特許 6783543 回転陽極型Ｘ線管装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6783543

(24)【登録日】2020年10月26日

(45)【発行日】2020年11月11日

(54)【発明の名称】回転陽極型Ｘ線管装置

(51)【国際特許分類】

   H01J 35/10 20060101AFI20201102BHJP

   H01J 35/16 20060101ALI20201102BHJP

【ＦＩ】

   H01J35/10 N

   H01J35/16

【請求項の数】7

【全頁数】13

(21)【出願番号】特願2016-74395(P2016-74395)

(22)【出願日】2016年4月1日

(65)【公開番号】特開2017-188222(P2017-188222A)

(43)【公開日】2017年10月12日

【審査請求日】2019年3月6日

(73)【特許権者】

【識別番号】503382542

【氏名又は名称】キヤノン電子管デバイス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001737

【氏名又は名称】特許業務法人スズエ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】岩瀬 光央

【審査官】 藤本 加代子

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０９−０６３５２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０９−１６１７００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−０６０６９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−２３８４７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−１７１８６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０６４５３０１０（ＵＳ，Ｂ１）

【文献】 特開２００５−１４４１６３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｊ ３５／００−３５／３２

Ｈ０５Ｇ １／００−２／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

真空外囲器と、
前記真空外囲器に支持された第１端部と、前記第１端部の反対側の第２端部と、前記真空外囲器に収容された第１部分と、前記真空外囲器の外に延出するとともに前記第２端部を含む第２部分とを有する固定軸と、
前記真空外囲器に収容され、前記固定軸の前記第１部分により回転可能に支持された回転体と、
前記回転体に設けられた陽極ターゲットと、
前記真空外囲器の外に設けられ、前記固定軸が軸方向に移動可能となるように前記第２部分を支持する支持体と、
を備え、
前記真空外囲器の前記第１端部を支持する部分の厚さが、前記真空外囲器の前記第１部分と前記第２部分の境界を支持する部分の厚さよりも大きい、回転陽極型Ｘ線管装置。

【請求項2】

前記陽極ターゲットよりも前記固定軸の前記第２部分に近い位置において前記回転体に設けられたロータと、前記真空外囲器を介して前記ロータと対向するステータと、を含むモータをさらに備える、
請求項１に記載の回転陽極型Ｘ線管装置。

【請求項3】

前記真空外囲器は、少なくとも前記ロータと前記ステータの間に位置する部分が非金属材料で形成され、他の部分が金属材料で形成されている、
請求項２に記載の回転陽極型Ｘ線管装置。

【請求項4】

前記真空外囲器、前記固定軸、前記回転体、前記陽極ターゲット、及び前記支持体を収容する筐体をさらに備え、
前記支持体は、前記筐体に対して固定されるとともに、前記固定軸の前記第２部分の外周面に接触する支持面を有する、
請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の回転陽極型Ｘ線管装置。

【請求項5】

真空外囲器と、
前記真空外囲器に支持された第１端部と、前記第１端部の反対側の第２端部と、前記真空外囲器に収容された第１部分と、前記真空外囲器の外に延出するとともに前記第２端部を含む第２部分とを有する固定軸と、
前記真空外囲器に収容され、前記固定軸の前記第１部分により回転可能に支持された回転体と、
前記回転体に設けられた陽極ターゲットと、
前記真空外囲器の外に設けられ、前記固定軸が軸方向に移動可能となるように前記第２部分を支持する支持体と、
前記真空外囲器、前記固定軸、前記回転体、前記陽極ターゲット、及び前記支持体を収容する筐体と、を備え、
前記支持体は、
前記筐体に対して固定されるとともに、貫通孔を有した第１部材と、
前記固定軸の前記第２部分を介して前記第１部材と対向する支持面と、雌ねじとを有した第２部材と、
前記貫通孔を通って前記雌ねじにねじ込まれた雄ねじと、
を備え、
前記固定軸の前記第２部分は、前記支持面に接触している、回転陽極型Ｘ線管装置。

