特許 6720199 別個の基板ＩＩをテクスチャリングするための方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6720199

(24)【登録日】2020年6月19日

(45)【発行日】2020年7月8日

(54)【発明の名称】別個の基板ＩＩをテクスチャリングするための方法

(51)【国際特許分類】

   B29C 59/02 20060101AFI20200629BHJP

【ＦＩ】

   B29C59/02 Z

【請求項の数】16

【全頁数】13

(21)【出願番号】特願2017-542481(P2017-542481)

(86)(22)【出願日】2016年2月11日

(65)【公表番号】特表2018-512263(P2018-512263A)

(43)【公表日】2018年5月17日

(86)【国際出願番号】EP2016052872

(87)【国際公開番号】WO2016128493

(87)【国際公開日】20160818

【審査請求日】2018年11月26日

(31)【優先権主張番号】15155039.9

(32)【優先日】2015年2月13日

(33)【優先権主張国】EP

(73)【特許権者】

【識別番号】517278185

【氏名又は名称】モーフォトニクス ホールディング ベスローテン フェノーツハップ

【氏名又は名称原語表記】Ｍｏｒｐｈｏｔｏｎｉｃｓ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｂ．Ｖ．

(74)【代理人】

【識別番号】100114890

【弁理士】

【氏名又は名称】アインゼル・フェリックス＝ラインハルト

(74)【代理人】

【識別番号】100098501

【弁理士】

【氏名又は名称】森田 拓

(74)【代理人】

【識別番号】100116403

【弁理士】

【氏名又は名称】前川 純一

(74)【代理人】

【識別番号】100135633

【弁理士】

【氏名又は名称】二宮 浩康

(74)【代理人】

【識別番号】100162880

【弁理士】

【氏名又は名称】上島 類

(72)【発明者】

【氏名】ヤン マテイス テア ミューレン

(72)【発明者】

【氏名】ブラム ヨハネス ティテュレーア

(72)【発明者】

【氏名】アドリアニュス ヨハネス ファン エアフェン

【審査官】 一宮 里枝

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１２−１４６６６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００５−５２５５９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００９−５３６５９１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１１−５１８０６０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ２９Ｃ ５９／００−５９／１８

Ｇ０３Ｆ ７／００− ７／４２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

別個の基板をテクスチャリングまたはパターニングするための少なくとも１つのローラを用いるロール・ツー・プレートプロセスであって、
インプリントラッカを連続的な層の形態で供給するステップと、
裏側および表側を有している型を用いてインプリントラッカをテクスチャリングするステップであって、前記裏側は、前記少なくとも１つのローラと摩擦接触しており、かつ前記表側は、インプリントされたラッカを得るために、開口部および隆起部によって形成されており、したがってインプリントテクスチャ内に容積を生じさせる機能領域を含んでいるインプリントテクスチャを示す、ステップと、
を有している、ロール・ツー・プレートプロセスにおいて、
前記テクスチャリングまたは前記パターニングを、ガスを逃がすことができるテクスチャを備えている導入領域と、前記導入領域に続く、前記導入領域のテクスチャとは異なるテクスチャを備えている前記機能領域と、を含んでいるインプリントテクスチャを用いて実施する、
ことを特徴とする、ロール・ツー・プレートプロセス。

【請求項2】

テクスチャリングまたはパターニングされて凝固された層を得るために、前記インプリントされたラッカを硬化させるステップをさらに含み、
前記硬化を、熱的に実施する、かつ／または、ＵＶ光の適用によって実施することを特徴とする、
請求項１記載のプロセス。

【請求項3】

前記型上の前記導入領域は、複数のチャネルを含んでいるテクスチャを示すことを特徴とする、
請求項１または２記載のプロセス。

【請求項4】

前記チャネルは、ブロック、バー、柱、レンズ状部材、格子、規則的な角錐、円錐および／またはレンズの形状であることを特徴とする、
請求項３記載のプロセス。

【請求項5】

前記チャネルは、特定の様式で配置されていることを特徴とする、
請求項４記載のプロセス。

【請求項6】

前記導入領域は、１ミクロン未満のインプリントテクスチャ高さ変化を有している浅いテクスチャを有していることを特徴とする、
請求項１または２記載のプロセス。

【請求項7】

前記導入領域は、平坦な表面であることを特徴とする、
請求項１または２記載のプロセス。

【請求項8】

前記導入領域は、０．１ｍｍから５０ｍｍまでの長さを有していることを特徴とする、
請求項１から７までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項9】

前記導入領域は、前記機能領域と同じ幅を有していることを特徴とする、
請求項１から８までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項10】

前記テクスチャリングまたは前記パターニングを、外面として、前記導入領域を備えたインプリントテクスチャを有しているスタンプを用いて実施することを特徴とする、
請求項１から９までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項11】

前記スタンプは、ローラによって回転されるか、または、ガイドされることを特徴とする、
請求項１から１０までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項12】

