(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明の概要】
【0007】
本開示の代表的な実施形態は、チャンバ内及びチャンバ外に位置する構成要素間の磁気
的結合によって、チャンバの中の内容物を混合するためのシステム及び方法に関する。
【0008】
特別な実施形態は、チャンバの中で磁気応答性の構成要素を移動させるために、磁場を
加えることに関する。磁気応答性の構成要素は、例えば、ボール、ディスク、又はロッド
であってもよい。特定の実施形態において、磁気応答性の構成要素を用いた磁気混合は、
以下の1つ以上の事項を助成する。即ち、1つ以上の事項とは、反応体積の底部又は側部
からの気泡の変位、凍結乾燥された反応剤の再懸濁、及び/又はワックスの反転であり、
ここでワックスの反転は、ワックス−再懸濁緩衝剤界面での表面張力を破壊することによ
って、自然に反転されなかったものである。ある実施形態において、磁気応答性の構成要
素はまた、表面張力を破壊するが、このことは、気泡がより容易に液体から脱出するのを
許すことを可能にする。更に、磁気混合は、反応体積における温度勾配を減少させるため
に、連続的に又は間欠的に使用してもよい。これは、例えば、チャンバの加熱及び/又は
冷却を含むPCRのような応用において、有利であり得る。特別な実施形態において、混
合プロセスの間、磁石はチャンバに向けて移動するが、この磁石は、磁気応答性の構成要
素を、液体のメニスカスのすぐ下まで持ち上げ、且つ、その後、磁石はチャンバから離れ
るように移動する。この混合プロセスは、磁気的引力によって、磁気応答性の構成要素を
チャンバの底部へ向ける運動、又は磁気応答性の構成要素が、重力によって、チャンバの
底部まで落下するような運動のいずれかによる。ある実施形態において、磁気応答性の構
成要素は、その上部位置で(例えば、メニスカスの近くで)、約0、1、2、3、4、又
は5秒の間、保持され、且つその低部位置で(例えば、チャンバの底部で)、約0、1、
2、3、4、又は5秒の間、保持される。特別な実施形態において、チャンバの内容物を
混合するために、磁気応答性の構成要素の、その上部位置と下部位置との間の移動は、約
15、30、60、90、120、180、240又は360秒の間、又は、約15秒か
ら約180秒までの間、30秒から120秒までの間、若しくは約60秒から約120秒
の間、若しくは約60秒から240秒までの間、若しくは約60秒から360秒までの間
、継続することが可能である。ある実施形態において、磁気応答性の構成要素の、その上
部位置と下部位置との間の移動は、チャンバの中で起こる反応の時間を通して、連続的で
あるか、又は間欠的である。特別な実施形態において、チャンバは、25μlと2mlと
の間の体積、25μlと1mlとの間の体積、25μlと500μlとの間の体積、25
μlと100μlとの間の体積、50μlと2mlとの間の体積、50μlと1mlとの
間の体積、又は50μlと500μlとの間の体積を有する。
【0009】
ある実施形態は装置を含み、該装置は、第1端部及び第2端部、並びに第1端部と第2
端部との間に延在する長手軸を備えるシャフトと、シャフトに結合されたモータであって
、該モータは、シャフトの長手軸の周りにシャフトを回転させるように構成される、モー
タと、シャフトに結合された磁石であって、該磁石は、シャフトの長手軸の近位にある第
1端部、及びシャフトの長手軸の遠位にある第2端部を備える、磁石と、チャンバを収容
するように構成されたハウジングと、を備える。特別な実施形態において、シャフトは、
第1シャフト位置から第2シャフト位置まで移動するように構成され、そこでは、第1シ
ャフト位置において、磁石の第2端部はハウジングから遠位にあり、且つ第2シャフト位
置において、磁石の第2端部はハウジングの近位にある。
【0010】
特定の実施形態において、シャフトは、第1シャフト位置から第2シャフト位置まで回
転するように構成される。幾つかの実施形態において、ハウジングは、チャンバを収容す
るように構成された挿入部を備える。ある実施形態は、ハウジング内に収容されたチャン
バ、及びチャンバ内に配置された移動可能な磁気応答性の構成要素を更に備えることが可
能である。特別な実施形態において、シャフトが第1シャフト位置にある場合、移動可能
な磁気応答性の構成要素は第1位置にあり、且つシャフトが第2シャフト位置にある場合
、移動可能な磁気応答性の構成要素は第2位置にある。
【0011】
幾つかの実施形態において、移動可能な磁気応答性の構成要素が第1位置にある場合、
移動可能な磁気応答性の構成要素は、チャンバの底面と接触しており、且つ移動可能な磁
気応答性の構成要素が第2位置にある場合、移動可能な磁気応答性の構成要素は、チャン
バの側面(しかも底面ではない)と接触している。特定の実施形態において、ハウジング
は、熱電冷却器(TEC)を備える。ある実施形態において、チャンバは、安定化された
、凍結乾燥された生体反応剤の組成を備える。特別な実施形態において、チャンバの側面
は先細りしており、且つチャンバの底面は湾曲している。特定の実施形態において、底面
は、第1半径を有して湾曲している。移動可能な磁気応答性の構成要素は、第2半径を有
する球形のボールであり、且つ第1半径は、第2半径よりも大きい。ある実施形態におい
て、第2半径(即ち、ボールの半径)は、第1半径(即ち、底面の半径)の、少なくとも
50%、60%、70%、80%、又は90%である(しかし、100%よりは小さい)
。
【0012】
特別な実施形態において、移動可能な磁気応答性の構成要素は、ボール、ディスク、又
はロッドである。ある態様において、磁気応答性の構成要素は、その寸法において、約0
.5mmと約5mmとの間の、又は約1mmと約2mmとの間の直径又は長さを有しても
よい。幾つかの実施形態において、ロッドは、おおよそ0.0625インチと0.125
インチとの間の長さを有する。特定の実施形態において、移動可能な磁気応答性の構成要
素は、ステンレス鋼のボールである。特別な実施形態において、ステンレス鋼のボールは
、400系ステンレス鋼のボールである。幾つかの実施形態において、ボールは、約1.
