特許 6777503 電解メッキ液分析装置、電解メッキ液分析方法および電解メッキ液分析用プログラム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6777503

(24)【登録日】2020年10月12日

(45)【発行日】2020年10月28日

(54)【発明の名称】電解メッキ液分析装置、電解メッキ液分析方法および電解メッキ液分析用プログラム

(51)【国際特許分類】

   G01N 27/48 20060101AFI20201019BHJP

   C25D 21/12 20060101ALI20201019BHJP

   G01N 27/26 20060101ALI20201019BHJP

   G01N 27/416 20060101ALI20201019BHJP

【ＦＩ】

   G01N27/48 311

   C25D21/12 C

   G01N27/26 371D

   G01N27/416 341B

【請求項の数】7

【全頁数】17

(21)【出願番号】特願2016-217705(P2016-217705)

(22)【出願日】2016年11月8日

(65)【公開番号】特開2018-77069(P2018-77069A)

(43)【公開日】2018年5月17日

【審査請求日】2019年9月24日

(73)【特許権者】

【識別番号】000227180

【氏名又は名称】日置電機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100104787

【弁理士】

【氏名又は名称】酒井 伸司

(72)【発明者】

【氏名】中山 直人

(72)【発明者】

【氏名】中川 義章

【審査官】 小澤 理

(56)【参考文献】

【文献】 特表２００５−５３４０１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１６−１０５０７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００７／０２６１９６３（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２００９−０５２１１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００５−５３３９２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００３／０１１１９９３（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 中山直人，電気化学測定を用いためっき液の品質管理，日置技報，２０１６年 ４月２７日，Vol.37, No.1，p.1-5

【文献】 中山直人，電気化学計測を用いためっき液の性能評価，計測自動制御学会中部支部シンポジウム講演論文集，２０１５年，p.14-17

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０１Ｎ ２７／４８

Ｃ２５Ｄ ２１／１２

Ｇ０１Ｎ ２７／２６

Ｇ０１Ｎ ２７／４１６

ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＭＥＤＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）

Ｓｃｏｐｕｓ

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

分析対象の電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該電解メッキ液の状態を分析する分析処理を実行する処理部と、
前記電解メッキ液に含まれているＮ種類（Ｎは、２以上の自然数）の含有物の濃度をそれそれ特定するための濃度特定用データを記憶する記憶部とを備え、
前記記憶部は、前記濃度特定用データとして、前記電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に前記各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該各試料毎に特定された当該各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が当該各試料における当該各含有物の濃度および当該還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータと、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータとを記憶し、
前記処理部は、前記分析処理において、前記第１のデータにおける前記各分析用パラメータの値および前記各含有物の濃度を示す値を前記各試料の前記各還元電位毎に前記第２のデータにおける前記分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する第１の処理と、当該第１の処理によって特定したＮ個の前記第１のモデル式に関連付けられている前記還元電位において前記電解メッキ液を対象として実行された前記電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した当該測定結果に基づいて特定される前記複数種類の分析用パラメータの値を当該Ｎ個の第１のモデル式に対応する前記分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、当該電解メッキ液における前記各含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行する電解メッキ液分析装置。

【請求項2】

前記記憶部は、前記第２のデータとして、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す複数種類の前記分析用モデル式を記憶し、
前記処理部は、前記第１の処理において、前記複数種類の分析用モデル式に対応する複数種類の前記第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の当該第１のモデル式を特定し、特定した当該各第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、前記第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する請求項１記載の電解メッキ液分析装置。

【請求項3】

前記電解メッキ液および前記各試料を対象とする前記電気化学測定処理を実行する測定部を備え、
前記処理部は、前記測定部による前記各試料を対象とする前記還元電位毎の前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて前記第１のデータを生成して前記記憶部に記憶させると共に、前記第２の処理において、前記測定部による前記電解メッキ液を対象とする前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて前記複数種類の分析用パラメータの値を特定して前記各含有物の濃度を特定する請求項１または２記載の電解メッキ液分析装置。

【請求項4】

分析対象の電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果、および当該電解メッキ液に含まれているＮ種類（Ｎは、２以上の自然数）の含有物の濃度をそれそれ特定するための濃度特定用データに基づいて当該電解メッキ液の状態を分析する分析処理において、前記濃度特定用データとして、前記電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に前記各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該各試料毎に特定された当該各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が当該各試料における当該各含有物の濃度および当該還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータにおける当該各分析用パラメータの値および当該各含有物の濃度を示す値を、当該各試料の当該各還元電位毎に、当該各含有物の濃度および当該各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータにおける当該分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する第１の処理と、当該第１の処理によって特定したＮ個の前記第１のモデル式に関連付けられている前記還元電位において前記電解メッキ液を対象として実行された前記電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した当該測定結果に基づいて特定される前記複数種類の分析用パラメータの値を当該Ｎ個の第１のモデル式に対応する前記分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、当該電解メッキ液における前記各含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行する電解メッキ液分析方法。

【請求項5】

前記第１の処理において、前記第２のデータにおける複数種類の前記分析用モデル式に対応する複数種類の前記第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の当該第１のモデル式を特定し、特定した当該各第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、前記第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する請求項４記載の電解メッキ液分析方法。

【請求項6】

分析対象の電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該電解メッキ液の状態を分析する分析処理を実行する処理部と、前記電解メッキ液に含まれているＮ種類（Ｎは、２以上の自然数）の含有物の濃度をそれそれ特定するための濃度特定用データを記憶する記憶部とを備えた電解メッキ液分析装置における前記処理部に前記分析処理を実行させる電解メッキ液分析用プログラムであって、
前記記憶部に、前記濃度特定用データとして、前記電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に前記各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該各試料毎に特定された当該各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が当該各試料における当該各含有物の濃度および当該還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータと、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータとが記憶されている状態において、前記処理部に対して、前記分析処理において、前記第１のデータにおける前記各分析用パラメータの値および前記各含有物の濃度を示す値を前記各試料の前記各還元電位毎に前記第２のデータにおける前記分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する第１の処理と、当該第１の処理によって特定したＮ個の前記第１のモデル式に関連付けられている前記還元電位において前記電解メッキ液を対象として実行された前記電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した当該測定結果に基づいて特定される前記複数種類の分析用パラメータの値を当該Ｎ個の第１のモデル式に対応する前記分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、当該電解メッキ液における前記各含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行させる電解メッキ液分析用プログラム。