前記導入領域は、チャネルを備えていない前記機能領域におけるテクスチャと同じトラックピッチ、形状およびサイズを有している、マイクロチャネルまたはナノチャネルを備えたテクスチャを示すことを特徴とする、
請求項１から１１までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項13】

前記インプリントテクスチャは、インプリントプロセスが開始される前記機能領域の１つの辺においてガスを逃がすことができるテクスチャを備えた導入領域を含んでおり、
前記機能領域の１つまたは複数の別の辺は、前記導入領域のテクスチャと同じ見栄えのテクスチャを示すことを特徴とする、
請求項１から１２までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項14】

前記導入領域は、１ミクロン未満のインプリントテクスチャ高さ変化を有している浅いテクスチャ表面を示し、
インプリントテクスチャ高さ変化は、インプリントテクスチャ開口部と隆起部との間の高さに関する距離であることを特徴とする、
請求項１から１３までのいずれか１項記載のプロセス。

【請求項15】

少なくとも１つのローラを用いて別個の基板をロール・ツー・プレートでテクスチャリングまたはパターニングするためのフレキシブルなスタンプであって、
前記フレキシブルなスタンプは、少なくとも１つのローラによって搬送することができる程度にフレキシブルであり、かつ前記フレキシブルなスタンプは、外面としてインプリントテクスチャを含んでおり、前記インプリントテクスチャは、機能領域を含んでおり、前記機能領域は、開口部および隆起部によって形成されており、したがって前記インプリントテクスチャ内に容積が生じている、フレキシブルなスタンプにおいて、
前記インプリントテクスチャは、ガスを逃がすことができるテクスチャを備えている導入領域と、前記導入領域に続く、前記導入領域のテクスチャとは異なるテクスチャを備えている機能領域と、を含んでいることを特徴とする、
フレキシブルなスタンプ。

【請求項16】

前記フレキシブルなスタンプは、０．１ギガパスカル（ＧＰａ）から１０ギガパスカル（ＧＰａ）までのヤング率を示すことを特徴とする、
請求項１５記載のフレキシブルなスタンプ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、スタンプを用いてインプリントラッカをインプリントし、それに続いて、インプリントされたラッカを硬化させ、その結果、別個の基板上に付加的なテクスチャリングされた機能層が形成されることによって、別個の基板を、例えばディスプレイ、ライティングパネルまたはソーラーパネルをテクスチャリングまたはパターニングするための方法に関する。この付加的な層の機能は、とりわけ、光制御層（ｌｉｇｈｔ ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ ｌａｙｅｒ）から疎水性層まで種々様々であり、装飾的な用途またはバイオセンサにおいて使用することができる。さらに本発明は、別個の基板をテクスチャリングまたはパターニングするためにラッカをインプリントするスタンプにも関する。デバイスにおけるテクスチャリングされた機能層の使用は、１つの重要な主題である。そのような層の洗練された使用によって、性能を向上させることができるか、コストを削減することができるか、または製品の外観を改善することができる。例えば、拡散層がディスプレイにおいて使用され、これによって、より薄型のＬＥＤのバックライトコンセプトの使用が実現され、また側方からのディスプレイの照明が実現される。その他の新たなハイテクの可能性は、テクスチャリングされた機能層のソーラーパネルへの統合であり、これによって、ソーラーパネルの効率が改善されるか、または有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ライティングパネルへの統合が改善され、より多くの光を取り出すことができる。

【背景技術】

【0002】

テクスチャリングされた機能層を、インプリントリソグラフィの使用によって作製することができる。この場合、基板または型、もしくは両方がラッカ（樹脂またはレジスト）によってコーティングされる。型を基板に、またそれらの型と基板との間に存在するラッカと共に押し付けた後に、テクスチャリングされたラッカが硬化されて固相になる。この硬化方法は熱的なものであってもよいし、ＵＶ光の使用によって行われてもよい。既に１９７８年には、米国特許第４，１２８，３６９号において、この技術が言及されていた。別の先駆的な研究は、１９９５年にＣｈｏｕ氏によって行われた。Ｃｈｏｕ氏は、硬質のスタンプの使用によって、２５ｎｍ未満のテクスチャを、高スループットの大量生産で複製できることを実証した（米国特許５，７７２，９０５号）、またはＳｔｅｐｈｅｎ Ｙ．Ｃｈｏｕ、Ｐｅｔｅｒ Ｒ．Ｋｒａｕｓｓ、Ｐｒｅｓｔｏｎ Ｊ．Ｒｅｎｓｔｒｏｍ等による論文（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６７（１９９５）３１１４−３１１６）において実証した。その後は、テクスチャを複製するための、硬質の型または湾曲された薄い金属シートに圧力を加えるローラの使用が実証された（Ｈｕａ Ｔａｎ、Ａｎｄｒｅｗ Ｇｉｌｂｅｒｔｓｏｎ、Ｓｔｅｐｈｅｎ Ｙ．Ｃｈｏｕ等による論文、Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．、Ｂ１６（１９９８）３９２６−３９２８）。

