(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6769172
(24)【登録日】2020年9月28日
(45)【発行日】2020年10月14日
(54)【発明の名称】ゴム材料の混練方法および装置
(51)【国際特許分類】
B29B 7/18 20060101AFI20201005BHJP
B29B 7/88 20060101ALI20201005BHJP
B01F 7/08 20060101ALI20201005BHJP
B29K 21/00 20060101ALN20201005BHJP
【FI】
B29B7/18
B29B7/88
B01F7/08 D
B29K21:00
【請求項の数】5
【全頁数】9
(21)【出願番号】特願2016-163717(P2016-163717)
(22)【出願日】2016年8月24日
(65)【公開番号】特開2018-30286(P2018-30286A)
(43)【公開日】2018年3月1日
【審査請求日】2019年8月21日
(73)【特許権者】
【識別番号】000006714
【氏名又は名称】横浜ゴム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001368
【氏名又は名称】清流国際特許業務法人
(74)【代理人】
【識別番号】100129252
【弁理士】
【氏名又は名称】昼間 孝良
(74)【代理人】
【識別番号】100155033
【弁理士】
【氏名又は名称】境澤 正夫
(72)【発明者】
【氏名】平井 秀憲
【審査官】
北澤 健一
(56)【参考文献】
【文献】
特開2000−000814(JP,A)
【文献】
特開2006−205584(JP,A)
【文献】
特開2017−128071(JP,A)
【文献】
実開平05−093810(JP,U)
【文献】
特開2016−041474(JP,A)
【文献】
特開2006−123272(JP,A)
【文献】
特開2006−168031(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B29B 7/00−7/94
B01F 7/00−7/32
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
原料ゴムと複数種類の非加硫系配合剤とからなるゴム材料を密閉型混練機により混練するゴム材料の混練方法において、
前記密閉型混練機の混練室に冷却媒体を投入して前記混練室内の温度を低下させ、次いで、投入した前記冷却媒体によって前記混練室に生じる水分量に応じて含水量を予め減量調整した少なくとも1種類の前記非加硫系配合剤を含む一部の前記非加硫系配合剤を先行して前記混練室に投入し、前記混練室に内設されたロータを回転させることにより撹拌し、次いで、前記原料ゴムと残りの種類の前記非加硫系配合剤を前記混練室に投入して前記ロータを回転させることにより前記ゴム材料を所定の温度範囲に維持して混練することを特徴とするゴム材料の混練方法。
【請求項2】
前記非加硫系配合剤にシリカおよびカップリング剤が含まれていて、シリカを前記含水量を減量調整した非加硫系配合剤として、このシリカおよびカップリング剤を先行して前記混練室に投入する請求項1に記載のゴム材料の混練方法。
【請求項3】
前記冷却媒体として、水、氷またはドライアイスを用いる請求項1または2に記載のゴム材料の混練方法。
【請求項4】
前記冷却媒体と、前記非加硫系配合剤とを別々の投入部から前記混練室に投入する請求項1〜3のいずれかに記載のゴム材料の混練方法。
【請求項5】
混練室に内設されたロータを有して、原料ゴムと複数種類の非加硫系配合剤とからなるゴム材料を、前記ロータを回転することにより前記混練室で混練する密閉型混練機を備えたゴム材料の混練装置において、
前記混練室に冷却媒体を投入する冷媒投入機構と、含水量調整機構とを備えて、前記混練室に投入される前記冷却媒体によって前記混練室に生じる水分量に応じて、前記非加硫系配合剤の少なくとも1種類に対して、前記含水量調整機構によりその含水量が予め減量調整され、前記冷却媒体が前記混練室に投入されることにより前記混練室内の温度を低下させ、次いで、含水量が予め減量調整された前記非加硫系配合剤を含む一部の前記非加硫系配合剤が先行して前記混練室に投入されて、前記ロータを回転させることにより撹拌され、その後、前記原料ゴムと残りの種類の前記非加硫系配合剤が前記混練室に投入されて前記ロータを回転させることにより、前記ゴム材料が所定の温度範囲に維持して混練される構成にしたことを特徴とするゴム材料の混練装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ゴム材料の混練方法および装置に関し、さらに詳しくは、密閉型混練機の混練室内の過度の温度上昇を抑えつつ、品質の安定したゴム材料を得ることができるゴム材料の混練方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
