート信号を個別に生成する。
【0147】
前記第1〜第iデータ受信チップ3101〜310iのそれぞれは、画素データのビット数に対応するデータバスを有する第1〜第i共通シリアルデータバス(CSB1〜CSBi)を用いたシリアルデータ通信方式を介して画素データを個別に出力し、第1〜第i基準クロック共通ライン(RCL1〜RCLi)に基準クロックを個別に出力し、第1〜第iデータスタート信号ライン(DSL1〜DSLi)にデータスタート信号を個別に出力する。例えば、第1データ受信チップ3101は、第1共通シリアルデータバス(CSB1)と第1基準クロック共通ライン(RCL1)及び第1データスタート信号ライン(DSL1)を介して該当する画素データと基準クロックとデータスタート信号をそれぞれ伝送することができる。そして、第iデータ受信チップ310iは、第i共通シリアルデータバス(CSBi)と第i基準クロック共通ライン(RCLi)及び第iデータスタート信号ライン(DSLi)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ伝送することができる。
【0148】
一方、一例によるデータ受信チップアレイ310は、一つのデータ受信チップだけで構成することもできる。すなわち、第1〜第iデータ受信チップ3101〜310iは、一つのデータ統合受信チップで構成することもできる。
【0149】
前記第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、データ受信チップアレイ310から伝送される画素データを、データスタート信号を基に、基準クロックによってサンプリングしてラッチ(またはホールディング)して、入力した基準クロックと、ラッチした画素データをシリアルデータ通信方式で出力する。
【0150】
前記第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、j個のデータラッチのチップ単位で構成された第1〜第iデータラッチグループ3201〜320iにグループ化することができる。
【0151】
第1〜第iデータラッチグループ3201〜320iのそれぞれにグループ化されたデータラッチチップは、グループ別に、第1〜第i共通シリアルデータバス(CSB1〜CSBi)に共通して接続する。例えば、第1データラッチグループ3101にグループ化された第1〜第jデータラッチチップ(L1〜Lj)のそれぞれは、第1共通シリアルデータバス(CSB1)と第1基準クロック共通ライン(RCL1)および第1データスタート信号ライン(DSL1)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ受信することができる。そして、第iデータラッチグループ310iにグループ化された第m−j+1〜第mデータラッチチップ(Lm−j+1〜Lm)のそれぞれは、第i共通シリアルデータバス(CSBi)と第i基準クロック共通ライン(RCLi)及び第iデータスタート信号ライン(DSLi)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ受信することができる。
【0152】
前記第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、該当するビット数を有する画素データをサンプリングしてラッチすると、入力した基準クロックとラッチした画素データをシリアルデータ通信方式で出力する。
【0153】
一例による第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、データスタート信号に応答して、該当する共通シリアルデータバス(CSB)を介して入力する画素データを基準クロックによってサンプリングしてラッチするラッチ回路、基準クロックをカウントして、データ出力信号を生成するカウンタ回路、および入力した基準クロックをバイパスさせるクロックバイパス回路を含むことができる。
【0154】
前記第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)と一対一で接続し、電源供給回路から少なくとも一つの基準ガンマ電圧(Vgam)が供給される少なくとも一つの基準ガンマ電圧供給ライン(RGVL)と共通して接続する。ここで、一つのデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)は、一つのシリアルデータ伝送ライン(SDTL)と一つの基準クロック伝送ライン(RCTL)を介して一つのデータラッチチップ(L1〜Lm)と接続する。このような第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、該当するデータラッチチップ(L1〜Lm)からシリアルデータ伝送ライン(SDTL)を介してシリアル通信方式で入力した画素データを該当するデータラッチチップ(L1〜Lm)から供給される基準クロック伝送ライン(RCTL)によって、受信し並列化して基準ガンマ電圧供給ライン(RGVL)を介して供給される基準ガンマ電圧を基に、並列の画素データをデータ電圧に変換して出力する。
【0155】
一例による第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、シリアルデータ通信方式によって入力した画素データを基準クロックによって受信し並列化するデータ並列化回路、基準ガンマ電圧を電圧分配して画素データのビット数による複数の階調値のそれぞれに対応する複数の階調電圧を生成する階調電圧生成回路、基準クロックをカウントして並列データ出力信号を生成するクロックカウンタ、および複数の階調電圧のうちの並列の画素データの階調値に該当する一つの階調電圧をデータ電圧として選択して出力する階調電圧選択部を含むことができる。
【0156】
選択的に、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)それぞれの階調電圧生成回路は、基準ガンマ電圧の代わりに電源管理回路600から供給される画素駆動電圧(Vdd)を電圧分配して各々異なる複数の階調電圧を生成することができる。この場合、基板の非表示領域に配置される少なくとも一つの基準ガンマ電圧供給ライン(RGVL)は省略され、これによって基板の非表示領域の空間活用度が高くなり得る。
【0157】
本例に係る第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、シリアルデータ通信方式を介してデータラッチチップ(L1〜Lm)から画素データの伝送を受けることにより、画素データを受信するための最小限の端子を有することによってサイズを減少させることができ、デジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)とデータラッチチップ(L1〜Lm)間のデータ伝送ラインの数が減少することによって、基板の非表示領域の空間活用度を高めることができる。
【0158】
前記第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)と一対一で接続し、第1〜第mデータライン(DL1〜DLm)と一対一で接続する。また、第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、電源管理回路600から画素駆動電圧(Vdd)が供給される画素駆動電圧供給ライン(PSL)と共通して接続し、電源供給回路からグラウンド電圧が供給されるグラウンド電圧ラインと共通して接続する。このような第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、画素駆動電圧(Vdd)を基に、該当するデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)から供給されるデータ電圧をバッファリングして、該当するデータライン(DL1〜DLm)に供給する。例えば、第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、データラインのラインロードによって設定されたゲイン値を基に、データ電圧をバッファリングして出力することができる。
【0159】