【0003】

多くの機関および企業によってこの研究が続けられ、その結果、種々の技術が生まれた。半導体産業においては、米国特許第６，３３４，９６０号、米国特許出願公開第２００４／００６５９７６号および米国特許第８，４３２，５４８号に記載されているようなトランスファ成形プロセス、材料および精密な位置決めと組み合わされた硬質のスタンプの使用によって、プレート・ツー・プレート（ｐｌａｔｅ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）インプリントが利用されている。ロール・ツー・ロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）インプリント技術では、例えば米国特許第８，０２７，０８６号に記載されているような連続的なプロセスでフォイルまたはフィルムをテクスチャリングするために、テクスチャリングされたローラが、フレキシブル基板と組み合わされて使用されている。

【0004】

最初に言及したプレート・ツー・プレート技術は、画一的な平坦なウェハ上に、高い位置精度で小さいテクスチャ（１００ｎｍ未満の分解能）を正確にウェハスケールでインプリントするために設計されている。しかしながら中国特許出願第１０３２３５４８３号に記載されているように、この技術は、より大きい面積にスケーリングすることは困難である。ロール・ツー・ロールテクノロジの使用によって、テクスチャリングされたフォイルを、高い生産速度で連続的に作製することができる。それらのフォイルを、基板としてフレキシブルな用途に使用することができるか、または硬質の基板にラミネートすることができる。しかしながら、後者では、テクスチャリングされたフォイルを硬質の基板または製品に接着させるための中間接着層についての付加的な費用が生じる。したがって、第３の新たな技術が、すなわち直接的なロール・ツー・プレート（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）インプリントが開発されている。これによって、数１０ミクロン〜数１００ミクロンの厚さの、厚い中間接着層を要することなく、テクスチャリングされた機能層が直接的に別個の基板に設けられる。そのようなプロセスにおいては、仏国特許第２，８９３，６１０号において説明されているようなテクスチャリングされたローラ、または米国特許第７，８２４，５１６号に記載されているような、可動のフレキシブルなスタンプが使用される。連続的なロール・ツー・ロールプロセスとは異なり、非連続的なロール・ツー・プレートプロセスの挑戦は、開始・終了の作用である。ロール・ツー・ロールプロセスならびにプレート・ツー・プレートプロセスと比較したさらなる挑戦は、ロール・ツー・プレートプロセスにおいて、テクスチャリングされた表面が典型的には、より小さいサンプルへと縮小されないようにするということである。したがって、サンプルの縁部も含めた完全なサンプルが、そのような事後処理を要することなく、ロール・ツー・プレートプロセスにおいて良好な制御下で作製されなければならない。

【0005】

冒頭の段落において既に言及したように、インプリントは、基板（パネル）または型にラッカをコーティングし、型および基板を、それらの型と基板との間に存在するラッカに接触させることによって、ラッカをインプリント（テクスチャリング）することによって達成される。型として、フレキシブルなスタンプ、硬質のスタンプまたはテクスチャリングされたローラを使用することができる。コーティングを、種々のやり方で行うことができ、例えば基板またはスタンプにおけるラッカのディスペンシング、インクジェット印刷、スクリーン印刷、ジェッティング、噴霧、スロットダイコーティングまたはロールコーティングによって行うことができるが、方法はこれらに限定されるものではない。本明細書において、術語「ラッカ」とは、当業者には公知の方法によって、基板上にコーティングすることができ、かつテクスチャリング（インプリント）することができる物質であると解される。通常の場合、ラッカは、モノマー、オリゴマーを含んでおり、場合によっては光開始剤および架橋アクリレート基が添加されている。その他の考えられる材料として、硬化可能なゾルゲルおよびエポキシが挙げられるが、その他の材料はこれらに限定されるものではない。ラッカは、インプリントされたパターンを維持するために硬化することができる。これらの硬化プロセスも公知のものであり、また熱的な硬化、ＵＶ光による硬化、化学的に誘導される硬化およびそれ自体公知のその他の方法が含まれる。そのようなラッカは、コーティング、樹脂、レジストなどとも称される。また、本明細書において、ラッカによってインプリントされる部材は、基板またはパネルとも称される。それらの基板またはパネルは、例えばガラス、プラスチックまたは金属基板として半組立品であってもよいし、ディスプレイ、ライティングパネルまたはソーラーパネルとしての完成されたデバイスであってもよい。

