(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【図面の簡単な説明】
【0012】
【
図1】
図1は本発明の実施の形態によるツールホルダに用いられるスクライビングツールの一例を示す平面図及び側面図である。
【
図2】
図2は本実施の形態によるツールホルダの斜視図である。
【
図3】
図3は本発明の第1の実施の形態によるスクライブヘッドユニットの一例を示す正面図及び側面図である。
【
図4】
図4は本発明の実施の形態におけるガラス基板の分断方法を示すフローチャートである。
【
図5】
図5は本発明の実施の形態におけるガラス基板の平面図である。
【
図6】
図6は本発明の実施の形態におけるガラス基板のスクライブ予定ラインの拡大図である。
【
図7】
図7は本発明の実施の形態におけるスクライブ方法において形成されるトレンチライン、及びクラックラインの断面図である。
【
図8】
図8は本実施の形態によるガラス基板のトレンチラインとアシストラインを示す図である。
【
図9】
図9は本発明の第2の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図及び側面図である。
【
図10】
図10は本発明の第3の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図及び側面図である。
【
図11】
図11は本発明の第4の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図及び側面図である。
【
図12】
図12は本発明の第5の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図及び側面図である。
【
図13】
図13は本発明の第6の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図である。
【
図14】
図14は本発明の第7の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図である。
【
図15】
図15は本発明の第8の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図及び側面図である。
【
図16】
図16は本発明の第9の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図及び側面図である。
【
図17】
図17は本発明の第10の実施の形態によるスクライブヘッドユニットを示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
次に本発明の実施の形態について説明する。まず
図1は本実施の形態のスクライブヘッドユニットのツールホルダに保持されるスクライビングツールである、マルチポイントダイヤモンドツール(以下、単にダイヤモンドツールという)10の一例を示す平面図及び側面図である。このダイヤモンドツール10は一定の厚さで回転対称の任意の数の辺から成る多角形の角柱をベースとする。この実施の形態では、一定厚さの四角柱のベース11を単結晶ダイヤモンドにより構成し、その中心に貫通孔12を有している。ベース11には貫通孔12を通る軸(
図1(a)については紙面に垂直な軸)に平行な稜線13a〜13dが四角形の外周面に均等に形成されている。
【0014】
さて本実施の形態ではベース11に対して
図1に示すように四方の角部分の四角柱の両底面から外周面が交差する稜線へ向けて面取りのように研磨する。即ち
図1(b)に示すようにベース11の右側の底面の4つの角よりベース11の稜線に向けて研磨して第1の傾斜面14a〜14dを形成する。このときベース11の底面の稜線を挟む辺と傾斜面との成す角が等しくなるように、即ち傾斜面が稜線の一端を頂点とした二等辺三角形となるように研磨する。このような傾斜面はレーザ加工又は機械加工によって容易に形成することができる。また、レーザ加工の後にさらに機械研磨を行い、さらに精密な研磨面としてもよい。こうすれば各稜線13a〜13dと第1の傾斜面14a〜14dとの交点を頂点として、
図1(b)に示すようにベースの側面視において右側に4つのポイントP1〜P4を形成することができる。このときベース11の傾斜面14a〜14dは天面となる。ここで天面とは、稜線を形成する2つの外周面に接し、稜線の一端を共有する面をいう。
【0015】
次にベース11の他方の底面より同様にしてベース11の外周に向けて研磨して第2の傾斜面15a〜15dを形成する。このとき、第1の傾斜面と第2の傾斜面との間に稜線が残るよう、第1の傾斜面と第2の傾斜面との研磨範囲の合計がベースの厚みを超えないように研磨する。こうすれば各稜線13a〜13dと第2の傾斜面15a〜15dとの交点をポイントとして
図1(b)に示すようにベースの側面視において左側に4個のポイントP5〜P8を形成することができる。このように稜線13a〜13dの両端をポイントP1〜P8とすることで、四角形のダイヤモンドツール10について外周に8箇所のポイントを形成することができる。
