特許第6787469号(P6787469)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6787469
(24)【登録日】2020年11月2日
(45)【発行日】2020年11月18日
(54)【発明の名称】ポリエーテル基含有化合物
(51)【国際特許分類】
   C08G 65/333 20060101AFI20201109BHJP
   C09K 3/18 20060101ALI20201109BHJP
   C09D 7/63 20180101ALI20201109BHJP
   C09D 171/00 20060101ALI20201109BHJP
   C08L 71/00 20060101ALI20201109BHJP
   G02B 1/18 20150101ALI20201109BHJP
【ＦＩ】
   C08G65/333
   C09K3/18 104
   C09D7/63
   C09D171/00
   C08L71/00 Y
   G02B1/18
【請求項の数】16
【全頁数】67
(21)【出願番号】特願2019-214034(P2019-214034)
(22)【出願日】2019年11月27日
(65)【公開番号】特開2020-94195(P2020-94195A)
(43)【公開日】2020年6月18日
【審査請求日】2019年11月27日
(31)【優先権主張番号】特願2018-225935(P2018-225935)
(32)【優先日】2018年11月30日
(33)【優先権主張国】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100101454
【弁理士】
【氏名又は名称】山田 卓二
(74)【代理人】
【識別番号】100132252
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 環
(74)【代理人】
【識別番号】100188802
【弁理士】
【氏名又は名称】澤内 千絵
(72)【発明者】
【氏名】山下 恒雄
(72)【発明者】
【氏名】野村 孝史
(72)【発明者】
【氏名】小澤 香織
(72)【発明者】
【氏名】三橋 尚志
【審査官】 内田 靖恵
(56)【参考文献】
【文献】 特開２０１２−２０７１６９（ＪＰ，Ａ）
【文献】 特開２００４−１４６４７８（ＪＰ，Ａ）
【文献】 国際公開第２０１８／０５６４１３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】 特開２０１５−１６０９０２（ＪＰ，Ａ）
【文献】 特開２０００−２９０２６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】 国際公開第２００６／１０６８５６（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ｃ０８Ｇ ６５／３３３
Ｃ０９Ｋ ３／１８
Ｃ０９Ｄ ７／６３
Ｃ０９Ｄ １７１／００−１７１／１４
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（Ｉ）：
【化1】
［式中：
Ｒ−のうち１または２が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒ−のうち１または２がＲＳｉ−で表される基であり；
ただし、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基の数、およびＲＳｉ−で表される基の数の合計数は３であり；
αは、１〜９の整数であり；
Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子である。）
で表される基であり；
Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表され；
Ｘｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙまたは（ＮＨ）ｙで表され；
ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＳＯ２−、または２〜１０価の有機基であり；
ＲＳｉ−で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ａ１）〜（Ａ４）：
【化2】
で表される基のいずれかであり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ７１）ｎ２１−）２Ｎ−（Ｒ７２）ｎ２２−、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、−Ｒ７３−、または−Ｙ−Ｏ−であり；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２３−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２４−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｎ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ｎ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ただし、ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ７４）ｎ２５−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ７５）２−、−（Ｓｉ（Ｒ７５）２Ｏ）ｎ２６−Ｓｉ（Ｒ７５）２−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３−、−ＳＯ２ＮＲ３−、または−ＳＯ２−であり；
Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６のアルキレン基であり；
ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し；
ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ２）ｎ２７−を表し；
ｎ２７は、１〜２０の整数であり；
Ｙは、２〜６価の炭化水素基であって、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有し；
Ｘａ２は、単結合または２価の有機基を表し；
β１、β２、β３およびβ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し、式（Ａ２）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−を表し；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１’を表し；
Ｒｆ１’は、Ｒｆ１と同意義であり；
Ｒｆ１中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３であり；
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒｆ３ｐ３Ｒｆ２ｐ２Ｒｆ１ｐ１Ｓｉ−毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３であり、式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在し；
Ｒｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−を表し；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｇ１’を表し；
Ｒｇ１’は、Ｒｇ１と同意義であり；
Ｒｇ１中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ３−を表し；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３であり；
Ｒｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ４−を表し；
Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒｇ３ｑ３Ｒｇ２ｑ２Ｒｇ１ｑ１Ｃ−毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３であり、式（Ａ４）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２つ存在する。］
で表されるポリエーテル基含有化合物。
【請求項2】
Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ１１）ｎ１６−）２Ｎ−（Ｒ１２）ｎ１７−、−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−、または−Ｒ１３−である、請求項１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
Ｒ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１１−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
ｎ１１は、１〜２０の整数であり；