6mmの直径を有する。幾つかの実施形態において、ステンレス鋼の物体(例えば、ボー
ル、ディスク、又はロッド)は、その表面から遊離鉄又は他の含有物を除去するために、
不動態化されている。ステンレス鋼は、例えば、一連の酸浴によって不動態化することが
可能であるが、これら一連の酸浴は、その表面から遊離鉄又は他の含有物を取り除き、且
つ腐食からステンレス鋼を保護する均一な自然酸化層を形成する。磁気応答性の構成要素
は、好ましくは、ある材料から成るか、又はある材料で被覆されるが、ここである材料は
、その中に存在する反応条件に対して不活性である。ある態様において、磁性材料又は磁
気応答性材料は、自身が反応環境と相互作用するのを防止するために、非磁気応答性材料
ですっぽり包むか、又は非磁気応答性材料で被覆してもよい。例えば、磁性材料又は磁気
応答性材料は、セラミック、ガラス、又はプラスチック(例えば、ポリスチレン、ポリエ
チレン、ポリエテン、ポリプロピレン、ネオプレン、ポリテトラフルオロエチレン)です
っぽり包むか、又はこれらのもので被覆してもよい。
【0013】
ある実施形態において、チャンバは、ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)核酸増幅プロセ
スでの使用に適した内容物を備え、且つ移動可能な磁気応答性の構成要素は不動態化され
、その結果として、チャンバの内容物と反応しない酸化層を形成する。特別な実施形態に
おいて、チャンバは、ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)核酸増幅プロセスでの使用に適し
た反応剤を備える。
【0014】
幾つかの実施形態において、第1シャフト位置は、第2シャフト位置から、おおよそ1
5、20、25、30、35、50、60、70、80、又は90度にある。幾つかの実
施形態において、第1シャフト位置は、第2シャフト位置から、約15度から90度の間
、20度から50度の間、20度から30度の間にある。特定の実施形態は、シャフトの
回転を第1シャフト位置と第2シャフト位置との間に制限するように構成されたスイッチ
を更に備える。ある実施形態において、スイッチは、シャフトに結合されたディスクを備
える光学的スイッチである。特別な実施形態において、装置は、シャフトの回転を第1シ
ャフト位置と第2シャフト位置との間に制御するように構成されたポリメラーゼ連鎖反応
(PCR)制御モジュールに結合される。幾つかの実施形態において、PCR制御モジュ
ールは、シャフトの回転を第1シャフト位置から第2シャフト位置まで制御するように構
成され、その結果、移動可能な磁気応答性の構成要素は、おおよそ0、1、2、3、4、
5秒の間(又はこれらの中の任意の範囲)、第1位置に保持され、且つ、その後、第2位
置へ移動され、且つおおよそ0、1、2、3、4、5秒の間(又はこれらの中の任意の範
囲)、第2位置に保持される。特定の実施形態において、PCR制御モジュールは、シャ
フトの回転を第1シャフト位置から第2シャフト位置まで制御するように構成され、その
結果、移動可能な磁気応答性の構成要素は、おおよそ15、30、60、90、120、
180、240、又は360秒(又はこれらの中の任意の範囲)の間、第1位置と第2位
置との間を循環する。幾つかの実施形態において、PCR制御モジュールは、シャフトの
回転を第1シャフト位置から第2シャフト位置まで制御するように構成され、その結果、
移動可能な磁気応答性の構成要素は、第1位置と第2位置との間で循環するが、この循環
は、PCRの開始の前に、又はPCRの開始と同時に(例えば、初期変性ステップの間に
、又はもしそれが逆転写PCRである場合、逆転写段階の間に)起こる、PCRの間に間
欠的に起こる(例えば、反応における温度勾配を減少させるために、温度変化の間に混合
する)、又はPCRの全て、又はPCRのかなりの部分の間に連続的に起こる。
【0015】
ある実施形態において、48メガガウス−エルステッド(MGOe)と54メガガウス
−エルステッドとの間の最大エネルギー積(BHmax)を有する。幾つかの実施形態に
おいて、磁石は、おおよそ52MGOeの最大エネルギー積(BHmax)を有する。特
別な実施形態において、磁石の第2端部は、回転シャフトの長手軸から、おおよそ0.7
0、0.75、0.80、0.82、0.85、又は0.90インチ(又はこれらの中の
任意の範囲)に位置する。幾つかの実施形態において、システムが第1シャフト位置にあ
る場合、磁石の第2端部は、移動可能な磁気応答性の構成要素の質量中心から、おおよそ
0.10、0.15、0.20.0.21、0.22、又は0.25インチ(又はこれら
の中の任意の範囲)にある。装置は次のように構成してもよい。即ち、磁石が第2位置に
ある場合、磁石は、磁気応答性の構成要素を磁気的に引き付けるのに、単に十分近い位置
にあるか、又は、磁石が第2位置と第1位置の両方にある場合、磁石は、磁気応答性の構
成要素を磁気的に引き付けるのに、十分近い位置にある。磁気応答性の構成要素を、その
下部位置まで磁気的に引き付けることは、要望に応じて、重力だけによる場合よりも、磁
気応答性の構成要素を下部位置まで、より速く移動させるための能力を提供する。特定の
実施形態において、磁石は長手方向に磁化される。ある実施形態において、磁石はネオジ
ムから成る。特別な実施形態において、磁石は、おおよそ0.125インチの直径及び0
.375インチの長さを有する円筒の形状をしている。幾つかの実施形態において、ハウ
ジングは、磁石を収容するように構成された第1開口部を備え、その結果、シャフトが第
2シャフト位置にある場合、磁石の第2端部は、第1開口部の中に延在する。ある実施形
態において、シャフトが第1シャフト位置にある場合、磁石の第2端部はまた、第1開口
部の中に延在してもよい、又は第1開口部の中に部分的に延在してもよい。特定の実施形
態において、ハウジングは、チャンバを収容するように構成された第2開口部を備える。
特別な実施形態において、ハウジングは、光ファイバケーブルを収容するように構成され
た第3開口部を備える。幾つかの実施形態において、ハウジングは、第2光ファイバケー
ブルを収容するように構成された第4開口部を備える。ある実施形態において、ハウジン
グは、円錐形の空間を画定する挿入部を備える。
【0016】
幾つかの実施形態は装置を含み、該装置は、第1端部及び第2端部、並びに第1端部と
第2端部との間に延在する長手軸を備えるシャフトと、シャフトに結合されたモータであ
って、該モータは、シャフトの長手軸の周りにシャフトを回転させるように構成される、
モータと、シャフトの長手軸に沿ってシャフトに結合された複数の磁石であって、各磁石
は、シャフトの長手軸の近位にある第1端部、及びシャフトの長手軸の遠位にある第2端
部を備える、複数の磁石と、直線軸に沿って配列された複数のハウジングを備えるモジュ
ールと、を備える。モジュールは、例えば、4個から24個のハウジング、4個から12
個のハウジング、4個から8個のハウジング、4個から6個のハウジング、6個から24
個のハウジング、又は6個から12個のハウジングを備えてもよい。特定の実施形態にお