さらに、一つのデータラインにデータ電圧を供給するための一つのデータ受信チップと一つのデータラッチチップおよび一つのデジタルアナログ変換チップは、一つのデータ駆動チップグループ1301〜130mを構成し、一つのデータ駆動チップのグループは、一つのデータ駆動チップで構成することができ、この場合、第1〜第mデータライン(DL1〜DLm)のそれぞれに接続するチップの数を1/3に減少することができる。
【0160】
このような本例に係るデータ駆動チップアレイ部300は、基板の非表示領域に実装され、外部から入力するデジタルデータをデータ電圧に変換してデータライン(DL1〜DLm)に供給することにより、一般的なディスプレイ装置に備えられる軟性回路フィルムとソースプリント回路基板の省略を可能にし、これにより、ディスプレイ装置の構成を簡素化させることができる。そして、本例では、データラッチチップ(L1〜Lm)とデジタルアナログコンバータ(D1〜Dm)間のシリアルデータ通信を適用することにより、データラッチチップ(L1〜Lm)とデジタルアナログコンバータ(D1〜Dm)それぞれの端子数を減少させ、これにより、データラッチチップ(L1〜Lm)とデジタルアナログコンバータ(D1〜Dm)それぞれのマイクロチップ化をさらに可能にすることができ、基板の非表示領域内のデータ駆動チップアレイ部300が占める面積を減少させ、データ駆動チップアレイ部300の基板実装に伴うディスプレイ装置のベゼル幅の増加を最小限に抑えることができる。
【0161】
図15は、
図1に示した線I−I’のまた他の断面図であり、
図16は、
図15に示したタッチ電極とゲート駆動チップアレイ部およびタッチセンシングチップアレイ部を示す図であり、
図17は、
図16に示したA部分の拡大図であり、
図18は、
図16と
図17に示したタッチセンシングチップを示す図であり、これは、
図1〜
図14に示したディスプレイ装置のディスプレイパネルにタッチ電極とタッチセンシングチップアレイ部を追加で構成したものである。それで、以下の説明では、タッチ電極とタッチセンシングチップアレイ部および、これらと関連した構成についてのみ説明することにして、残りの構成に対する重複説明は省略することにする。
【0162】
図15〜
図18を
図1及び
図2と結びつけると、本例に係るディスプレイ装置は、複数のタッチ電極(TE)と、複数のタッチルーティングライン(RL)を有するタッチセンサー層(TSL)、およびタッチセンシングチップアレイ部800をさらに含むことができる。
【0163】
前記複数のタッチ電極(TE)のそれぞれは、基板110上に配置された封止層117上に配置され、タッチオブジェクトによるタッチをセンシングするためのタッチセンサーの役割をするため、透明導電性物質からなり得る。ここで、タッチオブジェクトは、使用者の指またはアクティブスタイラスペンなどのタッチペンと定義することができる。
【0164】
一例による複数のタッチ電極(TE)のそれぞれは、長方形形態、八角形形態、円形態またはひし形形態を有することができる。
【0165】
前記複数のタッチルーティングライン(RL)のそれぞれは、複数のタッチ電極(TE)のそれぞれに個別に接続する。一例による複数のタッチルーティングライン(RL)のそれぞれは、バンク層(BL)と重畳するよう封止層117の前面に配置することができる。例えば、複数のタッチルーティングライン(RL)は、第1方向(X)に沿って表示領域を通るように配置することができる。
【0166】
前記複数のタッチルーティングライン(RL)のそれぞれは、タッチ絶縁層118によって覆うことができる。これにより、複数のタッチルーティングライン(RL)のそれぞれは、複数のタッチ電極(TE)のそれぞれの下に配置されて、タッチ絶縁層118によって覆われる。
【0167】
前記タッチ絶縁層118は、複数のタッチルーティングライン(RL)を覆うように封止層117の前面に直接に形成される。タッチ絶縁層118は、有機物質または無機物質からなり得る。タッチ絶縁層118が、有機物質からなる場合には、タッチ絶縁層118は、封止層117上に有機物質をコーティングするコーティング工程とコーティングした有機物質を摂氏100度以下の温度で硬化(curing)させる硬化工程によって設けることができる。タッチ絶縁層118が無機物質からなる場合には、タッチ絶縁層118は、2回以上交互に行なう低温化学蒸着工程と洗浄工程によって封止層117上に蒸着する無機物質によって設けることができる。
【0168】
前記複数のタッチ電極(TE)のそれぞれは、自己静電容量方式のタッチセンサとして使用するため、タッチオブジェクトとディスプレイパネル100間の最小接触面積よりも大きいサイズを有する必要がある。これにより、複数のタッチ電極(TE)のそれぞれは、複数の画素(P)と対応する大きさを有するようにタッチ絶縁層118上に形成され、該当するタッチルーティングライン(RL)と重畳するタッチ絶縁層118に設けられたタッチコンタクトホール(TCH)を介して対応するタッチルーティングライン(RL)と電気的に接続することができる。
【0169】
一例による複数のタッチ電極(TE)は、第1方向(X)と第2方向(Y)のそれぞれに沿って一定の間隔で配置することができる。例えば、一つのタッチ電極(TE)は、第1方向(X)に沿って配置された30個の画素(P)と第2方向(Y)に沿って配置された30個の画素(P)と重畳することができるが、必ずしもこれに限定されず、ディスプレイデバイスの解像度および/またはタッチ解像度などにより変更することができる。
【0170】
前記複数のタッチ電極(TE)のそれぞれは、保護層119によって覆うことができる。保護層119を複数のタッチ電極(TE)とタッチ絶縁層118上に形成して、複数のタッチ電極(TE)のそれぞれを覆う。選択的に、保護層119は省略可能であり、この場合、複数のタッチ電極(TE)のそれぞれは、透明接着層150によって覆うことができる。
【0171】
本形態に係る表示装置では、ブラックマトリクスとカラーフィルター層は、
図6に示すように、封止層117の前面に配置することができる。この場合、ブラックマトリクスとカラーフィルター層は、複数のタッチルーティングライン(RL)とタッチ絶縁層118および、複数のタッチ電極(TE)を含むタッチセンサー層(TSL)と封止層117間に配置するかまたは、タッチセンサー層(TSL)と対向基板190間に配置することができる。
【0172】
選択的に、他の例に係るタッチセンサ層(TSL)は、
図19に示すように、基板110とバッファ層111間に配置することもできる。この場合には、複数のタッチ電極(TE)は、基板110上に配置され、タッチ絶縁層118によって覆われて、複数のタッチルーティングライン(RL)は、タッチ絶縁層118上に配置されてタッチコンタクトホール(TCH)を介して該当するタッチ電極(TE)と電気的に接続することができる。このようなタッチセンサー層(TSL)はバッファ層111によって覆うことができる。このようにタッチセンサー層(TSL)が、基板110とバッファ層111間に配置される場合、各画素の発光層(EL)から放出される光は、透明導電性物質で形成されたアノード電極(AE)とカラーフィルター層195とタッチセンサー層(TSL)および基板110を順に通過して外部に放出され得るが、必ずしもこれに限定されず、各画素の発光層(EL)から放出される光は、
図15に示した構造によって、透明なカソード電極(CE)と封止層117およびカラーフィルター層195および対向基板190を順に通過して外部に放出され得る。
【0173】
再び
図15〜
図18を
図1及び
図2と結びつけると、前記タッチセンシングチップアレイ部800は、基板110の非表示領域に実装され、複数のタッチルーティングライン(RL)のそれぞれを介して複数のタッチ電極(TE)のそれぞれに接続する。このようなタッチセンシングチップアレイ部800は、複数のタッチ電極(TE)それぞれの静電容量の変化値をセンシングして、タッチオブジェクトに対するタッチ情報を生成してタイミングコントローラ500またはディスプレイ駆動システム700に提供する。これにより、タイミングコントローラ500またはディスプレイ駆動システム700は、タッチ情報に該当するアプリケーションを実行する。
【0174】
一例によるタッチセンシングチップアレイ部800は、複数のタッチセンシングチップ810およびタッチ処理チップ830を含むことができる。