Ｒ１２が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１２−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
ｎ１２は、１〜２０の整数であり；
ｎ１６は、０または１であり；
ｎ１７は、０または１であり；
ただし、ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であり；
Ｘ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ６１）ｎ１４−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ６２）２−、−（Ｓｉ（Ｒ６２）２Ｏ）ｎ１５−Ｓｉ（Ｒ６２）２−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３−、−ＳＯ２ＮＲ３−、または−ＳＯ２−であり；
Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６のアルキレン基であり；
ｎ１４は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
Ｒ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基であり；
ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
Ｒ１３は、−（ＣＨ２）ｎ１３−を表し；
ｎ１３は、１〜２０の整数である。］
【請求項3】
αが２である、請求項１または２に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項4】
αが１である、請求項１または２に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項5】
ｍ１が、２または３である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項6】
ｍ１が、３である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項7】
ｐ１が、３、かつ、ｒ２が、３である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項8】
式（Ａ４）において、ｑ２が３、かつｍ１が３である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項9】
β１、β２、β３、またはβ４が、１である、請求項１〜８のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項10】
Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項11】
ＰＥが、以下の式（ａ）〜（ｃ）のいずれか：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ− （ｃ）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
で表される基である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
【請求項12】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物を含有する表面処理剤。
【請求項13】
さらに溶媒を含む、請求項１２に記載の表面処理剤。
【請求項14】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１２または１３に記載の表面処理剤。
【請求項15】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物または請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項16】
前記物品が光学部材である、請求項１５に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、ポリエーテル基含有化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【0003】
そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特表２００８−５３４６９６号公報
【特許文献2】国際公開第９７／０７１５５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示の目的は、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示は、以下の［１］〜［１７］を提供するものである。
［１］ 式（Ｉ）：
【化1】
［式中：
Ｒ−のうち１または２が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒ−のうち１または２がＲＳｉ−で表される基であり；
ただし、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基の数、およびＲＳｉ−で表される基の数の合計数は３であり；
αは、１〜９の整数であり；
Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表され；
Ｘｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙまたは（ＮＨ）ｙで表され；
ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。）
で表される基であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＳＯ２−、または２〜１０価の有機基であり；
ＲＳｉ−で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ａ１）〜（Ａ４）：
【化2】
で表される基のいずれかであり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＳＯ２−、または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘａ２は、単結合または２価の有機基を表し；
β１、β２、β３およびβ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し、式（Ａ２）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−を表し；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１’を表し；
Ｒｆ１’は、Ｒｆ１と同意義であり；
Ｒｆ１中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３であり；
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒｆ３ｐ３Ｒｆ２ｐ２Ｒｆ１ｐ１Ｓｉ−毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３であり、式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在し；
Ｒｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−を表し；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｇ１’を表し；
Ｒｇ１’は、Ｒｇ１と同意義であり；
Ｒｇ１中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ３−を表し；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３であり；
Ｒｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ４−を表し；
Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒｇ３ｑ３Ｒｇ２ｑ２Ｒｇ１ｑ１Ｃ−毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３であり、式（Ａ４）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２つ存在する。］
で表されるポリエーテル基含有化合物。
［２］ Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ１１）ｎ１６−）２Ｎ−（Ｒ１２）ｎ１７−、−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−、または−Ｒ１３−である、［１］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
Ｒ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１１−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
ｎ１１は、１〜２０の整数であり；
Ｒ１２が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１２−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
