特許 6771297 ポリアセタール樹脂組成物及び成形品

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6771297

(24)【登録日】2020年10月1日

(45)【発行日】2020年10月21日

(54)【発明の名称】ポリアセタール樹脂組成物及び成形品

(51)【国際特許分類】

   C08L 59/02 20060101AFI20201012BHJP

   C08K 3/34 20060101ALI20201012BHJP

   B29C 45/00 20060101ALI20201012BHJP

   C01B 33/24 20060101ALN20201012BHJP

【ＦＩ】

   C08L59/02

   C08K3/34

   B29C45/00

   !C01B33/24 101

【請求項の数】4

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2016-61712(P2016-61712)

(22)【出願日】2016年3月25日

(65)【公開番号】特開2017-171821(P2017-171821A)

(43)【公開日】2017年9月28日

【審査請求日】2019年3月13日

(73)【特許権者】

【識別番号】000000033

【氏名又は名称】旭化成株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】工藤 修一

【審査官】 松元 洋

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１５−０４８４６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−２０９５０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−０５６５５２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０８Ｌ １／００ − １０１／１６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部と、
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）０．００１〜１．０質量部と、
を、含有し、
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）のカルシウム／ケイ素が、ｍоｌ比で、０．８
〜１．５であり、
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の平均粒子径が０．１〜１０μｍである、
ポリアセタール樹脂組成物。

【請求項2】

前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）が、層状構造及び／又はカードハウス構造であ
る、請求項１に記載のポリアセタール樹脂組成物。

【請求項3】

前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）が、トバモライトである、請求項１又は２に記載のポリアセタール樹脂組成物。

【請求項4】

請求項１乃至３のいずれか一項に記載のポリアセタール樹脂組成物を含む成形品。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ポリアセタール樹脂組成物及び成形品に関する。

【背景技術】

【0002】

ポリアセタール樹脂は結晶性樹脂であり、剛性、強度、靭性、摺動性、及びクリープ性に優れた樹脂材料である。
ポリアセタール樹脂の用途は、自動車部品、電気若しくは電子部品、及び工業部品等の機構部品用材料等、広範囲に亘っている。

【0003】

特に、ポリアセタール樹脂の特徴的用途としては、自動車部品、電気若しくは電子機器の構造部品、ギアやカムといった関連部品等が挙げられる。
しかしながら、用途が拡大、多様化するに従い、品質に対する要求が高度になってきている。
特に、熱安定性が乏しい場合、成形加工時に熱分解によってホルムアルデヒドガスが発生し、作業環境を悪化させたり、更に発生したホルムアルデヒドやポリマー中に含有されている安定剤等の添加物由来の揮発成分が金属表面に析出し、いわゆるモールドデポジット（＝ＭＤ）を形成し、その結果、成形品の表面外観を著しく損なったり、あるいは成形品の寸法精度の低下をきたす等の問題がある。
また、モールドデポジット（以下、ＭＤと記載する場合がある。）が発生した場合には、モールドデポジットの発生毎に金型を分解掃除しなければならず、これには多大の時間と労力を要し、生産性の低下をきたすという問題も有している。

【0004】

上述したような問題を解決する方法が強く求められており、ポリアセタール樹脂の熱安定性を向上させることによってモールドデポジットの抑制を図り、添加する安定剤のコストを削減させる等の効果が期待されている。
上記問題を解決するために、従来から、種々の技術が提案されている。
例えば、熱分解によって発生するホルムアルデヒドの低減を目的として、ポリアセタール樹脂にポリアミドを添加する方法（例えば、特許文献１参照）、ポリアセタール樹脂にアミドオリゴマー等を添加する方法（例えば、特許文献２参照）、ポリアセタール樹脂に、ヒンダードフェノールとカルボン酸の金属塩とポリアミドを添加する方法（例えば、特許文献３参照）が提案されている。
また、長期間の熱エージング後の機械的特性、及び熱エージング後の色調特性を向上させる観点から、結晶質珪酸カルシウム水和物を添加したポリアセタール樹脂組成物（例えば、特許文献４参照）が提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特公昭３４−５４４０号公報

【特許文献2】特公昭５４−３２６５８号公報

【特許文献3】特開平３−１４８５９号公報

【特許文献4】特開２０１５−４８４６８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、特許文献１〜３に記載されている方法において得られるポリアセタール樹脂組成物は、熱安定化が不十分であるため、成形加工時の熱安定性やモールドデポジット（ＭＤ）の発生防止の観点において、未だ十分な特性が得られていないという問題を有している。
また、特許文献４のように、結晶質珪酸カルシウム水和物を添加する方法において、得られるポリアセタール樹脂組成物は、長期間の熱エージング後の機械的特性及び耐色調性には効果は高いものの、耐モールドデポジット（ＭＤ）特性に関しては改善の余地があるという問題を有している。