【請求項7】

前記記憶部に、前記第２のデータとして、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す複数種類の前記分析用モデル式が記憶されている状態において、前記処理部に対して、前記第１の処理において、前記複数種類の分析用モデル式に対応する複数種類の前記第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の当該第１のモデル式を特定し、特定した当該各第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、前記第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する処理を実行させる請求項６記載の電解メッキ液分析用プログラム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電解メッキ液の状態を分析する電解メッキ液分析装置、電解メッキ液分析方法および電解メッキ液分析用プログラムに関するものである。

【背景技術】

【0002】

例えば、下記の特許文献には、塩化物イオン、非イオン性ポリエーテル系高分子界面活性剤、含硫黄有機化合物および含窒素有機化合物などを含有する硫酸銅めっき液（以下、「電解メッキ液」ともいう）を分析対象として、含窒素有機化合物（含窒素有機化合物系添加剤）の濃度を分析する分析方法の発明が開示されている。この分析方法は、塩化物イオンおよび非イオン性ポリエーテル系高分子界面活性剤を過剰に添加した電解メッキ液について、含硫黄有機化合物の濃度を変化させた場合に生じる負電流部分の積分面積、正電流部分の積分面積の変化量、または正電流部分の積分面積の変化率と、電解メッキ液に含まれている含窒素有機化合物の濃度との関係に基づいて検量線を作成し、作成した検量線に基づいて電解メッキ液に含まれている含窒素有機化合物の濃度を特定する方法が採用されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００９−５２１１８号公報（第５−１８頁、第１−２図）

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記特許文献に開示の分析方法では、含硫黄有機化合物の濃度の変化に応じて変化するパラメータと含窒素有機化合物の濃度との関係に基づいて作成した検量線に基づき、含窒素有機化合物の濃度を特定している。これにより、この分析方法によれば、複数の添加剤を含有する硫酸銅めっき液中に含まれている含窒素有機化合物系添加剤の濃度を、再現性よく、かつ高精度に特定することが可能となっている。

【0005】

しかしながら、含窒素有機化合物（含窒素有機化合物系添加剤）の濃度の特定を目的としている上記の分析方法では、分析対象の電解メッキ液に含まれている含窒素有機化合物以外の含有物の濃度を特定することはできない。このため、含窒素有機化合物以外の含有物の濃度を特定する必要があるときには、上記のような検量線に基づく含窒素有機化合物の濃度の特定処理とは別個に、対象とする含有物に関する濃度の特定処理をそれぞれ実行する必要がある。したがって、上記の分析方法では、電解メッキ液に含まれている複数種類の含有物の濃度をそれぞれ特定するために非常に長い作業時間を必要とするという問題点がある。

【0006】

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、電解メッキ液に含まれている複数種類の含有物の濃度を短時間で特定し得る電解メッキ液分析装置、電解メッキ液分析方法および電解メッキ液分析用プログラムを提供することを主目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記目的を達成すべく請求項１記載の電解メッキ液分析装置は、分析対象の電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該電解メッキ液の状態を分析する分析処理を実行する処理部と、前記電解メッキ液に含まれているＮ種類（Ｎは、２以上の自然数）の含有物の濃度をそれそれ特定するための濃度特定用データを記憶する記憶部とを備え、前記記憶部は、前記濃度特定用データとして、前記電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に前記各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該各試料毎に特定された当該各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が当該各試料における当該各含有物の濃度および当該還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータと、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータとを記憶し、前記処理部は、前記分析処理において、前記第１のデータにおける前記各分析用パラメータの値および前記各含有物の濃度を示す値を前記各試料の前記各還元電位毎に前記第２のデータにおける前記分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する第１の処理と、当該第１の処理によって特定したＮ個の前記第１のモデル式に関連付けられている前記還元電位において前記電解メッキ液を対象として実行された前記電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した当該測定結果に基づいて特定される前記複数種類の分析用パラメータの値を当該Ｎ個の第１のモデル式に対応する前記分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、当該電解メッキ液における前記各含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行する。

【0008】

また、請求項２記載の電解メッキ液分析装置は、請求項１記載の電解メッキ液分析装置において、前記記憶部は、前記第２のデータとして、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す複数種類の前記分析用モデル式を記憶し、前記処理部は、前記第１の処理において、前記複数種類の分析用モデル式に対応する複数種類の前記第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の当該第１のモデル式を特定し、特定した当該各第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、前記第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する。

【0009】

さらに、請求項３記載の電解メッキ液分析装置は、請求項１または２記載の電解メッキ液分析装置において、前記電解メッキ液および前記各試料を対象とする前記電気化学測定処理を実行する測定部を備え、前記処理部は、前記測定部による前記各試料を対象とする前記還元電位毎の前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて前記第１のデータを生成して前記記憶部に記憶させると共に、前記第２の処理において、前記測定部による前記電解メッキ液を対象とする前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて前記複数種類の分析用パラメータの値を特定して前記各含有物の濃度を特定する。

【0010】

また、請求項４記載の電解メッキ液分析方法は、分析対象の電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果、および当該電解メッキ液に含まれているＮ種類（Ｎは、２以上の自然数）の含有物の濃度をそれそれ特定するための濃度特定用データに基づいて当該電解メッキ液の状態を分析する分析処理において、前記濃度特定用データとして、前記電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に前記各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該各試料毎に特定された当該各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が当該各試料における当該各含有物の濃度および当該還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータにおける当該各分析用パラメータの値および当該各含有物の濃度を示す値を、当該各試料の当該各還元電位毎に、当該各含有物の濃度および当該各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータにおける当該分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する第１の処理と、当該第１の処理によって特定したＮ個の前記第１のモデル式に関連付けられている前記還元電位において前記電解メッキ液を対象として実行された前記電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した当該測定結果に基づいて特定される前記複数種類の分析用パラメータの値を当該Ｎ個の第１のモデル式に対応する前記分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、当該電解メッキ液における前記各含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行する。

【0011】

さらに、請求項５記載の電解メッキ液分析方法は、請求項４記載の電解メッキ液分析方法において、前記第１の処理において、前記第２のデータにおける複数種類の前記分析用モデル式に対応する複数種類の前記第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の当該第１のモデル式を特定し、特定した当該各第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、前記第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する。

【0012】

また、請求項６記載の電解メッキ液分析用プログラムは、分析対象の電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該電解メッキ液の状態を分析する分析処理を実行する処理部と、前記電解メッキ液に含まれているＮ種類（Ｎは、２以上の自然数）の含有物の濃度をそれそれ特定するための濃度特定用データを記憶する記憶部とを備えた電解メッキ液分析装置における前記処理部に前記分析処理を実行させる電解メッキ液分析用プログラムであって、前記記憶部に、前記濃度特定用データとして、前記電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に前記各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された前記電気化学測定処理の測定結果に基づいて当該各試料毎に特定された当該各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が当該各試料における当該各含有物の濃度および当該還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータと、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータとが記憶されている状態において、前記処理部に対して、前記分析処理において、前記第１のデータにおける前記各分析用パラメータの値および前記各含有物の濃度を示す値を前記各試料の前記各還元電位毎に前記第２のデータにおける前記分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する第１の処理と、当該第１の処理によって特定したＮ個の前記第１のモデル式に関連付けられている前記還元電位において前記電解メッキ液を対象として実行された前記電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した当該測定結果に基づいて特定される前記複数種類の分析用パラメータの値を当該Ｎ個の第１のモデル式に対応する前記分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、当該電解メッキ液における前記各含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行させる。