タイヤのトレッドゴム等に対しては、シリカ配合ゴムを用いることによって、タイヤの転がり抵抗やウエットグリップ性能を向上させることができる。シリカ配合ゴムの混練工程では、シリカの分散性を向上させるために、カップリング剤を配合してシリカとカップリング反応させて混練している。カップリング反応熱等に起因して、混練を行っている密閉型混練機には多大な蓄熱が生じる。
【0003】
複数バッチのシリカ配合ゴムを連続して密閉型混練機を用いて混練すると、バッチ間のインターバルでは蓄熱を十分に奪い取ることができず、混練室内(ケーシング内壁面やロータなど)が過度に温度上昇する。シリカ配合ゴムに限らずゴム材料は所定の温度範囲で混練する必要があり、ロータを回転させて混練すると温度が上昇する。そのため、混練室内が過度に温度上昇した状態ではロータを十分に回転させて混練することできず、ゴム品質に影響が生じるという問題がある。シリカ配合ゴム以外のゴム材料についても、混練室内が過度に温度上昇した場合はロータを十分に回転させて混練することできないため同様の問題が生じる。
【0004】
例えば、混練室に水蒸気を供給して、未加硫ゴムとシリカおよびカップリング剤を混練する方法が提案されている(特許文献1参照)。この混練方法では、シリカとカップリング剤との反応に必要な所定量の水分量が水蒸気として供給されるだけであり(段落0016)、水蒸気によって混練室内の温度を低下させることを意図していない。また、水蒸気だけを先に混練室に供給していないので、この水蒸気によって混練室内の温度を十分に低下させることはできない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2006−123272号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、密閉型混練機の混練室内の過度の温度上昇を抑えつつ、品質の安定したゴム材料を得ることができるゴム材料の混練方法および装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記目的を達成するための本発明のゴム材料の混練方法は、原料ゴムと複数種類の非加硫系配合剤とからなるゴム材料を密閉型混練機により混練するゴム材料の混練方法において、前記密閉型混練機の混練室に冷却媒体を投入して前記混練室内の温度を低下させ、次いで、投入した前記冷却媒体によって前記混練室に生じる水分量に応じて含水量を予め減量調整した少なくとも1種類の前記非加硫系配合剤を含む一部の前記非加硫系配合剤を先行して前記混練室に投入し、前記混練室に内設されたロータを回転させることにより撹拌し、次いで、前記原料ゴムと残りの種類の前記非加硫系配合剤を前記混練室に投入して前記ロータを回転させることにより前記ゴム材料を所定の温度範囲に維持して混練することを特徴とする。
【0008】
本発明のゴム材料の混練装置は、混練室に内設されたロータを有して、原料ゴムと複数種類の非加硫系配合剤とからなるゴム材料を、前記ロータを回転することにより前記混練室で混練する密閉型混練機を備えたゴム材料の混練装置において、前記混練室に冷却媒体を投入する冷媒投入機構と、含水量調整機構とを備えて、前記混練室に投入される前記冷却媒体によって前記混練室に生じる水分量に応じて、前記非加硫系配合剤の少なくとも1種類に対して、前記含水量調整機構によりその含水量が予め減量調整され、前記冷却媒体が前記混練室に投入されることにより前記混練室内の温度を低下させ、次いで、含水量が予め減量調整された前記非加硫系配合剤を含む一部の前記非加硫系配合剤が先行して前記混練室に投入されて、前記ロータを回転させることにより撹拌され、その後、前記原料ゴムと残りの種類の前記非加硫系配合剤が前記混練室に投入されて前記ロータを回転させることにより、前記ゴム材料が所定の温度範囲に維持して混練される構成にしたことを特徴とする
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、空の状態の前記密閉型混練機の混練室に冷却媒体を投入することで、混練室内の温度を十分に低下させることができる。また、投入した前記冷却媒体によって前記混練室に生じる水分量に応じて含水量を減量調整した非加硫系配合剤を冷却媒体とともにロータを回転させて撹拌することで、この非加硫系配合剤に冷却媒体による水分を吸収させることができる。そのため、ゴム材料としての水分量が適正になり、ゴム材料とロータとの間で余分な滑りが発生することを回避できる。これに伴い、品質の安定したゴム材料を得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【
図1】本発明のゴム材料の混練装置を例示する説明図である。
