(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内を連続的に走行し、Si含有量が0.5質量%以上の成分組成を有する鋼帯の表面に向けて、鉄または0.3質量%以下のSiを含む鉄からなる溶融金属の液滴群を吐出して、前記鋼帯に予備めっきを施して、厚さが3μm以上の予備めっき層を形成する工程と、
その後、前記鋼帯を還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内で焼鈍する工程と、
その後、前記鋼帯に溶融金属めっきを施す工程と、
を有し、
前記予備めっきは前記鋼帯の表面に向けて前記溶融金属の液滴群を吐出するノズルシステムを用いて行い、
前記ノズルシステムは、
前記溶融金属が通過するチャンバを区画し、先端に前記チャンバから連通する吐出口を区画するノズルプレートを有するコンテナと、
前記チャンバの少なくとも一部に所定方向の磁束を発生させる磁束発生機構と、
磁束が与えられた前記チャンバの少なくとも一部に位置する溶融金属に、前記所定方向と垂直方向の電流を流すための電流発生機構と、
を有し、前記磁束発生機構によって磁束を発生させた状態で前記電流発生機構によって前記溶融金属にパルス電流を流すことにより前記溶融金属に生じるローレンツ力の作用で、前記吐出口から前記溶融金属の液滴を吐出するものか、又は、
前記ノズルシステムは、
前記溶融金属が通過するチャンバを区画し、先端に前記チャンバから連通する吐出口を区画するノズルプレートを有するコンテナと、
前記コンテナの周囲に固定された圧電素子と、
前記コンテナと前記圧電素子との間に接触配置された内側電極と、該内側電極との間で前記圧電素子を挟んで配置された外側電極とからなる一対の電極と、
を有し、前記一対の電極によって前記圧電素子にパルス電流を流してパルス電圧を印加することにより前記圧電素子に生じる圧電効果で、前記コンテナがパルス状に変形することで、前記吐出口から前記溶融金属の液滴を吐出するものであり、
前記コンテナにおいて、その先端の前記ノズルプレートには、前記吐出口が前記鋼帯の幅方向に複数個配置され、
前記パルス電流の周波数が100Hz以上であり、
前記予備めっきにおいて、前記液滴群の最大液滴径を200μm以下とすることを特徴とする溶融金属めっき鋼板の製造方法。
前記鋼帯の成分組成が、質量%で、C:0.03〜0.35%、Si:0.5〜3.00%、Mn:1〜10.0%、Al:0.01〜1.000%、P:0.10%以下、およびS:0.01%以下を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からなる、請求項1〜7のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
前記鋼帯の成分組成が、さらに、質量%で、B:0.001〜0.005%、Nb:0.005〜0.050%、Ti:0.080%以下、Cr:1.000%以下、Mo:1.00%以下、Cu:1.00%以下、Ni:1.00%以下、およびSb:0.20%以下のうちから選んだ1種または2種以上を含有する、請求項8に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
前記予備めっきにおける前記溶融金属が、質量%で、Si:0.3%以下、Al:0.5%以下、Mn:5.0%以下、およびB:0.0200%以下のうちから選んだ1種または2種以上を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からなる、請求項1〜9のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内を連続的に走行し、Si含有量が0.5質量%以上の成分組成を有する鋼帯の表面に向けて、鉄または0.3質量%以下のSiを含む鉄からなる溶融金属の液滴群を吐出して、前記鋼帯に予備めっきを施して、厚さが3μm以上の予備めっき層を形成する工程と、
その後、前記鋼帯を還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内で焼鈍する工程と、
その後、前記鋼帯に溶融金属めっきを施す工程と、
を有し、
前記予備めっきは前記鋼帯の表面に向けて前記溶融金属の液滴群を吐出するノズルシステムを用いて行い、
前記ノズルシステムは、
前記溶融金属が通過するチャンバを区画し、先端に前記チャンバから連通する吐出口を区画するノズルプレートを有するコンテナと、
前記チャンバの少なくとも一部に所定方向の磁束を発生させる磁束発生機構と、
磁束が与えられた前記チャンバの少なくとも一部に位置する溶融金属に、前記所定方向と垂直方向の電流を流すための電流発生機構と、
を有し、前記磁束発生機構によって磁束を発生させた状態で前記電流発生機構によって前記溶融金属にパルス電流を流すことにより前記溶融金属に生じるローレンツ力の作用で、前記吐出口から前記溶融金属の液滴を吐出するものか、又は、
前記ノズルシステムは、
前記溶融金属が通過するチャンバを区画し、先端に前記チャンバから連通する吐出口を区画するノズルプレートを有するコンテナと、
前記コンテナの周囲に固定された圧電素子と、
前記コンテナと前記圧電素子との間に接触配置された内側電極と、該内側電極との間で前記圧電素子を挟んで配置された外側電極とからなる一対の電極と、
を有し、前記一対の電極によって前記圧電素子にパルス電流を流してパルス電圧を印加することにより前記圧電素子に生じる圧電効果で、前記コンテナがパルス状に変形することで、前記吐出口から前記溶融金属の液滴を吐出するものであり、
前記コンテナにおいて、その先端の前記ノズルプレートには、前記吐出口が前記鋼帯の幅方向に複数個配置され、
前記パルス電流の周波数が100Hz以上であり、
前記予備めっきにおいて、前記液滴群を吐出する吐出口の口径を200μm以下とすることを特徴とする溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、本発明者らが鋭意検討したところ、特許文献1及び特許文献2に記載の技術には以下の問題があることが判明した。すなわち、Siは易酸化性元素であることから、実際には、前記焼鈍の前の段階、例えば熱間圧延前の加熱炉での加熱等によって、鋼板の表層には局所的なSi濃化部分がある程度は形成される。これに起因して、鉄予備めっきを行う手法が電解めっきである場合、Si濃化部分では鉄予備めっき層が形成されなかったり、形成されたとしても薄くなったりするため、均一に鉄めっきすることが困難である。そのため、特許文献1及び特許文献2の方法では、不均一な鉄めっきの後に溶融亜鉛めっきを行うことになり、溶融亜鉛めっきについても不めっきが生じたり、付着量のばらつきが生じたりして、溶融亜鉛めっき後の外観が損なわれるという課題がある。
【0007】