【0013】

さらに、請求項７記載の電解メッキ液分析用プログラムは、請求項６記載の電解メッキ液分析用プログラムにおいて、前記記憶部に、前記第２のデータとして、前記各含有物の濃度および前記各分析用パラメータの相関関係を示す複数種類の前記分析用モデル式が記憶されている状態において、前記処理部に対して、前記第１の処理において、前記複数種類の分析用モデル式に対応する複数種類の前記第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の当該第１のモデル式を特定し、特定した当該各第１のモデル式のなかから、当該各含有物毎に、前記第１の基準を満たす当該第１のモデル式を特定する処理を実行させる。

【発明の効果】

【0014】

請求項１記載の電解メッキ液分析装置、および請求項４記載の電解メッキ液分析方法では、複数種類の試料を対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された電気化学測定処理の測定結果に基づいて各試料毎に特定された各還元電位毎の複数種類の分析用パラメータの値が各試料における各含有物の濃度および還元電位の値に関連付けられて記録された第１のデータにおける各分析用パラメータの値および各含有物の濃度を示す値を、各試料の各還元電位毎に、各含有物の濃度および各分析用パラメータの相関関係を示す予め規定された分析用モデル式の第２のデータにおける分析用モデル式にそれぞれ代入した複数の第１のモデル式のなかから、各含有物毎に、予め規定された第１の基準を満たす第１のモデル式を特定する第１の処理と、特定したＮ個の第１のモデル式に関連付けられている還元電位において電解メッキ液を対象として実行された電気化学測定処理の測定結果を取得すると共に、取得した測定結果に基づいて特定される複数種類の分析用パラメータの値をＮ個の第１のモデル式に対応する分析用モデル式に代入した各第２のモデル式に基づき、電解メッキ液におけるＮ種類の含有物の濃度をそれぞれ特定する第２の処理とを実行する。また、請求項６記載の電解メッキ液分析用プログラムでは、上記の第１の処理および第２の処理を電解メッキ液分析装置における処理部に実行させる。

【0015】

したがって、請求項１記載の電解メッキ液分析装置、請求項４記載の電解メッキ液分析方法、および請求項６記載の電解メッキ液分析用プログラムによれば、電解メッキ液に含まれているＮ種類の含有物の濃度を１回の作業で特定することができるため、複数種類の含有物が含まれていることが多い電解メッキ液を対象とする各含有物の濃度を短時間で特定することができる。また、第１の処理を１回実行しておくことで、電解メッキ液に含まれている各含有物の濃度を特定すべきときには第２の処理だけを実行することで分析結果（含有物の濃度）を得ることができるため、電解メッキ液の状態を逐次把握して、好適な条件下で対象物をメッキ処理することが可能となる。

【0016】

請求項２記載の電解メッキ液分析装置、および請求項５記載の電解メッキ液分析方法では、第１の処理において、第２のデータにおける複数種類の分析用モデル式に対応する複数種類の第１のモデル式のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の第１のモデル式を特定し、特定した各第１のモデル式のなかから、各含有物毎に、第１の基準を満たす第１のモデル式を特定する。また、請求項７記載の電解メッキ液分析用プログラムでは、第１の処理において電解メッキ液分析装置における処理部に上記の処理を実行させる。

【0017】

したがって、請求項２記載の電解メッキ液分析装置、請求項５記載の電解メッキ液分析方法、および請求項７記載の電解メッキ液分析用プログラムによれば、濃度を特定すべき含有物の特性に応じて複数種類の分析用モデル式を用意しておくことで、各種の含有物の濃度を精度よく特定することができる。

【0018】

請求項３記載の電解メッキ液分析装置では、処理部が、測定部による各試料を対象とする還元電位毎の電気化学測定処理の測定結果に基づいて第１のデータを生成して記憶部に記憶させると共に、第２の処理において、測定部による電解メッキ液を対象とする電気化学測定処理の測定結果に基づいて複数種類の分析用パラメータの値を特定して各含有物の濃度を特定する。したがって、請求項３記載の電解メッキ液分析装置によれば、電解メッキ液分析装置とは別個に電気化学測定装置を備えることなく、電解メッキ液に含まれる各含有物の濃度を好適に特定することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】電解メッキ液分析システム１の構成図である。

【図2】分析処理に際して使用する試料について説明するための説明図である。

【図3】各試料に関して各還元電位毎に特定される分析用パラメータ（電流効率およびメッキ量）について説明するための説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、電解メッキ液分析装置、電解メッキ液分析方法および電解メッキ液分析用プログラムの実施の形態について、添付図面を参照して説明する。

【0021】

図１に示す電解メッキ液分析システム１は、メッキ液槽内に貯液されている電解メッキ液（メッキ浴）Ｘａの状態を「電解メッキ液分析方法」に従って分析可能な「電解メッキ液分析装置」の一例であって、電気化学測定装置２および分析装置３を備えて構成されている。

【0022】

電気化学測定装置２は、電気化学センサ２ａおよび測定装置本体２ｂを備えている。電気化学センサ２ａは、三極測定による「電気化学測定処理」を実行するためのセンサ装置であって、ケーシング１０、参照電極１１、作用電極１２、対向電極１３および信号処理回路基板１４を備えている。なお、本明細書では、「電解メッキ液分析装置」および「電解メッキ液分析方法」に関する理解を容易とするために、参照電極１１、作用電極１２および対向電極１３を同じ形状・同じ大きさに図示しているが、実際には、測定対象（電解メッキ液分析システム１による分析対象）の電解メッキ液Ｘａの種類に応じて、各電極１１〜１３毎に各種の形状・大きさ・構成の電極が採用される。

【0023】

ケーシング１０は、耐薬品性樹脂材料などで形成された容器体であって、各電極１１〜１３が取り付けられると共に、各電極１１〜１３に接続された信号処理回路基板１４を収容する。信号処理回路基板１４は、ポテンショスタットやＩ／Ｖ変換回路などが実装された回路基板であって、信号ケーブル２ｃを介して測定装置本体２ｂに接続されている。なお、この信号処理回路基板１４については、測定装置本体２ｂ側の構成要素とすることもできる。