【請求項6】

前記第１部材は、前記軸方向と交わる第１平面を有し、
前記第２部材は、前記第１平面と接触する第２平面を有している、
請求項５に記載の回転陽極型Ｘ線管装置。

【請求項7】

真空外囲器と、
前記真空外囲器に支持された第１端部と、前記第１端部の反対側の第２端部と、前記真空外囲器に収容された第１部分と、前記真空外囲器の外に延出するとともに前記第２端部を含む第２部分とを有する固定軸と、
前記真空外囲器に収容され、前記固定軸の前記第１部分により回転可能に支持された回転体と、
前記回転体に設けられた陽極ターゲットと、
前記真空外囲器の外に設けられ、前記固定軸が軸方向に移動可能となるように前記第２部分を支持する支持体と、
前記真空外囲器、前記固定軸、前記回転体、前記陽極ターゲット、及び前記支持体を収容する筐体と、を備え、
前記支持体は、前記筐体に対して固定されるとともに、前記固定軸の前記第２部分の外周面に接触する支持面を有し、
前記支持面は、前記固定軸の前記第２部分の外周面の半径以上の曲率半径で半円弧状に窪んでいる、回転陽極型Ｘ線管装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、回転陽極型Ｘ線管装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、Ｘ線により被写体を撮像する医療用機器や工業用機器には、Ｘ線発生源としてＸ線管装置が使用されている。また、Ｘ線管装置としては、回転陽極型のＸ線管装置が知られている。

【0003】

回転陽極型のＸ線管装置は、Ｘ線を放射するＸ線管と、ステータコイルと、これらＸ線管及びステータコイルを収容した筐体とを備えている。Ｘ線管は、固定軸と、電子を発生する陰極と、回転体と、回転体に設けられた陽極ターゲットと、真空外囲器とを備えている。回転体は、軸受により固定軸に対して回転自在に支持され、ステータコイルから発生する磁界を受けて回転する。陰極から放出された電子が回転する陽極ターゲットに衝突することにより、Ｘ線が放出される。

【0004】

固定軸は、通常、真空外囲器の対向する２面に設けられた支持部により、その両端が支持される。このような構造において、真空外囲器は、固定軸からの負荷により破損しないように強固である必要がある。

【0005】

真空外囲器を金属で構成することにより、真空外囲器の強度を高めることができる。しかしながら、この場合にはステータコイルの電磁界により真空外囲器で誘導電流に起因した損失が発生し、不要な発熱を伴うとともに、回転体の回転効率が低下する。特に、回転体を高速で回転させようとすると、上記損失は極めて大きくなり、Ｘ線管装置の性能を維持することが困難となる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２００５−７８９１８号公報

【特許文献2】特開２００４−１７１８６８号公報

【特許文献3】特開２０１１−６０５１７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本開示の一態様における目的は、回転陽極型Ｘ線管装置における固定軸を好適に支持することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

一実施形態に係る回転陽極型Ｘ線管装置は、真空外囲器と、固定軸と、回転体と、陽極ターゲットと、支持体とを備える。上記固定軸は、上記真空外囲器に支持された第１端部と、上記第１端部の反対側の第２端部と、上記真空外囲器に収容された第１部分と、上記真空外囲器の外に延出するとともに上記第２端部を含む第２部分とを有する。上記回転体は、上記真空外囲器に収容され、上記固定軸の上記第１部分により回転可能に支持される。上記陽極ターゲットは、上記回転体に設けられる。上記支持体は、上記真空外囲器の外に設けられ、上記固定軸が軸方向に移動可能となるように上記第２部分を支持する。さらに、上記真空外囲器の上記第１端部を支持する部分の厚さが、上記真空外囲器の上記第１部分と上記第２部分の境界を支持する部分の厚さよりも大きい。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、第１実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図である。