【0007】

そこで、本発明においては、上述の従来技術の問題点に鑑み、射出成形時の金型への付着（モールドデポジット）低減化に優れる、ポリアセタール樹脂組成物を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、ポリアセタール樹脂（Ａ）に、所定量の結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）を含有し、当該結晶質珪酸カルシウム水和物のカルシウム／ケイ素のｍоｌ比を所定の数値範囲に特定したポリアセタール樹脂組成物が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の通りである。

【0009】

〔１〕
ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部と、
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）０．００１〜１．０質量部と、
を、含有し、
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）のカルシウム／ケイ素が、ｍоｌ比で、０．８
〜１．５であり、
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の平均粒子径が０．１〜１０μｍである、
ポリアセタール樹脂組成物。
〔２〕
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）が、層状構造及び／又はカードハウス構造であ
る、前記〔１〕に記載のポリアセタール樹脂組成物。
〔３〕
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）が、トバモライトである、前記〔１〕又は〔２〕
に記載のポリアセタール樹脂組成物。
〔４〕
前記〔１〕乃至〔３〕のいずれか一に記載のポリアセタール樹脂組成物を含む成形品。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、射出成形時の金型への付着（モールドデポジット：ＭＤ）低減に優れるポリアセタール樹脂組成物が得られる。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」と言う。）について、詳細に説明する。
以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。

【0012】

〔ポリアセタール樹脂組成物〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、
ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部と、
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）０．００１〜１．０質量部と、
を、含有し、
前記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）のカルシウム／ケイ素が、ｍоｌ比で、０．８〜１．５である。

【0013】

（ポリアセタール樹脂（Ａ））
本実施形態で用いるポリアセタール樹脂（Ａ）は、特に限定されるものではなく、公知のポリアセタール樹脂を用いることができる。

【0014】

ポリアセタール樹脂（Ａ）としては、以下に限定されないが、例えば、ポリアセタールホモポリマーやポリアセタールコポリマーが挙げられる。
ポリアセタールホモポリマーとしては、以下に限定されないが、例えば、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーを単独重合して得られるポリアセタールホモポリマーが挙げられる。
また、ポリアセタールコポリマーとしては、以下に限定されないが、例えば、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーと、環状エーテル及び／又は環状ホルマールとを共重合させて得られるポリアセタールコポリマーが挙げられる。
ホルムアルデヒドの環状オリゴマーとしては、以下に限定されないが、例えば、ホルムアルデヒドの３量体（トリオキサン）や４量体（テトラオキサン）等が挙げられる。
環状エーテル及び環状ホルマールとしては、以下に限定されないが、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、エピクロルヒドリン、１，３−ジオキソランや１，４−ブタンジオールホルマール等のグリコールやジグリコールの環状ホルマール等が挙げられる。

【0015】

また、ポリアセタールコポリマーとしては、以下に限定されないが、例えば、単官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる分岐を有するポリアセタールコポリマーや、多官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる架橋構造を有するポリアセタールコポリマーも用いることができる。

【0016】

さらに、ポリアセタールホモポリマーとしては、以下に限定されないが、例えば、両末端又は片末端に水酸基等の官能基を有する化合物、例えばポリアルキレングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーを重合して得られるブロック成分を有するポリアセタールホモポリマーも用いることができる。
またさらに、ポリアセタールコポリマーとしては、以下に限定されないが、例えば、同じく両末端又は片末端に水酸基等の官能基を有する化合物、例えば水素添加ポリブタジエングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーと、環状エーテル及び／又は環状ホルマールとを共重合させて得られるブロック成分を有するポリアセタールコポリマーも用いることができる。

【0017】

以上のように、本実施形態においては、ポリアセタール樹脂（Ａ）として、ポリアセタールホモポリマー及びポリアセタールコポリマーのいずれを用いてもよく、特に限定されるものではない。
これらのポリアセタール樹脂（Ａ）は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

【0018】

（結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ））
本実施形態で用いる結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）としては、以下に限定されないが、例えば、トバモライト系、ワラストナイト系、ジャイロライト系等が挙げられる。
具体的には、結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）としては、以下に限定されないが、トバモライト、ゾノライト等が挙げられる。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）としては、特にトバモライトが入手の容易さの観点から好ましい。
トバモライトとしては、周知のケイ酸カルシウム水和物を用いることができる。
トバモライトの合成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ケイ酸質原料と石灰質原料とを水中に分散させた後、水熱合成する方法等、周知の方法が用いられる。

【0019】

トバモライトの構造式は、特に限定されないが、例えば、（５ＣａＯ・６ＳｉＯ₂・０〜４Ｈ₂Ｏ）で表される。
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において用いる結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）は、カルシウムとケイ素の比（カルシウム／ケイ素）が０．８〜１．５（モル比）である。好ましくは０．８５〜１．４であり、より好ましくは０．９〜１．３である。
カルシウムとケイ素のモル比が上記範囲であることにより、本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において効果的にモールドデポジット（ＭＤ）性能を向上させることができる。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）中のカルシウムとケイ素のモル比は、蛍光Ｘ線分析によりＣａＯ、ＳｉＯ₂の質量比を求め、そこからをＣａ／Ｓｉモル比を計算することにより得られる。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）のカルシウムとケイ素のモル比（カルシウム／ケイ素）は、結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の製造時の原料仕込みの配合により、上記数値範囲に制御することができる。