【0006】

ロール・ツー・プレートインプリントプロセスによる、別個のパネルまたは基板のテクスチャリングは非連続的である。各パネルについて、開始・終了の瞬間が存在することになる。このプロセスの開始は、種々の挑戦を伴う。基板は、型の下に配置されなければならない。ロール・ツー・プレートプロセスにおいては、基板が、フレキシブルな型を備えているローラの下で水平方向にスライドされる。これは、各基板に対して非連続的なプロセスであるので、型と基板上に設けられたインプリントラッカとの間で最初の接触が行われることになる。型におけるテクスチャに起因して、最初の接触領域において、テクスチャリングされた型とラッカとの間にガスが閉じ込められることになる。別個の複数のチャネル、例えばレンズ状部材（レンチキュラー）を有しているテクスチャに関して、閉じ込められたガスを側方に逃がすことができる。大部分の３次元テクスチャ、特に反転された３次元テクスチャおよびランダム３次元テクスチャに関して、閉じ込められたガスまたは大部分の用途のための空気を逃がすことができない。この結果、テクスチャの不完全な複製が行われることになる。これによって、少なくとも、テクスチャの機能性の部分的な損失が発生することになり、また見栄えも悪くなる。非連続的なプレート・ツー・プレートプロセスにおいて、この問題は、真空ステップを含ませることによって解決される。周囲のロール・ツー・プレートプロセスにおいては、真空ステップは適用されない。空気の含有は、テクスチャの調整によって解消されなければならない。

【0007】

国際公開第２００７／１２３８０５号（ＷＯ２００７／１２３８０５Ａ２）には、ナノインプリント型を保持するテンプレートにおけるチャネルまたは孔を使用して部分真空を発生させることによって、ナノインプリントリソグラフィテンプレートの近傍において所望の環境を発生させて維持するためのリソグラフィインプリントシステムが記載されている。

【0008】

国際公開第２００７／１３２３２０号（ＷＯ２００７／１３２３２０Ａ２）には、とりわけ型を含んでいるナノプリントリソグラフィテンプレートが記載されており、また段落［００４１］では、その型がポリマー材料の滴と接触することが説明されている。これによって、滴が拡がって、ポリマー材料の連続的な液膜が形成される。ポリマー材料の膜は、残余滴によって包囲される。残余滴間の容積は、ガスを基板の縁部へと押し出すことができるガス通路を規定する。液膜の縁部は、それらの残余滴間の容積に存在するガスを基板の縁部へと押し出すように機能する、液体とガスの界面を規定する。その結果、液体とガスの界面はガス通路と共に、妨げられない限りは、ポリマー材料の液膜におけるガスの閉じ込めを低減させる。

【0009】

欧州特許第１９５８０２５号明細書（ＥＰ１９５８０２５Ｂ１）には、基板と型アセンブリとの間においてポリマー材料を用いるプレート・ツー・プレートプロセスが記載されている。このプロセスでは、チャックと永続的に接触している型アセンブリが使用されている。型アセンブリは、真空によって湾曲され、その結果、ガスは前述の基板と前述の型アセンブリとの間から放出され、また前述の液体によって前述の型アセンブリと基板との間で規定された容積が満たされる。

【0010】

米国特許出願公開第２００７／０２２８５８９号明細書（ＵＳ２００７／０２２８５８９Ａ１）には、基板と型アセンブリとの間においてポリマー材料を用いるプレート・ツー・プレートプロセスが記載されている。型アセンブリは、テンプレートチャックと永続的に接触している。型アセンブリは、複数の領域における真空によって湾曲され、その結果、ガスは前述の基板と前述の型アセンブリとの間から放出され、また前述の液体によって前述の型アセンブリと基板との間で規定された容積が満たされる。

【0011】

プレート・ツー・プレートプロセスにおける標準では、真空がインプリントプロセス中に適用され、また上記において述べたような空気の含有の問題は発生しない。しかしながら、コストおよびタクトタイムを低減するために、真空のレベルが低下されるべきか、それどころか真空ステップが省略されるべきである。空気の含有に取り組むその他の解決手段も従来技術において提案されている。

【0012】

韓国特許出願第２０１３０１２３７６０号には、気泡用のカメラ検出システムが提案されており、また気泡が可視のまま存在する場合には、圧力および真空ステップの長さが調整される。この提案された解決手段では、システムがより高価なものになり、またより緩慢なものになる。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0013】

本発明は、従来技術の問題の緩和または防止に努めるものである。この目的は、別個の基板、例えばディスプレイ、ライティングパネルまたはソーラーパネルをテクスチャリングまたはパターニングするための少なくとも１つのローラを用いるロール・ツー・プレートプロセスによって達成され、このロール・ツー・プレートプロセスは、インプリントラッカを連続的な層の形態で供給するステップと、後側および前側を有している型を用いてインプリントラッカをテクスチャリングするステップであって、後側は、少なくとも１つのローラと摩擦接触しており、かつ前側は、インプリントされたラッカを得るために、開口部および隆起部によって形成されており、したがってインプリントテクスチャ内に容積を生じさせる機能領域を含んでいるインプリントテクスチャを示す、ステップと、それに続くオプションとしての、テクスチャリングまたはパターニングされて凝固された層を得るために、インプリントされたラッカを硬化させるステップと、を有しており、テクスチャリングまたはパターニングが、ガスを逃がすことができるテクスチャを備えている導入領域である開始領域と、その開始領域に続く、導入領域のテクスチャとは異なるテクスチャを備えている機能領域と、を含んでいるインプリントテクスチャを用いて実施されることを特徴としている。