【図2】図２は、第１実施形態に係る支持体の概略的な斜視図である。

【図3】図３は、第１実施形態に係る支持体及び固定軸の概略的な断面図である。

【図4】図４は、第２実施形態に係るＸ線管装置の概略的な断面図である。

【図5】図５は、第２実施形態に係る支持体の概略的な斜視図である。

【図6】図６は、第２実施形態に係る支持体の概略的な断面図である。

【図7】図７は、第３実施形態に係る支持体の分解斜視図である。

【図8】図８は、第３実施形態に係る支持体を他の方向から見た分解斜視図である。

【図9】図９は、第３実施形態に係る支持体の取付例を示す斜視図である。

【図10】図１０は、第３実施形態に係る支持体の概略的な断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

いくつかの実施形態につき、図面を参照しながら説明する。各実施形態では、陽極が回転する回転陽極型かつ陽極が接地された陽極接地型のＸ線管装置を開示する。但し、各実施形態にて開示する構造は、中性点接地型などの他種のＸ線管装置に適宜応用されても良い。

【0011】

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係るＸ線管装置ＴＤを概略的に示す断面図である。
この図に示すように、Ｘ線管装置ＴＤは、Ｘ線管１と、ステータ２（ステータコイル）と、筐体３とを備えている。筺体３は、Ｘ線管１及びステータ２を収容している。

【0012】

Ｘ線管１は、固定軸１０と、回転体２０と、陽極ターゲット３０と、真空外囲器４０とを備えている。固定軸１０の一部、回転体２０、及び陽極ターゲット３０は、真空外囲器４０に収容されている。真空外囲器４０は密閉され、内部が真空状態に維持されている。

【0013】

以下の説明においては、固定軸１０の軸Ａ１に沿う方向（図中の左右方向）を第１方向Ｘと呼び、第１方向Ｘと垂直に交わる方向（図中の上下方向）を第２方向Ｙと呼ぶ。さらに、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙの双方と垂直に交わる方向を第３方向Ｚと呼ぶ。すなわち、図１は、Ｘ線管装置ＴＤのＸＹ断面図に相当する。

【0014】

固定軸１０は、第１方向Ｘにおいて、第１端部Ｅ１と、第２端部Ｅ２とを有している。さらに、固定軸１０は、真空外囲器４０に収容された第１部分１１と、真空外囲器４０の外部に延出した第２部分１２とを有している。図１の例において、固定軸１０は、第１端部Ｅ１及び第２端部Ｅ２の双方に開口した中空構造を有している。固定軸１０の内部には冷却液が流され、これによりＸ線管１が冷却される。

【0015】

回転体２０は、固定軸１０の第１部分１１の周囲で、軸受により回転自在に支持されている。回転体２０は、第１円筒２１と、第２円筒２２と、第３円筒２３と、を備えている。第１円筒２１、第２円筒２２、及び第３円筒２３は、固定軸１０の軸Ａ１（回転軸）と同軸的に設けられている。例えば、固定軸１０、第１円筒２１、第２円筒２２、第３円筒２３、及び陽極ターゲット５は、いずれも軸Ａ１に沿うあらゆる方向の断面が軸Ａ１に関して点対称の形状である。

【0016】

固定軸１０の第１部分１１と第１円筒２１との間に形成される微小な隙間には、潤滑剤ＬＭが充填されている。すなわち、回転体２０は、第１部分１１の外周面に相当する第１ラジアル軸受面と、第１円筒２１の内周面に相当する第２ラジアル軸受面と、潤滑剤ＬＭとを備えるラジアル動圧軸受により、第１部分１１に対して回転自在に支持されている。なお、潤滑剤ＬＭとしては、例えば液体金属を用いることができる。