【0020】

結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の形状は、以下に限定されないが、例えば、層状、繊維状、短冊状、繊維束、はく状等が挙げられる。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）は、好ましくは層状構造及び／又はカードハウス構造であるが、繊維状、繊維束、短冊状、及び箔状からなる群より選択される１種の構造をさらに併用してもよい。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）として、層状構造及び／又はカードハウス構造であるものを用いることにより、微粉化による分散の効果が得られる。

【0021】

結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の平均粒子径は、本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、十分なモールドデポジット低減効果を得る観点から、０．１μｍ以上が好ましく、十分な分散性付与の観点から４０μｍ以下であることが好ましい。
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の平均粒子径は、より好ましくは０．５〜３０μｍであり、さらに好ましくは１．０〜１０μｍである。

【0022】

なお、本実施形態において、結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の平均粒子径は、レーザー光回折測定法により測定して得られる粒度分布の小さい方から積算した中心粒径Ｄ５０％である。

【0023】

結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の平均粒子径を前記範囲内に制御する方法としては、特に限定されないが、例えば、軸流型ミル法、アニュラー型ミル法、ロールミル法、ボールミル法、ジェットミル法、容器回転式圧縮せん断型ミル法、及び磁器乳鉢で粉砕する方法等が挙げられる。

【0024】

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物においては、ポリアセタール樹脂（Ａ）に、カルシウム／ケイ素のモル比が０．８５〜２．０の結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）を特定量含有させることにより、効果的に射出成形時の金型への付着（モールドデポジット：ＭＤ）低減化に優れたものとなる。

【0025】

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、上述した結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）の含有量は、ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対し、０．００１〜１．０である。好ましくは０．００５〜０．５質量部であり、より好ましくは、０．０１〜０．１質量部である。
これにより、本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂本来の熱安定性や剛性、靭性等の機械的特性を維持し、射出成形時の金型への付着（モールドデポジット：ＭＤ）を低減化できるという効果を奏する。

【0026】

（その他の材料）
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物には、上記結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）とともに、その他の材料を含有させてもよい。
その他の材料としては、無機充填剤、有機充填剤、有機化剤で処理した無機充填剤粉体等が挙げられる。
無機充填剤としては、以下に限定されないが、例えば、タルク、ガラス繊維、炭素繊維、窒化硼素、ハイドロタルサイト、アルミニウム、チタン、銅、真鍮等の金属繊維等が挙げられる。
有機充填剤としては、以下に限定されないが、例えば、セルロース、ポリウレタン樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。

【0027】

（添加剤）
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物には、さらに他の特性を付与するため、本発明の効果を損なわない範囲で、所定の添加剤を含有させてもよい。
添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物、ギ酸捕捉剤、耐候（光）安定剤、帯電防止剤、離型（潤滑）剤、染顔料、着色剤、その他の樹脂等が挙げられる。

【0028】

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、用途に応じて適当な添加剤を配合することにより、長期耐熱エージング性をより一層向上させることができる。
添加剤を用いた好適な具体例としては、ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対し、酸化防止剤及び／又はギ酸捕捉剤を０．０１〜５質量部含有させ、長期耐熱エージング性を向上させたポリアセタール樹脂組成物が挙げられる。
また、ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対し、酸化防止剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物、ギ酸捕捉剤、耐候（光）安定剤及び離型（潤滑）剤からなる群より選択される少なくとも１種を０．０１〜１０質量部含有させることにより、長期耐熱エージング性をより一層向上させたポリアセタール樹脂組成物を得ることができる。

【0029】

＜酸化防止剤＞
酸化防止剤としてはヒンダートフェノール系酸化防止剤が好ましい。
酸化防止剤としては、以下に限定されないが、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３'−メチル−５'−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−テトラデシル−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、１，４−ブタンジオール−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス［メチレン−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン等が挙げられる。
好ましくは、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、及びペンタエリスリトールテトラキス［メチレン‐３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンである。
これらの酸化防止剤は１種類のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

【0030】

＜ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物＞
ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物としては、以下に限定されないが、例えば、ナイロン４−６、ナイロン６、ナイロン６−６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１２、ナイロン１２等のポリアミド樹脂、及びこれらの重合体（例えば、ナイロン６／６−６／６−１０、ナイロン６／６−１２等）が挙げられる。
また、アクリルアミド及びその誘導体、アクリルアミド及びその誘導体と他のビニルモノマーとの共重合体が挙げられ、例えばアクリルアミド及びその誘導体と他のビニルモノマーとを金属アルコラートの存在下で重合して得られたポリ−β−アラニン共重合体も挙げられる。
さらに、その他にアミド化合物、アミノ置換トリアジン化合物、アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドとの付加物、アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドとの縮合物、尿素、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、イミダゾール化合物、イミド化合物も挙げられる。