そこで本発明は、上記課題に鑑み、Si含有量が0.5質量%以上の鋼板に対して均一な予備めっきが実現でき、その結果、溶融金属めっき後の外観を良好とすることが可能な、溶融金属めっき鋼板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題を解決すべく本発明者らが鋭意研究を行ったところ、予備めっきを電解めっき法により行うのではなく、鋼板表面に向けて溶融金属の液滴群を吐出する方法によって行い、しかもその際の液滴群の最大液滴径を200μm以下とすることによって、均一な予備めっきが実現できることを見出した。
【0009】
上記知見に基づき完成された本発明の要旨構成は以下のとおりである。
(1)還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内を連続的に走行し、Si含有量が0.5質量%以上の成分組成を有する鋼帯の表面に向けて、鉄または0.3質量%以下のSiを含む鉄からなる溶融金属の液滴群を吐出して、前記鋼帯に予備めっきを施す工程と、
その後、前記鋼帯を還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内で焼鈍する工程と、
その後、前記鋼帯に溶融金属めっきを施す工程と、
を有し、前記予備めっきにおいて、前記液滴群の最大液滴径を200μm以下とすることを特徴とする溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0010】
(2)前記予備めっきは前記鋼帯の表面に向けて前記溶融金属の液滴群を吐出するノズルシステムを用いて行い、
前記ノズルシステムは、
前記溶融金属が通過するチャンバを区画し、先端に前記チャンバから連通する吐出口を区画するノズルプレートを有するコンテナと、
前記チャンバの少なくとも一部に所定方向の磁束を発生させる磁束発生機構と、
磁束が与えられた前記チャンバの少なくとも一部に位置する溶融金属に、前記所定方向と垂直方向の電流を流すための電流発生機構と、
を有し、前記磁束発生機構によって磁束を発生させた状態で前記電流発生機構によって前記溶融金属にパルス電流を流すことにより前記溶融金属に生じるローレンツ力の作用で、前記吐出口から前記溶融金属の液滴を吐出する、上記(1)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0011】
(3)前記コンテナにおいて、その先端の前記ノズルプレートには、前記吐出口が前記鋼帯の幅方向に複数個配置される、上記(2)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0012】
(4)前記コンテナが、前記鋼帯の幅方向に複数個配置され、前記鋼帯の幅方向全範囲にわたり、前記吐出口が所定の間隔で配置される、上記(3)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0013】
前記コンテナが、前記鋼帯の進行方向に複数個配置される、上記(2)〜(4)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0014】
(6)前記予備めっきは前記鋼帯の表面に向けて前記溶融金属の液滴群を吐出するノズルシステムを用いて行い、
前記ノズルシステムは、
前記溶融金属が通過するチャンバを区画し、先端に前記チャンバから連通する吐出口を区画するノズルプレートを有するコンテナと、
前記コンテナの周囲に固定された圧電素子と、
前記コンテナと前記圧電素子との間に接触配置された内側電極と、該内側電極との間で前記圧電素子を挟んで配置された外側電極とからなる一対の電極と、
を有し、前記一対の電極によって前記圧電素子にパルス電圧を印加することにより前記圧電素子に生じる圧電効果で、前記コンテナがパルス状に変形することで、前記吐出口から前記溶融金属の液滴を吐出する、上記(1)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0015】
(7)前記コンテナにおいて、その先端の前記ノズルプレートには、前記吐出口が前記鋼帯の幅方向に複数個配置される、上記(6)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0016】
(8)前記コンテナが、前記鋼帯の幅方向に複数個配置され、前記鋼帯の幅方向全範囲にわたり、前記吐出口が所定の間隔で配置される、上記(7)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0017】
(9)前記コンテナが、前記鋼帯の進行方向に複数個配置される、上記(6)〜(8)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0018】
(10)前記溶融金属の融点をTu(℃)として、前記予備めっきの際の前記鋼帯の温度を(Tu−1000)(℃)以上とする、上記(1)〜(9)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0019】
(11)前記予備めっきにおいて形成するめっき層の厚さを5μm以上とする、上記(1)〜(10)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0020】
(12)前記予備めっきに先立ち、前記鋼帯に酸洗処理を施す工程をさらに有する、上記(1)〜(11)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0021】
(13)前記予備めっきの後かつ前記焼鈍の前に、前記鋼帯に冷間圧延を施す工程をさらに有する、上記(1)〜(12)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0022】
(14)前記鋼帯の成分組成が、質量%で、C:0.03〜0.35%、Si:0.5〜3.00%、Mn:1〜10.0%、Al:0.01〜1.000%、P:0.10%以下、およびS:0.01%以下を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からなる、上記(1)〜(13)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0023】
(15)前記鋼帯の成分組成が、さらに、質量%で、B:0.001〜0.005%、Nb:0.005〜0.050%、Ti:0.080%以下、Cr:1.000%以下、Mo:1.00%以下、Cu:1.00%以下、Ni:1.00%以下、およびSb:0.20%以下のうちから選んだ1種または2種以上を含有する、上記(14)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0024】