【0017】

第２円筒２２は、第１円筒２１に接続され、第１円筒２１の外周面との間に隙間を有した状態で第１端部Ｅ１の方向に延びている。陽極ターゲット３０は、円環状に形成され、第２円筒２２に接続されている。陽極ターゲット３０は、固定軸１０等と同軸的に設けられており、回転体２０と一体的に回転する。陽極ターゲット３０は、第２円筒２２と一体的に形成されても良い。また、陽極ターゲット３０は、第２円筒２２を介さずに、第１円筒２１と一体的に形成されても良い。

【0018】

陽極ターゲット３０は、重金属等の金属材料で形成されている。一例として、陽極ターゲット３０の金属材料としては、モリブデン合金を用いることができる。また、陽極ターゲット３０は、第１端部Ｅ１の側の面（図中右側の面）に円環状のＸ線放射層３１を有している。Ｘ線放射層３１は、高温に耐え得るために、融点の高い金属材料で形成される必要がある。Ｘ線放射層３１の金属材料としては、例えばタングステン合金を用いることができる。

【0019】

第３円筒２３は、陽極ターゲット３０よりも固定軸１０の第２部分１２に近い位置において第１円筒２１に接続され、第２端部Ｅ２の方向に延びている。第３円筒２３は、ステータ２とともにモータＭを構成するロータの役割を担い、その材料としては例えば銅を用いることができる。第３円筒２３は、真空外囲器４０を介してステータ２と対向している。ステータ２は、真空外囲器４０の外側を環状に囲むように設けられている。

【0020】

ステータ２は、第３円筒２３に与える磁界を発生する。この磁界を第３円筒２３が受けることにより、回転体２０は、陽極ターゲット３０とともに軸Ａ１を中心に回転する。Ｘ線放射層３１に対向して配置された陰極（不図示）に相対的に負の電圧が印加され、陽極ターゲット３０に相対的に正の電圧が印加され、陰極及び陽極ターゲット３０に電位差が生じる。陰極が備えるフィラメントから電子が放出され、この電子が陽極ターゲット３０に向かって加速されて、Ｘ線放射層３１に衝突する。これにより、Ｘ線放射層３１から発生したＸ線は、真空外囲器４０を透過し、さらに筐体３に設けられたＸ線放射窓を透過してＸ線管装置ＴＤの外部に放出される。上記陰極は、例えば真空外囲器４０の内部に配置されている。

【0021】

筐体３は、第１筐体３ａと、第２筐体３ｂとを有している。これら第１筐体３ａ及び第２筐体３ｂは、ねじ止め等の適宜の手段により互いに接続されている。第１筐体３ａ及び第２筐体３ｂは、例えばアルミニウム合金の鋳物によって形成されている。また、第１筐体３ａ及び第２筐体３ｂの内部には、鉛或いは鉛合金を主成分とするＸ線遮蔽層が形成されている。上述の冷却液が水である場合、Ｘ線遮蔽層などの腐食を防止するために、Ｘ線遮蔽層を覆う防錆層がさらに形成されても良い。

【0022】

真空外囲器４０は、少なくともステータ２と第３円筒２３の間に位置する部分がガラス或いはセラミック材料などの絶縁部材４１によって形成され、他の部分が金属材料によって形成されている。図１の例において、真空外囲器４０は、陽極ターゲット３０に応じて突出した部分が第２筐体３ｂに接触した状態で、筐体３に対して固定されている。

【0023】

固定軸１０は、第１端部Ｅ１の近傍において、真空外囲器４０に対して気密に接続されている。また、固定軸１０は、第１部分１１と第２部分１２の境界においても、真空外囲器４０に対して気密に接続されている。このような構成において、固定軸１０は、第１端部Ｅ１の近傍と第１部分１１と第２部分１２の境界で、真空外囲器４０によって支持される。

【0024】

真空外囲器４０において、第１端部Ｅ１の近傍を支持する部分は、第２筐体３ｂに接触する部分から連続的に金属材料で形成されている。したがって、第１端部Ｅ１の近傍においては、固定軸１０が安定的に支持される。一方で、第１部分１１と第２部分１２の境界を支持する部分と第２筐体３ｂに接触する部分との間には非金属の絶縁部材４１が介在する。したがって、第２端部Ｅ２の側では、固定軸１０を安定的に支持することが困難となる。

