特許第6778579号(P6778579)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6778579III族窒化物半導体基板、及び、III族窒化物半導体基板の製造方法
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  • 特許6778579-III族窒化物半導体基板、及び、III族窒化物半導体基板の製造方法 図000004
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