【0014】

本発明による方法の有利な実施の形態は、従属請求項より明らかになる。

【0015】

大部分の用途に関して、テクスチャリングプロセスは、空中で適用される。したがって、一般的な術語「ガス」の代わりに、本明細書においては空気について言及する。しかしながら本発明はまた、例えばアルゴン、ニトロゲンまたは二酸化炭素（但しこれらに限定されるものではない）のようなその他のガス条件下においても適用されるテクスチャリングプロセスにも関する。

【0016】

台湾特許出願第２０１０３６７９９号では、領域全体にわたる押圧中に空気を逃がすことができる、内部領域へと延びる幅広のトレンチが提案されている。このトレンチは、機能領域の側方に配置されているが、その機能領域には接続されていない。このトレンチは、最終製品には存在していない。何故ならば、半導体用途に関してウェハは、より小さいピースへと縮小されるからである。本発明は、空気が閉じ込められる問題を、規定された導入領域においてのみテクスチャを調整し、この調整を、テクスチャの見栄えがよくなり、かつテクスチャを除去する必要がないように行うことによって解決する。機能領域におけるテクスチャは変更されない。

【0017】

米国特許出願公開第２００８／００９９１７５号では、マイクロ構造またはナノ構造に横方向に接続されている流路が提案されている。これによって、マイクロテクスチャまたはナノテクスチャを複製するために複製材料が型に押し込まれれば、空気またはガスを逃がすことができる。流路は、最終製品の一部にはならない。本発明は、領域全体にわたる押圧によってではなく、導入領域においてインプリントプロセスを開始する。この導入領域におけるテクスチャは、空気が閉じ込められることを阻止するように変更されており、この変更は、テクスチャの見栄えがよくなり、かつテクスチャを除去する必要がないように行われている。

【0018】

以下では、添付の図面を参照しながら本発明をより詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】インプリントプロセスを概略的に示す。

【図2a】インプリントプロセス中の空気の含有部の形成を概略的に示す。

【図2b】インプリントプロセス中の空気の含有部の形成を概略的に示す。

【図2c】インプリントプロセス中の空気の含有部の形成を概略的に示す。

【図3a】オープンチャネル構造を概略的に示す。

【図3b】反転された３Ｄテクスチャ（空気を逃がすことはできない）を概略的に示す。

【図4】圧力をローラに加え、かつ少量の余剰ラッカを使用することによる、ラッカの小さい前線の形成を概略的に示す。

【図5】従来技術によるインプリントプロセスによって得られた、インプリントされたパネルを概略的に示す。

【図6】本発明によるインプリントプロセスによって得られた、インプリントされたパネルを概略的に示す。

【発明を実施するための形態】

【0020】

術語「インプリントテクスチャ」および「インプリントパターン」は、本明細書全体を通して同義に用いられている。

【0021】

図１をここで参照すると、概略的なロール・ツー・プレートインプリントプロセスが図示されている。この場合、機能インプリント層が、基板１０４の上面に設けられる。基板１０４を任意の材料から形成することができ、有利には、基板１０４はガラス、金属シート、ポリカーボネート、ＰＥＮ、ＰＥＴまたはＰＭＭＡを含んでいるか、またはそれらから作製されている。基板１０４は、表面の上面にコーティングされた１つまたは複数の付加的な層を担持することができ、例えば接着促進層および／または透明導電層（例えば酸化インジウムスズ、アルミニウムドープされた亜鉛酸化物またはフッ素ドープされた酸化スズ）を担持することができる。所望のインプリント層を、複製プロセスまたはインプリントプロセスの使用によって、基板１０４の上面に追加することができる。この場合、基板１０４は、成形可能なインプリントラッカ１０３によってコーティングされる。基板は、ガイドおよび逆圧のためのプラットホーム１１０上に配置される。プラットホーム１１０は、１つまたは複数のローラ、固定された台、可動の台、または十分な逆圧を提供するその他の任意のプラットホームであってよい。図１において、型はフレキシブルなスタンプ１００である。フレキシブルなスタンプ１００は、フレキシブルな支持スタンプベースおよびパターニングされた外面１０１を有している。このパターニングされた外面１０１は、「インプリントテクスチャ」または「インプリントパターン」とも称される。このインプリントテクスチャは、機能領域を含んでおり、この機能領域は、開口部および隆起部によって形成されており、また当業者にはレリーフパターンとして公知である。このレリーフパターンが形成された外面１０１は、基板上の所望のテクスチャのネガの（または反転された）テクスチャである。フレキシブルなスタンプベース１００およびパターニングされた外面を、同一の材料から、例えば圧延プロセスまたはホットエンボスプロセスによって作製された薄い金属シートまたはプラスチックシート（但しこれらに限定されるものではない）から作製することができる。フレキシブルなスタンプを、２つ以上の材料を使用して作製することもでき、その場合、フレキシブルなスタンプは、ベース１００としてのフレキシブルなシート、例えばＰＥＴフォイル、ＰＣフォイル、ＰＥＮフォイルまたは薄い金属シート（但しこれらに限定されるものではない）と、接着およびテクスチャリングされた有機層１０１、例えばアクリル酸塩材料、ゾルゲル材料、エポキシまたは第２のテクスチャリングされたプラスチックフォイル（但しこれらに限定されるものではない）と、を有する。フレキシブルなスタンプのロバスト性または機能性を向上させるために、より多くの層を、例えば非付着性の層を追加することもできる。有利には、フレキシブルなスタンプ１００は、０．１ギガパスカル（ＧＰａ）から１０ギガパスカル（ＧＰａ）までの、特に有利には０．５ギガパスカル（ＧＰａ）から５ギガパスカル（ＧＰａ）までのヤング率を示す。ヤング率は、ＡＳＴＭ Ｅ１１１に準拠して測定された。