(16)前記予備めっきにおける前記溶融金属が、質量%で、Si:0.3%以下、Al:0.5%以下、Mn:5.0%以下、およびB:0.0200%以下のうちから選んだ1種または2種以上を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からなる、上記(1)〜(15)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0025】
(17)前記溶融金属めっきが溶融亜鉛めっきである、上記(1)〜(16)のいずれか一項に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0026】
(18)前記溶融亜鉛めっき後に、前記鋼帯に施された亜鉛めっきを加熱合金化する工程をさらに有する、上記(17)に記載の溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【0027】
(19)還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内を連続的に走行し、Si含有量が0.5質量%以上の成分組成を有する鋼帯の表面に向けて、鉄または0.3質量%以下のSiを含む鉄からなる溶融金属の液滴群を吐出して、前記鋼帯に予備めっきを施す工程と、
その後、前記鋼帯を還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内で焼鈍する工程と、
その後、前記鋼帯に溶融金属めっきを施す工程と、
を有し、前記予備めっきにおいて、前記液滴群を吐出する吐出口の口径を200μm以下とすることを特徴とする溶融金属めっき鋼板の製造方法。
【発明の効果】
【0028】
本発明の溶融金属めっき鋼板の製造方法によれば、Si含有量が0.5質量%以上の鋼板に対して均一な予備めっきが実現でき、その結果、溶融金属めっき後の外観を良好とすることが可能である。
【発明を実施するための形態】
【0030】
以下、図面を参照しつつ、本発明の一実施形態による溶融金属めっき鋼板の製造方法について説明する。本実施形態の溶融金属めっき鋼板の製造方法は、還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内を連続的に走行し、Si含有量が0.5質量%以上の成分組成を有する鋼帯(以下、「高Si鋼帯」または単に「鋼帯」とも称する。)の表面に向けて、鉄またはSi含有量が0.3質量%以下の成分組成を有する鉄からなる溶融金属の液滴群を吐出して、前記鋼帯に予備めっきを施す工程と、その後、前記鋼帯を還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内で焼鈍する工程と、その後、前記鋼帯に溶融金属めっきを施す工程と、を有する。また、予備めっきに先立ち、鋼帯に酸洗処理を施すことが好ましい。また、予備めっきの後かつ焼鈍の前に、鋼帯に冷間圧延を施してもよい。
【0031】
(鋼帯)
本実施形態は、高Si鋼帯に対して予備めっき及び溶融金属めっきを施すものである。Si含有量が0.5質量%未満の場合、焼鈍前の段階や焼鈍時のSiの表層濃化の程度が低く、本実施形態による予備めっきを適用する必要性が低い。鋼帯の成分組成は、Si含有量が0.5質量%以上である限りは特に限定されないが、以下のとおりであることが好ましい。以下、鋼帯の成分組成とその限定理由について説明する。以下の説明において、「%」で示す単位は全て「質量%」である。
【0032】
C:0.03〜0.35%
Cは、鋼組織として、残留オーステナイト層やマルテンサイト相などを形成させることで加工性を向上しやすくするため、C含有量は0.03%以上であることが好ましい。一方、C含有量が0.35%を超えると、溶接性が劣化するため、C含有量は0.35%以下であることが好ましい。
【0033】
Si:0.5〜3.00%
Siは、鋼を強化して高張力を得るのに有効な元素であり、Si含有量を0.5%以上とする理由は既述のとおりである。一方、Si含有量が3.00%を超えると、鋼が脆化し、冷間圧延中に亀裂を生じるなど生産性に悪影響を及ぼす可能性があるため、Si含有量は3.00%以下であることが好ましい。
【0034】
Mn:1〜10.0%
Mnは、鋼の高強度化に有効な元素であり、590MPa以上の引張強度を確保するため、Mn含有量は1%以上であることが好ましい。一方、Mn含有量が10.0%を超えると、加工性を阻害するおそれがあるため、Mn含有量は10.0%以下であることが好ましい。
【0035】
Al:0.01〜1.000%
Alは、脱酸剤として添加するが、添加効果を十分に得るため、Al含有量は0.01%以上とすることが好ましい。一方、Al含有量が1.000%を超えると、鉄スクラップ素材としてのリサイクル性が悪化するため、Al含有量1.000%以下とすることが好ましい。
【0036】
P:0.10%以下
Pは、鋼の硬度を上げ、冷間圧延性を低下させるため、P含有量は0.10%以下とすることが好ましい。P含有量は低いほどよいが、精錬コストの観点から0.001%以上とすることが好ましい。
【0037】
S:0.01%以下
Sは鋼強度への影響は少ないが、熱間圧延・冷間圧延時の酸化皮膜形成に影響するため、S含有量は0.01%以下とすることが好ましい。S含有量は低いほどよいが、精錬コストの観点から0.0002%以上とすることが好ましい。
【0038】
鋼帯の成分組成は、上記元素以外の残部がFeおよび不可避的不純物からなることが好ましい。ただし、以下の元素から選んだ1種または2種以上を含有すると、より好ましい。
【0039】
B:0.001〜0.005%
Bは焼き入れ性の向上、脆性改善に有効な元素であり、この効果を得るにはB含有量が0.001%以上であることが好ましい。一方、B含有量が0.005%を超えると、粒界への偏析を引き起こし脆性が悪化するため、Bを含有させる場合、B含有量は0.005%以下とすることが好ましい。
【0040】
Nb:0.005〜0.050%
Nbは鋼板の強度および靭性を高めるのに有効な元素であり、この効果を得るにはNb含有量が0.005%以上であることが好ましい。一方、Nb含有量が0.050%を超えると、添加効果が飽和しコスト増加を招くため、Nbを含有させる場合、Nb含有量は0.050%以下とすることが好ましい。
【0041】
Ti:0.080%以下
Tiは鋼板の強度および靭性を高めるのに有効な元素であり、この効果を得るにはTi含有量が0.005%以上であることが好ましい。一方、Ti含有量が0.080%を超えると、粒界への偏析から添加効果が低下するため、Tiを含有させる場合、Ti含有量は0.080%以下とすることが好ましい。
【0042】
Cr:1.000%以下
Crは鋼板の強度を高めるのに有効な元素であり、この効果を得るにはCr含有量が0.01%以上であることが好ましい。一方、Cr含有量が1.000%を超えると、添加効果が飽和するため、Crを含有させる場合、Cr含有量は1.000%以下とすることが好ましい。