【0024】

測定装置本体２ｂは、操作部２１、表示部２２、処理部２３および記憶部２４を備えている。操作部２１は、測定条件等の設定操作、各種処理の開始／停止の指示、および測定結果の分析装置３への送信指示などの操作が可能な操作スイッチを備え、これらの操作に応じた操作信号を処理部２３に出力する。表示部２２は、処理部２３の制御下で、処理部２３によって演算される電気化学測定処理の測定結果などを表示する。

【0025】

処理部２３は、電気化学測定装置２を総括的に制御する。具体的には、処理部２３は、電気化学センサ２ａの信号処理回路基板１４と相俟って「測定部」を構成し、操作部２１からの操作信号に応じて「電気化学測定処理（以下、単に「測定処理」ともいう）」などを実行する。この場合、処理部２３は、参照電極１１に対する作用電極１２の電位（以下、単に「作用電極１２の電極電位」ともいう）を制御しつつ、対向電極１３および作用電極１２の間を流れる電流の電流値（電気化学センサ２ａから出力されたセンサ信号）を取得し、取得した電流値（センサ信号の値）に基づいて測定値を演算すると共に、演算結果（測定値：「電気化学測定処理の測定結果」の一例）を記録した測定値データＤ１を生成して記憶部２４に記憶させる処理を「測定処理」として実行する。

【0026】

また、処理部２３は、操作部２１からの操作信号（または、分析装置３からの制御信号）に応じて記憶部２４から測定値データＤ１を読み出して分析装置３に出力する。記憶部２４は、処理部２３の動作ブログラムや、上記の測定値データＤ１などを記憶する。

【0027】

一方、分析装置３は、一例として、「電解メッキ液分析用プログラム」に相当する分析用プログラムＤｐがインストールされたパーソナルコンピュータで構成されており、操作部３１、表示部３２、処理部３３および記憶部３４を備えている。操作部３１は、キーボードや、マウスおよびタッチパッド等のポインティングデバイスで構成されて、これらの操作に応じた操作信号を処理部３３に出力する。表示部３２は、処理部３３による「分析処理」の結果（分析結果）などを表示する。

【0028】

処理部３３は、「処理部」の一例であって、測定値が記録された測定値データＤ１を電気化学測定装置２（測定装置本体２ｂ）から送信させて記憶部３４に記憶させる。また、処理部３３は、電気化学測定装置２から送信させた測定値データＤ１を分析用プログラムＤｐに従って解析することにより、電解メッキ液Ｘａの状態を分析して分析結果を表示部３２に表示させると共に、分析結果を記録した分析結果データＤ２〜Ｄ４を生成して記憶部３４に記憶させる（「分析処理」の一例）。この場合、本例の電解メッキ液分析システム１では、処理部３３が、「分析処理」において、電解メッキ液Ｘａに含まれているＮ種類の含有物（各種の添加剤や、電解メッキ液Ｘａに混入した不純物等）の濃度を特定する処理を実行可能に構成されている。

【0029】

なお、この「分析処理」の具体的な内容については、後に詳細に説明するが、本例では、「電解メッキ液分析装置」、「電解メッキ液分析方法」および「電解メッキ液分析用プログラム」についての理解を容易とするために、一例として、「電解メッキ液に含まれているＮ種類の含有物」として、電解メッキ液Ｘａに添加されている抑制剤（添加剤Ａ）および促進剤（添加剤Ｂ）のＮ＝２種類の「含有物」の濃度を特定するものとする。また、本例では、一例として、「測定処理」の結果が記録された測定値データＤ１に基づいて特定される「電流効率」、「メッキ量」および「ピーク電流」などの各種のパラメータのうちの２つ（一例として、「電流効率」および「メッキ量」）を「分析用パラメータ（電解メッキ液Ｘａ等に含まれる含有物の種類およびその濃度に応じて変化するパラメータ）」として、各種の処理を実行するものとする。

【0030】

この場合、「電流効率」は、電解メッキ液Ｘａなどに含まれている金属を作用電極１２の電極面に析出させた（メッキした）ときに金属の析出に寄与した電流の比率を示すパラメータであって、一例として、金属溶出時電気量（作用電極１２上に析出させた金属を電解メッキ液Ｘａなどに溶出させたときに対向電極１３および作用電極１２間を流れる電流の電流値に基づいて特定される電気量）を、析出時電気量（作用電極１２上に金属を析出させたときに対向電極１３および作用電極１２間を流れる電流の電流値に基づいて特定される電気量）で除すことで求められる。

【0031】

また、「メッキ量」は、電解メッキ液Ｘａなどに含まれている金属を作用電極１２の電極面に規定時間に亘って析出させた（メッキした）ときに電極面上に析出する（メッキされる）金属の質量であって、一例として、作用電極１２上に析出させた金属を電解メッキ液Ｘａなどに溶出させた際に対向電極１３および作用電極１２間を流れる電流の電流値（電流値に基づいて特定される電気量）に基づいて特定される。さらに、「ピーク電流」は、作用電極１２上に析出させた金属を作用電極１２の電極電位を変化させつつ電解メッキ液Ｘａなどに溶出させた際に対向電極１３および作用電極１２間を流れる電流の電流値がどのような電極電位において最大値であったかに基づいて特定される。

【0032】

記憶部３４は、「記憶部」の一例であって、上記の分析用プログラムＤｐや、電解メッキ液Ｘａに含まれている各種含有物の濃度を特定するためのモデル式データＤ０を記憶する。この場合、モデル式データＤ０は、「第２のデータ」の一例であって、電解メッキ液Ｘａに含まれている各種の含有物のうちの濃度特定対象の含有物の「濃度」と、「分析用パラメータ」との相関関係を示す「分析用モデル式」が記録されている。

【0033】

具体的には、モデル式データＤ０には、「分析用モデル式」として、「Ｙ＝β_０＋β_１Ｘ_１＋β_２Ｘ_２＋ε（１次モデル式）」、「Ｙ＝β_０＋β_１Ｘ_１＋β_２Ｘ_２＋β_１２Ｘ_１Ｘ_２＋ε（交互作用モデル式）」および「Ｙ＝β_０＋β_１Ｘ_１＋β_２Ｘ_２＋β_１２Ｘ_１Ｘ_２＋β_１１Ｘ_１^２＋β_２２Ｘ_２^２＋ε（２次モデル式）」の３種類のモデル式が記録されている。この場合、上記の各モデル式における「Ｙ」は、「分析用パラメータ」の値（本例では、「電流効率」および「メッキ量」の値）であり、「Ｘ_１」は、抑制剤（添加剤Ａ）の濃度であり、「Ｘ_２」は、促進剤（添加剤Ｂ）の濃度であり、「β_０，β_１・・」は、モデル式の作成に際して規定された任意の係数（パラメータ）であり、「ε」は、既知の「調整値（誤差）」である。