【0016】
次にツールホルダについて説明する。
図2はツールホルダの組立てを示す斜視図である。
図2に示すようにツールホルダ20の主要部を構成するツールホルダ本体21は、直方体状のホルダ保持部22aと、その先端に直方体の上半分が切り欠かれた形状を有するツール取付部22bとから成り立っている。ホルダ保持部22aは
図2に示すようにツールホルダをスクライブヘッドユニットに固定するための取付用の貫通孔23a,23b及び24a,24bが設けられる。又ツール取付部22bはホルダ保持部22aに近い位置で切り欠かれた長手方向に垂直の厚さ調整溝25を有している。先端部には
図2に示すように左右から切り欠かれた傾斜面26a,26bと、下方から切欠かれた傾斜面26cを有している。又ツール取付部22bのほぼ中央部分には中心軸に垂直にねじ溝27が設けられている。ツール取付部22bの表面にはツールホルダ本体21の長手方向の中心軸に沿った一定深さのツール保持溝28がねじ溝27を通過して形成され、先端部ではツール保持溝28は外側に向けて約90°の角度で開放されている。言い換えれば、ツール保持溝28は先端に向かうにつれて幅が広くなり、溝の内壁の延長線が交わる角度が90°とされている。厚さ調整溝25とツール保持溝28とは同一の深さを有するものとする。ここでツール保持溝28の90°に開放されている領域は、前述した四角形のダイヤモンドツール10を保持し、その先端部分を外部に突出させる保持領域となる。
【0017】
さてこのツール取付部22bの上部にはホルダ押さえ30が取付けられる。ホルダ押さえ30は略直方体状でツール取付部22bの窪みに取付けられて直方体状のツールホルダ20を構成するものである。ホルダ押さえ30の先端部左右にはツール取付部22bの傾斜面26a,26bに対応する傾斜面31a,31bが設けられ、上面には傾斜面26cに対応する傾斜面31cが設けられている。又中央部分には貫通孔32が設けられている。
【0018】
ダイヤモンドツール10をツールホルダ20に保持する場合には、まず厚さ調整部材としてダイヤモンドツール10の厚さと同一の径を有する厚さ調整ピン33を厚さ調整溝25に挿入し、次いでツール保持溝28にダイヤモンドツール10を嵌め込んでその一部を突出させた状態で押さえ部材30を被せ、ねじ34を締め付けることによって固定する。こうすればホルダ押さえ30の下面が常にツール取付部22bの面に対して平行に接することとなるため、先端にダイヤモンドツール10を確実に固定することができる。
【0019】
図3はダイヤモンドツール10を有するツールホルダ20をスクライブヘッドユニットに取付けた状態を示す正面図及び側面図である。スクライブヘッドユニット40Aは板状のヘッドプレート41自体が図示しないスライド機構によって全体に上下動するように構成されている。そしてこのヘッドプレート41にはスクライブ荷重用のエアシリンダ42が固定される。エアシリンダ42の下端はロッド42aが伸縮自在に突出している。さて
図3(b)に示すようにヘッドプレート41のロッド42aの下方には、ガイド機構43とスライド部44が設けられ、所定の荷重でスライド部44を下方に押圧している。ガイド機構43はスライド部44を上下動自在に保持するものである。スライド部44にはL字形のプレート45が設けられる。プレート45はスライド部44と共に上下動するが、ストッパ46によって下限が規制されている。そしてこのプレート45にはツールホルダ20が貫通孔23b,24bにねじ47a,47bを貫通させて斜め方向に固定されている。そしてスクライブヘッドユニット40Aを矢印A方向に移動させることでスクライブすることができる。
【0020】
さてヘッドプレート41の右端にはブロック50上に異物除去ホルダ51が設けられる。直方体状のブロック50は
図3(b)に示すように、異物除去ホルダと後述する潤滑剤供給ホルダを側面から見てダイヤモンドツールと同一の位置となるようにヘッドプレート41から左方向に突出させるものである。異物除去ホルダ51はツールホルダと同様に直方体状で垂直に固定され、先端にはスポンジ52が取付けられている。スポンジ52はスクライブヘッドユニット40Aを矢印A方向に移動させたときに、スクライブする直前に基板に接触してスクライブ予定ラインに付着している異物を除去する異物除去部材である。ここで異物除去ホルダ51とその先端の柔軟な異物除去部材であるスポンジ52とは、スクライブヘッドユニット40Aに取付けられた異物除去手段を構成している。
【0021】
又ブロック50には異物除去ホルダ51に隣接して潤滑剤供給ホルダ53が取付けられる。潤滑剤供給ホルダ53は異物除去ホルダ51と同様に直方体状で垂直に固定され、先端にスポンジ54が取付けられている。スポンジ54には図示しない潤滑剤供給ユニットから潤滑剤供給パイプ55を介して潤滑剤が供給される。スポンジ54はスクライブする直前にスクライブ予定ライン上に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布部材である。ここで潤滑剤の供給量や供給のタイミングは、スクライブ装置に搭載されている供給ユニットから指令されるものとする。ここで潤滑剤供給ホルダ53とその先端の柔軟な塗布部材であるスポンジ54とは、スクライブヘッドユニット40Aに取付けられた潤滑剤塗布手段を構成している。