【0043】
Mo:1.00%以下
Moは鋼板の強度および靭性を高めるのに有効な元素であり、この効果を得るにはMo含有量が0.005%以上であることが好ましい。一方、Mo含有量が1.00%を超えると、添加効果が飽和するため、Moを含有させる場合、Mo含有量は1.00%以下とすることが好ましい。
【0044】
Cu:1.00%以下
Cuは鋼板の強度および靭性を高めるのに有効な元素であり、この効果を得るにはCu含有量が0.01%以上であることが好ましい。一方、Cu含有量が1.00%を超えると、添加効果が飽和するため、Cuを含有させる場合、Cu含有量は1.00%以下とすることが好ましい。
【0045】
Ni:1.00%以下
Niは鋼板の強度および靭性を高めるのに有効な元素であり、この効果を得るにはNi含有量が0.005%以上であることが好ましい。一方、Ni含有量が1.00%を超えると、添加効果が飽和するため、Niを含有させる場合、Ni含有量は1.00%以下とすることが好ましい。
【0046】
Sb:0.20%以下
Sbはスラブ加熱時の窒化を抑制するのに有効な元素であり、この効果を得るにはSb含有量が0.001%以上であることが好ましい。一方、Sb含有量が0.20%を超えると、Sbの性質上鋼板の使用用途が限定されるなどの弊害が出る可能性があるため、Sbを含有させる場合、Sb含有量は0.20%以下とすることが好ましい。
【0047】
(酸洗処理)
上記成分組成のスラブを熱間圧延して得た高Si鋼帯に酸洗処理を施してから、予備めっき処理に供することが好ましい。酸洗処理は定法により行うことができる。予備めっき前に酸洗して、鋼帯表面を活性とすることによって、予備めっきの付着性を向上させることができる。また、真空度0.01Pa以下の雰囲気でプラズマ処理することにより、予備めっき用の溶融金属に対する濡れ性をより一層向上させ、表面均一な予備めっき層を得ることができる。
【0048】
(予備めっき)
本工程では、還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内を連続的に走行する高Si鋼帯に予備めっきを施す。還元性ガスとしてはH
2ガスが挙げられ、非酸化性ガスとしては、N
2およびAr等が挙げられ、これらから選択される1種又は2種以上のガスを用いることができる。
【0049】
予備めっき金属は、高Si鋼帯の焼鈍時に生じるSi表層濃化に起因する不めっきや合金化遅延を抑制する観点から、鉄または0.3質量%以下のSiを含む鉄(以下、「低Si鉄」とも称する。)とする。Si含有量が0.3質量%を超えると、後工程の焼鈍において、予備めっき表層でSiの表層濃化が発生し、その後の溶融金属めっきにおいて溶融金属に対する濡れ性が悪化するため、めっき密着性が劣化したり不めっきが発生したりする。低Si鉄は、Si含有量以外は特に限定されないが、さらに以下の元素うちから選んだ1種または2種以上を含有してもよい。以下の説明において、「%」で示す単位は全て「質量%」である。
【0050】
Al:0.5%以下
スクラップとしてのリサイクル性を考慮して、Al含有量は0.5%以下とすることが好ましい。Al含有量は少ないほど好ましいが、不可避的に含まれる0.001%程度のAlは許容できる。
【0051】
Mn:5.0%以下
熱間での加工性を阻害するため、Mn含有量は5.0%以下とすることが好ましい。また少量のMnは熱間での脆化を抑制する効果があり、Mn含有量は0.05%以上とすることが好ましい。
【0052】
B:0.0200%以下
粒界への偏析を引き起こし脆性が悪化するため、B含有量は0.0200%以下とすることが好ましい。一方で、Bは焼き入れ性を改善する効果があり、B含有量は0.0001%以上とすることが好ましい。
【0053】
低Si鉄は、上記元素以外の残部がFeおよび不可避的不純物からなることが好ましい。
【0054】
本実施形態では、高Si鋼帯の表面に向けて、鉄または低Si鉄からなる溶融金属の液滴群を吐出することで、高Si鋼帯に予備めっきを施すこと、しかもその際に、液滴群の最大液滴径を200μm以下とすることが肝要である。既述のとおり、電解めっきでは均一な予備めっき層を得ることができない。これに対し、本実施形態では、均一な予備めっき層を得ることができ、その結果、溶融金属めっき後の外観を良好とすることができる。また、鉄の融点は1538℃であり、低Si鉄の融点も1500℃程度と高温である。そのため、本実施形態の予備めっき方法によれば、焼鈍前の段階で生じたSiの表層酸化被膜を破壊して良好な予備めっき性を確保することができ、電解めっき法による予備めっきに対して優位である。
【0055】
なお、本明細書において「液滴径」は、液滴をその体積と同等の球とした場合の球の直径とする。液滴径の測定方法は、以下のとおりである。すなわち、溶融金属の液滴を金属板に吐出し、固化した後の単一液滴をレーザー顕微鏡で測定して3次元高さ分布を得て、この3次元高さ分布から液滴体積を算出した。そして、その体積と同等の体積の球の直径に換算することで液滴径とした。本発明における「最大液滴径」は、金属板にノズルから連続して吐出された100個以上の液滴について液滴径を求め、その中の最大の液滴径と定義する。
【0056】
また、本明細書において、「平均液滴径」は、金属板にノズルから連続して吐出された100個以上の液滴について液滴径を求め、その算術平均と定義する。そして、本実施形態では、均一な予備めっき層を得る観点から、液滴群の平均液滴径は200μm以下とすることが好ましい。
【0057】
なお、液滴群の最小液滴径と、液滴群の平均液滴径の下限は、特に限定されないが、めっき効率を損ねない観点から、最小液滴径は0.5μm以上、平均液滴径は1μm以上とすることが好ましい。
【0058】
(冷間圧延)
予備めっきの後かつ焼鈍の前に、鋼帯に冷間圧延を施して、最終板厚の鋼帯を得ることが好ましい。冷間圧延は定法により行うことができる。冷間圧延によって、予備めっき層の厚みも、鋼帯の厚みとほぼ同じ比率で薄くなる。よって、最終板厚の鋼帯に対して予備めっきを行う場合と比較し、予備めっきの処理面積を低減することができる。
【0059】
(焼鈍工程)
本工程では、鋼帯を還元雰囲気又は非酸化性雰囲気内で焼鈍する。還元性ガスとしては、通常H
2−N
2混合ガスが用いられ、例えばH
2:1〜20体積%、残部がN
2および不可避的不純物からなる組成を有するガスが挙げられる。また、非酸化性ガスとしては、N
2および不可避的不純物からなる組成を有するガスが挙げられる。
【0060】
焼鈍時の鋼帯温度は、600℃未満であれば、Siの表層濃化が少なく最終のめっき処理性への影響は少ないため、本実施形態の予備めっき方法を用いる必要性は低い。しかし、加工硬化した鋼帯の材質調整の観点から600℃以上に加熱した方が良く、その場合は、本実施形態の適用が有効である。焼鈍時の鋼帯温度の上限については、特に制限を設けないが、鋼の融点に近くなると軟質化し、通板上の不具合が発生するため1300℃未満が好ましい。