いて、シャフトの長手軸は、複数のハウジングの直線軸に実質的に平行であり、且つ複数
の磁石の各磁石は、複数のハウジングの対応するハウジングと一列に整列される。
【0017】
ある実施形態において、シャフトは、各磁石の第2端部が、対応するハウジングから遠
位にある第1シャフトから回転するように構成され、且つシャフトは、各磁石の第2端部
が、対応するハウジングから近位にある第2シャフト位置まで回転するように構成される
。特別な実施形態は、複数のハウジングの各ハウジング内に配置されたチャンバと、各チ
ャンバ内に配置された移動可能な磁気応答性の構成要素と、を更に備える。幾つかの実施
形態において、シャフトが第1位置にある場合、各磁石の第2端部は、チャンバの側面の
遠位にあり、且つシャフトが第2位置にある場合、各磁石の第2端部は、チャンバの側面
の近位にあり、且つチャンバの底面の遠位にある。特定の実施形態において、シャフトが
第1シャフト位置にある場合、各チャンバにおける移動可能な磁気応答性の構成要素は、
チャンバの底面と接触した状態で第1位置にあり、且つシャフトが第2シャフト位置にあ
る場合、各チャンバにおける移動可能な磁気応答性の構成要素は、チャンバの側面に接触
した状態で第2位置にあり、且つチャンバの底面に接触していない状態にある。
【0018】
ある実施形態において、各チャンバの側面は先細りしており、且つ各チャンバの底面は
湾曲している。特別な実施形態において、ハウジングは、熱電冷却器(TEC)を備える
。幾つかの実施形態において、各チャンバは、安定化された、凍結乾燥された生体反応剤
の組成を備え、該生体反応剤は、ヌクレオシド三燐酸塩(NTP)及びポリメラーゼ酵素
を備える、凍結乾燥されたペレットを備える。特別な実施形態において、移動可能な磁気
応答性の構成要素は、ステンレス鋼のボールである。ある態様において、磁気応答性の構
成要素は、その最長寸法において、約0.5mmから約5mmの間の、又は約1mmから
約2mmの間の、直径又は長さを有してもよい。幾つかの実施形態において、移動可能な
磁気応答性の構成要素は、おおよそ0.0625インチの直径を有する球体(即ち、ボー
ル)である。特定の実施形態において、各チャンバは、ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)
核酸増幅プロセスでの使用に適した内容物を備え、且つそこでは、移動可能な磁気応答性
の構成要素は、不動態化され、その結果として、チャンバの内容物と反応しない酸化層を
形成する。ある実施形態において、各チャンバは、ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)核酸
増幅プロセスでの使用に適した反応剤を備える。特別な実施形態において、各チャンバは
液体を更に備える。
【0019】
幾つかの実施形態において、シャフトが第1シャフト位置にある場合、各チャンバにお
ける移動可能な磁気応答性の構成要素は、チャンバの底面と接触しており、シャフトが第
2シャフト位置にある場合、各チャンバにおける移動可能な磁気応答性の構成要素は、チ
ャンバの側面に接触する第2位置にあり、且つ移動可能な磁気応答性の構成要素の第2位
置は、液体の表面とチャンバの底面との間に位置する。特定の実施形態において、第1シ
ャフト位置は、第2シャフト位置から、おおよそ15、20、25、30、35、50、
60、70、80、又は90度にある。幾つかの実施形態において、第1シャフト位置は
、第2シャフト位置から、約15度から90度、20度から50度、又は20度から30
度の間にある。
【0020】
ある実施形態は、シャフトの回転を第1シャフト位置と第2シャフト位置との間に制限
するように構成されたスイッチを更に備える。特別な実施形態において、スイッチは、シ
ャフトに結合されたディスクを備える光学的スイッチである。幾つかの実施形態において
、装置は、シャフトの回転を第1シャフト位置と第2シャフト位置との間で制御するよう
に構成された、ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)制御モジュールに結合される。特定の実
施形態において、PCR制御モジュールは、シャフトの回転を第1シャフト位置から第2
シャフト位置まで制御するように構成され、その結果、移動可能な磁気応答性の構成要素
は、おおよそ0、1、2、3、4、5秒(又はこれらの中の任意の範囲)の間、第1位置
に保持され、且つ、その後、第2位置まで移動され、且つおおよそ0、1、2、3、4、
5秒(又はこれらの中の任意の範囲)の間、第2位置に保持される。ある実施形態におい
て、PCR制御モジュールは、シャフトの回転を第1シャフト位置から第2シャフト位置
まで制御するように構成され、その結果、移動可能な磁気応答性の構成要素は、おおよそ
15、30、60、90、120、180、240、又は360秒(又はこれらの中の任
意の範囲)の間、第1位置と第2位置との間を循環する。幾つかの実施形態において、P
CR制御モジュールは、シャフトの回転を第1シャフト位置から第2シャフト位置まで制
御するように構成され、その結果、移動可能な磁気応答性の構成要素は、第1位置と第2
位置との間を循環するが、この循環は、PCRの開始の前に、又はPCRの開始と同時に
(例えば、初期変性ステップの間に、又はもしそれが逆転写PCRである場合、逆転写段
階の間に)起こる、PCRの間に間欠的に起こる(例えば、反応における温度勾配を減少
させるために、温度変化の間に混合する)、又はPCRの全て、又はPCRのかなりの部
分の間に連続的に起こる。
【0021】
他の実施形態は、本明細書で開示されるような装置を用いた、反応剤を混合する方法を
含む。本方法は、例えば、装置を獲得することであって、該装置は、磁気応答性の構成要
素及び反応剤を包含するチャンバと、回転シャフトに結合された磁石と、を備え、シャフ
トは、第1シャフト位置から第2シャフト位置まで移動するように構成され、第1シャフ
ト位置において、磁石の第2端部はチャンバから遠位にあり、且つ第2シャフト位置にお
いて、磁石の第2端部はチャンバの近位にある、ことと、シャフトを第1位置から第2位
置まで移動させることであって、磁気応答性の構成要素は、チャンバ内で第1位置から第
2位置まで移動され、これによって反応剤を混合する、ことと、を備えてもよい。反応剤
は、例えば、PCR反応剤及び/又は逆転写反応剤であってもよい。幾つかの実施形態に
おいて、反応剤は酵素を備えてもよい。ある実施形態において、酵素は、ポリメラーゼ、
エンドヌクレアーゼ、又はエキソヌクレアーゼであってもよい。ある実施形態は、ポリメ
ラーゼ連鎖反応(PCR)の間に反応剤を混合する方法を含む。特定の実施形態において
、本方法は、装置を獲得することを含み、該装置は、磁気反応性の構成要素及び反応剤を
包含するチャンバであって、反応剤はPCRに適している、チャンバと、磁気応答性の構
成要素を、チャンバ中の第1位置とチャンバ中の第2位置との間で(例えば、チャンバの
底面とチャンバの側面との間で)移動させるように構成された磁石と、を備える。特別な
実施形態は、回転シャフトに結合された磁石を含むことが可能であり、ここでシャフトは
、第1シャフト位置から第2シャフト位置まで移動するように構成され、且つ第1シャフ
