特許 6774387 加飾ガラスパネル及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6774387

(24)【登録日】2020年10月6日

(45)【発行日】2020年10月21日

(54)【発明の名称】加飾ガラスパネル及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   C03C 17/38 20060101AFI20201012BHJP

   B32B 1/00 20060101ALI20201012BHJP

   B32B 3/30 20060101ALI20201012BHJP

   B32B 15/04 20060101ALI20201012BHJP

   B32B 17/06 20060101ALI20201012BHJP

   B44C 3/02 20060101ALI20201012BHJP

   B44F 1/04 20060101ALI20201012BHJP

   C03C 17/42 20060101ALI20201012BHJP

【ＦＩ】

   C03C17/38

   B32B1/00 Z

   B32B3/30

   B32B15/04 B

   B32B17/06

   B44C3/02 Z

   B44F1/04

   C03C17/42

【請求項の数】5

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2017-125418(P2017-125418)

(22)【出願日】2017年6月27日

(65)【公開番号】特開2019-6051(P2019-6051A)

(43)【公開日】2019年1月17日

【審査請求日】2018年7月19日

【審判番号】不服2019-4848(P2019-4848/J1)

【審判請求日】2019年4月11日

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000231361

【氏名又は名称】ＮＩＳＳＨＡ株式会社

(72)【発明者】

【氏名】光木 卓志

(72)【発明者】

【氏名】重田 裕康

(72)【発明者】

【氏名】濱 大地

(72)【発明者】

【氏名】谷口 忠壮

【合議体】

【審判長】 菊地 則義

【審判官】 岡田 隆介

【審判官】 宮澤 尚之

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００４−３５８９２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／０２１１９２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特表２０００−５０１１９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平４−２５４８０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−２７９８３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０００−５０１１９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭５７−１７０８４３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

C03C 17/00 - 17/44

B32B 17/06 - 17/10

B32B 15/04

B44C 3/02

B44F 1/00 - 1/14

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

一方面の少なくとも一部が曲面であるガラス基材と、
前記ガラス基材の前記一方面の上に形成された基体シートと、
前記基体シートの上に形成された、上面に凹凸パターンを有し、立体的な意匠を表現する凹凸パターン層と、
前記凹凸パターン層の上面に形成された金属、金属酸化物又は半金属の酸化物からなる金属蒸着層とを備えた、加飾ガラスパネル。

【請求項2】

前記金属蒸着層は、屈折率の異なる層が複数積層される、請求項１に記載の加飾ガラスパネル。

【請求項3】

前記金属蒸着層は、積層方向に隣り合う層の屈折率が異なる、請求項２に記載の加飾ガラスパネル。

【請求項4】

一方面の少なくとも一部が曲面であるガラス基材を準備する工程と、
基体シートの上に、前記基体シートの上に形成された凹凸パターンに対応した凹凸パターンを下面に有する凹凸パターン層が形成された加飾シートを準備する工程と、
前記ガラス基材の前記一方面と前記加飾シートの前記凹凸パターン層が対向するように、前記ガラス基材と前記加飾シートを固着させる工程と、
前記加飾シートの前記基体シートを剥離して、前記ガラス基材に前記凹凸パターン層を転写させる工程と、
前記ガラス基材に転写された前記凹凸パターン層の上面に金属、金属酸化物又は半金属の酸化物からなる金属蒸着層を形成する工程とを備えた、加飾ガラスパネルの製造方法。

【請求項5】

一方面の少なくとも一部が曲面であるガラス基材を準備する工程と、
基体シートの上に、上面に凹凸パターンを有する凹凸パターン層が形成された加飾シートを準備する工程と、
前記ガラス基材の前記一方面と前記加飾シートの前記基体シートが対向するように、前記ガラス基材と前記加飾シートを固着させる工程と、
前記ガラス基材に固着された前記加飾シートの前記凹凸パターン層の上面に金属、金属酸化物又は半金属の酸化物からなる金属蒸着層を形成する工程とを備えた、加飾ガラスパネルの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この発明は、加飾ガラスパネル及びその製造方法に関し、特に金属蒸着層を備えた加飾ガラスパネルとその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