【0061】
(溶融金属めっき)
焼鈍後、鋼帯に溶融金属めっきを施す。本実施形態によれば、この溶融金属めっき後のめっき外観を良好なものとすることができる。例えば鋼帯に溶融亜鉛めっきを施すことで、溶融亜鉛めっき鋼帯を得ることができる。溶融金属めっきの方法は特に限定されず、溶融金属浴への浸漬めっきでも、ノズルから溶融金属液滴を吐出するめっき方法でも、適宜選択可能である。
【0062】
(加熱合金化)
溶融亜鉛めっき後に、鋼帯に施された亜鉛めっきを加熱合金化すれば、合金化溶融亜鉛めっき鋼帯を得ることができる。合金化処理は定法に従って行えばよい。本実施形態によれば、予備めっき層によって、Siの表層濃化の影響が抑制されているため、合金化不良を招くことがない。
【0063】
(予備めっきの液滴吐出方式)
予備めっきを行うための連続溶融金属めっき処理装置について説明する。
図1及び
図2に示す連続溶融金属めっき処理装置100,200は、連続的に鋼帯Sが走行する還元雰囲気又は非酸化性雰囲気の空間を区画するめっき炉1と、このめっき炉1に取り付けられ、鋼帯Sの表面に向けて溶融金属液滴を吐出するノズルシステム10又はノズルシステム50と、を有する。本実施形態では、これら連続溶融金属めっき処理装置100,200を用いて、連続的に走行する鋼帯Sの表面に向けて溶融金属の液滴を吐出して、鋼帯Sの表面を予備めっき処理する。
【0064】
予備めっきの液滴吐出方式は、最大液滴径を200μm以下とすることができる限りは特に限定されないが、以下に好適な2つの実施形態を示す。
【0065】
[ローレンツ力の作用による溶融金属液滴の吐出]
本実施形態においては、ノズルシステム10によって電磁力(ローレンツ力)を用いて溶融金属の液滴を鋼帯Sの表面に向けて吐出する。以下、
図3〜6を参照して、ノズルシステム10について説明する。
【0066】
まず、
図3〜5に示すように、ノズルシステム10はコンテナ20を有する。コンテナ20は、溶融金属Mが通過するチャンバ21を区画し、先端にノズルプレート23を有する。ノズルプレート23は、チャンバ21Cから連通する吐出口22を区画する。
【0067】
図3及び
図4には、コンテナ20の先端近傍のみを図示するが、コンテナ20には、チャンバ21に溶融金属Mを連続的に供給可能な供給機構(図示せず)が接続されている。供給機構は、例えば誘導加熱により高温溶融状態となった金属を保持可能なタンクと、コンテナ20に溶融金属を安定供給する電磁ポンプとから構成される。または、溶融金属を溜めるタンクをコンテナ20の鉛直上方に配置することで重力による自動供給を行うことができる。
【0068】
本実施形態において、コンテナ20の先端近傍で区画されるチャンバ21は、直方体形状の第1チャンバ21Aと、これよりもサイズが小さい直方体形状の第3チャンバ21Cと、これらを連結して、
図3及び
図4の断面視でテーパー形状を有する第2チャンバ21Bとからなる。そして、第3チャンバ21Cを区画する部位が、コンテナ20の最先端部となる。
図5に示すように、コンテナ20の先端のノズルプレート23は、矩形の板状部材であり、その長手方向に所定の間隔をあけて複数の吐出口22が形成されている。すなわち、吐出口22は、ノズルプレート23をチャンバ21から外気に向けて貫通する貫通孔である。
【0069】
コンテナ20及びノズルプレート23の素材は、耐熱性があるグラファイトや各種セラミックス等が好適に利用できる。また、コンテナ20には電磁コイル(図示せず)を巻き付けて、誘導加熱により溶融金属Mを高温に保持可能とすることが好ましい。
【0070】
ノズルシステム10は、チャンバ21の少なくとも一部に所定方向の磁束を発生させる磁束発生機構と、磁束が与えられたチャンバの少なくとも一部に位置する溶融金属に、前記所定方向と垂直方向の電流を流すための電流発生機構を有する。以下、
図3及び
図5を参照して、本実施形態の電流発生機構を説明し、
図4及び
図5を参照して、本実施形態の磁束発生機構を説明する。
【0071】
図3に示すように、本実施形態の電流発生機構は、一対のピン形状の電極40A,40Bを含む。電極40A,40Bは、各々の先端部が、コンテナ20の第3チャンバ21Cを区画する部位に設けられた貫通孔に差し込まれて、第3チャンバ21C内の溶融金属と物理的かつ電気的に接触している。電極40A,40Bは、各々の先端部が互いに対向している。また、本実施形態の電流発生機構は、電極40A,40Bに電気的に接続した直流電源(図示せず)と、該直流電源の制御装置(図示せず)とを含む。制御装置により直流電源を制御して、電極40A,40Bを介して、第3チャンバ21C内の溶融金属に直流のパルス電流を流す。電流パルスの形状、振幅及びパルス幅は、制御装置により適切に制御される。本実施形態では、電極40A,40Bの先端同士を結ぶ線は、ノズルプレート23の長手方向、すなわち吐出口22の配列方向と一致している。そして、この方向は、第3チャンバ21C内の溶融金属に流れる電流の方向とも一致する。直流電流の向きは、
図3の電極40Aから電極40Bに向かう方向でもよいし、その逆方向でもよい。電極40A,40Bの素材は特に限定されないが、高温での使用に耐えうるタングステン等が好適に用いられる。
【0072】
図3〜5に示すように、本実施形態の磁束発生機構は、磁束を発生させる一対の永久磁石30A,30Bと、発生した磁束を第3チャンバ21Cに集中させるための一対の集束器32A,32Bとからなるものとすることができる。一対の永久磁石30A,30Bは、各々電極40A,40Bの上方に、第3チャンバ21Cを挟むように、かつN極同士及びS極同士が同じ側になるように、配置される。一対の集束器32A,32Bは、一対の永久磁石30A,30Bの間に配置される。磁石によって発生する磁束を、チャンバの少なくとも一部、本実施形態では第3チャンバ21Cに集中させることができるように、鉄製の集束器32A,32Bの形状は、コンテナ20の先端に向かって細くなるように設計する(
図4参照)。集束器32A,32Bは、鉄等の磁性案内材料により構成される。この構成によって、第3チャンバ21Cに、前記電流の向きと垂直方向の磁束を発生させることができる(
図5参照)。
【0073】
本実施形態では、第3チャンバ21Cに、
図4の左右の方向の磁束が発生している状態で、第3チャンバ21C内の溶融金属に、
図3の右方向又は左方向にパルス電流を付与する。これにより、第3チャンバ21C内の溶融金属には、磁束方向及び電流方向の両方に垂直な方向にローレンツ力が働く。このローレンツ力の作用で、吐出口22から溶融金属の液滴が鋼帯の表面に向けて吐出される。
【0074】
この吐出原理について、
図6を参照して簡潔に説明する。第1の態様として、磁束B及びパルス電流Iの方向が
図6に示す向きの場合、第3チャンバ21C内の溶融金属には