ト位置において、磁石の第2端部は、チャンバから遠位にあり、且つ第2シャフト位置に
おいて、磁石の第2端部は、チャンバの近位ある。ある実施形態において、本方法は、シ
ャフトを第1位置から第2位置まで移動させることであって、磁気応答性の構成要素は、
チャンバ内で第1位置から第2位置まで移動され、これによって反応剤を混合する、こと
、を含む。
【0022】
特別な実施形態において、チャンバは底面及び側面を備え、且つそこでは、磁気応答性
の構成要素は、第1位置において底面と接触し、且つそこでは、磁気応答性の構成要素は
、第2位置において側面と接触する。幾つかの実施形態において、磁気応答性の構成要素
は、第1位置から第2位置まで移動され、且つおおよそ0、1、2、3、4、5秒(又は
これらの中の任意の範囲)の間、第2位置において保持され、且つ、磁気応答性の構成要
素は、第2位置から第1位置まで移動され、且つおおよそ0、1、2、3、4、5秒(又
はこれらの中の任意の範囲)の間、第1位置において保持される。特定の実施形態におい
て、磁気応答性の構成要素は、おおよそ15、30、60、90、120、180、24
0、又は360秒(又はこれらの中の任意の範囲)の間、第1位置と第2位置との間を循
環する。ある実施形態において、移動可能な磁気応答性の構成要素は、第1位置と第2位
置との間を循環するが、この循環は、PCRの開始前に、又はPCRの開始と同時に(例
えば、初期変性ステップの間に、又はもしそれが逆転写PCRである場合、逆転写段階の
間に)起こる、PCRの間に間欠的に起こる(例えば、反応における温度勾配を減少させ
るために、温度変化の間に混合する)、又はPCRの全て、又はPCRのかなりの部分の
間に連続的に起こる。特別な実施形態において、反応剤の少なくとも1つは、凍結乾燥さ
れた形態で提供される。幾つかの実施形態において、チャンバの側面は先細りしており、
且つチャンバの底面は湾曲している。本方法の特定の実施形態において、底面は第1半径
を有して湾曲しており、移動可能な磁気応答性の構成要素は、第2半径を有する球形のボ
ールであり、且つ第1半径は、第2半径よりも大きい。本方法のある実施形態は、最初の
PCRサイクルが始まる前に、磁気応答性の構成要素を移動させることを備える。特別な
実施形態は、各PCRサイクルの少なくとも一部分の間に、磁気応答性の構成要素を移動
させることを備える。
【0023】
幾つかの実施形態において、磁気応答性の構成要素の移動は、温度を徐々に上げる段階
の間に起こる。特定の実施形態において、磁気応答性の構成要素の、第1位置から第2位
置までの移動は、チャンバの中の温度勾配を減少させる。ある実施形態は、ポリメラーゼ
連鎖反応の前、及びポリメラーゼ連鎖反応の間に、磁気応答性の構成要素を移動させるこ
とを備える。特別な実施形態は、逆転写反応の始まる前に、磁気応答性の構成要素を移動
させることを備える。幾つかの実施形態は、逆転写反応の少なくとも一部分の間に、磁気
応答性の構成要素を移動させることを備える。特定の実施形態は、ポリメラーゼ連鎖反応
の前に、及びポリメラーゼ連鎖反応の間に、磁気応答性の構成要素を移動させることを備
える。
【0024】
ある実施形態において、磁気応答性の構成要素の、第1位置から第2位置までの移動は
、チャンバの中の溶融したワックス層を反転させる。本方法の特別な実施形態において、
磁気応答性の構成要素は球体である。本方法の幾つかの実施形態において、球体は、おお
よそ0.0625インチの直径を有する。本方法の特定の実施形態において、磁気応答性
の構成要素は、第1直径を有するディスク又は球体であり、且つそこでは、磁気応答性の
構成要素の、第1位置から第2位置までの距離は、第1直径の2倍の値と、第1直径の5
倍の値との間にある。ある実施形態において、反応剤はポリメラーゼ連鎖反応(PCR)
反応剤である。特別な実施形態において、反応剤は逆転写反応剤である。幾つかの実施形
態において、反応剤は酵素を備え、且つ特定の実施形態において、酵素はポリメラーゼ、
エンドヌクレアーゼ、又はエキソヌクレアーゼである。
【0025】
ある実施形態は装置を含み、該装置は、ハウジングと、ハウジング内に配置された挿入
部であって、該挿入部はチャンバを収容するように構成される、挿入部と、挿入部上の第
1場所の近位にある第1電磁石と、挿入部上の第2場所の近位にある第2電磁石と、を備
える。特別な実施形態において、第1電磁石及び第2電磁石は、交互に且つそれぞれ、挿
入部上の第1場所及び第2場所に磁力を加えるように構成される。幾つかの実施形態にお
いて、挿入部は、第1端部及び第2端部を有する先細りした側面によって画定される円錐
形の空間を備え、第1端部は、直径において、第2端部よりも大きく、第1端部は開いて
おり、且つ第2端部は閉じており、挿入部上の第1場所は、挿入部の第1端部と第2端部
との間に位置し、且つ第2場所は、挿入部の第2端部の近位に位置する。
【0026】
幾つかの実施形態は、挿入部内に収容されたチャンバと、チャンバ内に配置された移動
可能な磁気応答性の構成要素と、を更に備える。特定の実施形態において、磁力を加える
ための第1電磁石が起動される場合、移動可能な磁気応答性の構成要素は第1位置にあり
、且つ磁力を加えるための第2電磁石が起動される場合、移動可能な磁気応答性の構成要
素は第2位置にある。ある実施形態において、チャンバは、ポリメラーゼ連鎖反応(PC
R)核酸増幅プロセスでの使用に適した内容物を備え、且つ移動可能な磁気応答性の構成
要素は、不動態化され、その結果として、チャンバの内容物と反応しない酸化層を形成す
る。特別な実施形態において、チャンバは、ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)核酸増幅プ
ロセスでの使用に適した反応剤を備える。
【0027】
ある実施形態は装置を含み、該装置は、ハウジングと、ハウジング内に配置された挿入
部であって、該挿入部はチャンバを収容するように構成される、挿入部と、挿入部上の第
1場所に近位の電磁石であって、該電磁石は、挿入部上の場所に対して交互に磁力を加え
るように構成される、電磁石と、を備える。特定の実施形態において、挿入部は、第1端
部及び第2端部を有する先細りした側面によって画定される円錐形の空間を備え、第1端
部は、直径において、第2端部よりも大きく、第1端部は開いており、且つ第2端部は閉
じており、且つ、挿入部上の第1場所は、挿入部の第1端部と第2端部との間に位置する
。
【0028】
ある実施形態は、挿入部内に収容されたチャンバと、チャンバ内に配置された移動可能
な磁気応答性の構成要素と、を更に備える。特別な実施形態において、移動可能な磁気応
答性の構成要素は、磁力を加えるための電磁石が励磁される場合、移動可能な磁気応答性
の構成要素は第1位置にあり、且つ磁力を加えるための電磁石が励磁されない場合、移動
可能な磁気応答性の構成要素は第2位置にある。ある実施形態において、チャンバは、ポ
リメラーゼ連鎖反応(PCR)核酸増幅プロセスでの使用に適した内容物を備え、且つ移
動可能な磁気応答性の構成要素は、不動態化され、その結果として、チャンバの内容物と