金属蒸着層により加飾されたガラス製品があり、そのようなガラス製品を製造する方法として、加飾シートを用いる方法（特許文献１参照）、ガラス基材に直接金属蒸着を行う方法（特許文献２参照）がある。加飾シートを用いる方法では、支持体である基体シート上に金属蒸着層が設けられた加飾シートを用いる。又、立体的な金属意匠を表現する場合には、基体シートと金属蒸着層との間に、更に凹凸パターン層を設ける。この加飾シートをガラス基材に貼付又は、加飾シート上の金属蒸着層及び凹凸パターン層を基体シートからガラス基材へ転写することで、立体的な金属意匠を有するガラス製品の製造を行う。ガラス基材に直接金属蒸着を行う方法では、ガラス基材を真空蒸着槽にセットして、真空蒸着法により金属や酸化物などの金属蒸着層を形成することで、立体的な金属意匠を有するガラス製品の製造を行う。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００７−２４５７２５号公報

【特許文献2】特開平９−２５５３６７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記のような従来のガラス製品及びその製造方法では、ガラス基材が曲面である場合に、加飾シートを用いる方法にあっては、加飾シートをガラス基材に貼付する際に、金属蒸着層がガラス基材の曲面に追随せずにクラックを起こす可能性がある。ガラス基材に直接金属蒸着を行う方法にあっては、ガラス基材に蒸着される金属や酸化物などによって、ガラス強度が劣化するおそれがある。

【0005】

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、立体的な金属意匠を有する加飾ガラスパネル及び生産性を向上させた加飾ガラスパネルの製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記の目的を達成するために、第１の発明は、一方面の少なくとも一部が曲面であるガラス基材と、ガラス基材の一方面の上に形成された、上面に凹凸パターンを有する凹凸パターン層と、凹凸パターン層の上面に形成された金属蒸着層とを備えた、加飾ガラスパネルである。

【0007】

このように構成すると、ガラス基材の曲面に凹凸パターン層を介して金属蒸着層が形成されるため、曲面に金属蒸着層が確実に固着した、立体的な金属意匠を有する加飾ガラスパネルとなる。

【0008】

第2の発明は、第1の発明の構成において、ガラス基材と凹凸パターン層との間に形成された基体シートを更に備えた、加飾ガラスパネルである。

【0009】

このように構成すると、基体シートによる加飾が可能となるため、金属蒸着層と相まって、より意匠性の高い加飾ガラスパネルとなる。

【0010】

第３の発明は、第1又は第2の発明の構成において、金属蒸着層は、屈折率の異なる層が複数積層される、加飾ガラスパネル。

【0011】

このように構成すると、屈折率の異なる層の間で光が反射され、光の干渉が起こり、虹模様の光沢感を感じることができる。

【0012】

第４の発明は、第３の発明の構成において、金属蒸着層は、積層方向に隣り合う層の屈折率が異なる、加飾ガラスパネル。

【0013】

このように構成すると、すべての層の間で光が反射され、より多くの光の干渉が起こり、より意匠性の高い虹模様の光沢感を感じることができる。

【0014】

第５の発明は、一方面の少なくとも一部が曲面であるガラス基材を準備する工程と、基体シートの上に、下面に凹凸パターンを有する凹凸パターン層が形成された加飾シートを準備する工程と、ガラス基材の一方面と加飾シートの凹凸パターン層が対向するように、ガラス基材と加飾シートを固着させる工程と、加飾シートの基体シートを剥離して、ガラス基材に凹凸パターン層を転写させる工程と、凹凸パターン層の上面に金属蒸着層を形成する工程とを備えた、加飾ガラスパネルの製造方法である。