図6の下方向(すなわちチャンバ内から吐出口を介して外気に向かう方向)に、パルス的にローレンツ力Fが働く。この溶融金属に直接発生するパルス状のローレンツ力の作用で、溶融金属は吐出口22に向けて押し出される。その際、溶融金属は非常に高い表面張力を有するため、吐出口22から液滴Dの状態で吐出される。
【0075】
第2の態様として、パルス電流の向きを
図6に示す向きと反対にした場合、第3チャンバ21C内の溶融金属には、
図6の上方向(すなわち外気から吐出口を介してチャンバ内に向かう方向)に、パルス的にローレンツ力Fが働く。このローレンツ力の作用でも、溶融金属は吐出口22から吐出される。この場合、あるパルスのローレンツ力が溶融金属に働いている間は、吐出口22内の溶融金属のメニスカスはチャンバ内の方向に向かって凹むが、パルス間のローレンツ力が発生していない期間に、そのメニスカスが押し戻される。その際、溶融金属は非常に高い表面張力を有するため、メニスカスが破れて、液滴が形成され、吐出口22から吐出される。
【0076】
なお、ローレンツ力を利用した溶融金属の吐出技術は、既に知られており、WO2010/063576号公報及びWO2015/004145号公報に開示されている。前者の公報には、第1の態様の吐出技術が記載されており、後者の公報には、第1の態様及び第2の態様の吐出技術が、その吐出原理とともに詳細に記載されている。一般的に第1の態様よりも第2の態様の方が、より微小な液滴を得ることができる。よって、所望の溶融金属液滴径に応じて、いずれかの態様を選択すればよい。
【0077】
本開示は、このローレンツ力を利用した溶融金属の吐出技術を、高Si鋼帯に対する連続的な予備めっき処理に適用しつつ、均一なめっきを実現したものである。以下、本開示において均一なめっきを実現するための好適条件を説明する。
【0078】
図5を参照して、ノズルプレート23の寸法は特に限定されないが、鋼帯の長手方向に1〜10mm程度、鋼帯の幅方向に1〜200mm程度の矩形とすることが好ましい。鋼帯の幅方向の長さが1mm未満の場合、鋼帯の幅方向に効率的に塗布することが困難となり、ノズルを走査させるなど複雑な機構の追加が必要であり、200mm超えの場合、ノズル幅方向に均一にローレンツ力をかけることが困難となり、各吐出口間での均一な吐出が難しくなるからである。
【0079】
図5を参照して、コンテナにおいて、その先端のノズルプレート23には吐出口22が鋼帯の幅方向に複数個配置されることが好ましい。そして、吐出口22の直径や、隣接する吐出口間の間隔は、以下の吐出条件を考慮しつつ決定する。
【0080】
すなわち、溶融金属液滴吐出の際は、ライン速度や、所望のめっき膜厚に応じて、液滴径や吐出量をコントロールするためのパルス電流制御が必要となる。パルス電流制御において、小さな液滴を形成するには、ある程度高い周波数に設定する必要があり、パルス電流周波数は100Hz以上が好ましい。さらに好ましくは500Hz以上である。また、溶融金属がノズルに充填される速度の限界から、パルス電流周波数は50000Hz以下とすることが好ましい。また、溶融金属の比重は重く、速度を付けて鋼帯に着弾できるよう吐出するには、強い磁界と電流出力を必要とする。これらは、吐出口の形状や要求される液滴径、使用する溶融金属等により適宜調整が必要なパラメーターとなる。一般的に液滴体積Vは次式のように与えられる。
ここでrは吐出口の半径、νは吐出速度、fはチャンバ内の圧力波の共振周波数である。液滴径(液滴体積)を小さくするには、吐出口半径を小さくすれば良い。または、共振周波数を高く設定することで液滴径を小さくできる。
【0081】
また、種々検討の結果、液滴径は吐出口径とほぼ同じになることが分かった。上記パルス電流周波数の範囲内で、既述の液滴群の液滴径分布(最大液滴径及び平均液滴径)を得ることを容易とする観点から、吐出口の口径は200μm以下とすることが好ましく、100μm以下とすることがより好ましい。また、既述の液滴群の最小液滴径を得る観点から、吐出口の口径は1μm以上とすることが好ましい。
【0082】
均一なめっきを実現する観点から、隣接する吐出口間の間隔(吐出口の中心間距離)は、10〜250μmとすることが好ましい。
【0083】
また、速度を付けて鋼帯に着弾できるように液滴を吐出するには、磁界の強さは、10mT以上とすることが好ましく、さらに好ましくは100mT以上である。また、永久磁石の磁力の限界から、磁界の強さは1300mT以下とすることが好ましい。
【0084】
高速で通板される広幅の鋼帯を均一にめっき処理するためには、コンテナ20は、鋼帯の幅方向に複数個配置して、鋼帯の幅方向全範囲にわたり吐出口が所定の間隔で配置されるようにする必要がある。さらには、コンテナ20を、鋼帯の進行方向に複数個配置することも好ましい。これによりめっき処理速度を向上することができる。コンテナ20の配置の一例として、
図7に示すような位置関係でノズルプレート23が配置されるように、コンテナを幅方向及び鋼帯の進行方向に複数段配置することができる。
【0085】
[圧電素子による溶融金属液滴の吐出]
次に、
図8(A)〜(C)を参照して、ノズルシステム50によって、圧電素子55A,55Bを用いて溶融金属の液滴を鋼帯Sの表面に向けて吐出する方式について説明する。
【0086】
図8(A)〜(C)に示すように、ノズルシステム50はコンテナ51を有する。コンテナ51は、溶融金属Mが通過するチャンバ52を区画し、先端にノズルプレート53を有する。ノズルプレート53は、チャンバ52から連通する吐出口54を区画する。
【0087】
図8には、コンテナ51の先端近傍のみを図示するが、コンテナ51には、チャンバ52に溶融金属Mを連続的に供給可能な供給機構(図示せず)が接続されている。供給機構は、例えば誘導加熱により高温溶融状態となった金属を保持可能なタンクと、コンテナ51に溶融金属を安定供給する電磁ポンプとから構成される。または、溶融金属を溜めるタンクをコンテナ51の鉛直上方に配置することで重力による自動供給を行うことができる。
【0088】
本実施形態において、コンテナ51の先端近傍で区画されるチャンバ52は直方体形状である。
図8(B),(C)に示すように、コンテナ51の先端のノズルプレート53は、矩形の板状部材であり、その長手方向に所定の間隔をあけて複数の吐出口54が形成されている。すなわち、吐出口54は、ノズルプレート53をチャンバ52から外気に向けて貫通する貫通孔である。
【0089】
コンテナ51の素材及び厚さは、コンテナ51が溶融金属を保持したときに、後述の圧電素子の変形に合わせて変形できる程度に軟化しつつ、コンテナ51の形状は保持できるように選定する必要がある。そのような条件を考慮して、コンテナ51の素材としては、例えば石英ガラス等が好適に挙げられる。コンテナ51の厚さは、10〜100μm程度とすることが好ましい。ノズルプレート53の素材は、耐熱性があるグラファイトや各種セラミックス等が好適に利用できる。また、コンテナ51には電磁コイル(図示せず)を巻き付けて、誘導加熱により溶融金属Mを高温に保持可能とすることが好ましい。
