特許6738414紫外線に暴露された水性液体媒体で基板を処理する方法

発明の名称　紫外線に暴露された水性液体媒体で基板を処理する方法

出願人　ズース　マイクロテク　フォトマスク　エクイップメント　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング　ウント　コンパニー　コマンディートゲゼルシャフト　（識別番号 507146108）

　　　　特許公開件数ランキング 13975 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 11821 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6738414

公報発行日　2020年8月12

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6738414

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6738414「紫外線に暴露された水性液体媒体で基板を処理する方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録