【0031】

前記アミド化合物としては、以下に限定されないが、例えば、イソフタル酸ジアミド等の多価カルボン酸アミド、アントラニルアミドが挙げられる。
前記アミノ置換トリアジン化合物としては、以下に限定されないが、例えば、２，４−ジアミノ−ｓｙｍ−トリアジン、２，４，６−トリアミノ−ｓｙｍ−トリアジン、Ｎ−ブチルメラミン、Ｎ−フェニルメラミン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルメラミン、Ｎ，Ｎ−ジアリルメラミン、ベンゾグアナミン（２，４−ジアミノ−６−フェニル−ｓｙｍ−トリアジン）、アセトグアナミン（２，４−ジアミノ−６−メチル−ｓｙｍ−トリアジン）、２，４−ジアミノ−６−ブチル−ｓｙｍ−トリアジン等が挙げられる。
前記アミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの付加物としては、以下に限定されないが、例えば、Ｎ−メチロールメラミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチロールメラミン、Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリメチロールメラミン等が挙げられる。
前記アミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの縮合物としては、以下に限定されないが、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとの縮合物等が挙げられる。
前記尿素誘導体としては、以下に限定されないが、例えば、Ｎ−置換尿素、尿素縮合体、エチレン尿素、ヒダントイン化合物、ウレイド化合物が挙げられる。
Ｎ−置換尿素としては、以下に限定されないが、例えば、アルキル基等の置換基が置換したメチル尿素、アルキレンビス尿素、アリール置換尿素が挙げられる。
尿素縮合体としては、以下に限定されないが、例えば、尿素とホルムアルデヒドとの縮合体等が挙げられる。
ヒダントイン化合物としては、以下に限定されないが、例えば、ヒダントイン、５，５−ジメチルヒダントイン、５，５−ジフェニルヒダントイン等が挙げられる。
ウレイド化合物としては、以下に限定されないが、例えば、アラントイン等が挙げられる。
前記イミド化合物としては、以下に限定されないが、例えば、スクシンイミド、グルタルイミド、フタルイミドを挙げられる。
前記ヒドラジン誘導体としては、以下に限定されないが、例えば、ヒドラジド化合物が挙げられる。
ヒドラジド化合物としては、以下に限定されないが、例えば、ジカルボン酸ジヒドラジドが挙げられ、さらに具体的には、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スペリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、２，６−ナフタレンジカルボジヒドラジド等が挙げられる。

【0032】

これらのホルムアルデヒド反応性窒素原子を含む重合体又化合物は、１種類のみを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

【0033】

＜ギ酸捕捉剤＞
ギ酸捕捉剤としては、以下に限定されないが、例えば、上記のアミノ置換トリアジン化合物やアミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの縮合物（例えばメラミンとホルムアルデヒドとの縮合物等）を挙げることができる。
その他のギ酸捕捉剤としては、以下に限定されないが、例えば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、無機酸塩、カルボン酸塩又はアルコキシドが挙げられる。
これらの具体例としては、以下に限定されないが、例えば、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム等の金属の水酸化物；前記金属の炭酸塩、前記金属のリン酸塩、前記金属の珪酸塩、前記金属のホウ酸塩、前記金属のカルボン酸塩、さらには前記金属の層状複水酸化物が挙げられる。

【0034】

前記金属のカルボン酸塩を構成するカルボン酸としては、１０〜３６個の炭素原子を有する飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸が好ましく、また、これらのカルボン酸は水酸基で置換されていてもよい。
飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸塩としては、以下に限定されないが、例えば、ジミリスチン酸カルシウム、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウム、（ミリスチン酸−パルミチン酸）カルシウム、（ミリスチン酸−ステアリン酸）カルシウム、（パルミチン酸−ステアリン酸）カルシウムが挙げられ、特に、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウムが好ましい。

【0035】

上記金属の層状複水酸化物としては、以下に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表されるハイドロタルサイト類が挙げられる。
〔（Ｍ²⁺）_1-X（Ｍ³⁺）_X（ＯＨ）₂〕_X⁺〔（Ａ^n-）_x/n・ｍＨ₂Ｏ〕_X^- ・・・（１）
（式（１）中、Ｍ²⁺は２価金属、Ｍ³⁺は３価金属、Ａ^n-はｎ価（ｎは１以上の整数）のアニオン表し、Ｘは、０＜Ｘ≦０．３３の範囲であり、ｍは正の数である。）