【0090】
コンテナ51の先端部近傍の周囲には、圧電素子55A,55Bが固定されている。圧電素子を構成する圧電材料は特に限定されず、各種セラミックス、PZT、BaTiO
3、LiNbO
3等を挙げることができる。また、圧電素子の厚みは10〜400μmとすることが好ましい。本実施形態では、コンテナ51の一方の主面には圧電素子55Aを固定し、他方の主面には圧電素子55Bを固定する。こうして一対の圧電素子55A,55Bを、吐出口54の列を挟むように配置する。
【0091】
また、一方の圧電素子55Aは、内側電極56A及び外側電極57Aからなる一対の電極に挟まれ、他方の圧電素子55Bは、内側電極56B及び外側電極57Bからなる一対の電極に挟まれる。換言すると、内側電極56A,56Bは、コンテナ51と圧電素子55A,55Bとの間に接触配置され、外側電極57A,57Bは、内側電極56A,56Bとの間で圧電素子55A,55Bを挟んで配置される。各電極の素材は特に限定されないが、銅、グラファイト、タングステン等が好適に用いられる。
【0092】
一対の電極56A,57Aには、直流電源(図示せず)と、該直流電源の制御装置(図示せず)とが接続されている。制御装置により直流電源を制御して、一対の電極56A,57Aによって圧電素子55Aに直流のパルス電圧を印加する。同様に、一対の電極56B,57Bには、直流電源(図示せず)と、該直流電源の制御装置(図示せず)とが接続されている。制御装置により直流電源を制御して、一対の電極56B,57Bによって圧電素子55Bに直流のパルス電圧を印加する。電流パルスの形状、振幅及びパルス幅は、制御装置により適切に制御されるが、一対の圧電素子55A,55Bに印加されるパルス電圧は同位相とする。圧電素子55A,55Bに生じる圧電効果で、コンテナ51がパルス状に変形することで、吐出口54から溶融金属の液滴を吐出することができる。本実施形態では、一列に並んだ吐出口54の両側に一対の圧電素子55A,55Bを設け、この一対の圧電素子55A,55Bのみで複数の吐出口54からの溶融金属の吐出を制御するので、吐出口ごとに圧電素子を設ける場合に比べて、吐出口54の間隔を小さくすることができる。
【0093】
本開示は、この圧電素子を利用した溶融金属の吐出技術を、高Si鋼帯に対する連続的な予備めっき処理に適用しつつ、均一なめっきを実現したものである。以下、本開示において均一なめっきを実現するための好適条件を説明する。
【0094】
図8(C)を参照して、ノズルプレート53の寸法は特に限定されないが、鋼帯の長手方向に1〜10mm程度、鋼帯の幅方向に1〜200mm程度の矩形とすることが好ましい。鋼帯の幅方向の長さが1mm未満の場合、鋼帯の幅方向に効率的に塗布することが困難となり、ノズルを走査させるなど複雑な機構の追加が必要であり、200mm超えの場合、ノズル幅方向に均一に圧電素子による変形力をかけることが困難となり、各吐出口間での均一な吐出が難しくなるからである。
【0095】
図8(C)を参照して、コンテナにおいて、その先端のノズルプレート53には吐出口54が鋼帯の幅方向に複数個配置されることが好ましい。そして、吐出口54の直径や、隣接する吐出口間の間隔は、以下の吐出条件を考慮しつつ決定する。
【0096】
すなわち、溶融金属液滴吐出の際は、ライン速度や、所望のめっき膜厚に応じて、液滴径や吐出量をコントロールするためのパルス電流制御が必要となる。パルス電流制御において、小さな液滴を形成するには、ある程度高い周波数に設定する必要があり、パルス電流周波数は100Hz以上が好ましい。さらに好ましくは500Hz以上である。また、溶融金属がノズルに充填される速度の限界から、パルス電流周波数は50000Hz以下とすることが好ましい。一般的に液滴体積Vは次式のように与えられる。
ここでrは吐出口の半径、νは吐出速度、fはチャンバ内の圧力波の共振周波数である。液滴径(液滴体積)を小さくするには、吐出口半径を小さくすれば良い。または、共振周波数を高く設定することで液滴径を小さくできる。
【0097】
また、種々検討の結果、液滴径は吐出口径とほぼ同じになることが分かった。上記パルス電流周波数の範囲内で、既述の液滴群の液滴径分布(最大液滴径及び平均液滴径)を得ることを容易とする観点から、吐出口の口径は200μm以下とすることが好ましく、100μm以下とすることがより好ましい。また、既述の液滴群の最小液滴径を得る観点から、吐出口の口径は1μm以上とすることが好ましい。
【0098】
均一なめっきを実現する観点から、隣接する吐出口間の間隔(吐出口の中心間距離)は、10〜250μmとすることが好ましい。
【0099】
高速で通板される広幅の鋼帯を均一にめっき処理するためには、コンテナ50は、鋼帯の幅方向に複数個配置して、鋼帯の幅方向全範囲にわたり吐出口が所定の間隔で配置されるようにする必要がある。さらには、コンテナ50を、鋼帯の進行方向に複数個配置することも好ましい。これによりめっき処理速度を向上することができる。コンテナ50の配置の一例として、
図7に示すような位置関係でノズルプレート53が配置されるように、コンテナを幅方向及び鋼帯の進行方向に複数段配置することができる。
【0100】
(連続溶融金属めっき処理装置の好適態様)
図1及び
図2を参照して、鋼帯Sは、還元性ガス又は非酸化性ガスが導入された還元雰囲気又は非酸化性雰囲気中を連続的に走行し、ノズルシステム10又はノズルシステム50から液滴として吐出された溶融金属により予備めっき処理される。めっき炉1の形状は特に限定されないが、
図1及び
図2に示すような縦型炉とすることができる。
【0101】
めっき炉1内の雰囲気は、還元雰囲気又は非酸化性雰囲気とする必要があり、鋼帯表面の酸化により濡れ性が劣化して不めっきが発生すること十分に抑制する観点から、炉内の酸素濃度は200ppm未満とすることが好ましく、100ppm以下とすることがより好ましい。また、脱酸素コスト制約の観点から、炉内の酸素濃度は0.001ppm以上とすることが好ましい。
【0102】
鋼帯Sとノズルシステム10又はノズルシステム50の配置について、
図1では、縦型炉内での両面めっきとなっているが、横型炉で片面ずつまたは両面めっきするレイアウトにも適用できる。ノズルシステム10又はノズルシステム50と鋼帯Sとの距離は、鋼帯の反りや振動などの影響を受け一定とはならないため、センサー等によりノズル−鋼帯間ギャップを測定し、ノズル位置を適宜調整できる構造とすることが好ましい。
【0103】
鋼帯および溶融金属の酸化を抑えるため、めっき炉1の鋼帯出側には、非酸化性雰囲気の空間を大気から遮断するシール装置2を設置することが好ましい。シール装置としては、ガスカーテンやスリットなど仕切り、又は
図1及び