【0034】

なお、本例では、上記の３種類のモデル式を「各含有物の濃度および各分析用パラメータの相関関係を示す複数種類の分析用モデル式」として記録したモデル式データＤ０を使用するが、濃度を特定する対象の「含有物」によっては、上記の３種類のモデル式のうちの１つ、または２つを「分析用モデル式」として記録したモデル式データＤ０を使用したり、「３次モデル式」、「４次モデル式」・・等のモデル式を含む４つ以上のモデル式を「分析用モデル式」として記録したモデル式データＤ０を使用したりすることができる。

【0035】

また、記憶部３４は、電気化学測定装置２から送信された測定値データＤ１や、後述するように処理部３３によって測定値データＤ１に基づいて特定される「分析用パラメータ」の値が記録された分析結果データＤ２，Ｄ３、および特定された各含有物の濃度が記録された分析結果データＤ４などを記憶する。なお、本例では、後述するように測定値データＤ１に基づいて処理部３３によって生成される分析結果データＤ２が「第１のデータ」に相当すると共に、この分析結果データＤ２と、前述したモデル式データＤ０とが相俟って「濃度特定用データ」に相当する。

【0036】

この電解メッキ液分析システム１によってメッキ液槽内の電解メッキ液Ｘａの状態を分析する（電解メッキ液Ｘａに含まれている抑制剤および促進剤の濃度を特定する）には、まず、図２に示す試料Ｘｂ１〜Ｘｂ９を用意する。この場合、試料Ｘｂ１〜Ｘｂ９は、「電解メッキ液と同じ金属イオンを含有すると共に各含有物の濃度の組み合わせが互いに相違する複数種類の試料」に相当し、本例では、一例として、濃度を特定する対象の「含有物（本例では、抑制剤および促進剤）」を新品の電解メッキ液Ｘａ（その電解メッキ液Ｘａを用いたメッキ処理を行っておらず、かつ抑制剤や促進剤などの添加剤が添加されたり、不純物等が混入したりしていない電解メッキ液Ｘａ）に添加して製作する。

【0037】

具体的には、図２に示すように、本例では、抑制剤の添加量が適量の状態、抑制剤の添加量が不足している状態、および抑制剤の添加量が過剰な状態の３つの状態と、促進剤の添加量が適量の状態、促進剤の添加量が不足している状態、および促進剤の添加量が過剰な状態の３つの状態との組み合わせによって３×３＝９種類の試料Ｘｂ１〜Ｘｂ９（以下、区別しないときには「試料Ｘｂ」ともいう）を製作する。

【0038】

この場合、後述する「分析処理」において「分析用モデル式」としての「交互作用モデル式」や「２次モデル式」を含むモデル式を使用する本例では、抑制剤の添加量（濃度）の種類数、および促進剤の添加量（濃度）の種類数をそれぞれ３種類以上とするのが好ましい。また、添加量（濃度）が適量であるべき抑制剤や促進剤を「含有物」としてその濃度を特定する本例では、上記の各「含有物」の添加量の３つの状態のうちの１つが「適量」で、他の２つが「不足（適量より少ない状態）」および「過剰（適量より多い状態）」であるのが好ましい。

【0039】

次いで、上記の各試料Ｘｂを対象とする「測定処理」をそれぞれ実行する。具体的には、まず、ケーシング１０に各電極１１〜１３を取り付けて電気化学センサ２ａを組み立てると共に、信号ケーブル２ｃを介して電気化学センサ２ａを測定装置本体２ｂに接続する。続いて、電気化学センサ２ａにおける各電極１１〜１３の電極面を試料Ｘｂにそれぞれ浸した後に、測定装置本体２ｂの操作部２１を操作して、「測定処理」の開始を指示する。これに応じて、処理部２３が「測定処理」を開始して測定値データＤ１を生成し、生成した測定値データＤ１を記憶部２４に記憶させる。この際に、処理部２３は、一例として、分析対象の電解メッキ液Ｘａを使用した実際のメッキ処理時における還元電位を中心とする十分に広い電位範囲内で還元電位（作用電極１２の電極面に金属を析出させる際の電極電位）を変更して複数回の「測定処理」を実行する。

【0040】

なお、この「測定処理」については、一例として、出願人が特開２０１６−１０５０７２号公報や特開２０１６−１０５０７３号公報に開示している分析方法における「測定値取得処理」の手順と同様の手順で実施することができる。したがって、これら公開公報に開示の事項と同様の事項については詳細な説明を省略する。このような「測定処理」を、各試料Ｘｂを対象としてそれぞれ実行することにより、試料Ｘｂ１についての複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された「測定処理」の測定結果が記録された測定値データＤ１から、試料Ｘｂ９についての複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された「測定処理」の測定結果が記録された測定値データＤ１までの複数の測定値データＤ１が記憶部２４に記憶される。

【0041】

次いで、電気化学センサ２ａを試料Ｘｂから引き上げ、必要に応じて各電極１１〜１３をケーシング１０から取り外して保管用のケースに収容した後に、信号ケーブル４（図１参照）を介して測定装置本体２ｂを分析装置３に接続する。続いて、電気化学測定装置２（測定装置本体２ｂ）の操作部２１を操作することにより、記憶部２４に記憶されている各測定値データＤ１を分析装置３に送信する。

【0042】

これに応じて、分析装置３では、処理部３３が、電気化学測定装置２から送信された各測定値データＤ１を記憶部３４に記憶させる。なお、電気化学測定装置２から分析装置３への測定値データＤ１の送信については、電気化学測定装置２の操作部２１を操作する上記の例に限定されず、分析装置３の操作部３１を操作して分析装置３から電気化学測定装置２に送信要求信号を送信することで、電気化学測定装置２から分析装置３に測定値データＤ１を送信させることもできる。以上により、各試料Ｘｂの分析に必要な測定値データＤ１が分析装置３の記憶部３４に記憶される。