【0022】

フレキシブルなスタンプ１００は、インプリントローラ１０２Ａおよび１０２Ｂを介してガイドされる。見易くするために、ローラ１０２は２つだけ図示されていることを言及しておく。フレキシブルなスタンプ１００をガイドするために、１つのローラでも十分な場合もあるが、より多くのローラを追加してもよい。ローラを硬質材料から、例えばステンレス鋼（但しこれらに限定されるものではない）から作製することができるが、有利にはローラは、５０から６０までの典型的なショアＡ高度を有している、より弾性の材料から、例えばポリクロロプレン、ポリウレタンまたはＥＰＤＭ（但しこれらに限定されるものではない）から作製されている。ローラ１０２の回転は、矢印によって示されているように、インプリント方向を表し、インプリントは、基板の先頭部１０８において開始され、基板の終端部１０９において終了する。インプリントラッカ１０３は、基板１０４の表面に供給される。テクスチャを転写するために、所望のテクスチャの反転されたテクスチャを有している外面を備えている、すなわちインプリントテクスチャ１０１を備えているフレキシブルなスタンプ１００が、基板１０４に、そのスタンプ１００と基板１０４との間に存在するインプリントラッカ１０３と共に押圧される。続いて、成形可能なインプリントラッカ１０３が、熱的にまたはＵＶ光１０６の使用によって凝固され、その結果、凝固された層１０７が生じる。図１には、成形可能なラッカが、ＵＶ光源１０５からのＵＶ光１０６の使用によって凝固される。ＵＶ光源１０５を、透明でフレキシブルなスタンプ１００の上方に配置することができる。もしくは基板１０４が透明である場合には、ＵＶ光源１０５をフレキシブルなスタンプ１００とは反対側に、すなわち透明な基板１０４の下側に配置することができる。図１において、ＵＶ光源１０５の位置は、ローラ１０２Ａとローラ１０２Ｂとの間である。ＵＶ光源１０５を、２つのローラ１０２のうちの一方に、またはローラ１０２とは反対側に配置することもできる。インプリントラッカ１０３の凝固後に、基板１０４上の凝固された層１０７からフレキシブルなスタンプが離され、その結果、凝固された層１０７を有している基板は、スタンプ１００の形態のテンプレートから離れる。

【0023】

プレート・ツー・プレートプロセスとは異なり、基板は型の下において機械的に前進方向に移動される。ローラ１０２と逆圧プラットホーム１１０との間隙を制御することができる。このことは、基板の固定の厚さに関して、型がラッカのみに接触し、基板の縁部には接触しないように、間隙を設定できることを意味している。実際のところ、ラッカ厚さが通常の場合はミクロンの範囲であり、かつ基板厚さが通常の場合は数百ミクロンの厚さで変化することから、そのような設定は困難である。したがって、基板がスタンプと接触することなく進入できる入口間隙２００を提供するために、図２ａに示されているように、第１のローラ１０２Ａを上昇させることができる。同一の間隙を、プラットホーム１１０を下降させることによって達成することができる。基板が装填された後に、テクスチャリングされたローラまたはスタンプを有するローラが再び図２ｂに示されているように下降される。第１のローラ１０２Ａの下降中に、第１の接触領域２０１においては、空気がテクスチャリングされた型とラッカとの間に閉じ込められる。図２ｃに示されているように、ローラが下降され、ラッカが存在しないガラス縁部と最初に接触する場合には、ラッカのインプリントの開始の間に、同一の第１の接触領域２０１において空気が閉じ込められる。図２ｃに示されているような、型とインプリントラッカとの間の第１の接触領域は、インプリント間隙２００が良好に制御されており、したがってローラを下降および上昇させる必要がない場合に類似する。この場合においても、型とインプリントラッカとの間の第１の接触領域に閉じ込められた空気が存在することになる。