【0015】

このように構成すると、ガラス基材の曲面に転写により形成された凹凸パターン層に、金属蒸着層が形成されるため、ガラス基材の曲面に、所定の凹凸パターンを有する金属意匠を、金属クラックを防止しながら確実に形成することができる。

【0016】

第６の発明は、一方面の少なくとも一部が曲面であるガラス基材を準備する工程と、基体シートの上に、上面に凹凸パターンを有する凹凸パターン層が形成された加飾シートを準備する工程と、ガラス基材の一方面と加飾シートの基体シートが対向するように、ガラス基材と加飾シートを固着させる工程と、凹凸パターン層の上面に金属蒸着層を形成する工程とを備えた、加飾ガラスパネルの製造方法である。

【0017】

このように構成すると、ガラス基材の曲面にラミネートにより形成された凹凸パターン層に、金属蒸着層が形成されるため、ガラス基材の曲面に、所定の凹凸パターンを有する金属意匠を、金属クラックを防止しながら確実に形成することができる。

【発明の効果】

【0018】

この発明によれば、曲面に金属蒸着層が形成された加飾ガラスパネルを効率的に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】その（ａ）がこの発明の第１実施形態による加飾ガラスパネルの平面図であり、その（ｂ）がその（ａ）で示した加飾ガラスパネルの底面図であり、その（ｃ）がその（ａ）・（ｂ）で示したＩ−Ｉラインの断面図であり、その（ｄ）がその（ａ）・（ｂ）で示したＩＩ−ＩＩラインの断面図である。

【図2】その（ａ）・（ｂ）がこの発明の各実施形態に用いられる加飾シートの凹凸パターン層の一例を示す断面図である。

【図3】その（ａ）がこの発明の各実施形態に用いられる加飾シートの凹凸パターン層の一例を示す平面図である。その（ｂ）がその（ａ）で示したＩＩＩ−ＩＩＩラインの断面図であり、その（ｃ）がその（ａ）で示したＩＶ−ＩＶラインの断面図である。

【図4】その（ａ）がこの発明の各実施形態に用いられる加飾シートの凹凸パターン層の一例を示す平面図である。その（ｂ）がその（ａ）で示したＶ−Ｖラインの断面図であり、その（ｃ）がその（ａ）で示したＶＩ−ＶＩラインの断面図である。

【図5】その（ａ）が図１で示した加飾ガラスパネルの製造に用いられる加飾シートの断面図であり、その（ｂ）から（ｄ）が図１で示した加飾ガラスパネルの製造工程を示した概略図である。

【図6】この発明の第２実施形態による加飾ガラスパネルの断面図であり、その（ａ）が図１（ｃ）に対応した図であり、その（ｂ）が図１（ｄ）に対応した図である。

【図7】その（ａ）が図３で示した加飾ガラスパネルの製造に用いられる加飾シートの断面図であり、その（ｂ）・（ｃ）が図３で示した加飾ガラスパネルの製造工程を示した概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

次に、発明の実施の形態について図を参照しながら説明する。

【0021】

図１（ａ）から（ｄ）を参照して、この発明の第１実施形態による加飾ガラスパネル１０は、平面視形状が、四隅をＲ形状とした矩形形状であり、平板形状の平面部と、平面部の周縁から全周にわたってＲ形状に折れ曲がりながら同一の高さで底面側に立ち上がる立上がり部とを備えている。

【0022】

加飾ガラスパネル１０は、ガラス基材１５と、ガラス基材１５の上に形成された接着層１１と、接着層１１の上に形成された凹凸パターン層１２と、凹凸パターン層１２の上に形成された金属蒸着層１３とを備えている。ガラス基材１５は、ガラス基材１５の裏面の一部である、平面部３０から立上がり部３１にかけて折れ曲がっている部分が曲面３２となっている。凹凸パターン層１２は、その上面である金属蒸着層１３側の面に、凹部４０及び凸部４１によって形成される凹凸パターンを有している。加飾ガラスパネル１０は、例えば、携帯端末の筐体に適用される。