【0043】

次いで、分析装置３において各試料Ｘｂについての「分析用パラメータ」を取得するための「分析処理」を実行する。なお、この「分析処理」に関しても、一例として、出願人が上記の公開公報に開示している「分析処理」と同様の手順で実施することができる。この際に、本例では、処理部３３が、各試料Ｘｂ毎に、「分析用パラメータ」としての「電流効率」および「メッキ量」の２つのパラメータをＭ種類（Ｍは、２以上の自然数：一例として、−０．３０Ｖ、−０．２５Ｖ、−０．２０Ｖ、−０．１５Ｖ、−０．１０Ｖ、−０．０５Ｖおよび０．００ＶのＭ＝７種類）の各還元電位毎にそれぞれ特定する。これにより、図３に示すように、試料Ｘｂ１についての還元電位Ｖ１，Ｖ２・・ＶＭ（一例として、還元電位Ｖ１が−０．３０Ｖで、還元電位ＶＭが０．００Ｖの７種類の還元電位）において実行された「測定処理」の測定値データＤ１に基づく電流効率Ａ１１，Ａ１２・・Ａ１Ｍおよびメッキ量Ｂ１１，Ｂ１２・・Ｂ１Ｍから、試料Ｘｂ９についての還元電位Ｖ１，Ｖ２・・ＶＭにおいて実行された「測定処理」の測定値データＤ１に基づく電流効率Ａ９１，Ａ９２・・Ａ９Ｍおよびメッキ量Ｂ９１，Ｂ９２・・Ｂ９Ｍがそれぞれ特定される。

【0044】

続いて、処理部３３は、分析用プログラムＤｐに従い、特定した上記の各「電流効率」および各「メッキ量」を、対応する試料Ｘｂにおける抑制剤や促進剤の濃度、および対応する測定値データＤ１の取得時における還元電位に関連付けて分析結果データＤ２を生成し、生成した分析結果データＤ２を「第１のデータ」として記憶部３４に記憶させる。なお、上記の分析結果データＤ２（第１のデータ）については、分析対象の電解メッキ液Ｘａの種類や、使用している電気化学センサ２ａ（各電極１１〜１３）の種類が変わらない限り、継続的に使用することができる。したがって、この分析結果データＤ２の取得作業については、分析対象の電解メッキ液Ｘａおよび使用する電気化学センサ２ａの組み合わせ毎に、任意の場所で１回だけ実行すればよい。

【0045】

次いで、処理部３３は、分析用プログラムＤｐに従って「第１の処理」を実行する。この場合、本例の電解メッキ液分析システム１（分析装置３）では、モデル式データＤ０に記憶されている各モデル式のうちのいずれのモデル式が抑制剤や促進剤の濃度の特定に適したモデル式であるかを特定する処理と、どのような還元電位に対応する「分析用パラメータ」を代入したモデル式が抑制剤や促進剤の濃度の特定に適したモデル式であるかを特定する処理とを「第１の処理」としてこの順で実行する。

【0046】

具体的には、処理部３３は、まず、分析結果データＤ２における各「分析用パラメータ」の値、および各「含有物」の濃度を示す値を、各試料Ｘｂについて実行した「測定処理」時の各還元電位毎に、モデル式データＤ０における各「分析用モデル式」にそれぞれ代入して「第１のモデル式」を生成する。この際に、処理部３３は、一例として、上記の各値を最小二乗法でモデル式にあてはめることによって「第１のモデル式」を生成する。

【0047】

続いて、処理部３３は、生成した各「第１のモデル式」のなかから、分析結果データＤ２に記録されている各値との差異が最も小さい「第１のモデル式」（「予め規定された第２の基準を満たす種類の第１のモデル式」の一例）を各「含有物」毎にそれぞれ特定する。具体的には、処理部３３は、分析結果データＤ２において各「分析用パラメータ」に関連付けられている各試料Ｘｂにおける抑制剤の濃度をモデル式データＤ０における１次モデル式にそれぞれ代入した「第１のモデル式」、各試料Ｘｂにおける抑制剤の濃度を交互作用モデル式にそれぞれ代入した「第１のモデル式」、および各試料Ｘｂにおける抑制剤の濃度を２次モデル式にそれぞれ代入した「第１のモデル式」のなかで、Ｒ２乗値（決定係数）が最も小さい「第１のモデル式」を「第２の基準を満たす第１のモデル式」として特定する。

【0048】

これにより、各種の「第１のモデル式」のなかから、「１次モデル式」、「交互作用モデル式」および「２次モデル式」のうちのいずれかが、抑制剤の分析に適したモデル式（第１のモデル式）として特定される。また、処理部３３は、「含有物」としての促進剤の分析に適したモデル式（第１のモデル式）についても、抑制剤についてのモデル式の特定と同様に特定する。

【0049】

次いで、処理部３３は、上記の処理で特定した各「含有物」毎の「第１のモデル式」のなかで、いずれの還元電位を代入した「第１のモデル式」が各「含有物」の濃度の特定に適しているかを特定する。具体的には、処理部３３は、各還元電位をあてはめた各「第１のモデル式」における「Ｘ_１」の項（抑制剤の濃度）に乗じる「β_ｎ」の項を「０」としたときのｐ値をそれぞれ求め、求めたｐ値が最も小さいモデル式（「予め規定された第１の基準を満たす第１のモデル式」の一例：抑制剤の濃度である「Ｘ_１」に対する影響が最も大きいモデル式）を抑制剤の濃度の特定に適した還元電位の「第１のモデル式」として特定する。同様にして、処理部３３は、各還元電位をあてはめた各「第１のモデル式」における「Ｘ_２」の項（促進剤の濃度）に乗じる「β_ｎ」の項を「０」としたときのｐ値をそれぞれ求め、求めたｐ値が最も小さいモデル式（「予め規定された第１の基準を満たす第１のモデル式」の一例：促進剤の濃度である「Ｘ_２」に対する影響が最も大きいモデル式）を促進剤の濃度の特定に適した還元電位の「第１のモデル式」として特定する。

【0050】

以上により、「第１の処理」が完了し、「１次モデル式」、「交互作用モデル式」および「２次モデル式」のうちのいずれのモデル式が抑制剤の濃度の特定に適しているかとの事項、抑制剤の濃度の特定に際していずれの還元電位において「測定処理」を実行するのが好ましいかとの事項、「１次モデル式」、「交互作用モデル式」および「２次モデル式」のうちのいずれのモデル式が促進剤の濃度の特定に適しているかとの事項、促進剤の濃度の特定に際していずれの還元電位において「測定処理」を実行するのが好ましいかとの事項が特定される。

【0051】

なお、この「第１の処理」における特定事項についても、分析対象の電解メッキ液Ｘａの種類（すなわち、試料Ｘｂの種類）、モデル式データＤ０のモデル式の種類、および使用している電気化学センサ２ａ（各電極１１〜１３）の種類が変わらない限り、継続的に使用することができる。したがって、この分析結果データＤ２の取得作業については、分析対象の電解メッキ液Ｘａ、使用するモデル式、および使用する電気化学センサ２ａの組み合わせ毎に、任意の場所で１回だけ実行すればよい。以上により、メッキ液槽内の電解メッキ液Ｘａについての実質的な「分析処理」の準備が完了する。