ｎ１２は、１〜２０の整数であり；
ｎ１６は、０または１であり；
ｎ１７は、０または１であり；
ただし、ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であり；
Ｘ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ６１）ｎ１４−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ６２）２−、−（Ｓｉ（Ｒ６２）２Ｏ）ｎ１５−Ｓｉ（Ｒ６２）２−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３−、−ＳＯ２ＮＲ３−、または−ＳＯ２−であり；
Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６のアルキレン基であり；
ｎ１４は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
Ｒ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基であり；
ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
Ｒ１３は、−（ＣＨ２）ｎ１３−を表し；
ｎ１３は、１〜２０の整数である。］
［３］ αが２である、［１］または［２］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［４］ αが１である、［１］または［２］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［５］ Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ７１）ｎ２１−）２Ｎ−（Ｒ７２）ｎ２２−、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、−Ｒ７３−、または−Ｙ−Ｏ−である、［１］〜［４］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２３−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２４−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｎ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ｎ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ただし、ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ７４）ｎ２５−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ７５）２−、−（Ｓｉ（Ｒ７５）２Ｏ）ｎ２６−Ｓｉ（Ｒ７５）２−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３−、−ＳＯ２ＮＲ３−、または−ＳＯ２−であり；
Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６のアルキレン基であり；
ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し；
ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ２）ｎ２７−を表し；
ｎ２７は、１〜２０の整数であり；
Ｙは、２〜６価の炭化水素基であって、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。］
［６］ ｍ１が、２または３である、［１］〜［５］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［７］ ｍ１が、３である、［１］〜［６］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［８］ ｐ１が、３、かつ、ｒ２が、３である、［１］〜［７］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［９］ 式（Ａ４）において、ｑ２が３、かつｍ１が３である、［１］〜［８］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１０］ β１、β２、β３、またはβ４が、１である、［１］〜［９］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１１］ Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、［１］〜［１０］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１２］ ＰＥが、以下の式（ａ）〜（ｃ）のいずれか：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ− （ｃ）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
で表される基である、［１］〜［１１］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１３］ ［１］〜［１２］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物を含有する表面処理剤。
［１４］ さらに溶媒を含む、［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］ 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１３］または［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］ 基材と、該基材の表面に、［１］〜［１２］のいずれかに記載のポリエーテル基含有化合物または［１３］〜［１５］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１７］ 前記物品が光学部材である、［１６］に記載の物品。
【発明の効果】
【0007】
本開示によれば、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【0009】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【0010】
本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基であり得る。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【0011】
本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲａ１、−ＯＣＯＲａ１、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲａ１２、−ＮＲａ１２、−ＮＨＲａ１、ハロゲン（これら式中、Ｒａ１は、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲａ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒａ１の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
【0012】
本開示のポリエーテル基（以下、「ＰＥ」と称することがある）含有化合物は、式（Ｉ）：
【化3】
で表される。
【0013】
本開示のポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ｉ）のように、分子構造内にトリアジン環を有する。本開示のポリエーテル基含有化合物は、電子密度の高い環構造であって、６員環を形成する有機化合物のなかで最も小さな環構造を有することから、アニオン化合物の求核置換反応が起こりにくく、例えばアルカリ条件下でも安定に存在し得る。また、トリアジン環の炭素−水素結合をエーテル結合やエステル結合に置換した場合、酸やアルカリ存在下における加水分解を受けにくい。更に、トリアジン環は、耐熱性、および紫外線（ＵＶ）に対する耐久性が良好であることから、本開示のポリエーテル基含有化合物の耐熱性、およびＵＶ耐久性が良好になり得る。
【0014】
式（Ｉ）において、Ｒ−は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基、または、ＲＳｉ−で表される基である。
【0015】
Ｒのうち１または２が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち１または２がＲＳｉ−で表される基である。ただし、（Ｒｆ−ＰＥ）α−Ｘ１−で表される基の数、および、ＲＳｉ−で表される基の数の合計数は３である。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物は、撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有する表面処理層であり、かつ、基材への結合能の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
【0016】