【
図2】
図1のA−A断面視で混練室内を例示する説明図である。
【
図3】
図1の混練室に冷却媒体を投入した状態を例示する説明図である。
【
図4】
図3の状態の後に、含水量を予め減量調整した非加硫系配合剤を含む一部の非加硫系配合剤を混練室に投入して撹拌している状態を例示する説明図である。
【
図5】
図4の状態の後に、混練装置によってゴム材料を混練している状態を例示する説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明のゴム材料の混練方法および装置を図に示した実施形態に基づいて説明する。
【0012】
図1〜
図2に例示する本発明のゴム材料の混練装置1(以下、混練装置1という)は、未加硫のゴム材料Rを混練する。この実施形態では、ゴム材料Rは原料ゴムGとシリカN1およびカップリング剤N2を含む複数種類の非加硫系配合剤N(N1、N2、N3)とからなるシリカ配合ゴムであり、混練することで原料ゴムGに非加硫系配合剤Nを均等に分散させるようにして適切な粘度にする。
【0013】
原料ゴムGとしては、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、1,2−ポリブタジエン、クロロプレンゴム、ブチルゴム、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ニトリルゴム(アクリルニトリルゴム、水素化ニトリルゴム)、エチレンプロピレンジエンゴム等を例示できる。これらを1種単独でまたは2種以上を組合せて使用する。
【0014】
シリカN1、カップリング剤N2としては、タイヤ等の用途でゴム組成物に配合されている公知のものを使用できる。非加硫系配合剤Nとしては、シリカN1およびカップリング剤N2の他に、必要に応じて、その他の非加硫系配合剤N3として、各種充填剤(例えば、カーボンブラック)、酸化亜鉛、ステアリン酸等を用いる。ゴム材料Rによっては、非加硫系配合剤NにはシリカN1およびカップリング剤N2を含まないこともある。
【0015】
この混練装置1は、混練室4a内にロータ3を備えたバンバリーミキサー等の密閉型混練機2と、温度センサ11と、ロータ3の回転を制御する制御部12と、混練室4aに冷却媒体Cを投入する冷媒投入機構14と、含水量調整機構15とを備えている。
【0016】
混練室4aの上方にはラム室4bが連接されていて、混練室4aには対向配置された一対のロータ3と油投入部5とが設けられている。それぞれのロータ3の回転軸3aには翼3bが突設されていて、平行して配置された回転軸3aは駆動用モータによって回転駆動される。混練室4aの底面には開閉する排出扉10が設けられている。
【0017】
混練室4aを形成するケーシングの内部や回転軸3aの内部には冷却水が流通する循環路が形成されている。この循環路に冷却水を循環させることにより、混練室4a内を冷却できる構造になっている。
【0018】
ラム室4bには、上下移動して混練室4a内の圧力(ラム圧力)を調整するラム8が配置されている。ラム室4bにはさらに、原料ゴムGを投入するゴム投入部6と、非加硫系配合剤Nをホッパ7から投入する配合剤投入部9とが設けられている。
【0019】
温度センサ11は、混練室4aに先端部を露出して設けられている。温度センサ11は混練室4aで混練されているゴム材料Rの温度を逐次検知する。温度センサ11による検知データは制御部12に入力される。
【0020】
冷媒投入機構14は、冷却媒体Cの収容タンク14aと、ノズル14bと、収容タンク14aとノズル14bとを接続する供給路14cとを有している。ノズル14bは、冷媒供給部13として混練室4aに形成された穴に接続されている。ノズル14bの仕様によって、冷却媒体Cを混練室4a内に単純に投入するだけでなく、噴霧することも、滴下することもできる。冷媒供給部13は、混練室4aを形成するケーシングの前後壁面に限らず、湾曲した側壁面、ラム8等に設けることもできる。
【0021】
冷却媒体Cとしては、水、氷、ドライアイス等を例示できる。冷却媒体Cとして用いる水は、常温(25℃程度)だけでなく、例えば0℃〜80℃程度の任意の温度に設定することができる。
【0022】
含水量調整機構15は、乾燥機15aと重量計15bとを備えている。含水量調整機構15は、ゴム材料Rを構成する複数種類の非加硫系配合剤Nのうちの少なくとも1種類に対してその含水量を減量調整する。この実施形態では、シリカN1を乾燥機15aを用いて乾燥させて減量調整する。具体的には、混練室4aに投入される冷却媒体Cによって混練室4aに生じる水分量に応じた量の水分をシリカN1から乾燥させる。そして、その含水量の減量が完了したかを重量計15bにより計測して確認する。このようにして、当初のシリカN1に対して、混練室4aに投入される冷却媒体Cによって混練室4aに生じる水分量と同量の水分を乾燥させたシリカN1を予め用意しておく。