【0025】

そこで、本実施形態では、支持体５０を筐体３の内部に設け、この支持体５０によって固定軸１０の第２端部Ｅ２の近傍を支持している。以下、図１に加え、図２及び図３を参照して、支持体５０について説明する。図２は、支持体５０の概略的な斜視図である。図３は、支持体５０の一部及び固定軸１０のＹＺ平面に沿う概略的な断面図である。

【0026】

図１及び図２に示すように、支持体５０は、第２方向Ｙに長尺な板状の部材である。支持体５０の材料としては、例えばステンレス鋼などの防錆性に優れた金属材料を用いることができる。

【0027】

図１に示すように、支持体５０の下端は、第２筐体３ｂに固定されている。この固定は、例えばねじ止めなどの適宜の方法を用いることができる。支持体５０の上端には、支持面５１が形成されている。

【0028】

本実施形態において、支持面５１は、半円弧状に窪んだ曲面である。この曲面は、固定軸１０の第２部分１２の外周面の半径以上の曲率半径を有している。図３に示すように、支持面５１には固定軸１０の第２部分１２が置かれる。これにより、支持面５１と固定軸１０とが接触し、固定軸１０が支持体５０によって支持される。

【0029】

固定軸１０は、支持体５０に対して固定されていない。したがって、固定軸１０は、支持面５１に支持された状態で、軸Ａ１の方向（第１方向Ｘと平行な方向）に移動可能である。

【0030】

以上説明した本実施形態において、固定軸１０は、第１端部Ｅ１が真空外囲器４０によって支持され、第２端部Ｅ２が支持体５０によって支持される。これにより、固定軸１０をいわゆる両持ち構造により安定的に支持することができる。

【0031】

また、真空外囲器４０において、ステータ２と第２円筒２２（ロータ）の間に位置する部分は非金属材料の絶縁部材４１によって形成されている。これにより、ステータ２が発する磁界に起因した誘導電流の発生が防止される。結果として、モータＭの駆動に際しての不要な発熱が抑制されるとともに、回転体２０の回転効率を高めることができる。さらに本実施形態では、支持体５０によって固定軸１０を支持しているために、絶縁部材４１に大きな負荷が加わらない。したがって、真空外囲器４０の破損を防ぐことができる。

【0032】

固定軸１０は、Ｘ線管装置ＴＤの使用時の発熱により熱膨張し、その後の不使用時には温度低下に伴って収縮する。このような膨張及び収縮において、固定軸１０は、主に軸Ａ１の方向に大きく変形する。本実施形態において、支持体５０は固定軸１０を軸Ａ１の方向に移動可能に支持している。したがって、固定軸１０は、支持面５１を摺動して変形することができる。これにより、固定軸１０の膨張及び収縮に起因した応力の発生が抑制され、Ｘ線管装置ＴＤの信頼性が向上する。

【0033】

なお、図１の例では、固定軸１０の第１端部Ｅ１の近傍を支持する真空外囲器４０の厚さが、第１部分１１と第２部分１２の境界を支持する真空外囲器４０の厚さよりも大きい。そのため、真空外囲器４０は、第１端部Ｅ１の近傍では固定軸１０の膨張及び収縮に伴う応力を受けても殆ど変形することなく固定軸１０を強固に支持するが、第１部分１１と第２部分１２の境界においては固定軸１０の膨張及び収縮に伴って変形し易い。これにより、固定軸１０や真空外囲器４０に発生する応力を緩和することができる。