好ましくは、Ｒのうち１または２が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、Ｒのうち１または２がＲＳｉ−で表される基である。ただし、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基の数、およびＲＳｉ−で表される基の数の合計数は３である。
【0017】
一の態様において、Ｒのうち１が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち２がＲＳｉ−で表される基である。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物は、撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有する表面処理層の形成に寄与し得る。上記のような構造により、本開示のポリエーテル基含有化合物は、分子間の結合を形成し得、さらに、形成される表面処理層の基材への結合能が良好になり得る。
【0018】
一の態様において、Ｒのうち２が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち１がＲＳｉ−で表される基である。このような構造を有することにより、ポリエーテル基含有化合物一分子あたりのポリエーテル鎖の含量が高くなる為、本開示のポリエーテル基含有化合物は、高い撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有し、かつ、基材への結合能の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
【0019】
［（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基］
本開示のポリエーテル基含有化合物は、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基を有する。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物を用いて形成される層の撥水性、撥油性、耐ケミカル性（例えば、塩水、酸または塩基性水溶液、アセトン、オレイン酸またはヘキサンに対する耐久性）、ＵＶ耐久性等が良好になり得る。
【0020】
Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基を表す。
【0021】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基における「炭素原子数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素原子数１〜６、特に炭素原子数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素原子数１〜３のアルキル基である。
【0022】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素原子数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。
【0023】
該炭素原子数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素原子数１〜６、特に炭素原子数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素原子数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【0024】
上記式中、ＰＥは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基である。
式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。本明細書において、ＰＥとして記載している基は、左がＸｆ１に、右がＸｆ２に、それぞれ結合する。
【0025】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−（即ち、上記式中、Ｘ１０はフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【0026】
一の態様において、上記ＰＥは、−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、上記ＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、上記ＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。
【0027】
一の態様において、上記ＰＥは、好ましくは−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−であり、ｄは１０以上１００以下の整数、より好ましくはｄは１５以上５０以下の整数、さらに好ましくはｄは２５以上３５以下の整数である。
【0028】
別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−である。一の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
【0029】
さらに別の態様において、ＰＥは、−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−で表される基である。式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６、およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｇは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｇ−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｇ−である。
【0030】
さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基である。式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0031】
さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基である。式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0032】
ＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【0033】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、０．２以上０．９５以下であり、より好ましくは、０．２以上０．９以下である。
【0034】
一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．９未満、好ましくは０．８以下、０．７以下であり、０．６５以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、例えば０．２以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．５５以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．８以下を挙げることができる。上記のようなｅ／ｆ比を有することにより、本開示の表面処理剤は、より良好な滑り性を有する表面処理層を形成し得る。
【0035】
一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．４以上０．７以下であってもよく、０．５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．６５以下であってもよい。
【0036】
一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、１．０以上が好ましく、１．０以上２．０以下であることがより好ましい。
【0037】
一の態様において、上記式中、ＰＥは、各出現において独立して、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり、かつ、ポリエーテル基中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、本態様において、上記ＰＥは、少なくとも１のＣＦ３末端（具体的には、−ＣＦ３、−Ｃ２Ｆ５等、より具体的には−ＣＦ３）を有する。なお、上記ＰＥは、上記式の左末端の酸素原子がＲｆ基に結合する。このような構造のポリエーテル基を有することにより、ポリエーテル基含有化合物（あるいは、ポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤）を用いて形成された層（例えば表面処理層）の紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等がより良好になり得る。
【0038】
上記式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【0039】
ＰＥで表される基中、分岐構造を少なくとも５有することが好ましく、１０有することがより好ましく、２０有することが特に好ましい。
【0040】
ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数（例えば、上記ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和）１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は４０以上であることが好ましく、６０以上であることがより好ましく、８０以上であることが特に好ましい。ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は１００以下であってもよく、例えば９０以下であってもよい。
【0041】
ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、４０〜１００の範囲にあることが好ましく、６０〜１００の範囲にあることがより好ましく、８０〜１００の範囲にあることが特に好ましい。
【0042】
上記分岐構造における分岐鎖としては、例えばＣＦ３を挙げることができる。
【0043】
分岐構造を有する繰り返し単位としては、例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等を挙げることができる。−（ＯＣ５Ｆ１０）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等を挙げることができる。−（ＯＣ４Ｆ８）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−を挙げることができる。−（ＯＣ３Ｆ６）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−を挙げることができる。−（ＯＣ２Ｆ４）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−を挙げることができる。
【0044】
上記ＰＥは、分岐構造を有する繰り返し単位とともに、直鎖状の繰り返し単位を含み得る。直鎖状の繰り返し単位としては、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−を挙げることができる。
【0045】
好ましくは、上記ＰＥで表される基中、繰り返し単位−（ＯＣ６Ｆ１２）−、−（ＯＣ５Ｆ１０）−、−（ＯＣ４Ｆ８）−、および−（ＯＣ３Ｆ６）−が分岐構造を有する。
【0046】
より好ましくは、上記ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ６Ｆ１２、ＯＣ５Ｆ１０、ＯＣ４Ｆ８、およびＯＣ３Ｆ６からなる。
【0047】
一の態様において、上記ＰＥは、−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、ＰＥ中に少なくとも１の分岐構造を有する。
【0048】
本態様において、ＰＥで表される基は、さらに、直鎖状の繰り返し単位−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−を含んでいてもよい。
【0049】
上記態様において、上記ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ３Ｆ６からなることが好ましい。上記ＰＥは、式：−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄで表されることがより好ましい。上記式中、ｄは１以上２００以下であり、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である。
【0050】
別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、ＰＥで表される基中に少なくとも１の分岐構造を有する。
【0051】
さらに別の態様において、ＰＥは、−（Ｒ６−Ｒ７）ｊ−で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、分岐構造を有することが好ましい。
【0052】
より好ましくは、上記態様において、ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ６Ｆ１２、ＯＣ５Ｆ１０、ＯＣ４Ｆ８、およびＯＣ３Ｆ６からなる。
【0053】
さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0054】
さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0055】
上記ポリエーテル基含有化合物において、−ＰＥ−部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【0056】
別の態様において、−ＰＥ−部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。
【0057】
別の態様において、−ＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。
【0058】
αは、１〜９の整数である。αは、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、αは９である。Ｘ１が単結合である場合、αは１である。
【0059】
Ｘ１は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフッ素を含有するポリエーテル部（ＰＥで表されるポリエーテル基部分）とトリアジン環とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ｉ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの有機基であってもよい。
【0060】
Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表される基である。なお、Ｘｆ１として記載している基は、左側がＲｆで表される基に、右側がＰＥで表される基に、それぞれ結合する。
【0061】
Ｘｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基、好ましくは１〜３のアルキレン基、より好ましくは１〜２のアルキレン基、例えばメチレン基である。
Ｘｆ１１において、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子により置換されていてもよい。Ｘｆ１１は、好ましくは、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子により置換されたアルキレン基であり、より好ましくは、パーフルオロアルキレン基である。Ｘｆ１１は、直鎖状であってもよく、分岐鎖を有していてもよい。好ましくは、Ｘｆ１１は、直鎖状である。
【0062】
Ｘｆ１１の具体例としては、例えば、−ＣＦ２−、−Ｃ２Ｆ４−、−Ｃ３Ｆ６−、−Ｃ４Ｆ８−、−Ｃ５Ｆ１０−または−Ｃ６Ｆ１２−のようなパーフルオロアルキレン基；−ＣＨＦ−、のような一部の水素原子がフッ素原子に置換されたフルオロアルキレン基を挙げることができる。
−Ｃ６Ｆ１２−は、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−等であってもよいが、好ましくは−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。−Ｃ５Ｆ１０−は、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−等であってもよいが、好ましくは−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。−Ｃ４Ｆ８−は、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、−Ｃ（ＣＦ３）２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２−および−ＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５）−のいずれであってもよいが、好ましくは−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。−Ｃ３Ｆ６−は、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−および−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−のいずれであってもよいが、好ましくは−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。また、−Ｃ２Ｆ４−は、−ＣＦ２ＣＦ２−および−ＣＦ（ＣＦ３）−のいずれであってもよい。
【0063】
Ｘｆ１は、より好ましくは、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、または−ＣＦ（ＣＦ３）−であり、さらに好ましくは、−ＣＦ２−、または−ＣＦ２ＣＦ２−であり、特に好ましくは−ＣＦ２−である。
【0064】
Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙまたは（ＮＨ）ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）ｙで表される基である。
【0065】
ｚは、各出現においてそれぞれ独立して０または１であり、ｙは、各出現においてそれぞれ独立して０または１である。具体的には、ｚが０かつｙが０；ｚが０かつｙが１；ｚが１かつｙが０；ｚが１かつｙが１である。