【0036】

一般式（１）において、Ｍ²⁺としては、以下に限定されないが、例えば、Ｍｇ²⁺、Ｍｎ²⁺、Ｆｅ²⁺、Ｃｏ²⁺、Ｎｉ²⁺、Ｃｕ²⁺、Ｚｎ²⁺等が挙げられる。
Ｍ³⁺としては、以下に限定されないが、例えば、Ａｌ³⁺、Ｆｅ³⁺、Ｃｒ³⁺、Ｃｏ³⁺、Ｉｎ³⁺等が挙げられる。
Ａ^n-としては、以下に限定されないが、例えば、ＯＨ^-、Ｆ^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、ＮＯ₃^-、ＣＯ₃^2-、ＳＯ₄^2-、Ｆｅ（ＣＮ）₆^3-、ＣＨ₃ＣＯＯ^-、シュウ酸イオン、サリチル酸イオン等が挙げられる。特に好ましい例としてはＣＯ₃^2-、ＯＨ^-が挙げられる。
式（１）で表されるハイドロタルサイト類としては、以下に限定されないが、例えば、Ｍｇ_0.75Ａｌ_0.25（ＯＨ）₂（ＣＯ₃）_0.125・０．５Ｈ₂Ｏで示される天然ハイドロタルサイト、Ｍｇ_4.5Ａl₂（ＯＨ）₁₃ＣＯ₃・３．５Ｈ₂Ｏ、Ｍｇ_4.3Ａl₂（ＯＨ）_12.6ＣＯ₃等で示される合成ハイドロタルサイト等が挙げられる。

【0037】

これらのギ酸捕捉剤は、１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

【0038】

＜耐候（光）安定剤＞
耐候（光）安定剤としては、ベンゾトリアゾール系及び蓚酸アニリド系紫外線吸収剤、及びヒンダードアミン系光安定剤からなる群より選ばれる１種若しくは２種以上が好ましいものとして挙げられる。

【0039】

ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤としては、以下に限定されないが、例えば、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'、５'−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−３'、５'−ビス−（α、α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−４'−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
蓚酸アリニド系の紫外線吸収剤としては、以下に限定されないが、例えば、２−エトキシ−２'−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２'−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２−エトキシ−３'−ドデシルオキザリックアシッドビスアニリド等が挙げられる。好ましくは２−［２'−ヒドロキシ−３'、５'−ビス−（α、α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ− ３'、５'−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾールが挙げられる。
これらのベンゾトリアゾール系及び蓚酸アニリド系の紫外線吸収剤は、それぞれ１種類のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

【0040】

ヒンダードアミン系光安定剤としては、以下に限定されないが、例えば、Ｎ，Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミン−１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６，テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６，テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３―テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６，テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６，テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの縮合物、デカン２酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステルと１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンとの反応生成物、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β'，β'−テトラメチル−３，９−［２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン］ジエタノールとの縮合物等が挙げられる。
好ましくは、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β'，β'−テトラメチル−３，９−［２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン］ジエタノールとの縮合物である。
これらのヒンダードアミン系光安定剤は、それぞれ１種類のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

【0041】

＜離型（潤滑）剤＞
離型（潤滑）剤としては、以下に限定されないが、例えば、アルコール、脂肪酸及びそれらのエステル、ポリオキシアルキレングリコール、平均重合度が１０〜５００であるオレフィン化合物、シリコーン等が挙げられる。
中でも、炭素数１２〜２２の脂肪酸由来のエチレングリコールジパルミテート、エチレングリコールジヘプタデシレートが好ましい。

【0042】

（その他の添加剤）
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、さらに適当なその他の添加剤を配合することができる。
このようなその他の添加剤としては、以下に限定されないが、例えば、ポリオレフィン樹脂、摺動剤、顔料等が挙げられる。

【0043】

＜ポリオレフィン樹脂＞
ポリオレフィン樹脂としては、以下に限定されないが、例えば、下記一般式（２）で表されるオレフィン系不飽和化合物のホモ重合体、又は共重合体、あるいはこれらの重合体の変性体が挙げられる。
Ｈ₂Ｃ＝ＣＲ¹Ｒ²・・・（２）
（式（２）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、カルボキシル基、２〜５個の炭素原子を含むアルキル化カルボキシ基、２〜５個の炭素原子を有するアシルオキシ基、又はビニル基を表わす。）

【0044】

ポリオレフィン樹脂としては、以下に限定されないが、例えば、ポリエチレン（高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン）、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、ポリプロピレン−ブテン共重合体、ポリブテン、ポリブタジエンの水添物、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。

【0045】

これらの重合体の変性体としては、以下に限定されないが、例えば、他のビニル化合物の一種以上をグラフトさせたグラフト共重合体が挙げられる。上述したポリオレフィン樹脂の中で、ポリエチレン（高圧法低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体が好ましい。

【0046】

上述したポリオレフィン樹脂の重量平均分子量は、以下に限定されないが、好ましくは１０，０００〜３００，０００であり、より好ましくは１０，０００〜１００，０００であり、さらに好ましくは１５，０００〜８０，０００である。

【0047】

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、ポリオレフィン樹脂の配合割合は、ポリアセタール樹脂（Ａ）と結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）との合計１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部であり、より好ましくは０．２〜５質量部である。
ポリオレフィン樹脂の配合割合が、０．１質量部以上であると、十分な摺動性の改良効果が得られ、１０質量部以下とすることにより、成形品の剥離を防止することができる。
ポリオレフィン樹脂の配合割合を０．１〜１０質量部とすることにより、摺動性、耐衝撃性、及び剛性のバランスが良好で、表面外観性の良好な成形品が得られる。