【0023】

ガラス基材１５としては、例えば、強化ガラス、サファイアガラス、ジルコニアガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラスを用いることができる。又、ガラス基材１５の厚みは、１００μｍ〜１０００μｍが好ましい。厚みが１００μｍ以上であれば、ガラス基材１５が十分な強度を有し、厚みが１０００μｍ以下であれば、加飾ガラスパネル１０の持ち運びがしやすい重量となる。

【0024】

凹凸パターン層１２は、立体的な意匠を表現する層である。材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル／ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、メラミン系樹脂を用いることができる。凹凸パターン層１２の全体の厚みは、１μｍ〜５０μｍが好ましい。凹凸パターン層１２の厚みが、１μｍ以上であれば、凹凸パターンを形成するために十分な厚みとなる。一方、凹凸パターン層１２の厚みが、５０μｍ以下であれば、凹凸パターン層１２上に形成される金属蒸着層１３をガラス基材１５の表面側から視認しやすくなる。又、凹部４０の最下面から凸部４１の最上面までの高さによって表される凹凸パターンの高さは、０．１μｍ〜２０μｍの範囲内で、凹凸パターン層１２の厚みを超えない高さを選択すればよい。凹凸パターンの高さが、０．１μｍ以上であれば、金属蒸着層１３との組み合わせで加飾ガラスパネル１０の金属意匠を立体的に表現できる。一方、凹凸パターンの高さが２０μｍ以下であれば、クラックなどの蒸着欠陥の発生を抑制できる。又、凹凸パターン層１２は、例えば、加飾シート５０を用いた転写法によって、ガラス基材１５の上に形成できる。

【0025】

図２から図４を参照して、凹凸パターン層１２に形成される凹凸パターンの形状の例を示す。凹凸パターンは、例えば、複数のライン状の凹凸パターンや、平面視形状が多角形形状、円形形状、楕円形形状の凹部４０又は凸部４１が平面上に配列した凹凸パターンが挙げられる。図２を参照して、ライン状の凹凸パターンとして、複数のライン状の凹部４０及び凸部４１が互いに平行に周期的な配列をし、断面形状が波形状である凹凸パターンとしてもよい。例えば、図２（ａ）を参照して、凹部４０と凸部４１が同じ高さや同じ幅を有する凹凸パターンとしてもよく、図２（ｂ）を参照して、凹部４０と凸部４１が異なる高さや異なる幅を有する凹凸パターンとしてもよい。又、図３を参照して、凹部４０の平面視形状が正六角形形状である凹部４０をハニカム構造に配置してもよく、図４を参照して、平面視形状が円形形状の凹部４０を隙間無く千鳥状に配置してもよい。凹部４０又は凸部４１の平面視形状は、正六角形形状や円形形状に限られず、三角形形状や四角形形状などの多角形形状や楕円形形状としてもよい。このように、平面視形状が多角形形状、円形形状、楕円形形状の凹部４０又は凸部４１によって形成される凹凸パターンにおいて、凹部４０または凸部４１が平面上に密に周期的な配列をした凹凸パターンとしてもよい。