【0034】

本実施形態に係るＸ線管装置ＴＤは、例えばＸ線ＣＴ（Computed Tomography）装置のＸ線源として利用することができる。この場合、Ｘ線管装置ＴＤは、ＹＺ平面内で回転するように、Ｘ線ＣＴ装置の架台に取り付けられる。架台の回転中心は、図１におけるＸ線管装置ＴＤの上方に位置する。架台の駆動時には、Ｘ線管装置ＴＤの回転に伴って、真空外囲器４０や支持体５０が取り付けられた第２筐体３ｂの底面に向けた遠心力が発生する。本実施形態の構成であれば、このときＸ線管１に加わる遠心力は、真空外囲器４０と支持体５０によって安定的に受けることができる。
以上のほかにも、本実施形態からは種々の好適な効果を得ることができる。

【0035】

（第２実施形態）
第２実施形態について説明する。本実施形態は、支持体５０の構成において、第１実施形態と相違する。第１実施形態と同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

【0036】

図４は、第２実施形態に係るＸ線管装置ＴＤのＸＹ平面に沿う概略的な断面図である。また、図５は支持体５０の概略的な斜視図であり、図６は支持体５０の一部及び固定軸１０のＹＺ平面に沿う概略的な断面図である。

【0037】

各図に示すように、本実施形態における支持体５０は、第１部材５２と、第２部材５３と、一対の雄ねじ５４とを備えている。第１部材５２、第２部材５３、及び各雄ねじ５４の材料としては、例えばステンレス鋼などの防錆性に優れた金属材料を用いることができる。

【0038】

図５及び図６に示すように、第１部材５２は、一対の脚部５２ａ，５２ｂと、各脚部５２ａ，５２ｂの上端を繋ぐブリッジ５２ｃとを有している。さらに、第１部材５２は、ブリッジ５２ｃに設けられた一対の貫通孔５２ｄを有している。例えば、各貫通孔５２ｄは、雌ねじが設けられていない通し孔であり、第２方向Ｙに延びている。脚部５２ａ，５２ｂ及びブリッジ５２ｃは、一体的に形成されていても良いし、別個に形成されて互いに接続されていても良い。図４に示すように、脚部５２ａ，５２ｂの下端は、第２筐体３ｂに固定されている。この固定は、例えばねじ止めなどの適宜の方法を用いることができる。

【0039】

図５及び図６に示すように、第２部材５３は、脚部５２ａ，５２ｂ及びブリッジ５２ｃで囲われた空間に配置されている。第２部材５３の両側面は、それぞれ脚部５２ａ，５２ｂに接触している。第２部材５３は、各貫通孔５２ｄに対応する位置に設けられた一対の雌ねじ５３ａを有している。図６の例において、各雌ねじ５３ａは第２方向Ｙに延び、第２部材５３の上面から下面まで貫通している。但し、各雌ねじ５３ａは第２部材５３を貫通していなくても良い。

【0040】

さらに、第２部材５３は、ブリッジ５２ｃと対向する上面に、支持面５１を有している。例えば支持面５１は、第１実施形態と同じく半円弧状に窪んだ曲面であり、固定軸１０の第２部分１２の外周面の半径以上の曲率半径を有している。なお、支持面５１は、図４に示すように、ＸＹ平面に沿う断面形状も、所定の曲率で丸められている。すなわち、支持面５１は、円環面（トーラス面）の一部に相当する形状を有している。

【0041】

各雄ねじ５４は、ブリッジ５２ｃの上面から各貫通孔５２ｄにそれぞれ通される。さらに、各雄ねじ５４は、それぞれ各雌ねじ５３ａにねじ込まれる。これにより、第１部材５２と第２部材５３が互いに固定される。なお、各雄ねじ５４と各雌ねじ５３ａとの締め過ぎを防止するために、各雄ねじ５４の頭部とブリッジ５２ｃの上面との間に弾性体を介在させても良い。この弾性体としては、例えば各雄ねじ５４が通されたコイルばねや皿ばねなどを利用することができる。