図2に示すようなシールロールを上げることができる。これにより、炉内の酸素濃度を100ppm以下に抑えることができ、不めっき等の欠陥を十分に抑制できる。
【0104】
また、ノズルプレートやコンテナの交換を容易に行えるように、鋼帯の進行方向に対し、ノズルシステムの上流側にもシール装置を設け、交換が炉内雰囲気全体に影響を及ぼさない設備構成とすることが望ましい。
【0105】
吐出した液滴は鋼帯上で急冷されるため、固化し平滑化が進行しにくい。そのため、できるだけ溶融金属と鋼帯の温度差を小さくすることが好ましい。鋼帯の温度は、めっきする溶融金属の融点をTu(℃)とした場合、(Tu−1000)(℃)以上とすることが望ましい。一方、鋼帯が軟化して通板が困難となるのを防ぐ観点から、鋼帯温度は1300℃以下とすることが好ましい。
図1及び
図2には図示しないが、本実施形態の連続溶融金属めっき処理装置100,200は、鋼帯を加熱する加熱機構と、加熱機構の制御装置と、有することが好ましい。例えば、加熱はラジアントチューブや誘導加熱、赤外線加熱、通電加熱、冷却はガスジェットやミスト、ロールクエンチなどが用いられる。
【0106】
また、
図1を参照して、ノズルシステム10又はノズルシステム50の下流側の、鋼帯出側までの炉内距離は、めっき後の溶融金属が固化するに十分な長さとする。この下流側には、種々の設備を追加してもよい。例えば、より平滑なめっき表面を得るため、めっき処理後にガス噴射による均しを行っても良い。また、より早くめっきを固化させたい場合には、ガスジェット等の冷却装置を設けてもよい。
【0107】
炉内を走行する鋼帯は、振動や形状不良による反りが発生する場合がある。そのため、鋼帯の進行方向に対してノズルシステムの上流側及び下流側の少なくとも一方には、鋼帯の振動および反りを抑制する制振・矯正機構を設置することが好ましい。例えば、
図2には、接触式の制振・矯正機構の例としてサポートロール3を図示し、非接触式の制振・矯正機構の例として電磁コイル4を図示した。めっき処理後の表面は、めっきが凝固するまでは接触しない方がよいため、ノズルシステムの下流側では、非接触式を採用することが好ましい。
【0108】
吐出口先端から鋼帯までの距離は0.2mmより大きくすることが好ましい。0.2mm以下では、鋼帯を制振しきれない場合に、鋼帯がノズルに接触してしまうおそれがある。また、吐出口先端から鋼帯までの距離は10mm未満とすることが好ましい。10mm以上では、ノズル周りのガス流れの影響で、金属液滴の着弾位置にズレが生じ均一な塗布が困難となる。
【0109】
(好適な予備めっき層厚み)
予備めっきにおいて形成するめっき層の厚さは5μm以上とすることが好ましく、10μm以上とすることがより好ましい。これにより、高Si鋼帯から予備めっき層内へ拡散するSi等が予備めっき層の表層に到達することを抑制して、その後の溶融金属のめっき性や合金化処理性を阻害することがない。また、予備めっき層の厚さは、鋼帯厚みの1/10以下に抑えることが好ましい。つまり、厚さ1mmの鋼帯であれば、予備めっき層の厚さは片面あたり50μm以下とすることが好ましい。これにより、鋼帯そのものの機械特性に影響を与えることがない。
【実施例】
【0110】
(実施例1)
板厚0.4mm、板幅100mmの鋼帯に対して、
図2に示した装置を用いて、鋼帯片面への鉄の予備めっき(厚さ50μm)を行い、その後、窒素95%、水素5%の800℃の雰囲気で焼鈍を行い、その後、460℃のAl:0.15%の亜鉛浴への浸漬めっきし、さらにガスワイピングによる付着量調整を行った後、外観の評価を行った。亜鉛めっきの付着量は50g/m
2とした。鋼帯の成分組成は、C:0.08%、Si:0.5%、Mn:1.5%、Al:0.02%、P:0.03%、S:0.002%を含有し、残部がFeおよび不可避不純物からなる。溶融金属液滴の吐出は
図8(A)〜(C)に示す圧電素子による体積変化を利用する方式のノズルを使用した。最大液滴径、平均液滴径、最小液滴径、吐出口径、及び予備めっきの際の鋼帯温度を表1に示した。なお、条件4では、条件6〜9よりも周波数を高くすることによって、同じ吐出口径300μmであっても、液滴径を小さくした。ノズル先端から鋼帯までの距離は3mmとした。ノズル数は、幅方向に1インチ当たり100個の間隔で配置し、幅方向25.4mmの範囲に吐出可能なノズルシステムを
図7に示すように幅方向2台、長手方向4列に設置した。炉内雰囲気は5%H
2、95%N
2、酸素濃度5ppm未満である。
【0111】
表1に示すように、実施例1は、溶融金属の液滴径が亜鉛めっき後の鋼板表面の外観に及ぼす影響を検証するものである。表1から明らかなように、最大液滴径が200μmを超える条件では、平滑な予備めっき面を得ることが困難で、亜鉛めっき後に凹凸が目立つ外観となった。これに対し、最大液滴径が200μm以下の発明例では、平滑な予備めっき面を得ることができ、亜鉛めっき後の外観も良好であった。また、発明例の中でも条件5は、(鉄の融点(1538℃)−1000℃)以上の鋼帯温度としたため、急冷による固化を緩和し、レベリング性能を上げることで、非常に良好な表面外観を得ることができた。
【0112】
更にめっき後の鋼板を冷間圧延することで、0.3mm、0.2mm厚と薄くすることが可能であった。その際、めっき膜厚も板厚とほぼ同じ比率で薄くなり、最終板厚に対してめっきする場合と比較し、めっき処理面積を低減することが可能であった。
【0113】
【表1】
【0114】
(実施例2)
以下に説明する点以外は実施例1と同様にして、鋼帯への予備めっき、焼鈍、浸漬による亜鉛めっき、およびガスワイピングを行った。本実施例2では、ノズル径は50μmで固定し、最大液滴径50μm、平均液滴径48μm、最小液滴径42μm、予備めっき時の鋼帯温度は常温で固定した。使用した鋼帯の成分組成は、Si含有量を表2に示すものとし、それ以外については実施例1と同様である。予備めっき用溶融金属の成分組成については、Si含有量を表2に示し、残部はFeおよび不可避的不純物とした。表2に示す予備めっき膜厚は、ランダムに抽出した10箇所のめっき断面を顕微鏡で観察し、めっき厚みを測定し平均値を算出したものである。炉内の酸素濃度は表2に示した。
【0115】
また、表2の条件12,13に示すように、従来法として、予備めっきを施さず、溶融亜鉛浴に浸漬するめっき方法も実施した。また、条件14,15に示すように、電気めっきによる予備めっきを行う比較例も実施した。電気めっき液には、ZnSO
4・7H
2O(460g/L)を用いた。電流密度は、80A/dm
2として、20秒間の処理を行った。
【0116】
表2から明らかなように、本発明例では、はじきや不めっき発生のない良好なめっき外観が得られた。
【0117】
なお、実施例1,2では、溶融金属めっきとして、Alを質量%で0.15%添加した亜鉛−アルミ合金を用いた溶融めっき法を用いたが、本手法は、種々の金属めっきに適用できるものである。
【0118】
【表2】