【0052】

次いで、メッキ液槽内の電解メッキ液Ｘａを対象とする「測定処理」を実行する。この際には、電気化学測定装置２の操作部２１を操作することにより、上記の「第１の処理」において特定されたＮ＝２個の「第１のモデル式」に関連付けられている還元電位（抑制剤の濃度の特定に適していると特定された還元電位、および促進剤の濃度の特定に適していると特定された還元電位）において還元処理を実行するように測定条件を設定する。次いで、分析対象の電解メッキ液Ｘａ内に電気化学センサ２ａにおける各電極１１〜１３の電極面をそれぞれ浸した後に、測定装置本体２ｂの操作部２１を操作して、「測定処理」の開始を指示する。これに応じて、処理部２３が「測定処理」を開始して測定値データＤ１を生成し、生成した測定値データＤ１を記憶部２４に記憶させる。

【0053】

次いで、電気化学センサ２ａを電解メッキ液Ｘａから引き上げ、必要に応じて各電極１１〜１３をケーシング１０から取り外して保管用のケースに収容した後に、信号ケーブル４を介して測定装置本体２ｂを分析装置３に接続する。続いて、一例として、電気化学測定装置２（測定装置本体２ｂ）の操作部２１を操作することにより、記憶部２４に記憶されている各測定値データＤ１を分析装置３に送信する。

【0054】

これに応じて、分析装置３では、処理部３３が、分析用プログラムＤｐに従って「第２の処理」を開始する。この「第２の処理」では、処理部３３は、まず、電気化学測定装置２から送信された電解メッキ液Ｘａについての各測定値データＤ１を記憶部３４に記憶させる。これにより、電解メッキ液Ｘａの分析に必要な測定値データＤ１が分析装置３の記憶部３４に記憶された状態となる（「第１の処理によって特定したＮ個の第１のモデル式に関連付けられている還元電位において電解メッキ液を対象として実行された電気化学測定処理の測定結果を取得する」との処理の一例）。

【0055】

次いで、処理部３３は、電解メッキ液Ｘａについての測定値データＤ１に基づく「分析処理」を実行する。この際に、本例では、処理部３３が、「分析用パラメータ」としての「電流効率」および「メッキ量」の２つのパラメータを特定する。続いて、処理部３３は、特定した「電流効率」および「メッキ量」を、対応する測定値データＤ１の取得時における還元電位に関連付けて分析結果データＤ３を生成して記憶部３４に記憶させる。

【0056】

次いで、処理部３３は、分析結果データＤ３における各「分析用パラメータ」の値、およびそれらの値に関連付けられている還元電位の値を、前述した「第１の処理」において各「含有物」毎に特定したＮ＝２個の「第１のモデル式」に対応する「分析用モデル式」に代入して「第２のモデル式」を生成する。また、処理部３３は、生成した各「第２のモデル式」の連立方程式を解くことにより、「Ｘ_１（抑制剤の濃度）」および「Ｘ_２（促進剤の濃度）」を求め、求めた値を分析結果データＤ４として記憶部３４に記憶させる。

【0057】

以上により、「第２の処理」が完了し、メッキ液槽内の電解メッキ液Ｘａ（分析対象の電解メッキ液Ｘａ）に含まれている抑制剤の濃度、および促進剤の濃度の特定が完了する。これにより、分析結果データＤ３の値（抑制剤の濃度、および促進剤の濃度）が表示部３２に表示され、電解メッキ液Ｘａについての分析作業が完了する。

【0058】

このように、この電解メッキ液分析システム１、およびその電解メッキ液分析方法では、複数種類の試料Ｘｂを対象として複数種類の還元電位においてそれぞれ実行された「電気化学測定処理」の測定結果が記録された測定値データＤ１に基づいて各試料Ｘｂ毎に特定された各還元電位毎の複数種類の「分析用パラメータ（本例では、「電流効率」および「メッキ量」）」の値が各試料Ｘｂにおける各「含有物（本例では、「抑制剤」および「促進剤」）」の濃度および還元電位の値に関連付けられて記録された分析結果データＤ２（第１のデータ）における各「分析用パラメータ」の値および各「含有物」の濃度を示す値を、各試料Ｘｂの各還元電位毎に、各「含有物」の濃度および各「分析用パラメータ」の相関関係を示す予め規定された「分析用モデル式（モデル式データＤ０（第２のデータ）に記録されたモデル式）」にそれぞれ代入した複数の「第１のモデル式」のなかから、各「含有物」毎に、予め規定された第１の基準を満たす「第１のモデル式」を特定する「第１の処理」と、特定したＮ個の「第１のモデル式」に関連付けられている還元電位において電解メッキ液Ｘａを対象として実行された「電気化学測定処理」の測定結果が記録された測定値データＤ１を取得すると共に、取得した測定値データＤ１に基づいて特定される複数種類の「分析用パラメータ」の値を上記のＮ個の「第１のモデル式」に対応する「分析用モデル式」に代入した各「第２のモデル式」に基づき、電解メッキ液ＸａにおけるＮ種類の「含有物」の濃度をそれぞれ特定する「第２の処理」とを実行する。また、この分析用プログラムＤｐでは、上記の「第１の処理」および「第２の処理」を電解メッキ液分析システム１における処理部３３に実行させる。

【0059】

したがって、この電解メッキ液分析システム１、電解メッキ液分析方法および分析用プログラムＤｐによれば、電解メッキ液Ｘａに含まれているＮ種類（上記の例では、Ｎ＝２種類）の「含有物」の濃度を１回の作業で特定することができるため、複数種類の「含有物」が含まれていることが多い電解メッキ液Ｘａを対象とする各「含有物」の濃度を短時間で特定することができる。また、「第１の処理」を１回実行しておくことで、電解メッキ液Ｘａに含まれている各「含有物」の濃度を特定すべきときには「第２の処理」だけを実行することで分析結果（「含有物」の濃度）を得ることができるため、電解メッキ液Ｘａの状態を逐次把握して、好適な条件下で対象物をメッキ処理することが可能となる。

【0060】

また、この電解メッキ液分析システム１、およびその電解メッキ液分析方法では、「第１の処理」において、モデル式データＤ０における複数種類の「分析用モデル式」に対応する複数種類の「第１のモデル式」のなかから、予め規定された第２の基準を満たす種類の「第１のモデル式」を特定し、特定した各「第１のモデル式」のなかから、各「含有物」毎に、第１の基準を満たす「第１のモデル式」を特定する。また、この分析用プログラムＤｐでは、「第１の処理」において電解メッキ液分析システム１における処理部３３に上記の処理を実行させる。