【0042】

図６に示すように、第２部材５３の支持面５１には固定軸１０の第２部分１２が置かれる。このとき、支持面５１は、第２部分１２を介してブリッジ５２ｃと対向する。支持面５１は第２部分１２と接触し、これにより固定軸１０が支持体５０によって支持される。また、固定軸１０は、支持面５１に支持された状態で、軸Ａ１の方向（第１方向Ｘと平行な方向）に移動可能である。また、本実施形態では支持面５１が円環面の一部に相当する形状を有するため、固定軸１０と支持面５１は滑らかに摺動する。

【0043】

第２筐体３ｂの内面には防水層やＸ線遮蔽層が形成されているため、第１実施形態の構成では、固定軸１０の真空外囲器４０によって支持された第１端部Ｅ１の高さと、第２端部Ｅ２を支持する支持面５１の高さとを正確に一致させることが困難となる可能性がある。また、これらの高さを正確に一致させるためには、筐体３や真空外囲器４０の精度を極めて高める必要がある。これに対し、本実施形態の構成では、各雄ねじ５４を各雌ねじ５３ａにねじ込む量を調整することにより支持面５１の高さを調整できるので、容易に固定軸１０を精度良く支持することが可能となる。また、支持面５１の高さを調整することで、固定軸１０を適度に与圧することもできる。
その他、本実施形態からは第１実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0044】

（第３実施形態）
第３実施形態について説明する。本実施形態は、支持体５０の構成において、上述の各実施形態と相違する。上述の各実施形態と同一又は類似の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

【0045】

図７は第３実施形態における支持体５０を示す分解斜視図であり、図８はこの支持体５０を図７とは異なる角度から見た分解斜視図である。各図に示す支持体５０は、第２実施形態にて開示した支持体５０と同じく、第１部材５２と、第２部材５３と、一対の雄ねじ５４とを備えている。さらに、支持体５０は、一対の雄ねじ５５を備えている。

【0046】

第１部材５２は、一対の脚部５２ａ，５２ｂと、これら脚部５２ａ，５２ｂを接続するブリッジ５２ｃとを有している。ブリッジ５２ｃは、第２実施形態と同じく一対の貫通孔５２ｄを有している。さらに、ブリッジ５２ｃは、第１方向Ｘに延びる一対の貫通孔５２ｅを有している。貫通孔５２ｅは、例えば雌ねじが設けられていない通し孔であり、第２方向Ｙに長尺な形状を有している。ブリッジ５２ｃは、各貫通孔５２ｅの間に、第２部材５３が嵌め込まれる空間Ｓを形成する。図７の例では、この空間Ｓに面するブリッジ５２ｃの下面に、円弧状の凹部ＲＳが設けられている。

【0047】

各脚部５２ａ，５２ｂは、貫通孔５２ｆをそれぞれ有している。貫通孔５２ｆは、雌ねじが設けられていない通し孔であり、第２方向Ｙに延びている。

【0048】

第２部材５３は、支持面５１と、一対の雌ねじ５３ａとを有している。支持面５１は、第２実施形態と同じく、円環面の一部に相当する形状である。さらに、第２部材５３は、一対の雌ねじ５３ｂを有している。

【0049】

図８に示すように、第１部材５２は、一対の第１平面Ｆ１を有している。各貫通孔５２ｅは、これら第１平面Ｆ１にそれぞれ設けられている。また、図７に示すように、第２部材５３は、一対の第２平面Ｆ２を有している。各雌ねじ５３ｂは、これら第２平面Ｆ２にそれぞれ設けられている。第１平面Ｆ１及び第２平面Ｆ２は、第１方向Ｘ（軸方向）と垂直に交わる面であり、ＹＺ平面と平行である。但し、第１平面Ｆ１及び第２平面Ｆ２は、第１方向Ｘと垂直以外の角度で交わっても良い。

【0050】

図９は、支持体５０の第２筐体３ｂ及び固定軸１０に対する取付例を示す斜視図である。図１０は、図９に示す支持体５０、第２筐体３ｂ、及び固定軸１０のＹＺ平面に沿う断面図である。