【0175】
前記複数のタッチセンシングチップ810のそれぞれは、第1〜第nゲート駆動チップ210のうちの少なくとも一つのゲート駆動チップ210の間毎に配置され、該当するタッチルーティングライン(RL)を介して該当するタッチ電極(TE)と接続して、該当するタッチ電極(TE)の静電容量の変化値に基づいたタッチ有無データを出力する。
【0176】
前記第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、ゲートスタート信号ライン201を介して供給されるゲートスタート信号(Vst)と一つのゲートクロックライン202を介して供給されるゲートクロック(GCLK)によって、ゲートスタート信号(Vst)を該当するゲートライン(GL)にゲートパルスで出力し、ゲートクロック(GCLK)およびゲートパルスをゲートスタート信号(Vst)として、次段に配置されたゲート駆動チップまたはタッチセンシングチップに供給する。
【0177】
前記複数のタッチセンシングチップ810のそれぞれは、前段に配置されたゲート駆動チップ210からゲートスタート信号(Vst)とゲートクロック(GCLK)の入力を受けて、ゲートクロック(GCLK)によって該当するタッチ電極(TE)の静電容量の変化値に基づいたタッチ有無データ(TDD)を生成して、タッチ処理チップ830に提供し、入力したゲートクロック(GCLK)とゲートスタート信号(Vst)を次段に配置されたゲート駆動チップ210に供給する。複数のタッチセンシングチップ810のそれぞれの前段および次段のそれぞれには、ゲート駆動チップ210を配置する。そして、複数のタッチセンシングチップ810は、タッチ有無データ(TDD)のシリアルデータ伝送のための複数のタッチデータ伝送ライン820によってカスケード方式で接続する。
【0178】
一例による複数のタッチセンシングチップ810のそれぞれは、センシングタイミング制御回路811、スイッチング部812、センシング積分回路813、アナログデジタル変換回路814、比較回路815、選択回路816、および先入れ先出しメモリ817を含むことができる。
【0179】
前記センシングタイミング制御回路811は、ゲートクロック(GCLK)を基にセンシングスイッチ制御信号(SCS)、センシングサンプリング信号(SSS)、データ選択信号(DSS)、およびタッチデータレポート信号(TDRS)をそれぞれ生成することができる。例えば、センシングタイミング制御回路811は、予め設定されたセンシングタイミングによるカウント数によってゲートクロック(GCLK)をカウントしてセンシングスイッチ制御信号(SCS)、センシングサンプリング信号(SSS)、データ選択信号(DSS)、およびタッチデータレポート信号(TDRS)をそれぞれ生成することができる。
【0180】
前記スイッチング部812は、センシングスイッチ制御信号(SCS)に応答して、該当するタッチルーティングライン(RL)を介して、タッチ電極(TE)にプレチャージ電圧(Vpre)を供給して、タッチセンサーの静電容量をプレチャージし、プレチャージした該当するタッチルーティングライン(RL)をセンシング積分回路813に接続する。ここで、スイッチング部812は、画素駆動電圧の入力を受けてプレチャージ電圧(Vpre)として使用することができるが、必ずしもこれに限定されず、画素駆動電圧の代わりに、別の電源ラインを介して電源管理回路600からプレチャージ電圧(Vpre)を直接に供給を受けることもできる。
【0181】
前記センシング積分回路813は、スイッチング部812のスイッチングによって該当するタッチルーティングライン(RL)に選択的に接続して、タッチ電極(TE)の静電容量の変化値を少なくとも1回センシングコンデンサに蓄積する。
【0182】
前記アナログデジタル変換回路814は、センシングサンプリング信号(SSS)に応答してセンシングコンデンサに蓄積された静電容量値をデジタルセンシングデータ(Sdata)に変換して出力する。
【0183】
前記比較回路815は、アナログデジタル変換回路814から供給されるデジタルセンシングデータ(Sdata)を基準データと比較して、タッチ有無データ(TDD)を生成する。例えば、比較回路815は、デジタルセンシングデータ(Sdata)が基準データよりも小さい場合には、「0」のデジタル値を有するタッチ有無データ(TDD)を生成することができ、デジタルセンシングデータ(Sdata)が基準データと同じか大きい場合には、「1」のデジタル値を有するタッチ有無データ(TDD)を生成することができる。ここで、タッチ有無データ(TDD)は、1ビットのデジタルデータであり得る。
【0184】
前記選択回路816は、比較回路815から供給されるタッチ有無データ(TDD)と次段のタッチセンシングチップ810からのタッチデータ伝送ライン820を介して伝送されるタッチ有無データ(TDD)をデータ選択信号(DSS)によって選択して出力する。例えば、選択回路816は、データ選択信号(DSS)の入力を受ける制御端子、比較回路815の出力端子に接続した第1入力端子、およびタッチデータ伝送ライン820に接続した第2入力端子を含むことができる。このような選択回路816は、第1論理状態のデータ選択信号(DSS)によって、第1入力端子を介して入力する自体のタッチ有無データ(TDD)を出力し、第2論理状態のデータ選択信号(DSS)によって、第2入力端子を介して次段のタッチセンシングチップ810から伝送されたタッチ有無データ(TDD)を出力することができる。
【0185】
前記先入れ先出しメモリ817は、選択回路816から供給されるタッチ有無データ(TDD)を先入れ先出し方式で保存して、タッチデータレポート信号(TDRS)によって保存されたタッチ有無データ(TDD)を先入れ先出し方式で出力する。
【0186】
さらに、複数のタッチセンシングチップ810のそれぞれは、入力したゲートスタート信号(Vst)とゲートクロック(GCLK)のそれぞれを次段のゲート駆動チップ210に伝送する信号伝送回路818をさらに含むことができる。信号伝送回路818は、ゲートスタート信号(Vst)とゲートクロック(GCLK)それぞれをバッファリングして出力するバッファ回路を含むことができる。
【0187】
前記タッチ処理チップ830は、複数のタッチセンシングチップ810から提供されるタッチ有無データ(TDD)を収集して、タッチマップデータ(TMD)を生成し、タッチレポートライン(TRL)を介してタッチマップデータ(TMD)をディスプレイ駆動システムに提供する。これにより、ディスプレイ駆動システム700は、タッチ処理チップ830から提供されるタッチマップデータ(TMD)を受信して、タッチ情報に該当するアプリケーションを実行する。
【0188】
一例によるタッチ処理チップ830は、タッチデータ伝送ライン820を介して、最初のタッチセンシングチップ810に接続し、ゲートクロック(GCLK)に該当するタッチデータレポート信号によって、複数のタッチセンシングチップ810間に先入れ先出し方式のデータ伝送によって、少なくとも一つのタッチセンシングチップ810を経由して伝送される複数のタッチセンシングチップ810のそれぞれのタッチ有無データを順次に収集し、先入れ先出し方式によって最後のタッチセンシングチップ810で生成されたタッチ有無データまで収集すると、収集したすべてのタッチ電極に対するタッチ有無データを基に、タッチマップデータ(TMD)を生成することができる。
【0189】
このような本例では、タッチセンシングチップアレイ部800とゲート駆動チップアレイ部200を連動して動作させることにより、タッチセンシングチップアレイ部800の駆動のためのラインおよび端子数を減少させることができ、これを通じてタッチセンシングチップ810のマイクロチップ化をより可能にすることができ、基板の非表示領域でタッチセンシングチップアレイ部800が占める面積を大幅に減少させ、タッチセンシングチップアレイ部800の基板実装によるディスプレイ装置のベゼル幅の増加を最小限に抑えることができる。
【0190】