好ましくは、ｚとｙとの合計は、０または１である。
なお、ｙが０のとき、Ｘｆ２で表される基は単結合であり；ｚが０のとき、Ｘｆ１で表される基は単結合である。
【0066】
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＳＯ２−、または２〜１０価の有機基である。
【0067】
一の態様において、Ｘ１は、窒素原子である。本態様においては、上記（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基は、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）２−Ｎ−で表される。
【0068】
一の態様において、Ｘ１は、２〜１０価の有機基である。
【0069】
Ｘ１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２〜３価の有機基である。
【0070】
一の態様において、Ｘ１は、３〜１０価の有機基であり得、αは２〜９である。
【0071】
一の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、αは１である。
【0072】
一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、該２価の有機基は、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−、または−ＮＨＣＯＯ−である。
【0073】
一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ１１）ｎ１６−）２Ｎ−（Ｒ１２）ｎ１７−、−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−、または−Ｒ１３−で表される３価または２価の有機基である。
例えば、Ｘ１が、（−（Ｒ１１）ｎ１６−）２Ｎ−（Ｒ１２）ｎ１７−で表されるとき、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基は、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−（Ｒ１１）ｎ１６）２Ｎ−（Ｒ１２）ｎ１７−で表され；Ｘ１が−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−で表されるとき、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基は、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−で表され；Ｘ１が−Ｒ１３−で表されるとき、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基は、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｒ１３−で表される。
【0074】
Ｘ１は、好ましくは（−（Ｒ１１）ｎ１６−）２Ｎ−（Ｒ１２）ｎ１７−、または−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−で表される基であり、より好ましくは−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−で表される基である。
【0075】
Ｒ１１は、ポリエーテル基（ＰＥで表される基）側に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ１１として記載している構造の左側がαを付して括弧でくくられた基に結合する。
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１１−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１１−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ２）ｎ１１−である。
ｎ１１は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらに好ましくは１または２である。
【0076】
Ｒ１２は、トリアジン環に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ１２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１２−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ１２−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ２）ｎ１２−である。
ｎ１２は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１である。
【0077】
ｎ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり、ｎ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であることが好ましい。好ましくは、ｎ１６が０、かつｎ１７が１、または、ｎ１６が１、かつｎ１７が０であり、より好ましくは、ｎ１６が１、かつｎ１７が０である。
【0078】
Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ６１）ｎ１４−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ６２）２−、−（Ｓｉ（Ｒ６２）２Ｏ）ｎ１５−Ｓｉ（Ｒ６２）２−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３−、−ＳＯ２ＮＲ３−、または−ＳＯ２−である。
Ｘ１１は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ３−で表される基であり、より好ましくは、−Ｏ−、または−ＮＲ３−（例えば、−ＮＨ−）で表される基である。
なお、本明細書において、Ｘ１１として記載している構造の左側がＲ１１で表される基に、右側がＲ１２で表される基に、それぞれ結合する。
【0079】
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子またはメチル基、より好ましくは水素原子である。
例えば、Ｒ３が水素原子の場合、上記のＸ１１の列挙の中で、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−は、それぞれ、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−、または−ＯＣＯＮＨ−である。
【0080】
Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６のアルキレン基であり、好ましくは、Ｃ１−３のアルキレン基である。
Ｒ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
ｎ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは１である。
ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数である。
ここで、Ｘ１１の水素原子は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0081】
Ｒ１３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ２）ｎ１３−である。ここで、ｎ１３は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数である。
【0082】
好ましい態様において、Ｘ１は、−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−で表される基であり、ｎ１６が１、ｎ１７が０である。Ｘ１１は−Ｏ−または−ＮＨ−であることが好ましく、Ｒ１１は−（ＣＨ２）ｎ１１−、ｎ１１は１〜３の整数であることが好ましい。ｎ１１は１または２であることがより好ましい。
【0083】
Ｘ１の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）３−Ｏ−、
−（ＣＨ２）４−Ｏ−、
−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）２−Ｏ−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）３−Ｏ−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＦ２ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ２ＮＨＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ２ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ２ＣＨ２−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＣＦ２ＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＨ２−ＮＨ−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）２−ＮＨ−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）３−ＮＨ−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ３−