反応しない酸化層を形成する。特別な実施形態において、チャンバは、ポリメラーゼ連鎖
反応(PCR)核酸増幅プロセスでの使用に適した反応剤を備える。
【0029】
用語「結合された」は、接続されたと定義されるが、ただし必ずしも直接に、そして必
ずしも機械的に接続されるわけではない。2つの品目は、もしそれらが互いに結合され得
る場合、「結合可能」であり、且つ、2つの品目は、それらが結合される場合、依然とし
て「結合可能」と特徴付けてもよい。文脈がそうでないと明確に要求しない限り、結合可
能である品目はまた、分離可能であり、且つ逆も成立する。第1構造が第2構造に結合可
能であるような1つの非限定的方法では、第1構造は、第2構造に結合されるように構成
される(又は結合可能なように構成される)はずである。
【0030】
用語「1つの(”a”及び”an”)」は、この開示が明確にそうでないと要求しない
限り、1つ以上と定義される。
【0031】
用語「実質的に(”substantially”)」及びその変形(例えば,「おお
よそ(”approximately)」及び「約(”about”)」は、当業者の1
人が理解するような、大部分は明記されるものと定義されるが(且つ明記されるものを完
全に含む)、しかし必ずしも完全に明記されるものとは定義されない。開示された任意の
実施形態において、用語「実質的に(”substantially”)」、「おおよそ
(”approximately)」及び「約(”about”)」は、明記されるもの
「の範囲内(パーセンテージ)」で代用してもよく、そこでのパーセンテージは、0.1
、1、5、及び10パーセントを含む。
【0032】
要素「備える(”comprise”)」(並びに、”comprises”及び”c
omprising”のようなcompriseの任意の形態)、「有する(”have
”)」(並びに、”has”及び”having”のようなhaveの任意の形態)、「
含む(”include”)」(並びに、”includes”及び”includin
g”のよなincludeの任意の形態)、及び「包含する(”contain”)」(
並びに、”contains”及び”containing”のようなcontainの
任意の形態)は、拡張可能な連結動詞である。その結果、1つ以上のステップ又は要素を
「備える(”comprise”)」、「有する(”has”)」、「含む(”incl
udes”)」、又は「包含する(”contains”)」方法又は装置は、それらの
1つ以上のステップ又は要素を所有するが、しかしそれらの1つ以上の要素だけを所有す
ることに限定されない。同様に、1つ以上の特徴を「備える(”comprise”)」
、「有する(”has”)」、「含む(”includes”)」、又は「包含する(”
contains”)」方法のステップ又は装置の要素は、それらの1つ以上の特徴を所
有するが、しかしそれらの1つ以上の特徴だけを所有することに限定されない。例えば、
超音波トランスデューサを備えるシステムは、1つのサンプル蓄積ユニットを有するが、
しかし1つ以上の超音波トランスデューサを有してもよい。
【0033】
更に、ある方法で構成される装置又は構造は、少なくともその方法で構成されるが、し
かし列挙されていない方法で構成してもよい。メートル単位系は、最も近いミリメートル
への変換、及び最も近いミリメートルへの切上げを適用することによって提供される英単
位系から導き出してもよい。
【0034】
この開示又は、実施形態の性質によって明白に禁止されない限り、一実施形態の特徴(
複数を含む)を他の実施形態に適用してもよく、このことは、説明されない場合又は例示
されない場合でさえもあてはまる。
【0035】
任意の開示された装置及び方法の任意の実施形態は、任意の説明された要素及び/又は
特徴/及び又はステップを備える/含む/包含する/有するというよりも、任意の説明さ
れた要素及び/又は特徴/及び又はステップからなる、又は、本質的に任意の説明された
要素及び/又は特徴/及び又はステップからなることが可能である。従って、任意の請求
項において、用語「成る(”consisting of”)」又は「本質的に成る(”
consisting essentially of”)」は、上で引用された任意の
拡張可能な連結動詞で代用することが可能であるが、これは、拡張可能な連結動詞を用い
ることで、他の状態になるであろうということから、与えられた請求項の範囲を変化させ
るためである。
【0036】
他の特徴及び関連する利点は、添付図面と関連付けて、特定の実施形態に関する次の詳
細な説明を参照することで、明らかとなるであろう。
【0037】
以下の図面は、制限としてではなく、例として説明するものである。簡潔さ及び明瞭さ
のために、与えられた構造のあらゆる特徴は、構造が現れるあらゆる図において、ラベル
付けされていないかもしれない。同一の参照符号は、必ずしも同一の構造を指し示してい
ない。むしろ、同じ参照符号は、同様な特徴又は、同一の参照符号でないが、同様な機能
性を有する特徴を指し示すために使用されるかもしれない。
【発明を実施するための形態】
【0039】
添付図に例示され、且つ以下の説明で詳述される非限定的な実施形態を参照しながら、
様々な特徴及び有利な詳細がより完全に説明される。しかしながら、理解されるべきこと
であるが、詳細な説明及び特定の例は、それらが本発明の実施形態を指し示す一方で、例
証としてのみ与えられており、且つ制限として与えられていない。当業者にとっては、様
々な置換、変更、付加、及び/又は再配列が、この開示から明らかになるであろう。
【0040】
以下の説明においては、開示された実施形態の完全な理解を提供するために、多数の特
定の詳細が提供される。しかしながら、1つ以上の特定の詳細が無くても、又は他の方法
、構成要素、材料などを用いることで、本発明が実行されるかもしれないことを、関連技
術の当業者であれば、明確に理解するであろう。他の実例において、よく知られた構造、
材料、又は動作は、本発明の不明瞭な態様を避けるために、示されない又は詳細に説明さ
れない。理解されることであるが、明瞭さを目的として、各図の中のあらゆる構成要素に
対して、全ての参照符号が示されるわけではない。
【0041】
最初に
図1から
図6を参照すると、核酸増幅のために構成されたポリメラーゼ連鎖(P
CR)モジュール式アセンブリ50は、熱電冷却器(TEC)サブアセンブリ200に結
合された磁気作動アセンブリ100を備える。図示された実施形態において、(PCR)
モジュール式アセンブリ50はまた、PCR制御モジュール60を備え、ここでPCR制
御モジュール60は、例えば、磁気作動アセンブリ100のシャフト110の移動又は回
転を含めて、磁気作動アセンブリ100を制御するように構成される。
【0042】
特に
図2から
図6を参照すると、磁気作動アセンブリ100はシャフト110を備え、
ここでシャフト110は、継手125(例えば、ベロー継手)を介して電気モータ120
に結合される。図示された実施形態において、磁気作動アセンブリ100はまた、支持プ
レート130、及びシャフト110を支持する支持部材135を備える。特別な実施形態
において、支持部材135は、プラスチックのブッシングを包含する枕ブロックとして構