一方、タッチセンシングチップアレイ部800は、ゲート駆動チップアレイ部200の動作のためのゲートクロック(GCLK)を共有することで、別個のタッチ駆動信号がなくても、タッチをセンシングすることができるという利点を有する。しかし、ゲートクロック(GCLK)は、1水平周期を有することができるので、これを用いて、タッチセンシングを行う場合、ゲートクロック(GCLK)を基にした相対的に低いタッチセンシング周波数によって、タッチ感度が低下し得る。
【0191】
このようなタッチ感度の低下を防止するために、前述したタイミングコントローラは、予め設定された基準周期を有する第1ゲートクロックより少なくとも2倍以上速い周期を有する第2ゲートクロックを生成してゲート駆動チップアレイ部200に提供し、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、第2ゲートクロックを第1ゲートクロックに復元して使用することができ、タッチセンシングチップアレイ部800は、第2ゲートクロックを使用して、タッチセンシング動作を実行することができる。例えば、第2ゲートクロックの周波数が第1ゲートクロックより10倍高い場合、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれは、第2ゲートクロックの入力を受けて第1ゲートクロックに復元するシフトレジスタに提供するクロック復元回路を含むことができる。ここで、第1〜第nゲート駆動チップ210のそれぞれに入力する第2ゲートクロックは、クロック復元回路に入力すると共に、次段のゲート駆動チップまたはタッチセンシングチップ810にそのままに伝達される。
【0192】
以上のように、本出願の一例は、ディスプレイパネル100の各画素を駆動するためのゲート駆動回路とデータ駆動回路のそれぞれをマイクロチップ化して基板110上に実装することにより、一般的なディスプレイパネルの各画素ごとに少なくとも一つのトランジスタを形成する工程が不要で、ディスプレイパネルの基板110上にトランジスタが全く配置されたり形成されたりしないため、画素間に発生する駆動トランジスタのしきい値電圧の偏差に因る輝度ムラによる画質の低下を防止することができる。
【0193】
図20は、本出願の他の例に係る表示装置を示す図であり、
図21は、
図20に示した基板を示す図であり、これは、
図1〜
図19に示したディスプレイ装置のタイミングコントローラと電源管理回路のそれぞれをマイクロチップ化して、ディスプレイパネルの基板に実装して構成したものである。
【0194】
図20及び
図21を参照すると、本出願の他の例に係る表示装置は、ディスプレイパネル100、ゲート駆動チップアレイ部1200、データ駆動チップアレイ部1300、タイミングコントローラチップアレイ部1500、および電源管理チップアレイ部1600を含むことができる。
【0195】
前記ディスプレイパネル100は、基板110と対向基板190を含むことができ、このようなディスプレイパネル100は、前述した本出願の一例によるディスプレイ装置のディスプレイパネルと同様であるため、それに対しては同一の符号を付与し、それに対する重複説明は省略することにする。
【0196】
前記ゲート駆動チップアレイ部1200、データ駆動チップアレイ部1300、タイミングコントローラチップアレイ部1500、および電源管理チップアレイ部1600のそれぞれは、チップボンディング工程または、チップ転写工程によりディスプレイパネル100の第1基板110に実装される。
【0197】
前記ゲート駆動チップアレイ部1200は、基板110の非表示領域(NDA)に実装され、第1〜第nゲートライン(GL)に接続した第1〜第nゲート駆動チップ210を含むことがことができる。第1〜第nゲート駆動チップ210を含むゲート駆動チップアレイ部1200は、基板110に実装されたタイミングコントローラチップアレイ部1500から直接に供給されるゲートスタート信号とゲートクロックに応答してゲートパルスを順次にゲートライン(GL)に供給することを除いては、前述した本出願の一例によるディスプレイ装置のゲート駆動チップアレイ部200と同様であるため、これに対する重複説明は省略することにする。
【0198】
前記データ駆動チップアレイ部1300は、基板110の第1非表示領域(または上側非表示領域)に実装してタイミングコントローラチップアレイ部1500から供給される画素データを、データ電圧に変換して、該当する第1〜第nデータライン(DL)に供給する。たとえば、データ駆動チップアレイ部1300は、基板110のパッド部(PP)と表示領域(DA)間に定義された第1非表示領域に実装して、第1〜第mデータライン(DL)それぞれに該当するデータ電圧を供給するための複数のデータ駆動チップを含むことができる。
【0199】
前記タイミングコントローラチップアレイ部1500は、第1非表示領域に実装してパッド部(PP)を介してディスプレイ駆動システム700から供給される映像信号(または差動信号)を基に、デジタルデータ信号を生成してデータ駆動チップアレイ部1300に提供し、ゲートクロックとゲートスタート信号をゲート駆動チップアレイ部1200に提供する。つまり、タイミングコントローラチップアレイ部1500は、パッド部(PP)を介して入力する差動信号を受信して、差動信号からフレーム単位のデジタルデータ信号と基準クロックおよびデータスタート信号を生成する。また、タイミングコントローラチップアレイ部1500は、フレーム単位でデジタルデータ信号による映像の画質改善画像処理を行い、画像処理したフレーム単位のデジタルデータ信号を少なくとも1水平ライン単位に分割して、データ駆動チップアレイ部1300に提供する。そして、タイミングコントローラチップアレイ部1500は、基準クロックを基に、ゲートスタート信号とゲートクロックを生成してゲート駆動チップアレイ部1200に提供する。
【0200】
前記電源管理チップアレイ部1600は、基板110の非表示領域に実装され、基板110に配置されたパッド部(PP)を介してディスプレイ駆動システム700から供給される入力電源を基にディスプレイパネル100の各画素(P)に映像を表示するための各種の電圧を出力する。一例による電源管理チップアレイ部1600は、入力電源を基にトランジスタロジック電圧、画素駆動電源、カソード電源、および少なくとも一つの基準ガンマ電圧をそれぞれ生成することができる。
【0201】
図22は、
図20及び
図21に示した電源管理チップアレイ部を示すブロック図である。
【0202】
図22を
図20及び
図21と結び付けると、本例に係る表示装置の電源管理チップアレイ部1600は、基板110の非表示領域(NDA)に実装され、外部から入力する入力電源(Vin)をDC/DC変換して出力するDC/DCコンバータチップアレイ部を含むことができる。
【0203】
前記DC/DCコンバータチップアレイ部は、ロジック電源チップ1610、駆動電源チップ1630、およびガンマ電圧生成チップ1650を含むことができる。ここで、ロジック電源チップ1610と駆動電源チップ1630およびガンマ電圧生成チップ1650のそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細な大きさを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0204】
前記ロジック電源チップ1610は、入力電源(Vin)を基にトランジスタロジック電圧(Vcc)を生成し、これを必要とするマイクロチップに提供する。例えば、ロジック電源チップ1610は、入力電源(Vin)を減圧(Step−down)して3.3Vのトランジスタロジック電圧(Vcc)を生成することができる。また、ロジック電源チップ1610は、入力電源(Vin)を基にグラウンド電圧(GND)を生成し、これを必要とするマイクロチップに提供する。ここで、グラウンド電圧(GND)は、ディスプレイパネル100に配置されたカソード電極(CE)に供給されるカソード電源(Vss)に使用することができる。一例によるロジック電源チップ1610は、DC/DCコンバータ、例えば、減圧型コンバータチップまたは降圧型コンバータチップ(Buck converter chip)であり得るが、これに限定されない。
【0205】