【0051】

本実施形態では、第２筐体３ｂが内面から突出する一対の台座６０を有している。各台座６０は、第２方向Ｙにおける上面に雌ねじ６１を有している。各雌ねじ６１には、スタッドボルト６２の一方の雄ねじがねじ込まれている。さらに、このスタッドボルト６２は、第１プレート６３の貫通孔、脚部５２ａ，５２ｂの貫通孔５２ｆ、第２プレート６４の貫通孔、ワッシャ６５が順に通されている。スタッドボルト６２の他方の雄ねじには、ナット６６が締め付けられている。このようにして、第１部材５２は第２筐体３ｂに固定されている。

【0052】

第１部材５２に第２部材５３を取り付けるに際しては、第１平面Ｆ１と第２平面Ｆ２とを接触させた状態で、各雄ねじ５５をそれぞれ貫通孔５２ｅを介して雌ねじ５３ｂにねじ込む。さらに、各雄ねじ５４をそれぞれ貫通孔５２ｄを介して雌ねじ５３ａにねじ込む。各貫通孔５２ｅは第２方向Ｙに長尺であるため、各雄ねじ５５を各雌ねじ５３ｂにねじ込んだ後でも、各雄ねじ５４を各雌ねじ５３ａにねじ込む量を変えることにより、第２部材５３の位置を第２方向Ｙに微調整することができる。

【0053】

なお、図９及び図１０の例では、第１平面Ｆ１が真空外囲器４０の方向を向くように第１部材５２が第２筐体３ｂに取り付けられ、第２平面Ｆ２がその反対方向を向くように第２部材５３が第１部材５２に取り付けられている。

【0054】

固定軸１０の第２部分１２は、第２方向Ｙにおける下側の外周面が支持面５１に接触する。また、図１０の例では、雄ねじ５４が雌ねじ５３ａに最大限にねじ込まれた状態を示している。この状態では、ブリッジ５２ｃの凹部ＲＳが第２部分１２の第２方向Ｙにおける上側の外周面に接触する。但し、雄ねじ５４を雌ねじ５３ａにねじ込む量を低減した場合には、第２部分１２の外周面と凹部ＲＳとの間に隙間が生じる。固定軸１０の荷重（或いは上述の遠心力）は支持面５１に向くことから、このような隙間が生じた状態でも固定軸１０は支障なく支持することができる。

【0055】

以上説明した本実施形態の構成であっても、第２実施形態と同じく、支持面５１の高さを調整できるので、固定軸１０を精度良く支持することが可能となる。さらに、支持面５１の高さを調整することで、固定軸１０を適度に与圧することもできる。

【0056】

また、第１平面Ｆ１と第２平面Ｆ２とが接触し、且つ雄ねじ５５と雌ねじ５３ｂを接続しているので、第１部材５２と第２部材５３とが第１方向Ｘにずれにくくなる。例えば、本実施形態のように第１平面Ｆ１が真空外囲器４０の方向を向いている場合には、第２部材５３に加わる真空外囲器４０から離れる方向に向けた荷重を第１平面Ｆ１により好適に受けることができる。この逆方向の荷重が問題となる場合には、第１平面Ｆ１が真空外囲器４０の反対方向を向くようにすれば良い。

【0057】

その他、本実施形態からは上述の各実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0058】

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0059】

ＴＤ…Ｘ線管装置、Ａ１…軸、ＬＭ…潤滑剤、Ｍ…モータ、１…Ｘ線管、２…ステータ、３…筐体、５…陽極ターゲット、１０…固定軸、１１…固定軸の第１部分、１２…固定軸の第２部分、２０…回転体、２１…第１円筒、２２…第２円筒、２３…第３円筒、３０…陽極ターゲット、３１…Ｘ線放射層、４０…真空外囲器、４１…絶縁部材、５０…支持体、５１…支持面、５２…第１部材、５３…第２部材。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】