【0022】
次に本実施の形態のスクライブヘッドユニット40Aを用いて脆性材料基板であるガラス基板を分断する方法について
図4のフローチャート、
図5のガラス基板の平面図を用いて説明する。まずステップS1において平坦な表面SFを有するガラス基板60を準備する。ガラス基板60をスクライブする際には、傾けて取付けられているツールホルダ20のダイヤモンドツール10の1つのポイントP1をガラス基板60に対して接するように固定して、スクライブヘッドユニット40Aをガラス基板60の一方の辺60aの近傍に押し下げて図示の矢印A方向に移動させ、分断予定ラインの他方の辺60bに近い位置まで摺動させる。このようにスクライブヘッドユニット40Aを移動させると、異物除去ホルダ51に取付けられているスポンジ52でスクライブ予定ラインの異物が除去される。即ち
図4のステップS2に示すように、スクライブ予定ラインに沿ってクリーニングが行われる。このとき
図6(a)にスクライブ予定ラインSIL1の拡大図を示すように、スクライブ予定ラインSIL1を中央に含むように所定幅のラインに対してクリーニングが行われる。このようにスクライブ予定ラインをクリーニングすることで、スクライブ中に異物がガラス基板60と刃先の間に巻き込まれることがなくなり、ダイヤモンドツールのポイントの損傷を少なくすることができる。
【0023】
次にスクライブ予定ラインSIL1に対してクリーニングした部分には重ねて
図6(b)に示すように潤滑剤供給ホルダ53のスポンジ54で潤滑剤が薄く塗布される(ステップS3)。そしてホルダ20に保持されているスクライブヘッドのダイヤモンドツールでスクライブすることによって、
図5に示すようにスクライブ予定ラインSIL1に沿ってトレンチラインTL1を形成する(ステップS4)。このときダイヤモンドツール10は転動させないので、同じポイントでスクライブを行うことができる。実際にはスクライブヘッドユニット40Aを移動させることによってステップS2〜S4がほぼ同時に進行することとなる。こうすれば潤滑剤の潤滑効果によりダイヤモンドツールのポイントの摩耗を大幅に少なくすることができ、長寿命化することができる。例えばダイヤモンドツールのポイントは潤滑剤を塗布していない場合に数十mで摩耗していたが、潤滑剤を塗布した場合には、数千mに渡って耐久性を保持することができる。
【0024】
トレンチラインとは、
図5(a)の円形部分の断面を示す
図7(a)のように、スクライブによってガラス基板60の表面SFに塑性変形による溝のみが形成され、厚さ方向にはクラックが生じていないラインである。このため、クラックを生じさせる通常のスクライブラインを形成する場合よりも低い荷重とするなど、より広いスクライブ条件でトレンチライン形成のためのスクライブをすることができる。また、本実施の形態においては辺60aがスクライブ上流側、辺60bが下流側となる。
【0025】
同様にガラス基板60の表面SFのスクライブ予定ラインSIL2〜SIL6に沿ってスクライブヘッドユニット40Aを左から右に移動させる。これによって異物除去ホルダ51のスポンジ52でスクライブ予定ラインの異物が除去され、潤滑剤供給ホルダ53のスポンジ54により潤滑剤が塗布され、更にダイヤモンドツール10によってスクライブされる。こうしてトレンチラインT1に平行に更に5本のトレンチラインTL2〜TL6が形成される。
【0026】
次に
図8に示すように、各トレンチラインと交差するようにアシストラインAL1を形成する。アシストラインAL1は各トレンチラインの下流側、即ち辺60bに近い位置に形成することが好ましい。アシストラインAL1は
図1に示すように、ダイヤモンドの刃先を持つスクライビングツールを用いてもよく、スクライビングホイールを転動させて形成させてもよい。本実施の形態においては、アシストラインはクラックが形成されたクラックラインとする。
【0027】
こうしてアシストラインAL1を形成すると、アシストラインAL1に沿ってガラス基板60がアシストラインAL1に沿って分断される。このとき既に形成されているトレンチラインTL1〜TL6とアシストラインAL1が交差した位置から
図7(b)に示すようにクラックが生じ、クラックが各トレンチラインTL1〜TL6の上流側に伸展する(ステップS5)。従ってトレンチラインTL1〜TL6はその下方にクラックを伴うクラックラインCL1〜CL6に変化することとなる。
【0028】
この後
図4のステップS6において、このクラックラインCL1〜CL6に沿ってガラス基板60を分断することによって所望の形状にガラス基板60を分断することができる。
【0029】