前記駆動電源チップ1630は、入力電源(Vin)を基に画素駆動電源(Vdd)を生成し、これを必要とする各画素(P)およびマイクロチップに提供する。例えば、駆動電源チップ1630は、12Vの画素駆動電源(Vdd)を生成することができる。一例による駆動電源チップ1630は、DC/DCコンバータ、例えば、昇圧型コンバータチップまたはブーストコンバータチップ(Boost converter chip)であり得るが、これに限定されない。
【0206】
前記ガンマ電圧生成チップ1650は、ロジック電源チップ1610から、トランジスタロジック電圧(Vcc)と駆動電源チップ1630から画素駆動電源(Vdd)をそれぞれ入力を受けて、少なくとも一つの基準ガンマ電圧(Vgam)を生成してデータ駆動チップアレイ部1300に提供する。例えば、ガンマ電圧生成チップ1650は、トランジスタロジック電圧(Vcc)が供給される低電位端子と画素駆動電源(Vdd)が供給される高電位端子の間に直列接続した複数の分圧抵抗を用いた電圧分配を介して、複数の分圧抵抗間の電圧分配ノードの分配電圧を基準ガンマ電圧(Vgam)に出力することができる。
【0207】
本例に係る電源管理チップアレイ部1600は、シリアル通信チップ1670をさらに含むことができる。ここで、シリアル通信チップ1670は、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0208】
前記シリアル通信チップ1670は、基板110に配置されたパッド部(PP)とは別に、基板110一方側の非表示領域に配置されたシリアル通信パッドに付着したコネクタを介してディスプレイ駆動システム700と接続することができる。このようなシリアル通信チップ1670は、ディスプレイ駆動システム700から供給される電圧チューニング信号を受信し、受信した電圧チューニング信号を電圧チューニングデータに復元してDC/DCコンバータチップアレイ部に伝達する。例えば、電圧チューニング信号は、ガンマ電圧をチューニングするための信号であり得、この場合、電圧チューニング信号に該当する電圧チューニングデータはガンマ電圧生成チップ1650に提供され、ガンマ電圧生成チップ1650は、電圧チューニングデータによって高電位端子に供給される画素駆動電源(Vdd)の電圧レベルをチューニングしたり、複数の分圧抵抗のうち少なくとも一つの抵抗値をチューニングすることができる。
【0209】
さらに、前記シリアル通信チップ1670は、
図16及び
図17に示したタッチセンシングチップアレイ部800のタッチ処理チップ830から提供されるタッチマップデータ(TMD)をディスプレイ駆動システム700に伝送することができる。この場合、タッチ処理チップ830で生成されるタッチマップデータ(TMD)は、別個のタッチデータ伝送用の信号ケーブルがなくても、ディスプレイ駆動システム700に伝送することができる。すなわち、本出願の他の例は、シリアル通信チップ1670を有する電源管理チップアレイ部1600を基板110に実装して、電源管理チップアレイ部1600とタッチセンシングチップアレイ部800がシリアル通信チップ1670を互いに共有することにより、タッチマップデータ(TMD)をディスプレイ駆動システム700に伝送するための別個の信号ケーブルを除去し、これにより、ディスプレイ装置の構成をより簡素化することができる。これとは反対に、本出願の他の例は、タッチマップデータ(TMD)をディスプレイ駆動システム700に伝送するために、タッチデータ伝送チップを基板110に実装して、タッチセンシングチップアレイ部800に構成し、タッチセンシングチップアレイ部800と、電源管理チップアレイ部1600がタッチデータ伝送チップを互いに共有するように構成することもできる。
【0210】
図23は、
図20及び
図21に示したタイミングコントローラチップアレイ部とデータ駆動チップアレイ部を示す図である。
【0211】
図23を
図20及び
図21と結び付けると、本例に係る表示装置のタイミングコントローラチップアレイ部1500は、映像信号受信チップアレイ1510、画質改善チップアレイ1530、データ制御チップアレイ1550、およびゲート制御チップ1570を含むことができる。
【0212】
前記映像信号受信チップアレイ1510は、パッド部(PP)を介して、ディスプレイ駆動システム700から入力する映像信号(Simage)を基にしたフレームデジタルデータ信号と基準クロックとデータスタート信号を生成する。ここで、映像信号(Simage)は、高速シリアルインタフェース方式、例えばV−by−Oneインターフェース方式を介して映像信号受信チップアレイ1510に提供することができる。この場合、映像信号受信チップアレイ1510は、V−by−Oneインターフェース方式を介して、ディスプレイ駆動システム700から入力する映像信号(Simage)に対する差動信号によるデジタルデータ信号を受信し、受信したデジタルデータ信号を基に、少なくとも1水平ライン単位の画素データを生成し、差動信号から基準クロックとデータスタート信号を生成する。
【0213】
一例による映像信号受信チップアレイ1510は、第1〜第i(iは2以上の自然数)の映像信号を受信チップ15101〜1510iを含むことができる。ここで、第1〜第i映像信号受信チップ15101〜1510iのそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0214】
前記第1〜第i映像信号受信チップ15101〜1510i間の同期化およびデータ通信を行うために、第1映像信号受信チップ15101は、映像信号受信チップアレイ1510内の全体的な演算と機能を制御するようにマスターにプログラミングされ、第2〜第i映像信号受信チップ15102〜1510iのそれぞれは、第1映像信号を受信チップ15101と同期化して動作するようにスレーブにプログラミングすることができる。
【0215】
前記第1〜第i映像信号受信チップ15101〜1510iのそれぞれは、インターフェースケーブル710を介してディスプレイ駆動システム700から伝送される映像信号(Simage)に対する差動信号からj個の画素に供給するデジタルデータ信号を個別に受信し、受信したデジタルデータ信号を基にj個の画素に供給する画素データを個別に生成し、映像信号(Simage)に対する差動信号から基準クロックとデータスタート信号を個別に生成する。例えば、インターフェースケーブル710が第1〜第iレーン(Lane)を有する場合において、第1映像信号受信チップ15101は、インターフェースケーブル710の第1レーンを介してディスプレイ駆動システム700から伝送される映像信号(Simage)に対する差動信号から第1〜j画素のそれぞれに該当するデジタルデータ信号を個別に受信し、受信したデジタルデータ信号を基に、第1〜j画素のそれぞれに該当する画素データを個別に生成し、映像信号(Simage)に対する差動信号から基準クロックとデータスタート信号を個別に生成する。そして、第i映像信号受信チップ1510iは、インターフェースケーブル710の第iレーンを介してディスプレイ駆動システム700から伝送される映像信号(Simage)に対する差動信号から第m−j+1〜m画素それぞれに該当するデジタルデータ信号を個別に受信し、受信したデジタルデータ信号を基に、第m−j+1〜m画素のそれぞれに該当する画素データを個別に生成し、映像信号(Simage)に対する差動信号から基準クロックとデータスタート信号を個別に生成する。
【0216】
前記第1〜第i映像信号受信チップ15101〜1510iのそれぞれは、インターフェースケーブル710を介して入力する最初のフレームの差動信号からタイミングコントローラチップアレイ部1500に対するディスプレイ設定データを生成して内部メモリに保存し、インターフェースケーブル710を介して順番に入力する各フレームの差動信号からデジタルデータ信号と基準クロックとデータスタート信号をそれぞれ生成することができる。
【0217】
一方、一例による映像信号受信チップアレイ1510は、一つの映像信号受信チップのみでなることができる。すなわち、第1〜第i映像信号受信チップ15101〜1510iは、一つの映像信号統合受信チップで構成することもできる。
【0218】
前記画質改善チップアレイ1530は、映像信号受信チップアレイ1510からフレーム単位のデジタルデータ信号の供給を受け、あらかじめ設定された画質改善アルゴリズムを実行して、フレーム単位のデジタルデータ信号による映像の画質を改善する。