【0048】

＜摺動剤＞
摺動剤としては、以下に限定されないが、例えば、アルコールと脂肪酸のエステル、アルコールとジカルボン酸とのエステル、及びポリオキシアルキレングリコール化合物が挙げられる。

【0049】

アルコールと脂肪酸のエステルとしては、以下に限定されないが、例えば、下記に示すアルコールと脂肪酸とのエステルが挙げられる。
アルコールは、１価アルコール、及び多価アルコールである。
１価アルコールとしては、以下に限定されないが、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルアルコール、セチルアルコール、ヘプタデシルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ノナデシルアルコール、エイコシルアルコール、セリルアルコール、ベヘニルアルコール、メリシルアルコール、ヘキシルデシルアルコール、オクチルドデシルアルコール、デシルミリスチルアルコール、デシルステアリルアルコール等の飽和又は不飽和アルコールが挙げられる。

【0050】

多価アルコールとしては、以下に限定されないが、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、ペンタエリスリトール、アラビトール、リビトール、キシリトール、ソルバイト、ソルビタン、ソルビトール、マンニトール等が挙げられる。

【0051】

脂肪酸としては、以下に限定されないが、例えば、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ペンタデシル酸、ステアリン酸、ナノデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシジン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、プロピオール酸、ステアロール酸等が挙げられ、さらにはかかる成分を含有する天然に存在する脂肪酸又はこれらの混合物等も挙げられる。
これらの脂肪酸はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
上述したアルコールと脂肪酸とのエステルの中では、耐摩擦及び耐摩耗性能の改良の観点から、それぞれ炭素数１０以上の脂肪酸とアルコールとのエステルが好ましく、炭素数１２以上の脂肪酸と炭素数１０以上のアルコールとのエステルがより好ましく、炭素数１２〜３０の脂肪酸と炭素数１０〜２０のアルコールとのエステルがさらに好ましい。

【0052】

アルコールとジカルボン酸とのエステルとしては、以下に限定されないが、例えば、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルアルコール、セチルアルコール、ヘプタデシルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ノナデシルアルコール、エイコシルアルコール、セリルアルコール、ベヘニルアルコール、メリシルアルコール、ヘキシルデシルアルコール、オクチルドデシルアルコール、デシルミリスチルアルコール、デシルステアリルアルコール等の飽和又は不飽和の一級アルコールと、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマール酸等のジカルボン酸とのモノエステル、ジエステル、及びこれらの混合物が挙げられる。

【0053】

上述したアルコールとジカルボン酸とのエステルの中では、炭素数１０以上のアルコールとジカルボン酸とのエステルが好ましい。

【0054】

ポリオキシアルキレングリコール化合物としては、以下に限定されないが、例えば、以下の第１〜第３のグループの化合物が挙げられる。
第１のグループの化合物としては、以下に限定されないが、例えば、アルキレングリコールをモノマーとする重縮合物が挙げられる。具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレングリコールとプロピレングリコールのブロックポリマー等が挙げられる。これらの重合度の好ましい範囲は５〜１，０００であり、より好ましい範囲は１０〜５００である。
第２のグループの化合物としては、前記第１のグループの化合物と脂肪族アルコールとのエーテル化物が挙げられる。具体的には、ポリエチレングリコールオレイルエーテル（エチレンオキサイド重合度５〜５０）、ポリエチレングリコールセチルエーテル（エチレンオキサイド重合度５〜５０）、ポリエチレングリコールステアリルエーテル（エチレンオキサイド重合度５〜３０）、ポリエチレングリコールラウリルエーテル（エチレンオキサイド重合度５〜３０）、ポリエチレングリコールトリデシルエーテル（エチレンオキサイド重合度５〜３０）、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル（エチレンオキサイド重合度２〜１００）、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル（エチレンオキサイド重合度４〜５０）等が挙げられる。
第３のグループの化合物としては、前記第１のグループの化合物と高級脂肪酸とのエステル化物が挙げられる。具体的には、ポリエチレングリコールモノラウレート（エチレンオキサイド重合度２〜３０）、ポリエチレングリコールモノステアレート（エチレンオキサイド重合度２〜５０）、ポリエチレングリコールモノオレート（エチレンオキサイド重合度２〜５０）等が挙げられる。

【0055】

＜顔料＞
顔料としては、以下に限定されないが、例えば、無機系顔料及び有機系顔料、メタリック系顔料、蛍光顔料等が挙げられる。
無機系顔料とは樹脂の着色用として一般的に使用されているものである。
無機系顔料としては、以下に限定されないが、例えば、硫化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、チタンイエロー、コバルトブルー、燃成顔料、炭酸塩、りん酸塩、酢酸塩やカーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック等が挙げられる。
有機系顔料としては、以下に限定されないが、例えば、縮合ウゾ系、イノン系、フロタシアニン系、モノアゾ系、ジアゾ系、ポリアゾ系、アンスラキノン系、複素環系、ペンノン系、キナクリドン系、チオインジコ系、ベリレン系、ジオキサジン系、フタロシアニン系等の顔料が挙げられる。