また、本実施の形態においてはアシストラインを形成し、アシストラインに沿って分離することでクラックが発生するものとしたが、アシストラインの分離を伴わない工程としてもよい。この場合、アシストラインを形成するとトレンチラインに沿ってクラックが形成される。また、アシストラインを形成せずに、トレンチラインの終端においてダイヤモンドツールを逆方向に摺動させることによりクラックを形成する工程、またはトレンチラインを延長してダイヤモンドツールが基板の端部を通過する工程等を行うことによっても、トレンチラインに沿ってクラックを生じさせることができる。
【0030】
基板に接しているポイントP1が摩耗により劣化した場合には、スクライブヘッドユニットからツールホルダを取り外し、180°回転させて前後を入れ替えることによりポイントP5を用いることができる。あるいは、ダイヤモンドツール10を一旦ツールホルダ20から取り外し、90°回転させて再びツールホルダ20に固定し、他のポイント、例えばポイントP2をガラス基板60に接触させて同様にしてスクライブ予定ラインのクリーニング、潤滑剤塗布及びスクライブを行う。
【0031】
次に異物除去や潤滑剤を塗布する機能を有するスクライブヘッドユニットの他の実施の形態について説明する。
図9〜
図17は第2〜第10の実施の形態のスクライブヘッドユニットを示しており、前述した実施の形態と同一部分は同一符号を示している。
図9に示すように、第2の実施の形態のスクライブヘッドユニット40Bにおいては、潤滑剤供給ホルダ53の先端に設けられたスポンジ54は潤滑剤を塗布すると共に、異物除去を行うためのスポンジとしても用いている。こうすれば異物除去ホルダ51やスポンジ52は不要となり、構造を簡略化することができる。この場合にはブロック50をより小型のものとしてもよい。
【0032】
図10は本発明の第3の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Cの一例を示す正面図である。本図に示すように平板状のサポートプレート70上に異物除去ホルダ51を取付けている。サポートプレート70はブロック50と同様に異物除去ホルダ51を側面から見てダイヤモンドツールと同一位置となるようにヘッドプレート41から左方向に突出させるものである。異物除去ホルダ51の先端に固定されているスポンジ52は第1の実施の形態と同様である。又これに隣接してサポートプレート71にインクジェットユニット72が設けられる。インクジェットユニット72はガラス基板60の面に対して吐き出し口73よりパルス的に潤滑剤を塗布するものであり、供給量やタイミングはスクライブ装置の制御部から指令される。この実施の形態では前述した第1の実施の形態と同じく、異物除去ホルダ51とその先端のスポンジ52でスクライブ予定ラインに対して異物除去を行った後、潤滑剤を塗布してスクライブすることができる。ここでインクジェットユニット72は潤滑剤をガラス基板に塗布する潤滑剤塗布手段を構成している。
【0033】
図11は第4の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Dを示す正面図及び側面図である。この実施の形態では前述したインクジェットユニット72の先端の潤滑剤吐き出し口73の周囲にスポンジ74を取付けたものである。こうすれば潤滑剤の供給はパルス的であっても、スポンジ74により
図6(b)に示すようにスクライブ予定ラインに沿って一定の幅で潤滑剤を塗布することができる。
【0034】
図12は第5の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Eを示す正面図及び側面図である。この実施の形態ではスポンジ74は潤滑剤を塗布すると共に、異物除去を行うためのスポンジとしても用いている。こうすれば異物除去ホルダ51やスポンジ52は不要となり、構造を簡略化することができる。
【0035】
次に
図13は第6の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Fを示す正面図である。このスクライブヘッドユニットでは、潤滑剤供給ホルダ53には潤滑剤供給パイプ55は接続されておらず、スポンジ54のみを保持している。そして潤滑剤を保持している潤滑剤槽56の真上にスクライブヘッドユニット40Fの潤滑剤供給ホルダ53が位置するように周期的に移動し、降下させることでスポンジ54を潤滑剤に浸し、その後スクライブヘッドユニット40Fを上昇させる。そしてスクライブヘッドユニット40Fを矢印A方向に移動させて、第1の実施の形態と同様に潤滑剤を塗布するようにしたものである。
【0036】
次に
図14は第7の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Gを示す正面図である。この実施の形態でも潤滑剤供給ホルダ53には潤滑剤供給パイプは接続されておらず、異物除去ホルダ51とスポンジ52とは省略している。本実施の形態は第6の実施の形態と同様に、スポンジ54を潤滑剤槽56に周期的に浸すことにより潤滑剤を塗布するようにし、更に異物除去用のスポンジと兼用させるようにしたものである。これによりスポンジ54によりスクライブ予定ラインの拭き取りと潤滑剤の塗布とを行うことができる。