【0026】

金属蒸着層１３は、金属意匠を表現する層である。材料としては、例えば、アルミニウム、スズなどの金属や二酸化ケイ素、酸化チタン、二酸化ジルコニウムなどの酸化物を用いることができる。これらの材料は、一種を単独で用いても良く、二種以上重ね合わせた複数の層により金属蒸着層を形成してもよい。二種以上重ね合わせて複数の層を形成する場合には、屈折率の異なる層が複数積層されていることが好ましい。さらに、積層方向に隣り合う層の屈折率が異なるように積層させることがより好ましい。つまり、屈折率がＡの層とＢの層を用いる場合には、ＡＢやＢＡ、ＡＢＡのように積層させるとよい。また、屈折率がＡの層とＢの層をそれぞれ２層ずつ用いる場合には、ＡＢＡＢのように積層方向に隣り合う層の屈折率が異なるように積層させるとより好ましい。ＡＢＡＢの順に積層させた場合、ＡＢ間、ＢＡ間、ＡＢ間の全ての層の間で光が屈折及び反射するため、より多くの光によって、光の干渉が起こる。したがって、金属蒸着層１３を見た場合に、より意匠性の高い虹模様の光沢感を感じることができる。また、屈折率がＡの層とＢの層に加えてＣの層を用いる場合には、ＡＢＣＡＢＣのように順番に積層されていてもよく、ＡＢＣＢＡのように、順番に積層されていなくてもよい。実際の例を挙げると、金属蒸着層１３として、屈折率が異なる酸化チタンと二酸化ケイ素を用い、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化チタンの順に５層積層させる。このように構成すると、隣り合う層の屈折率が異なるため、全ての層間で光が反射され、反射された光同士で光の干渉が起こる。したがって、金属蒸着層１３を見た場合に、虹模様の光沢感を感じることができ、意匠性が向上する。

【0027】

又、複数の層の内、１つ以上の層の厚みを変えることで、意匠性を変化させることができる。例えば、凹凸パターン層１２に最も近い層の厚みがｄ１ｎｍの場合と、ｄ２ｎｍの場合では、金属蒸着層１３の同じ位置を同じ角度から見ても、ｄ１ｎｍの場合とｄ２ｎｍの場合では見える色が異なるため意匠性を変化させることができる。

【0028】

金属蒸着層１３の全体の厚みは、１０ｎｍ〜２μｍが好ましい。厚みが１０ｎｍ以上であれば、金属意匠として、十分な金属光沢が得られる。一方、厚みが２μｍ以下であれば、クラックなどの蒸着欠陥の発生を抑制できる。金属蒸着層１３の形成方法としては、例えば、真空蒸着層法、スパッタリング法、イオンプレーティング法により凹凸パターン層１２上に形成できる。

【0029】

接着層１１は、ガラス基材１５と凹凸パターン層１２との接着性を向上させる機能を有する層である。材料としては、ガラス基材１５に密着可能であればよく、例えば、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、ウレタン系樹脂を用いることができる。特に、接着層１１がポリエステル樹脂の場合には、ガラス基材１５と凹凸パターン層１２とをより強固に接着できる。又、接着層１１の厚みは、０．１μｍ〜５μｍが好ましい。接着層１１の厚みが０．１μｍ以上であれば、ガラス基材１５と凹凸パターン層１２を接着させるために、十分な接着性を有する。一方、接着層１１の厚みが５μｍ以下であれば、ガラス基材１５の表面側からの視認性を良好に保ちながら、ガラス基材１５と凹凸パターン層１２とを接着できる。又、接着層１１は、加飾シート５０を用いた転写法によって、ガラス基材１５上に形成できる。

【0030】

図５（ａ）を参照して、この発明の第１実施形態に用いられる加飾シート５０は、基体シート２１の上に、離型層２０と、離型層２０の上に形成された凹凸パターン層１２と、凹凸パターン層１２の上に形成された接着層１１とを備えている。凹凸パターン層１２は、下面である離型層２０側の面に凹凸パターンを有している。

【0031】

基体シート２１の材料としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリル、ポリカーボネート、ポリプロピレン（ＰＰ）、オレフィンなどの樹脂シート、グラシン紙、コート紙、セロハンなどのセルロース系シートが使用される。又、基体シート２１の厚みは、１２μｍ〜１００μｍが好ましい。基体シート２１の厚みが１２μｍ以上であれば、ハンドリング性に優れた厚みを有し、厚みが１００μｍ以下であれば、適度な剛性となるため良好なハンドリング性を有する。