成することが可能である。磁気作動アセンブリ100はまた、1つ以上のスイッチ115
を備えてもよく、ここでスイッチ115は、以下で更に詳細に説明されるように、シャフ
ト110の回転を制限することが可能である。
【0043】
図示された実施形態において、シャフト110は、第1端部111及び第2端部112
を備え、これらの端部は、第1端部と第2端部との間に延在する長手軸113を有する。
図示された実施形態はまた、長手軸113に沿ってシャフト110に結合された複数の磁
石150を備える。
【0044】
磁気作動アセンブリ100はまた、複数の保持部材160を備え、ここで保持部材16
0は、他の構成要素(例えば、光ファイバケーブル161)が磁気作動アセンブリ100
の動作を妨害することを止めるように構成される。
図4及び
図5に示すように、TECサ
ブアセンブリ200はまた、加熱モジュール201及び熱シンク202を備えることが可
能である。
【0045】
図3及び
図6に示すように、TECサブアセンブリ200は、各々がハウジング205
内に配置された複数の挿入部250を備える。代表的な実施形態において、挿入部250
は、アルミニウムTECブロックとして構成することが可能であり、ここでアルミニウム
TECブロックは、
図7及び
図8に示すように、チャンバ230へ熱エネルギーを伝導す
るように構成される(例えば、PCR管)。代表的な実施形態において、ハウジング20
5は、TECブロック絶縁体として構成してもよい。
【0046】
図7及び
図8に示すように、挿入部250は、チャンバ230を収容するように構成す
ることが可能である。特別な実施形態において、挿入部250は、チャンバ230を収容
するように構成された円錐形の空間210を備える。図示された実施形態において、挿入
部250の円錐形の空間210は、先細りした側面270によって画定され、ここで先細
りした側面270は、大きめで開いた第1端部271、及び小さめで閉じた第2端部27
2を有する。図示された実施形態において、複数のハウジング205が直線軸217に沿
って配列され、ここで直線軸217は、シャフト110の長手軸113に実質的に平行で
ある(
図5に示されている)。例示された実施形態において、各磁石150は、対応する
ハウジング205と一列に整列される。
【0047】
特別な実施形態において、各チャンバ230は、先細りした側面211、及び湾曲した
底面212を備え、その結果、側面211及び底面212は、一般的に円錐形の構造を形
成する。理解されることであるが、この開示を通して使用される用語「側面」及び「底面
」は、図面に関する参照目的のためだけに使用されている。例えば、チャンバ230の方
位に依存して、底面212は、必ずしもチャンバ230の絶対的に最も低い部分になけれ
ばならないことはない。動作の間、チャンバ230は、PCR核酸増幅のために使用され
る、多くの異なる構成要素を備えてもよい。例えば、チャンバ230は反応剤を備えても
よく、ここで反応剤は、緩衝剤、ヌクレオチド、改変ヌクレオチド、プライマ、探索剤、
酵素、糖分、及び安定剤を含む。
【0048】
ある実例において、PCRプロセスでの効率及び精度を促進するために、反応剤が一緒
に十分混合されるのを保証することは望ましいと言える。しかしながら、構成要素の混合
はまた、望ましくない効果を作り出すこともある。例えば、混合は、光ファイバケーブル
161による光学的検出を妨げる泡を作り出す場合がある。加えて、あるPCRプロセス
は、蒸発を減少させるために、反応剤214の上面に絶縁層213(例えば、油層又はワ
ックス層)を含むことが可能である。特定の実施形態において、絶縁層213は、25μ
Lのドコサンワックス又は鉱油を備えてもよい。もし混合プロセスが適切に制御されない
場合、絶縁層213は、反応剤214と共に乳化する場合あり、これによって、蒸発を増
加させ、且つPCR検出及びPCR分析における精度を減少させる。
【0049】
本開示の実施形態は、制御されたやり方で、PCR反応剤の混合を準備するが、その制
御されたやり方は、望まれない泡形成の可能性、又は絶縁層213と反応剤214の乳化
の可能性を減少させる。特別な実施形態は、チャンバ230内に配置された、移動可能な
磁気応答性の構成要素220を備える。ある実施形態において、移動可能な磁気応答性の
構成要素220は、磁性のある400系ステンレス鋼(例えば、440C等級)のボール
として構成してもよく、ここでこのステンレス鋼のボールは、不動態化されて、非反応性
の酸化層を形成する。特定の実施形態において、移動可能な磁気応答性の構成要素220
は、チャンバ230の底面212の寸法に関連して寸法取りしてもよい。例えば、移動可
能な磁気応答性の構成要素220は、磁性のあるボールであり得、この磁性のあるボール
は、底面212の最も低い部分(例えば、絶縁層213から遠位にある部分)と係合する
が、同時に先細りした側面211とは係合しないように寸法取りされる。特に、移動可能
な磁気応答性の構成要素220は、半径R1を有する球形状又はボール形状であり得、こ
こでR1は、底面212の半径R2よりも小さい。このことは、移動可能な磁気応答性の
構成要素220が、チャンバ230を通して十分に内容物と係合し、且つ内容物を混合す
ることを可能にするが、その際、移動可能な磁気応答性の構成要素220と底面212と
の間に泡を閉じ込めることはない。特定の実施形態において、移動可能な磁気応答性の構
成要素220は、1/16(0.0625)インチ直径(即ち、1/32又は0.031
25インチ半径)を有する球形のボールとして構成することが可能である。
【0050】
さて
図7から
図10を参照すると、磁気作動アセンブリ100は、シャフト110が、
第1シャフト位置117から第2シャフト位置119まで移動する(例えば回転する)よ
うに作動することが可能である。
図7及び
図8に示すように、磁石150は、結合器15
5を介してシャフト110に結合されるが、ここで結合器は、シャフト110の軸113
から一定の間隔を空けて磁石150を配置する。この実施形態において、各磁石150は
、長手軸113の近位にある第1端部151、及び長手軸113の遠位にある第2端部1
52を備える。そのような配置によって、シャフト110が回転する際、第2端部152
は、第1端部151よりも広い回転円弧を描いて動くことが可能である。
【0051】
図示された実施形態において、スイッチ115(
図2に示される)は、シャフト110
の回転を第1シャフト位置117と第2シャフト位置119との間に制限することが可能
である。特別な実施形態において、スイッチ115は、光学的スイッチとして構成しても
よく、ここで光学的スイッチは、シャフト110の回転を第1シャフト位置と第2シャフ
ト位置との間で、おおよそ25度に制限する。特定の実施形態において、スイッチ115
はディスク116を備え、ここでディスク116は、スイッチ115内の光学経路を遮断
して、シャフト110の回転を制御する。
【0052】
第1シャフト位置117において(
図7及び
図9に示される)、磁石150の第2端部
152は、チャンバ230から遠位にある。第1位置において、移動可能な磁気応答性の