【0056】

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、顔料の添加割合は、所望の色調により選択でき、一般的には、ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０５〜５質量部の範囲が好ましい。

【0057】

〔ポリアセタール樹脂組成物の製造方法〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、例えば、上述した成分を混合し、押出機、加熱ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等の混練機を用いて混練することにより得られる。
特に、押出機を用いて上述した成分を混練する方法が、生産性の観点から好ましい。
混練温度は、ベース樹脂の好ましい加工温度に従えばよく、目安としては１４０〜２６０℃の範囲、好ましくは１８０〜２３０℃の範囲が多く使われる。
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物を、大量に安定して製造するには、単軸又は二軸の押出機が好適に用いられる。

【0058】

〔成形品〕
本実施形態の成形品は、上述したポリアセタール樹脂組成物を含む。

【0059】

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、良好な機械的バランスを有し、熱安定性、耐モールドデポジット性、熱エージング後の色調変化が少なく、耐クリープ性能に優れている。従って、上述した本実施形態のポリアセタール樹脂組成物を含む本実施形態の成形品は、特に耐モールドデポジット性に優れているため、様々な用途の成形品として使用することができる。また、耐モールドデポジット性に優れることから長時間の成形生産が可能となり、金型メンテランスの時間、コストを削減することができる。

【0060】

本実施形態の成形品の用途としては、例えば、ギア、カム、スライダー、レバー、軸、軸受け、及びガイド等に代表される機構部品；アウトサート成形の樹脂部品；インサート成形の樹脂部品；シャーシ、トレー、側板、プリンター、及び複写機に代表されるデジタルビデオカメラ；デジタルカメラに代表されるカメラ；ビデオ機器用部品、カセットプレイヤー、音楽、映像又は情報機器、通信機器用部品、電気機器用部品、電子機器用部品に用いられる各種部品、自動車用の部品としては、ガソリンタンク、フュエルポンプモジュール、バルブ類、ガソリンタンクフランジ等に代表される燃料廻り部品；ドア廻り部品、シートベルト周辺部品、コンビスイッチ部品、スイッチ類が挙げられる。さらに、住宅設備機器に代表される工業部品も挙げられる。

【実施例】

【0061】

以下、本実施形態について、具体的な実施例及び比較例を挙げて説明するが、本実施形態は、後述する実施例に限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例中の測定方法は以下のとおりとした。

【0062】

〔耐モールドデポジット性〕
以下に示す方法に従って、耐モールドデポジット性の評価を行った。
（成形条件）
成形機：東洋機械金属（株）製Ｔｉ−３０Ｇ射出成形機
成形サイクル：射出／冷却＝５／１０秒
シリンダー温度（Ｃｙ）：２００℃
金型温度（ＭＴ）：３０℃
（成形品）
１点ピンゲートの５角形成形品(ガス抜き部有)
成形品サイズ:樹脂流動方向３５ｍｍ
樹脂流動方向に対して直角方向１５ｍｍ、厚み２ｍｍ
後述する実施例及び比較例のポリアセタール樹脂組成物を、８０℃×３時間乾燥した後、上記射出成形機を用い、上記成形条件にて、５０００ショット成形した後の金型表面状態を観察し、評価を行った。
（耐モールドデポジット性判定基準）
下記に示す判定基準に従って、耐モールドデポジット性の判定を行った。
判定◎：キャビティーの内側及び外側(成形品の輪郭部)共、モールドデポジットの発生は観察されなかった。
判定○：キャビティーの内側には、モールドデポジットの発生は観察されなかったが、キャビティーの外側（成形品の輪郭部）に僅かにモールドデポジットが観察された。
判定△：キャビティー全面積に対して５％程度の広さでの広さでモールドデポジットが発生した。
判定×：キャビティー全面積に対して、５０％以上の広さでモールドチボジットが発生した。

【0063】

〔原料〕
後述する〔実施例〕及び〔比較例〕の原料として、下記成分を用いた。

【0064】

（ポリアセタール樹脂（Ａ））
熱媒を通すことができるジャッケット付きの２軸セルフクリーニングタイプの重合機（Ｌ／Ｄ＝８）を８０℃に調整した。
当該重合機に、トリオキサンを４ｋｇ／時間、コモノマーとして１，３−ジオキソランを１２８．３ｇ／時間（トリオキサン１ｍｏｌに対して、３．９ｍｏｌ％）、連鎖移動剤としてメチラールをトリオキサン１ｍｏｌに対して０．２０×１０^-3ｍｏｌ、連続的に添加した。
さらに前記重合機に、重合触媒として三フッ化硼素ジ−ｎ−ブチルエーテラートを、トリオキサン１ｍｏｌに対して１．５×１０^-5ｍｏｌの割合で連続的に添加し、重合を行った。
重合機より排出されたポリアセタールコポリマーをトリエチルアミン０．１％水溶液中に投入し、重合触媒の失活を行った。
失活されたポリアセタールコポリマーを遠心分離機でろ過し、乾燥した。
乾燥後のポリアセタールコポリマーをベント付き２軸スクリュー式押出機に供給し、押出機中の溶融しているポリアセタールコポリマー１００質量部に対して水を０．５質量部添加し、押出機設定温度２００℃、押出機における滞留時間７分で不安定末端部分の分解除去を行った。
不安定末端部分が分解除去されたポリアセタールコポリマーは、ベント真空度２０Ｔｏｒｒの条件下に脱揮され、押出機ダイス部よりストランドとして押出され、ペレタイズされた。得られたペレットをポリアセタール樹脂（Ａ−１）として用いた。