【0219】
一例による画質改善チップアレイ1530は、第1〜第i映像信号受信チップ15101〜1510iと一対一で接続した第1〜第i画質改善チップ15101〜1510iを含むことができる。このような第1〜第i画質改善チップ15301〜1530iのそれぞれは、該当する映像信号受信チップ15101〜1510iからデジタルデータ信号の供給を受け、あらかじめ設定された画質改善アルゴリズムを実行して、フレーム単位のデジタルデータ信号による映像の画質を改善する。ここで、第1〜第i画質改善チップ15301〜1530iのそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0220】
前記第1〜第i画質改善チップ15301〜1530i間の同期化またはデータ通信を行うために、第1画質改善チップ15301は、画質改善チップアレイ1530内の全体的な演算と機能を制御するようにマスターにプログラミングされ、第2〜第i画質改善チップ15302〜1530iのそれぞれは、第1画質改善チップ15301と同期化して動作するようにスレーブにプログラミングすることができる。
【0221】
一方、映像信号受信チップアレイ1510が一つのデータ統合受信チップで構成される場合、第1〜第i画質改善チップ15301〜1530iは、データ統合受信チップに接続した一つの統合画質改善チップで構成することができる。
【0222】
前記データ制御チップアレイ1550は、映像信号受信チップアレイ1510から提供される基準クロックとデータスタート信号を基に、画質改善チップアレイ1530によって画質改善されたデジタルデータ信号を1水平ライン単位の画素データに整列して出力する。
【0223】
一例によるデータ制御チップアレイ1550は、第1〜第i画質改善チップ15301〜1530iと一対一で接続した第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iを含むことができる。このような第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iのそれぞれは、該当する画質改善チップ15301〜1530iから画質改善されたデジタルデータ信号の供給を受け、映像信号受信チップアレイ1510から提供される基準クロックとデータスタート信号によって画素データに整列して出力する。ここで、第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iのそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0224】
前記第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550i間の同期化およびデータ通信を行うために、第1データ制御チップ15501は、データ制御チップアレイ1550内の全体的な演算と機能を制御するようにマスターにプログラミングされ、第2〜第iデータ制御チップ15502〜1550iのそれぞれは、第1データ制御チップ15501と同期化して動作するようにスレーブにプログラミングすることができる。
【0225】
前記第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iのそれぞれは、画素データのビット数に対応するデータバスを有する第1〜第i共通シリアルデータバス(CSB1〜CSBi)を用いたシリアルデータ通信方式を介して画素データを個別に出力し、第1〜第i基準クロック共通ライン(RCL1〜RCLi)に基準クロックを個別に出力し、第1〜第iデータスタート信号ライン(DSL1〜DSLi)にデータスタート信号を個別に出力する。例えば、第1映像信号受信チップ15101は、第1共通シリアルデータバス(CSB1)と第1基準クロック共通ライン(RCL1)及び第1データスタート信号ライン(DSL1)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ伝送することができる。そして、第i映像信号受信チップ1510iは、第i共通シリアルデータバス(CSBi)と第i基準クロック共通ライン(RCLi)及び第iデータスタート信号ライン(DSLi)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ伝送することができる。
【0226】
一方、映像信号受信チップアレイ1510が一つのデータ統合受信チップで構成され、画質改善チップアレイ1530が一つの統合画質改善チップで構成される場合、第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iは、データ統合受信チップに接続した一つの統合データ制御チップで構成することができる。
【0227】
前記ゲート制御チップ1570は、データ制御チップアレイ1550から出力される基準クロックを基に、ゲートクロック(GCLK)とゲートスタート信号(Vst)を生成して、ゲート駆動チップアレイ部1200に提供する。例えば、ゲート制御チップ1570は、データ制御チップアレイ1550の第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iの中で最も隣接したデータ制御チップ15501に接続したデータスタート信号ライン(DSL1)と基準クロック共通ライン(RCL1)それぞれからデータスタート信号と基準クロックを受信し、受信したデータスタート信号を基に基準クロックをカウントして、ゲートクロック(GCLK)とゲートスタート信号(Vst)のそれぞれを生成することができる。ゲートスタート信号(Vst)は、基板上に配置された一つのゲートスタート信号ライン201を介してゲート駆動チップアレイ部1200の最初のゲート駆動チップ210に提供され、ゲートクロック(GCLK)も基板上に配置された一つのゲートクロックライン202を介してゲート駆動チップアレイ部1200の最初のゲート駆動チップ210に提供することができる。
【0228】
このように、タイミングコントローラチップアレイ部1500は、ディスプレイパネル100の基板110上に実装して一つのインターフェースケーブル710を介してディスプレイ駆動システム700と接続することにより、ディスプレイパネル100とディスプレイ駆動システム700間の接続構造を簡素化することができる。
【0229】
本例に係る表示装置のデータ駆動チップアレイ部1300は、第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)、及び第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)を含むことができる。ここで、第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)、及び第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、最小単位のマイクロチップまたは一つのチップセットとして、トランジスタを含む集積回路を有する一つの微細なサイズを有する半導体パッケージ素子であり得る。
【0230】
前記第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、タイミングコントローラチップアレイ部1500のデータ制御チップアレイ1550から伝送される画素データを、データスタート信号を基に、基準クロックによってサンプリングしてラッチチップ(またはホールディング)して、入力した基準クロックとラッチした画素データをシリアルデータ通信方式で出力する。
【0231】
前記第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、j個のデータラッチチップ単位からなり、第1〜第iデータラッチグループ13201〜1320iにグループ化することができる。第1〜第iデータラッチグループ13201〜1320iのそれぞれは、グループごとに、第1〜第iデータ制御チップ15501〜1550iと一対一で接続することができる。
【0232】