構成要素220はまた、チャンバ230の底面212に接触する。特別な実施形態におい
て、磁石150は、軸方向に磁化された磁石であってもよい。そのような構成によって、
シャフト110が第1位置にある場合、磁石150は、底面212に向けて、移動可能な
磁気応答性の構成要素220上に磁力を及ぼすことが可能である。このことは、移動可能
な磁気応答性の構成要素220と反応剤214との間の粘性抗力に打ち勝つのに役立ち、
且つ移動可能な磁気応答性の構成要素220が底面212と接触するのを援助する。ある
場合には、粘性力に打ち勝つことで、移動可能な磁気応答性の構成要素220と底面21
2との間の接触を保証するのは、重力の力だけでは十分でないかもしれない。
【0053】
シャフト110の第2シャフト位置119(
図8及び
図10に示される)において、磁
石150の第2端部152はチャンバ230の近位にあり、且つ磁石150が及ぼす磁力
の結果として、移動可能な磁気応答性の構成要素220は、チャンバ230の側面211
と接触する。
図8に示すように、第2シャフト位置119において、移動可能な磁気応答
性の構成要素220は、絶縁層213と反応剤214の界面215の下に(例えば、界面
215と底面212との間に)位置する。底面212に接触する第1位置と側面211に
接触する第2位置との間での、移動可能な磁気応答性の構成要素220の再配置は、チャ
ンバ230の内容物の混合を促進することが可能である。
【0054】
図3、
図9及び
図10に示すように、各ハウジング205は、磁石150に面するスロ
ット又は開口部206を含んでもよい。
図9に示される第1位置において、磁石150は
、開口部206の下部の近位にあり、且つ
図10に示される第2位置において、磁石15
0は、開口部206の中に延在し、且つ開口部206の上端部の近位にある。開口部20
6は磁石150を収容するように構成され、その結果、シャフト110が第2シャフト位
置119にある場合、磁石150の第2端部152は、開口部206の中に延在する。
【0055】
ある実施形態において、ハウジング205は、加熱モジュール201によって提供され
たチャンバ230中の熱エネルギーを保持するための、絶縁体又は熱ブロックとして機能
してもよい。加えて、ハウジング205は、光ファイバケーブル161を収容すると共に
結合するための開口部207を備えてもよい。更に、ハウジング205は、チャンバ23
0を収容するための開口部208、及びチャンバ230の側面270を係合するように構
成された、(一般に円錐形状を画定する)先細りした壁221を備えてもよい。
【0056】
特別な実施形態において、移動可能な磁気応答性の構成要素220を、おおよそ3秒間
、第2位置に保持し、且つ、その後、チャンバ230の内容物を混合するために、おおよ
そ3秒間、第1位置まで逆に移動させることが可能である。ある実施形態において、第1
位置と第2位置との間の、移動可能な磁気応答性の構成要素220のこの循環は、おおよ
そ90秒間、繰り返すことが可能である。特別な実施形態において、第1シャフト位置と
第2シャフト位置との間のシャフト110の回転は、PCRモジュール式アセンブリ50
のPCR制御モジュール60によって制御することが可能である。
【0057】
特定の実施形態において、チャンバ230は、生体反応剤を備えてもよく、ここで該生
体反応剤は、環境温度で本質的に不安定であり、且つ凍結乾燥を経て糖分で安定化される
。生体反応剤の凍結乾燥は、低水分含有量(例えば、5パーセント以下)を有する材料の
生成という結果になり、且つ凍結乾燥された材料の機能は、もしそれが乾燥状態で保管さ
れない場合、損なわれる。凍結乾燥された材料の継続的な安定性は、それ故に、水分吸収
を妨げるための方法を要求するが、その方法は、乾燥した湿度環境中での二次的な容器、
格納庫などを含む。ある例において、凍結乾燥された材料のための水分バリアを作り出す
ために、ワックスの層を使用することが可能であるが、このワックスの層は、凍結乾燥さ
れた反応剤の安定性を改善する。
【0058】
ある実施形態において、凍結乾燥された材料は、絶縁層213によって安定化すること
が可能であるが、このことは、低湿度環境に対する特別な要求無しに、周囲条件でサンプ
ル取り出しカセットを格納することを可能にする。前述のように、絶縁層213はまた、
蒸発を減少させるための、又は蒸発を防止するための、PCR中の蒸気バリアとして使用
することが可能である。PCRサイクルの後、絶縁層213(例えば、ワックス)はまた
、潜在的な増幅産物汚染に対する完全な又は部分的なバリアを、凝固させると共に作り出
すことが可能である。増幅産物を除去するのは困難な場合があるが、それは、もし増幅産
物が実験を汚染し、且つ固体ワックスが、増幅産物の除去が起こる機会を著しく減少させ
る場合である。
【0059】
本明細書で説明される混合プロセスは、絶縁層213の反転を援助することが可能であ
るが、ここで絶縁層213は、絶縁層−再懸濁緩衝剤界面における表面張力を破壊するこ
とによって、自然に反転されなかったものである。移動可能な磁気応答性の構成要素22
0はまた、表面張力を破壊することが可能であり、これによって、再懸濁緩衝剤の中に捕
獲されるかもしれない気泡が解放され、且つ上面に浮上することが可能になる。更に、本
明細書で説明された磁気混合プロセスは、チャンバ230内の温度勾配を減少させるのは
もちろんのこと、再懸濁緩衝剤を凍結乾燥された固形物と混合すると共に、構成要素の均
一な分布を促進するために、使用することが可能である。
【0060】
チャンバ230の内容物を混合する恩恵の例は、
図11及び
図12に例示することが可
能である。
図11において、PCRの間に検出された相対蛍光ユニット(RFU)が、P
CRサイクルに対してプロットされている。
図12は、微分溶融曲線において、温度に対
してプロットされたΔRFUを例示している。
図11及び
図12において、明るめの線/
点線は、PCRチャンバの中で混合されない内容物のからの結果を例示し、一方で暗めの
(点でない)線は、混合された内容物からの結果を例示している。
図11が示しているの
は、おおよそ18サイクルから20サイクルが実施された後まで、非混合の結果は望まし
い基準RFU値に達せず、且つ混合と非混合との間では肩部において遅延が存在するとい
うことである。
図12が示しているのは、混合の結果のΔRFUと比較すると、非混交の
結果におけるΔRFUは、実質的に減少しているということである。
【0061】
他の代表的な実施形態は、上で開示されたものとは異なる構成要素又は配置を利用して
もよい。例えば、ある代表的な実施形態は、回転ロッドに結合された複数の磁石よりもむ
しろ、回転磁性ロッドを備えてもよい。
図13、
図14を参照すると、TEC200は磁
気作動アセンブリ400に結合されるが、ここで磁気作動アセンブリ400は、ブラケッ
ト460及び470によって支持された回転磁性ロッド450を備える。
図14の軸方向
の図で示すように、磁性ロッド450は軸方向に磁化され、その結果、磁場の北極(N)
は、ロッドの円周上の場所から延在し、且つ磁場の南極(S)は、北極から円周方向にお