【0032】

離型層２０は、加飾シート５０を用いて、ガラス基材１５への接着層１１及び凹凸パターン層１２の転写を行う際に、基体シート２１からの凹凸パターン層１２の剥離性を向上させるための層であり、転写後も基体シート２１上に残る。材料としては、たとえば、メラミン系樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、エポキシ系樹脂、尿素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノール系樹脂が使用される。又、離型層２０の厚みは、０．１μｍ〜２０μｍが好ましい。離型層２０の厚みが０．１μｍ以上であれば、基体シート上に、容易にコーティングを行うことができる。一方、離型層２０の厚みが２０μｍ以下であれば、加飾シート５０をガラス基材１５に貼付する際に、離型層２０のクラックの発生を抑制できる。離型層２０の基体シート２１上への形成方法は、従来と同様の方法によって行うことができる。従来の層形成の方法の例には、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコーティング法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。

【0033】

凹凸パターン層１２は、離型層２０の形成と同様に、従来の層形成方法によって、離型層２０上に形成される。

【0034】

接着層１１は、離型層２０の形成と同様に、従来の層形成方法によって、凹凸パターン層１２上に形成される。

【0035】

次に、図５（ａ）で示した加飾シート５０を用いて製造される加飾ガラスパネル１０の製造方法について説明する。

【0036】

まず、ガラス板を切削、研磨やプレス成形などによって、中央が平面部を有し、平面部の周縁から全周にわたって底面側に折れ曲がりながら立ち上がる立上がり部を有するガラス基材１５を準備する。この折れ曲がっている部分が曲面となっている。次に、加飾シート５０を準備する。まず、基体シート２１上に、離型層２０として、コーティング法を用いて、メラミン樹脂を０．５μｍの厚さで塗布する。次に、凹凸パターンを有する凹凸パターン層１２を形成するために、凹凸パターン層１２とは反対の凹凸パターンを離型層２０上に形成する。ここで、凹凸パターン層１２とは反対の凹凸パターンとは、凹凸パターン層１２の凹部４０及び凸部４１がそれぞれ凸部及び凹部に対応することを意味する。まず、凹凸パターン層１２と同じ凹凸パターンを有する金型を、凹凸パターンのある面を離型層２０側にして、離型層２０上に積層させる。次に、金型を離型層２０とは反対側から加圧することで、離型層２０上に、凹凸パターン層１２とは反対の凹凸パターンを形成する。次に、凹凸パターン層１２として、コーティング法を用いて、凹凸パターンを有する離型層２０上に、ポリエステル樹脂を１５μｍの厚さで塗布し、離型層２０の凹凸パターンにポリエステル樹脂を積層させることで、凹凸パターン層１２の下面である離型層２０側の面に凹凸パターンを形成する。次に、凹凸パターン層１２上に、接着層１１として、コーティング法を用いて、ポリエステル樹脂を０．３μｍの厚さで塗布することで、加飾シート５０の形成を行う。次に、ガラス基材１５に対して、加飾シート５０を用いて、凹凸パターン層１２の転写を行う。図５（ｂ）を参照して、ガラス基材１５の裏面と加飾シート５０の凹凸パターン層１２が対向するように、接着層１１側の面をガラス基材１５の裏面に重ねる。次に、シリコンラバーなどの耐熱ゴム状弾性体を用いて、温度８０〜２６０℃程度、圧力５０〜２０００Ｐａ程度の条件に設定した耐熱ゴム状弾性体を介して、加飾シート５０の基体シート２１側から熱と圧力とを加えることで、ガラス基材１５に加飾シート５０を接着させる。次に、接着させた加飾シート５０を室温まで冷却する。次に、図５（ｃ）を参照して、離型層２０と凹凸パターン層１２の間で剥離することで、ガラス基材１５上に凹凸パターン層１２が転写される。次に、凹凸パターン層１２上への金属蒸着層１３の形成を行う。図５（ｄ）を参照して、真空蒸着法により、凹凸パターン層１２上に、膜厚４０ｎｍの酸化チタン、１７０ｎｍの二酸化ケイ素、４０ｎｍの酸化チタン、１７０ｎｍの二酸化ケイ素、４０ｎｍの酸化チタンの５層を順番に蒸着８０することで、金属蒸着層１３を形成し、図１に示す加飾ガラスパネル１０の製造を行う。