【0061】

したがって、この電解メッキ液分析システム１、電解メッキ液分析方法、および分析用プログラムＤｐによれば、濃度を特定すべき「含有物」の特性に応じて複数種類の「分析用モデル式」を用意しておくことで、各種の「含有物」の濃度を精度よく特定することができる。

【0062】

さらに、この電解メッキ液分析システム１では、分析装置３の処理部３３が、電気化学測定装置２による各試料Ｘｂを対象とする還元電位毎の「電気化学測定処理」の測定結果に基づいて分析結果データＤ２を生成して記憶部３４に記憶させると共に、「第２の処理」において、電気化学測定装置２による電解メッキ液Ｘａを対象とする「電気化学測定処理」の測定結果に基づいて複数種類の「分析用パラメータ」の値を特定して各「含有物」の濃度を特定する。したがって、この電解メッキ液分析システム１によれば、電解メッキ液分析システム１（電解メッキ液分析装置）とは別個に電気化学測定装置を備えることなく、電解メッキ液Ｘａに含まれる各「含有物」の濃度を好適に特定することができる。

【0063】

なお、「電解メッキ液分析装置」の構成、「電解メッキ液分析方法」の具体的な内容、および「電解メッキ液分析用プログラム」の処理手順については、上記の電解メッキ液分析システム１の構成、電解メッキ液分析システム１による電解メッキ液分析方法、および分析用プログラムＤｐの処理手順の例に限定されない。例えば、「電気化学測定処理」に際して、参照電極１１、作用電極１２および対向電極１３を用いた「三極測定」を実行する構成・方法・手順を例に挙げて説明したが、このような構成・方法・手順に代えて、参照電極１１および作用電極１２を用いた「二極測定」を実行する構成・方法・手順を採用することもできる。

【0064】

また、Ｎ＝２種類の「含有物」の濃度を特定する例について説明したが、Ｎ＝３種類以上の「含有物」についての濃度を特定する構成・方法・手順を採用することもできる。また、「含有物」は、電解メッキ液Ｘａに添加されてしかるべき「添加剤」に限定されず、電解メッキ液Ｘａに混入し得る各種の「異物（一例として、メッキ液槽等を洗浄する際に使用する「洗浄液」や、メッキ対象物の表面に付着している「潤滑剤」）を「含有物」として、それらの濃度を特定することもできる。

【0065】

さらに、「試料」は、新品の電解メッキ液Ｘａに濃度特定対象の「含有物」を添加した液に限定されず、分析対象の電解メッキ液Ｘａと同じ金属イオンを含有する電解液に濃度特定対象の「含有物」を含ませた液を使用することができる。また、「各含有物の濃度の組み合わせ」として、「含有物」が「適量」、「含有物」が「不足」、および「含有物」が「過剰」の３つの量の組み合わせで試料Ｘｂを製作した例について説明したが、このような「試料」に代えて、例えば、「含有物」が「大幅に不足」、「含有物」が「やや不足」、および「含有物」が「適量」のような量の組み合わせで製作した「試料」や、「含有物」が「大幅に過剰」、「含有物」が「やや過剰」、および「含有物」が「適量」のような量の組み合わせで製作した「試料」を使用することもできる。

【0066】

さらに、各試料Ｘｂを対象とする「電気化学測定処理」を実行し、その測定結果が記録された測定値データＤ１に基づいて「各試料の各還元電位毎の分析用パラメータ」を特定する例について説明したが、「各試料の各還元電位毎の分析用パラメータ」を特定するための「測定結果」については、本願発明における「分析処理」とは別個に実行された「電気化学測定処理」の「測定結果」を使用することができる。また、「第２の処理」に先立って分析対象の電解メッキ液Ｘａを対象とする「電気化学測定処理」を実行し、その測定結果が記録された測定値データＤ１に基づいて「電解メッキ液についての分析用パラメータ」を特定する例について説明したが、この「分析用パラメータ」を特定するための「測定結果」についても、本願発明における「分析処理」とは別個に実行された「電気化学測定処理」の「測定結果」を使用することができる。これらの構成・方法を採用する場合には、「電解メッキ液分析装置」の構成要件から「測定部」を除外することができる。

【0067】

さらに、「第１の処理」において、各「第１のモデル式」のなかから、Ｒ２乗値（決定係数）が最も小さいモデル式（分析結果データＤ２に記録されている各値との差異が最も小さいモデル式）を「予め規定された第２の基準を満たす種類の第１のモデル式」として特定する構成・方法・手順を例に挙げて説明したが、Ｒ２乗値（決定係数）が２番目に小さいモデル式や３番目に小さいモデル式を「第２の基準を満たす種類の第１のモデル式」として特定する構成・方法・手順を採用することもできる。

【0068】

また、「第１の処理」において、各「第１のモデル式」における「Ｘ_１」の項（抑制剤の濃度）に乗じる「β_ｎ」の項を「０」としたときのｐ値が最も小さいモデル式（「Ｘ_１」に対する影響が最も大きいモデル式）、および各「第１のモデル式」における「Ｘ_２」の項（促進剤の濃度）に乗じる「β_ｎ」の項を「０」としたときのｐ値が最も小さいモデル式（「Ｘ_２」に対する影響が最も大きいモデル式）を「予め規定された第１の基準を満たす第１のモデル式」として特定する構成・方法・手順を例に挙げて説明したが、ｐ値が２番目に小さいモデル式や３番目に小さいモデル式を「第１の基準を満たす第１のモデル式」として特定する構成・方法・手順を採用することもできる。

【0069】

加えて、「電気化学測定処理」を実行する電気化学測定装置２と、「分析処理（第１の処理および第２の処理）」を実行する分析装置３とを別体に構成した電解メッキ液分析システム１を例に挙げて説明したが、この電解メッキ液分析システム１における電気化学測定装置２および分析装置３を一体化した「電解メッキ液分析装置」（図示せず）を用いて「電解メッキ液分析方法」による電解メッキ液Ｘａの分析を実行することもできる。

【符号の説明】

【0070】

１ 電解メッキ液分析システム
２ 電気化学測定装置
２ａ 電気化学センサ
２ｂ 測定装置本体
２ｃ 信号ケーブル
３ 分析装置
４ 信号ケーブル
１４ 信号処理回路基板
２１，３１ 操作部
２２，３２ 表示部
２３，３３ 処理部
２４，３４ 記憶部
Ｄ０ モデル式データ
Ｄ１ 測定値データ
Ｄ２ 分析結果データ
Ｄ３ 分析結果データ
Ｄ４ 分析結果データ
Ｄｐ 分析用プログラム
Ｘａ 電解メッキ液
Ｘｂ１〜Ｘｂ９ 試料

【図1】

【図2】

【図3】