【0037】
次に
図15は第8の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Hを示す正面図及び側面図である。本実施の形態ではスポンジ等を用いてスクライブ予定ラインに潤滑剤を塗布することなく、ツールホルダ20に隣接する位置にホルダ80によって潤滑剤供給パイプ55を固定し、柔らかいチューブ81をツールホルダ20に接触させる。この実施の形態では潤滑剤の自重による自然落下でツールホルダ20を伝わって、ダイヤモンドツール10の先端から潤滑剤をスクライブ予定ラインに供給し、潤滑剤を塗布するようにしている。
【0038】
次に
図16は本発明の第9の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Iを示す正面図及び側面図である。本実施の形態でも、ツールホルダ20に隣接する位置にホルダ80によって潤滑剤供給パイプ55を固定し、スポンジ82を用い、ツールホルダ20に接触させツールホルダ20によって潤滑剤を塗布するようにしたものである。
【0039】
又
図17は本発明の第10の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40Jを示す正面図である。本図に示すようにスクライブヘッドユニット40Jにはブロック50を介して異物除去ホルダ51とスポンジ52とを設けているが、潤滑剤供給ホルダ53とスポンジ54とは省略している。そしてツールホルダ20のダイヤモンドツール10を周期的に潤滑剤槽56に直接浸透させ、これによってスクライブ予定ラインに潤滑剤を塗布するようにしている。ここで潤滑剤槽56を有する第6,第7及び第10の実施の形態によるスクライブヘッドユニット40F,40G及び40Jにおいて、潤滑剤槽56は潤滑剤塗布手段の一部を構成している。
【0040】
尚前述した各実施の形態では、
図1に示すようにダイヤモンド製の複数のポイントを持つスクライビングツールを用いているが、多角形の外周に板厚方向又は外周方向から研磨して複数のポイントを形成したスクライビングツールを用いてもよく、また四角錐台形や円錐形状のスクライビングツールを用いてもよい。
【0041】
ここでは
図4に示すようにトレンチラインを形成した後、アシストラインを形成しているが、トレンチラインを形成した後にスクライブ予定ラインに塗布した潤滑剤を拭き取り等により除去するステップを含めるようにしてもよい。
【0042】
又一定距離のスクライブを終えた後に、ダイヤモンドツールのポイント部分をクリーニングするようにしてもよい。クリーニングでは刃先のポイント部分にエアブローを吹き付けてもよく、ポイント部分から空気を吸引してもよい。又ポイント部分を超音波洗浄してもよく、潤滑剤や異物をスポンジ等で取り除いてクリーニングするようにしてもよい。潤滑剤を除去する場合には、基板の端部にマットを設け、スクライビングツールでこのマット上を通過させることによってクリーニングを行うようにしてもよい。
【0043】
前述した各実施の形態では、異物除去部材や潤滑剤塗布部材としてスポンジを用いているが、これと同様の機能を達する柔軟な部材、例えばフェルト等を用いることができる。
【0044】
前述した第3,第4及び第5の実施の形態ではスクライブ前に潤滑剤をインクジェットユニットの吐き出し口73より基板に直接塗布又はスポンジやフェルトに染み込ませるため塗布しているが、潤滑剤としては粘度の低い液体、例えば潤滑油、エタノールなどのアルコール、界面活性剤、水など公知の潤滑剤を用いることができる。
【0045】
又前述した実施の形態のうち第8〜第10の実施の形態では、上記の低粘度の液体に加えて液体の中に潤滑剤の成分や液体の油分が分散した乳液状の粘度の高い液体を用いることができる。この場合はとろみがあっても基板上に自重で広がることができ、スクライブ予定ラインに供給することができる。更に第1,第2及び第6,第7の実施の形態では、潤滑剤として上記の低粘度の液体及び高粘度の液体に加えてペースト状のもの、即ち液体の中に潤滑剤の液体の油分が分散したペースト,ワックス,クリーム状のものを用いてもよい。ペースト状の潤滑剤は基板上を自重で流れることはないが、スポンジやフェルト等で塗布し、スクライブ予定ライン上に供給することができる。
【0046】
又前述した各実施の形態ではスクライブヘッドユニットを移動させることによって基板をスクライブするようにしているが、スクライブヘッドユニットを固定し基板を移動させることによって異物除去や潤滑剤塗布及びスクライブを行うようにしてもよい。
【0047】
又前述した第1,第6の実施の形態では、同一のブロックに異物除去ホルダ及び潤滑剤供給ホルダを隣接して取付けているが、第4の実施の形態のように異物除去ホルダ及び潤滑剤供給ホルダをそれぞれ個別にサポートプレートに取り付けてもよい。