【0037】

以上から、上記のように製造される加飾ガラスパネル１０は、ガラス基材１５の曲面３２に転写により形成された凹凸パターン層１２を介して金属蒸着層１３が形成されるため、金属クラックを防止しながら、ガラス基材１５の曲面３２に金属蒸着層１３が確実に固着した、立体的な金属意匠を有する加飾ガラスパネル１０となる。

【0038】

次に、この発明の第２実施形態について、図を参照しながら先の実施形態とは異なる点を中心に説明する。

【0039】

この発明の第２実施形態による加飾ガラスパネル１０は、図１（ａ）・（ｂ）で示した第１実施形態と同様の平面視形状を有する。又、図６（ａ）・（ｂ）を参照して、裏面の一部が曲面のガラス基材１５に接着層１１と凹凸パターン層１２が形成されており、凹凸パターン層１２を介して金属蒸着層１３が形成されている点では、第１実施形態と同様である。一方、ガラス基材１５が平面部を有さない点及び、接着層１１と凹凸パターン層１２の間に、基体シート２１が含まれている点が異なっている。ガラス基材１５の形状は、表面、裏面の全面が中央部分を最も高くして表面側に膨らむ緩やかな曲面３２となっている。

【0040】

ガラス基材１５としては、この発明の第１実施形態と同様の材料を用いることができる。

【0041】

凹凸パターン層１２は、立体的な意匠を表現する層である。材料としては、この発明の第１実施形態と同様の材料を用いることができる。又、凹凸パターン層１２は、例えば、加飾シート５０を用いたラミネート法によって、ガラス基材１５上に形成できる。

【0042】

金属蒸着層１３は、金属意匠を表現する層である。材料としては、この発明の第１実施形態と同様の材料を用いることができる。金属蒸着層１３の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法により凹凸パターン層１２上に形成できる。

【0043】

基体シート２１は、ガラス基材１５への加飾を行う層である。材料としては、この発明の第１実施形態と同様の材料を用いることができ、加飾ガラスパネル１０に着色したい場合には、所定の色を有する基体シート２１を用いることができる。又、基体シート２１は、例えば、加飾シート５０を用いたラミネート法によって、ガラス基材１５上に形成できる。

【0044】

接着層１１は、ガラス基材１５と基体シート２１との接着性を向上させる機能を有する層である。材料としては、この発明の第１実施形態と同様の材料を用いることができる。又、接着層１１は、加飾シート５０を用いたラミネート法によって、ガラス基材１５上に形成できる。

【0045】

図７（ａ）を参照して、この発明の第２実施形態に用いられる加飾シート５０は、基体シート２１の一方の面に凹凸パターン層１２、もう一方の面に接着層１１が形成されている。又、凹凸パターン層１２は、基体シート２１と反対側の面に凹凸パターンを有している。