およそ180度の場所から延在する。従って、磁性ロッド450が軸413に沿って回転
すると、北極N及び南極Sは、挿入部250、及び挿入部250の中に挿入されたPCR
チャンバ(図示せず)の方に向けられるであろう。以前に説明された実施形態と同様に、
交互の磁場は、挿入部250内に配置されたPCRチャンバ内に包含された、移動可能な
磁気応答性の構成要素の移動を支配することが可能である。そのような移動は、例えば、
構成要素を混合すること、又は温度勾配を減少させることを含めて、複数の目的のために
使用することが可能である。
【0062】
以前に説明された実施形態に加えて、ある実施形態は、移動可能な磁気応答性の構成要
素を含めて、PCRチャンバの内容物に磁力を加えるために、電磁石を利用してもよい。
図15を参照すると、核酸増幅のために構成されたポリメラーゼ連鎖反応(PCR)モジ
ュール式アセンブリ40は、第1電磁石351及び第2電磁石352を備える。以前の実
施形態と同様に、この実施形態はまた、ハウジング205及び挿入部250を備える。明
瞭さのために、挿入部250の全ての特徴が
図15にラベル付けされているわけではない
が、しかし以下のことが理解される。即ち、
図15における挿入部250は、(例えば、
大きめで開いた第1端部271、及び小さめで閉じた第2端部272を有する、先細りし
た側面270を含めて)
図7及び
図8に示したものと同等な特徴を備える。
【0063】
この実施形態において、第1電磁石351は、第1端部271と第2端部272との間
に位置する挿入部250上の第1場所261の近位にある。第2電磁石352は、第2場
所262の近位にあり、ここで第2場所262は、挿入部250の第2端部272の近位
にある。第1電磁石351及び第2電磁石352は、交互に且つそれぞれ、挿入部250
上にある第1場所261及び第2場所262に磁力を加えるように構成される。例えば、
第2電磁石352が、磁力を及ぼすための励磁がなされない一方で、第1電磁石351は
、第1場所261に磁力を加えるために励磁することが可能である。続いて、第1電磁石
352が、磁力を加えるための励磁がなされない一方で、第2電磁石352は、第2場所
352に磁力を加えるために励磁することが可能である。このパターンを繰り返すことが
可能であり、その結果、磁力は、第1場所261及び第2場所262に交互に加えられる
。
【0064】
従って、第1場所261及び第2場所262に対してそれぞれ磁力を加えるために、第
1電磁石351及び第2電磁石352が交互に励磁されると、磁場は、挿入部250内で
、及び挿入部250の中に挿入されたPCRチャンバ(図示せず)内で変化するであろう
。以前に説明された実施形態と同様に、交互の磁界は、挿入部250内に配置されたPC
Rチャンバ内に包含された、移動可能な磁気応答性の構成要素の移動を支配する。そのよ
うな移動は、例えば、構成要素を混合すること、又は、挿入部内の温度、若しくは挿入部
内に配置されたチャンバ内の温度を下げることを含めて、複数の目的のために使用するこ
とが可能である。
【0065】
図16を参照すると、別の代表的な実施形態は、単一の電磁石551を備える。この実
施形態は、
図15で説明された実施形態と同様であるが、しかし、(第2電磁石によって
加えられる磁力の代わりに)重力の力が、磁気応答性の構成要素220を、チャンバ23
0の底面212に向けることを可能にする。この実施形態において、磁力を加えて、磁気
応答性の構成要素220をチャンバ230の側面211に向けるために、電磁石551を
励磁することが可能である。電磁石551は、その後、磁気応答性の構成要素220に加
えられる磁力を減少させるために、又は除去するために、励磁を停止することが可能であ
るが、これによって、磁気応答性の構成要素220が、チャンバ230の底面212へ落
下することが可能になる。電磁石551は、交互に励磁する、且つ励磁を停止することが
可能であり、それによって、ボールを第1場所(例えば、側面211)から第2場所(例
えば、底面212)まで移動させる。そのような移動は、例えば、構成要素を混合するた
めに、又は、挿入部内の温度、若しくは挿入部内に配置されたチャンバ内の温度を下げる
ために、使用することが可能である。
【0066】
更に他の実施形態は、電磁石の異なる配置を備えてもよい。例えば、ある実施形態は、
同レベルのものではあるが、しかし反対極性に配線された2つの電磁石を備えてもよく、
その結果、磁束は電磁石間のギャップを飛び移る(点火プラグにおける電気火花と同様に
)。他の実施形態は、複数の電磁石を備えてもよく、これらの電磁石は、隣接するPCR
チャンバの配列に沿って極性を交互に変化させるが、これは、PCRチャンバの区域の中
に磁束を集中させる効果のためである。ある実施形態は、磁束場の形状を制御するための
、様々な裏打ち鉄構成を有する電磁石を備えてもよい。
【0067】
理解されるべきことであるが、本装置及び本方法は、開示された特別な形態に限定され
ることを意図するものではない。むしろ、それらは、請求項の範囲内に落とし込まれる全
ての変更例、等価例及び代替例を含むべきものである。例えば、ある実施形態において、
磁石及び/又は移動可能な磁気応答性の構成要素の異なる配置を使用してもよい。加えて
、他の実施形態は、シャフト及び移動可能な磁気応答性の構成要素を異なる位置に保持す
るために、異なる時間期間を使用してもよい。
【0068】
上記の明細書及び例は、代表的な実施形態の構造及び使用法の完全な説明を提供する。
ある実施形態は、ある程度の特殊性と共に、又は1つ以上の個々の実施形態を参照しなが
ら、上で説明されてきたが、当業者であれば、本発明の範囲から外れることなく、開示さ
れた実施形態に対して数多くの変更例を創造することが可能であろう。そのため、本装置
の例示的な実施形態は、開示された特別な形態に限定されることを意図するものではない
。むしろ、それらの実施形態は、請求項の範囲内に落とし込まれる全ての変更例及び代替
例を含み、且つ示されたもの以外の実施形態は、描かれた実施形態の、幾つかの又は全て
の特徴を含んでもよい。更に、該当する場合、上で説明された任意の例の態様は、任意の
他の例の態様と結合され、その結果として、同等な特性又は異なる特性を有すると共に、
同じ問題又は異なる問題を扱う、更なる例を形成してもよい。同様に、理解されることで
あろうが、上で説明された恩恵及び利点は、1つの実施形態に関連してもよく、又は幾つ
かの実施形態に関連してもよい。
【0069】
請求項は、ミーンズ・プラス・ファンクション限定又はステップ・プラス・ファンクシ
ョン限定を含むものと解釈されるべきではなく、このことは、それぞれ「〜のための手段
」又は「〜のためのステップ」という句を用いて、与えられた請求項の中で、そのような
制限が明白に唱えられない限り、あてはまる。
[参考文献]
【0070】
次の参考文献は、参照によって本明細書に組み入れられる。
米国特許第5,352,036号明細書
米国特許第6,176,609号明細書
米国特許第6,357,907号明細書
米国特許第5,578,201号明細書
米国特許第8,048,375号明細書
米国特許第8,052,929号明細書
米国特許第8,550,694号明細書