第1〜第iデータラッチグループ13201〜1320iのそれぞれにグループ化されたデータラッチチップは、グループごとに、第1〜第i共通シリアルデータバス(CSB1〜CSBi)に共通に接続する。例えば、第1データラッチグループ13201のグループ化された第1〜第jデータラッチチップ(L1〜Lj)のそれぞれは、第1共通シリアルデータバス(CSB1)と第1基準クロックの共通ライン(RCL1)および第1データスタート信号ライン(DSL1)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ受信することができる。そして、第iデータラッチグループ1320iにグループ化された第m−j+1〜第mデータラッチチップ(Lm−j+1〜Lm)のそれぞれは、第i共通シリアルデータバス(CSBi)と第i基準クロック共通ライン(RCLi)及び第iデータスタート信号ライン(DSLi)を介して該当する画素データと基準クロックおよびデータスタート信号をそれぞれ受信することができる。
【0233】
前記第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、該当するビット数を有する画素データがサンプリングされラッチすると、入力した基準クロックと、ラッチした画素データをシリアルデータ通信方式で出力する。
【0234】
一例による第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)のそれぞれは、データスタート信号に応答して、該当する共通シリアルデータバス(CSB)を介して入力する画素データを基準クロックによってサンプリングしてラッチするラッチ回路、基準クロックをカウントして、データ出力信号を生成するカウンタ回路、および入力した基準クロックをバイパスさせるクロックバイパス回路を含むことができる。
【0235】
前記第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、第1〜第mデータラッチチップ(L1〜Lm)と一対一で接続し、電源供給回路から少なくとも一つの基準ガンマ電圧(Vgam)が供給される少なくとも一つの基準ガンマ電圧供給ライン(RGVL)と共通に接続する。ここで、一つのデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)は、一つのシリアルデータ伝送ライン(SDTL)と一つの基準クロック伝送ライン(RCTL)を介して一つのデータラッチチップ(L1〜Lm)と接続する。このような第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、該当するデータラッチチップ(L1〜Lm)からシリアルデータ伝送ライン(SDTL)を介してシリアル通信方式で入力する画素データを該当するデータラッチチップ(L1〜Lm)から供給される基準クロック伝送ライン(RCTL)によって受信して並列化し、基準ガンマ電圧供給ライン(RGVL)を介して供給される基準ガンマ電圧を基に、並列の画素データをデータ電圧に変換して出力する。
【0236】
一例による第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、シリアルデータ通信方式によって入力する画素データを基準クロックによって受信し、並列化するデータ並列化回路、基準ガンマ電圧を電圧分配して画素データのビット数による複数の階調値のそれぞれに該当する複数の階調電圧を生成する階調電圧生成回路、および基準クロックをカウントして並列データ出力信号を生成するクロックカウンタを含むことができる。
【0237】
選択的に、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)それぞれの階調電圧生成回路は、基準ガンマ電圧の代わりに電源供給回路から供給される画素駆動電圧(Vdd)を電圧分配して各々異なる複数の階調電圧を生成することができる。この場合、基板の非表示領域に配置される少なくとも一つの基準ガンマ電圧供給ライン(RGVL)は省略され、これにより、基板の非表示領域の空間活用度が高くなり得る。
【0238】
本例に係る第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)のそれぞれは、シリアルデータ通信方式を介してデータラッチチップ(L1〜Lm)から画素データの伝送を受けることによって画素データを受信するための最小限の端子を有することによってサイズを減少させることができ、デジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)とデータラッチチップ(L1〜Lm)間のデータ伝送ラインの数が減少することによって、基板の非表示領域の空間活用度を高めることができる。
【0239】
前記第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、第1〜第mデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)と一対一で接続し、第1〜第mデータライン(DL1〜DLm)と一対一で接続する。また、第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、電源供給回路から画素駆動電圧(Vdd)が供給される画素駆動電圧供給ライン(PSL)と共通に接続し、電源供給回路からグラウンド電圧が供給されるグラウンド電圧ラインと共通に接続する。このような第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、画素駆動電圧(Vdd)を基に、該当するデジタルアナログコンバータチップ(D1〜Dm)から供給されるデータ電圧をバッファリングして、該当するデータライン(DL1〜DLm)に供給する。例えば、第1〜第mデータアンプチップ(A1〜Am)のそれぞれは、データラインのラインロードによって設定されたゲイン値を基に、データ電圧をバッファリングして出力することができる。
【0240】
さらに、データ駆動チップアレイ部1300で、一つのデータラインにデータ電圧を供給するための一つのデータラッチチップと一つのデジタルアナログ変換チップおよび一つのデータアンプチップは、一つのデータ駆動チップグループ13001〜1300mを構成し、一つのデータ駆動チップのグループは、一つのデータ駆動チップで構成することができ、この場合、第1〜第mデータライン(DL1〜DLm)のそれぞれに接続するチップの数を1/3に減少することができる。
【0241】
以上のように、本出願の他の例に係るディスプレイ装置は、ディスプレイ駆動システム700から供給される映像信号に該当する映像をディスプレイパネル100に表示するためのすべての回路構成が、マイクロチップ化して基板110上に実装される構造を有することにより、
図1〜
図19に示したディスプレイ装置と同様の効果を有しながら、マイクロチップ間の簡素化および統合がさらに容易になり得、一つの信号インターフェースケーブル710または2つの信号ケーブルのみを介してのみディスプレイ駆動システム700と直接に接続することによってディスプレイ駆動システム700間の接続構造が単純になり得、これにより、一つの板形態を有することによってデザイン的に向上した美観を有することができる。
【0242】
図24は、本出願のまた他の例に係る表示装置の単位画素を示す図であり、これは、
図1〜
図23に示したディスプレイ装置で、画素駆動チップを変更して構成したものである。それで、以下の説明では、画素駆動チップおよびそれに関連する構成についてのみ説明し、残りの構成に対する重複説明は省略することにする。
【0243】
図24を参照すると、本出願のまた他の例に係る表示装置では、画素駆動チップ120は、ゲートライン(GL1)の方向に沿って配置された隣接した3つの画素を有する一つの単位画素(UP)を駆動するように配置される。
【0244】
前記画素駆動チップ120は、基板上に定義された単位画素領域内に実装され、隣接した3つのデータライン(DL1、DL2、DL3)と一つのゲートライン(GL1)および一つの画素駆動電源ライン(PL)に接続すると共に、第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)のそれぞれに接続する。このような画素駆動チップ120は、画素駆動電源ライン(PL)から供給される画素駆動電源を基に、ゲートライン(GL1)から供給されるゲートパルスに応答して、第1〜第3データライン(DL1、DL2、DL3)それぞれから供給される第1〜第3データ電圧のそれぞれに対応する第1〜第3データ電流のそれぞれを第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)に供給することにより、第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)それぞれの発光を制御する。