【0046】

凹凸パターン層１２、接着層１１は、従来の層形成方法によって、基体シート２１上に形成される。

【0047】

次に、図７（ａ）で示した加飾シート５０を用いて、製造される加飾ガラスパネル１０の製造方法について説明する。

【0048】

まず、ガラス板を切削、研磨やプレス成形などによって、表面、裏面の全面が中央部を最も高くして表面側に膨らむ緩やかな曲面形状を有するガラス基材１５を準備する。次に、加飾シート５０を準備する。まず、基体シート２１上に、凹凸パターン層１２として、コーティング法を用いて、ポリエステル樹脂を１５μｍの厚さで塗布する。次に、凹凸パターン層１２とは反対の凹凸パターンを有する金型を、凹凸パターンのある面を凹凸パターン層１２側にして積層させる。次に、金型を離型層２０とは反対側から加圧することで、凹凸パターン層１２の基体シート２１とは反対側の面に凹凸パターンを形成する。次に、基体シート２１の凹凸パターン層１２が形成されていない、もう一方の面上に、接着層１１として、コーティング法を用いて、ポリエステル樹脂を０．３μｍの厚さで塗布することで加飾シート５０が形成される。次に、ガラス基材１５に対して、加飾シート５０をラミネートし、ガラス基材１５上に凹凸パターン層１２の形成を行う。図７（ｂ）を参照して、ガラス基材１５の裏面と加飾シート５０の基体シート２１が対向するように接着層１１側の面をガラス基材１５の裏面に重ねる。次に、シリコンラバーなどの耐熱ゴム状弾性体を用いて、温度８０〜２６０℃程度、圧力５０〜２０００Ｐａ程度の条件に設定した耐熱ゴム状弾性体を介して、加飾シート５０の基体シート２１側から熱と圧力とを加えることで、ガラス基材１５に加飾シート５０を接着させる。次に、金属蒸着層１３の形成を行う。図７（ｃ）を参照して、真空蒸着法により、凹凸パターン層１２上に、膜厚４０ｎｍの酸化チタン、１７０ｎｍの二酸化ケイ素、４０ｎｍの酸化チタン、１７０ｎｍの二酸化ケイ素、４０ｎｍの酸化チタンの５層を順番に蒸着８０することで、金属蒸着層１３を形成し、図３に示す加飾ガラスパネル１０の製造を行う。

【0049】

以上から、上記のように製造される加飾ガラスパネル１０は、ガラス基材１５の曲面３２にラミネートにより形成された凹凸パターン層１２を介して金属蒸着層１３が形成されるため、金属クラックを防止しながら、ガラス基材１５の曲面３２に金属蒸着層１３が確実に固着した、立体的な金属意匠を有する加飾ガラスパネル１０となる。

【0050】

尚、この発明の上記の各実施形態では、加飾シート５０に接着層１１を設けたが、ガラス基材１５と凹凸パターン層１２又は、基体シート２１が、良好に接着する場合には、接着層１１を設けずに、ガラス基材１５上に直接凹凸パターン層１２又は、基体シート２１を設けても良い。

【0051】

又、この発明の上記の各実施形態では、基体シート２１の全面に凹凸パターン層１２が形成されているが、ガラス基材１５の金属蒸着層１３が形成される部分に対応する位置に形成されていれば、全面に形成されている必要はない。

【0052】

更に、この発明の上記の各実施形態では、凹凸パターン層１２に凹凸パターンを形成するために、凹凸パターンを有する金型を用いたが、凹凸パターンを形成することができれば、ケミカルエッチングやサンドブラスト加工などの方法を用いても良い。

【0053】

更に、この発明の上記の各実施形態では、金属蒸着層１３を酸化チタンと二酸化ケイ素を用いて、５層構成で形成したが、ガラス基材１５に蒸着意匠が形成されれば、金属蒸着層１３は５層構成ではない複数の層又は、単独の層により構成しても良い。

【0054】

更に、この発明の第１実施形態では、加飾シート５０に離型層２０を設けたが、基体シート２１と凹凸パターン層１２が、良好に剥離する場合には、離型層２０を設けずに、基体シート２１上に直接凹凸パターン層１２を設けても良い。

【0055】

更に、この発明の第１実施形態では、ガラス基材１５の一部が曲面３２となっているが、ガラス基材１５の裏面全面が曲面であっても良い。又、ガラス基材１５の表面は、平面であっても曲面であっても良い。

【0056】

更に、この発明の第２実施形態では、ガラス基材１５の表面、裏面の全面が中央部を最も高くして表側に膨らむ緩やかな曲面３２となっているが、ガラス基材１５の裏面の一部のみが曲面であっても良い。又、ガラス基材１５の表面は平面であっても曲面であっても良い。

【符号の説明】

【0057】

１０ 加飾ガラスパネル
１１ 接着層
１２ 凹凸パターン層
１３ 金属蒸着層
１５ ガラス基材
２１ 基体シート
５０ 加飾シート

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】