【0065】

（結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１））
後述する〔実施例〕及び〔比較例〕においては、トバモライトを結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ）として用いた。
トバモライトは以下の方法で合成した。

【0066】

二酸化ケイ素（株式会社ニッチツ製 精製珪石粉ハイシリカＦ３）と、酸化カルシウム（河合石灰工業株式会社製生石灰特号）とを、水に分散させてスラリー状とした後、１９０℃の飽和水蒸気下で１５時間オートクレーブ養生することによりトバモライトを得た。
ここで、二酸化ケイ素に対する酸化カルシウムの混合比は、カルシウム／ケイ素のモル比で０．９０であり、二酸化ケイ素と酸化カルシウムとを合わせた全固形分に対する水の混合比は、質量比で１．５とした。

【0067】

得られたトバモライトを、磁器乳鉢（株式会社石川工場製 石川式攪拌擂潰機１６号）を用いて粉砕した。
粉砕されたトバモライトを結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）として用いた。

【0068】

結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）の平均粒子径は、２μｍであった。
なお、結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）の平均粒子径は、レーザー光回折測定法により測定して得られる粒度分布の中心粒径Ｄ５０％とした。

【0069】

また、結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）を、走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、層状構造及び／又はカードハウス構造であることを確認した。

【0070】

（結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−２〜Ｂ−７））
カルシウム／ケイ素のモル比、平均粒子径を変えた以外は、上述した結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）と同様の方法で結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−２）〜（Ｂ−７）を製造した。

【0071】

（ギ酸捕捉剤（Ｃ））
ジステアリン酸カルシウム（日東化成工業（株）社製、製品名：ＣＳ−２）をギ酸捕捉剤（Ｃ−１）として用いた。

【0072】

（酸化防止剤（Ｄ））
トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）社製、製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ２４５）を酸化防止剤（Ｄ−１）として用いた。

【0073】

〔実施例１〕
上記の方法で得られたポリアセタール樹脂（Ａ−１）１００質量部と、ジステアリン酸カルシウム（Ｃ−１）０．０３質量部、酸化防止剤（Ｄ−１）０．３質量部と、上記の方法で得られたカルシウム／ケイ素が０．９（モル比）である結晶質珪酸カルシウム水和物（平均粒子径：２μｍ）（Ｂ−１）０．０５質量部とを、ヘンシェルミキサーを用いて均一に混合して混合物を得た。
この混合物を、２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機に、該押出機のメインフィード口からフィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物を得た。
このポリアセタール樹脂組成物に対し、耐モールドデポジット性の評価を行った。
評価結果を表１に示す。

【0074】

〔実施例２、参考例３、４〕
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）の種類を表１に示すとおりに変更した。
その他の条件は、上述した〔実施例１〕と同様にポリアセタール樹脂組成物を製造し、
得られたポリアセタール樹脂組成物の耐モールドデポジット性の評価を行った。
評価結果を表１に示す。

【0075】

〔比較例１〕
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）を用いなかった。
その他の条件は、上述した〔実施例１〕と同様にポリアセタール樹脂組成物を製造し、得られたポリアセタール樹脂組成物の耐モールドデポジット性の評価を行った。
評価結果を表２に示す。

【0076】

〔比較例２〜４〕
結晶質珪酸カルシウム水和物（Ｂ−１）の種類を、下記表１に示すとおりに変更した。
その他の条件は、上述した〔実施例１〕と同様にポリアセタール樹脂組成物を製造し、得られたポリアセタール樹脂組成物の耐モールドデポジット性の評価を行った。
評価結果を表２に示す。

【0077】

【表1】

【0078】

【表2】

【0079】

表１及び表２のように、実施例１、２、参考例３、４で得られたポリアセタール樹脂組成物は、比較例１〜４で得られたポリアセタール樹脂組成物に比べ、耐モールドデポジット性が向上したことが確認された。

【産業上の利用可能性】

【0080】

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂がもつ本来の熱安定性や剛性、靭性等の機械的特性のバランスを有し、射出成形時の金型への付着（モールドデポジット：ＭＤ）低減に優れていることから、自動車、電気若しくは電子、その他工業分野における各種の部品の材料等として、産業上の利用可能性がある。