【0024】

空気を第１の接触領域２０１から逃がすことができる特定の型テクスチャが存在する。それらの型テクスチャは、オープンチャネルを備えており、そのオープンチャネルに沿って空気を逃がすことができるテクスチャである。チャネルを備えているテクスチャの例は、型上の２Ｄレンズ状構造または格子であるか、もしくはレンズ間または角錐間にチャネルを備えている、型上のレンズアレイおよび角錐アレイである。オープンチャネルテクスチャの一例が図３ａに示されている。この例においては、角錐アレイテクスチャ３０３を備えている型がキャリア３０２上に示されている。この型が基板１０４上のインプリントラッカ１０３と接触すると、型と樹脂との間に閉じ込められた空気を、角錐アレイテクスチャにおけるチャネル３０４を介して逃がすことができる。空気が閉じ込められないその他のテクスチャは、１ミクロン未満のテクスチャ高さを有している浅いテクスチャであるか、またはそれどころかテクスチャを備えていない平坦な表面である。

【0025】

図３ｂに示されているような、型上に反転された３Ｄテクスチャまたはランダム３Ｄテクスチャが設けられている場合、型３０２と基板１０４とが、それらの型３０２と基板１０４との間に存在するインプリントラッカ１０３と共に相互に押圧されている間は、空気を逃がすことはできない。この図３ｂには、型３０２上に反転された角錐アレイ３０５が示されている。この角錐領域のテクスチャがインプリントラッカと接触すると、空気がポケットに閉じ込められて、逃げることができなくなる。空気脱出流３０６がインプリントラッカによって塞がれる。この結果、複製が不完全になり、そのような複製は見栄えが悪く、また光学テクスチャの機能を制限することになる。例えば、反転された角錐アレイ型を用いるインプリントから得られた、基板上の角錐アレイテクスチャは、角錐の空所の頂部に位置する気泡に起因して、尖鋭な先端を有さなくなる。

【0026】

上記のプロセスにおいて説明したように、型上の反転された３Ｄテクスチャまたはランダム３Ｄテクスチャを用いるインプリントプロセスの場合、空気の含有が開始領域に存在することになる。第１のローラの下降後に、図４に示されているように、ラッカの小さい前線４０１を、ローラに圧力を加え、かつインプリントラッカ１０３の少量の余剰分を使用することによって形成することができる。このラッカ前線４０１によって、空気がテクスチャ開口部４０２の外側に押し出される。反転されたテクスチャまたはランダムテクスチャにおける空気の除去の割合は、テクスチャの形状、ラッカの粘度およびインプリントの速度に依存することになる。したがって、ローラおよび型が樹脂と最初に接触する開始領域を過ぎると、機能テクスチャにおける、すなわち機能領域における空気の含有を制御および阻止することができる。しかしながら、機能層における空気の含有の前述の制御および阻止は、以下のものに制限される：
−ラッカの所定の粘度およびインプリントの所定の速度において、十分に高速な空気の除去を実現する、機能領域におけるテクスチャの形状、
−インプリントの所定の速度および機能領域におけるテクスチャの所定の形状において、ラッカが十分に高速に開口部へと流れるようにするために、十分に低くなければならないラッカの粘度、
−機能領域におけるテクスチャの所定の形状およびラッカの所定の粘度において、ラッカが機能領域の開口部を満たすには十分な時間があるようにするために、十分に低くなければならないインプリント速度。

【0027】

図５には、凝固されたインプリントテクスチャ１０７を有する、インプリントされたパネルが概略的に示されている。矢印によって示唆されており、また図１において規定したようなインプリント方向でのインプリントプロセスであるこの例に関して、インプリントプロセスは、基板の開始側１０８において開始される。インプリントプロセスは、基板の終了側１０９において終了する。テクスチャリングされた機能領域は、長さ５０３および幅５０４によって規定されている。しかしながら、型が樹脂に接触したことによるプロセスの開始時の空気の含有に起因して、良好な複製品質を有する機能層のサイズが縮小される。型上の反転された３Ｄインプリントテクスチャまたはランダム３Ｄインプリントテクスチャが使用される場合には、空気が含有されている開始領域５０６が存在することになる。この開始領域の幅は、機能領域５０７の幅と同じ幅５０４を有することになる。開始領域の長さ５０５は、ローラの直径および接触領域によって規定されている。開始領域の長さは、０．１ｍｍから５０ｍｍまでであってよい。通常の場合、空気が含有されている開始領域の長さは、０．５ｍｍから２０ｍｍまでになる。この見栄えの悪い開始領域は、機能領域の全長５０３の一部となる。

【0028】

図５には、機能領域の周囲に、何も設けられていない縁部を備えたパネルが示されている。原理的には、領域全体をインプリントすることができるか、または任意の特定の領域をコーティングおよびインプリントすることができる。いずれの場合にも、ローラおよび型が樹脂と最初に接触する開始領域には、気泡が認識される。