【0245】
一例による画素駆動チップ120は、ゲートライン(GL)に接続したゲートバンプ、第1〜第3データライン(DL1、DL2、DL3)それぞれに接続した第1〜第3データバンプ、画素駆動電源ライン(PL)に接続した電源入力バンプ、第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)のそれぞれに接続した第1〜第3出力バンプ、ゲートバンプを介して供給されるゲートパルスに応答して、第1データバンプから供給される第1データ電圧に対応する第1データ電流を第1出力バンプに出力する第1画素駆動回路、ゲートバンプを介して供給されるゲートパルスに応答して、第2データバンプを介して供給される第2データ電圧に対応する第2データ電流を第2出力バンプに出力する第2画素駆動回路、およびゲートバンプを介して供給されるゲートパルスに応答して、第3データバンプを介して供給される第3データ電圧に対応する第3データ電流を第3出力バンプに出力する第3画素駆動回路を含むことができる。
【0246】
一例による第1〜第3画素駆動回路のそれぞれは、
図3に示した画素駆動回路と同じ構成を有するので、これに対する説明は省略することにする。
【0247】
このような本出願のまた他の例は、一つの画素駆動チップ120を介して一つの単位画素(UP)を駆動することにより、基板上に実装される画素駆動チップ120の数を1/3に減少させることができ、これにより、画素駆動チップ120の実装工程の時間を減少させ、ディスプレイ装置の歩留まりを向上させることができる。
【0248】
一方、本例に係る一つの画素駆動チップ120は、ゲートライン(GL1)の方向に沿って配置された隣接した6つの画素を有する2つの単位画素を駆動するように配置することができ、この場合、一つの画素駆動チップ120は、ゲートライン(GL)と画素駆動電源ライン(PL)に共通に接続し、第4〜第6データラインと一対一で接続した第4〜第6画素駆動回路をさらに含むことができる。
【0249】
図25は、本出願のまた他の例に係る表示装置の単位画素を示す図であり、これは、
図1〜
図23に示したディスプレイ装置で、画素駆動チップを変更して構成したものである。それで、以下の説明では、画素駆動チップとそれに関連する構成についてのみ説明し、残りの構成に対する重複説明は省略することにする。
【0250】
図25を参照すると、本出願のまた他の例に係る表示装置で、画素駆動チップ120は、隣接した2つのゲートライン(GL1、GL2)に接続した上下に隣接する2つの単位画素(UP1、UP2)を有する単位画素グループ(PG)を駆動するように配置される。
【0251】
前記画素駆動チップ120は、基板上に定義された単位画素領域内に実装して、隣接した3つのデータライン(DL1、DL2、DL3)と隣接した2つのゲートライン(GL1、GL2)および一つの画素駆動電源ライン(PL)に接続するとともに、第1〜第6発光部(ELP1〜ELP6)のそれぞれに接続する。一例による画素駆動チップ120は、第1及び第2ゲートライン(GL1、GL2)のそれぞれに接続した第1及び第2ゲートバンプ、第1〜第3データライン(DL1、DL2、DL3)のそれぞれに接続した第1〜第3データバンプ、画素駆動電源ライン(PL)に接続した電源入力バンプ、第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)のそれぞれに接続した第1〜第3出力バンプ、第1ゲートバンプと電源入力バンプに共通に接続し、第1〜第3データバンプと個別に接続し、第1〜第3出力バンプと個別に接続した第1〜第3画素駆動回路、及び第2ゲートバンプと電源入力バンプに共通に接続し、第1〜第3データバンプと個別に接続し、第1〜第3出力バンプと個別に接続した第4〜第6画素駆動回路を含むことができる。一例による第1〜第6画素駆動回路のそれぞれは、
図3に示した画素駆動回路と同じ構成を有するので、これに対する説明は省略することにする。
【0252】
本例に係る画素駆動チップ120のそれぞれは、画素駆動電源ライン(PL)から供給される画素駆動電源を基に、第1ゲートライン(GL1)に供給される第1ゲートパルスに応答して、第1〜第3データライン(DL1、DL2、DL3)のそれぞれから供給される第1〜第3データ電圧のそれぞれに対応する第1〜第3データ電流のそれぞれを第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)に供給することにより、第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)それぞれの発光を制御する。また、画素駆動チップ120は、画素駆動電源ライン(PL)から供給される画素駆動電源を基に、第1ゲートライン(GL1)に供給される第1ゲートパルスに応答して、第1〜第3データライン(DL1、DL2、DL3)それぞれから供給される第1〜第3データ電圧のそれぞれに対応する第1〜第3データ電流のそれぞれを第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)に供給することにより、第1〜第3発光部(ELP1、ELP2、ELP3)それぞれの発光を制御する。そして、画素駆動チップ120は、画素駆動電源ライン(PL)から供給される画素駆動電源を基に、第2ゲートライン(GL2)に供給される第2ゲートパルスに応答して、第1〜第3データライン(DL1、DL2、DL3)それぞれから供給される第4〜第6データ電圧のそれぞれに対応する第4〜第6データ電流をそれぞれ第4〜第6発光部(ELP4、ELP5、ELP6)に供給することにより、第4〜第6発光部(ELP4、ELP5、ELP6)それぞれの発光を制御する。
【0253】
このような本出願のまた他の例は、一つの画素駆動チップ120を介して、隣接した2つの単位画素(UP1、UP2)を有する一つの単位画素グループ(PG)を駆動することにより、基板上に実装される画素駆動チップ120の数を1/6に減少させることができ、これにより、画素駆動チップ120の実装工程の時間を減少させ、ディスプレイ装置の歩留まりを向上させることができる。
【0254】
一方、本例に係る一つの画素駆動チップ120は、2つのゲートラインと6つのデータラインを介して、合計12個の画素を駆動するように配置することができる。ここで、一つの画素駆動チップ120は、合計12個の画素駆動回路を含むことができる。基板上に実装される画素駆動チップ120の数を1/12に減少させることができ、これにより、画素駆動チップ120の実装工程の時間を減少させ、ディスプレイ装置の歩留まりを向上させることができる。
【0255】
上述した本出願の例で説明した特徴、構造、効果などは、本出願の少なくとも一つの例に含まれ、必ずしも一つの例のみに限定されるものではない。さらに、本出願の少なくとも一つの例で例示された特徴、構造、効果などは、本出願が属する分野の通常の知識を有する者によって他の例に対して組み合わせ、または変形して実施可能である。したがって、そのような組み合わせと変形に係る内容は、本出願の範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
【0256】
以上で説明した本出願は、前述した実施例及び添付した図に限定されるものではなく、本出願の技術的事項を逸脱しない範囲内で、複数の置換、変形及び変更が可能であることが、本出願が属する技術分野で通常の知識を有する者にとって明らかであろう。したがって、本出願の範囲は、後述する特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲の意味及び範囲そしてその等価概念から導出されるすべての変更または変形された形態が本出願の範囲に含まれるものと解釈されなければならない。