特許6770780薄膜および薄膜形成方法

発明の名称　薄膜および薄膜形成方法

出願人　学校法人慶應義塾　（識別番号 899000079）

　　　　特許公開件数ランキング 31340 位（1件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25341 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6770780

公報発行日　2020年10月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6770780

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