【0023】
制御部12には電力計12aが付設されている。ロータ3の回転駆動に要した瞬時電力が電力計12aにより逐次検知される。電力計12aによる検知データは、制御部12に入力される。制御部12では瞬時電力を積算した積算電力量が算出され、任意の混練期間おけるロータ3の回転駆動に要した電力量(ロータ3に作用する負荷)を把握することができる。制御部12にはその他に、ロータ3の回転数やラム圧力等が入力される。
【0024】
制御部12は、ロータ3の回転数、ラム圧力(ラムの上下移動)、冷媒供給機構14の作動等を制御する。制御部12には、混練するゴム材料Rの仕様に応じて、混練する際に維持するゴム材料Rの最適な所定の温度範囲、冷媒供給機構14から冷却媒体Cを供給するタイミングやその供給量などが入力されている。そして、ロータ3の回転数は、温度センサ11による検知データに基づいて制御される。基本的には、ロータ3の回転数を大きくする(回転速度を速くする)程、混練しているゴム材料Rの温度は高くなる。
【0025】
以下、本発明のゴム材料の混練方法の手順を説明する。
【0026】
本発明は、例えば、複数バッチのゴム材料Rを連続して混練する場合に適用する。ゴム材料Rを既に混練している密閉型混練機2では、ゴム材料Rの混練により発生した熱が相当に蓄熱されている。そのため、混練室4aを形成するケーシングの内部や回転軸3aの内部に形成された循環路に冷却水が循環していても、混練室4a内(混練室4aの内壁面やロータ3など)が過度に高温になっている。
【0027】
そこで本発明では、まず、
図3に例示するように、混練室4aに冷却媒体Cを投入する。この時、ロータ3を回転させると、冷却媒体Cを混練室4a内に広く分布させることができる。冷却媒体Cの投入により、蓄熱された熱を冷却媒体Cによって奪って混練室4a内の温度を十分に低下させることができる。
【0028】
冷却媒体Cの温度が低ければ、蓄熱された熱を多く奪い易いが、冷却媒体Cとして使用する水の温度が高くても気化熱による冷却効果を期待できる。冷却媒体Cは噴霧すると広く分布させるには有利である。
【0029】
次いで、上述したように含水量を予め減量調整したシリカN1を混練室4aに投入して、ロータ3を回転させることにより撹拌する。これにより、当初よりも乾燥させたシリカN1に冷却媒体Cを吸収させる。
【0030】
その後、
図4に例示するように、カップリング剤N2を混練室4aに投入して、ロータ3を回転させることにより撹拌する。これにより、シリカN1とカップリング剤N2とを混合して反応を促進させる。このようにして、投入する複数種類の非加硫系配合剤Nのうち、シリカN1とカップリング剤N2とを先行して混練室4aに投入して事前に混合する。
【0031】
次いで、
図5に例示するように、原料ゴムGと残りの種類の非加硫系配合剤N3を混練室4aに投入し、油投入部5を通じてオイルを混練室4aに投入しながらロータ3を回転させてゴム材料Rを所定の温度範囲(例えば130℃〜180℃)に維持して混練する。本発明では、混練室4aが実質的に空の状態において冷却媒体Cを投入することで、混練室4a内の温度が十分に冷却される。これに伴い、ゴム材料Rを混練する工程ではロータ3の回転数を抑制することなく、必要な回転数にして混練を行なうことができる。
【0032】
さらには、混練室4a内の温度を低下させるために冷却媒体Cを投入しているが、冷却媒体Cよって増加する混練室4a内の水分は、その水分量を考慮して予め乾燥させたシリカN1によって吸収される。それ故、混練室4a内の水分量は適正になり、ゴム材料Rとロータ3との間で余分な滑りが発生して十分に混練ができないという不具合を回避することができる。そのため、品質の安定したゴム材料Rを得ることが可能になる。シリカN1およびカップリング剤N2が配合されないゴム材料Rでは、カーボンブラック等の非加硫系配合剤Nに対して、上述したシリカN1のように含水量の減量調整を行う。
【0033】
この実施形態では、冷却媒体Cを冷媒投入部13から混練室4aに投入し、非加硫系配合剤Nを配合剤投入部9から混練室4aに投入する構成になっている。両者の投入部を同じにすると、冷却媒体Cの水分によって非加硫系配合剤Nが固化して投入部が詰まる危険性があるので、それぞれを別々の投入部から投入する構成にすることが好ましい。
【符号の説明】
【0034】
1 混練装置
2 密閉型混練機
3 ロータ
3a 回転軸
3b 翼
4a 混練室
4b ラム室
5 油投入部
6 ゴム投入部
7 ホッパ
8 ラム
9 配合剤投入部
10 排出扉
11 温度センサ
12 制御部
12a 電力計
13 冷媒投入部
14 冷媒投入機構
14a 収容タンク
14b ノズル
14c 供給路
15 含水量調整機構
15a 乾燥機
15b 重量計
C 冷却媒体
G 原料ゴム
N(N1、N2、N3) 非加硫系配合剤
R ゴム材料