【0029】

そのような気泡を阻止するために、１つの解決手段によれば、型のテクスチャが変更され、空気を逃がすことができる導入領域テクスチャを有する導入領域が追加される。この導入領域６０１は、図６に示されているように、基板開始側１０８において制御されたインプリントプロセスが開始される、機能層５０７の前方に追加される。機能層５０７は、規定された幅５０４および長さ５０３でもって、空気を含有することなくインプリントされる。導入領域は、機能領域の幅５０４と同じ幅および長さ６０２を有することになる。長さは、ローラの直径および接触領域によって規定されている。典型的には、導入領域の長さは、０．１ｍｍから５０ｍｍまでであってよい。一般的に、導入領域の長さは、１ｍｍから２０ｍｍまでである。導入領域は、機能領域のテクスチャとは異なる導入領域テクスチャを有することになる。型上の導入領域のテクスチャは、空気を逃がすことができるテクスチャでなければならず、かつ平坦な表面、１ミクロン未満のテクスチャ高さを有している浅いテクスチャ、または例えばバー、レンズ状部材および格子（但しこれらに限定されるものではない）としての２Ｄテクスチャのようなチャネルを備えたテクスチャ、ならびに角錐、ブロック、柱、円錐およびレンズとしての規則的な３Ｄテクスチャであってよい。

【0030】

上述のように、導入領域のテクスチャは、空気を逃がすことができるチャネルを備えた任意のテクスチャであってよい。テクスチャの高さおよび／または深さは、型上の機能領域と導入領域とで異なっていてもよい。さらに、同一のテクスチャを、対称的な見栄えのために、機能領域の他の辺に追加することができる。したがって、１つの好適な実施の形態においては、インプリントテクスチャは、インプリントプロセスが開始される機能領域の１つの辺においてガスを逃がすことができるテクスチャを備えた導入領域を含んでおり、この場合、機能領域の１つまたは複数の別の辺は、導入領域のテクスチャと同じ外観のテクスチャを示す。

【0031】

好適な特定のテクスチャが複数存在している：
１）チャネルを備えていない機能領域におけるテクスチャと同じトラックピッチ、形状およびサイズを有している、マイクロチャネルまたはナノチャネルを備えている導入領域テクスチャ。この場合、外観は、確保されたより大きい部分のためのものである。１つの例では、機能領域５０７における反転された角錐アレイテクスチャが、同一のピッチ、角度および高さを備えている、導入領域６０１における、正反対の反転されていない角錐アレイテクスチャと組み合わされる。別の例は、型上の機能領域内の反転されたレンズ構造と同じトラックピッチ、レンズ高さおよびレンズ曲率を備えている、導入領域６０１における２Ｄレンズ状部材の使用である。

【0032】

２）導入領域は、１ミクロン未満のインプリントテクスチャ高さ変化を有している（すなわちインプリントテクスチャ開口部と隆起部との間の高さに関する距離を有している）浅いテクスチャ表面を有することができる。気泡は、平坦な樹脂表面と、型のテクスチャリングされた浅い導入領域と、の間に閉じ込められない。

【0033】

３）導入領域は、平坦な表面を有することができる。気泡は、平坦な樹脂表面と、型の平坦な導入領域との間に閉じ込められない。平坦な表面の場合、導入領域は透明になり、目立ちにくくなる。

【0034】

４）ローラが樹脂と最初に接触する導入部テクスチャを、テキスト、シンボル、バーコード、ロゴまたは図形のような、情報性の形状を追加するために使用することができる。この場合、導入領域においては、反転された情報性のテキストが、型上の平坦な領域における突出したテクスチャとなる。包囲されている領域を有している文字、数字、シンボルまたは図形、例えば文字「ｏ」は、その包囲されている領域において閉じ込められた空気を含むことになる。それらの包囲されている領域は、完全に満たされるべきか、または空気脱出チャネルを有するべきである。

【0035】

本発明の別の部分は、少なくとも１つのローラを用いて別個の基板をロール・ツー・プレートでテクスチャリングまたはパターニングするためのフレキシブルなスタンプであり、このフレキシブルなスタンプは、少なくとも１つのローラによって搬送することができる程度にフレキシブルであり、またフレキシブルなスタンプは、その外面としてインプリントテクスチャを含んでおり、このインプリントテクスチャは、機能領域を含んでおり、この機能領域は、開口部および隆起部によって形成されており、したがってインプリントテクスチャ内に容積が生じており、さらにフレキシブルなスタンプは、インプリントテクスチャが、ガスを逃がすことができるテクスチャを備えている導入領域である開始領域と、その開始領域に続く、導入領域のテクスチャとは異なるテクスチャを備えている機能領域と、を含んでいることを特徴としている。有利には、フレキシブルなスタンプは、０．１ギガパスカル（ＧＰａ）から１０ギガパスカル（ＧＰａ）までのヤング率を示す。

【図1】

【図2a】

【図2b】

【図2c】

【図3a】

【図3b】

【図4】

【図5】

【図6】