−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）３−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＣＨ２−
−（ＣＨ２）２−
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＨ２−
−ＣＦ２（ＣＨ２）２−
−ＣＦ２（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）３−Ｓ−、
−ＳＯ２ＮＨ−、
−ＳＯ２ＮＣＨ３−、
−ＳＯ２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ１として記載している構造の左側がαを付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
【0084】
［ＲＳｉ−で表される基］
本開示のポリエーテル基含有化合物は、ＲＳｉ−で表される基を有する。ＲＳｉ−で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ａ１）〜（Ａ４）表される末端に水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基のいずれかである。本開示の化合物は、上記のような基を有することにより、基材への結合能が良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
式（Ａ１）〜（Ａ４）：
【0085】
式（Ａ１）について以下に説明する。
【0086】
β１は、１〜９の整数である。β１は、Ｘａ１の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ１が１０価の有機基である場合、β１は９である。Ｘａ１が単結合である場合、β１は１である。
【0087】
Ｘａ１は、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＳＯ２−、または２〜１０価の有機基を表す。Ｘａ１は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ１として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
【0088】
一の態様において、Ｘａ１は、２価の有機基であり、該２価の有機基は、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−、または−ＮＨＣＯＯ−である。
【0089】
好ましくは、Ｘａ１は、（−（Ｒ７１）ｎ２１−）２Ｎ−（Ｒ７２）ｎ２２−、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、−Ｒ７３−、または−Ｙ−Ｏ−で表される３価または２価の有機基である。
例えば、Ｘａ１が、（−（Ｒ７１）ｎ２１−）２Ｎ−（Ｒ７２）ｎ２２−で表されるとき、Ｒ７１は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基とＸａ１に含まれる窒素原子とを連結し、Ｒ７２は、Ｘａ１に含まれる窒素原子と式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘａ１が−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表されるとき、Ｒ７１は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基とＸ３で表される基とを連結し、Ｒ７２は、Ｘ３で表される基と式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘａ１が−Ｒ７３−で表されるとき、Ｒ７３は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基と、式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘａ１が、−Ｙ−Ｏ−で表されるとき、Ｏは、Ｙとトリアジン環とを連結する。
【0090】
Ｘａ１は、好ましくは、（−（Ｒ７１）ｎ２１−）２Ｎ−（Ｒ７２）ｎ２２−、または−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表される基であり、より好ましくは−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表される基である。
【0091】
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２３−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２３−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ２）ｎ２３−である。
ここで、ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。なお、本明細書において、Ｒ７１として記載している構造の左側がβ１を付して括弧でくくられた基に結合する。
【0092】
Ｒ７２は、トリアジン環に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ７２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２４−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ２）ｎ２４−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ２）ｎ２４−である。
ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。
【0093】
ｎ２１は０または１であり、ｎ２２は０または１である。ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であることが好ましい。好ましくは、ｎ２１が０、かつｎ２２が１、または、ｎ２１が１、かつｎ２２が０であり、より好ましくは、ｎ２１が１、かつｎ２２が０である。
【0094】
Ｘ３は、−Ｏ−、−（ＯＲ７４）ｎ２５−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ７５）２−、−（Ｓｉ（Ｒ７５）２Ｏ）ｎ２６−Ｓｉ（Ｒ７５）２−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３−、−ＳＯ２ＮＲ３−、または−ＳＯ２−である。
Ｘ３は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、―Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、または−ＮＲ３−で表される基であり、より好ましくは、−Ｏ−、または−ＮＲ３−（例えば、−ＮＨ−）で表される基である。
なお、本明細書において、Ｘ３として記載している構造の左側がＲ７１で表される基に、右側がＲ７２で表される基に、それぞれ結合する。
【0095】
Ｒ３は、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子またはメチル基、より好ましくは水素原子である。
Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６のアルキレン基であり、好ましくは、Ｃ１−３のアルキレン基である。
Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは１である。
ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数である。
Ｘ３の水素原子は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0096】
Ｒ７３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ２）ｎ２７−である。ここで、ｎ２７は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数である。
【0097】
上記Ｙは、酸素原子とＳｉ原子を結合する２〜６価、好ましくは２〜４価、より好ましくは２価の有機基であり、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。好ましくは、Ｙは、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。
上記Ｙとして、具体的には、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基等の炭素原子数２〜１０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素原子数６〜８のアリーレン基を含む炭素原子数２〜８のアルキレン基（例えば、炭素原子数８〜１６のアルキレン・アリーレン基等）、ジメチルシリレン基やジエチルシリレン基等のジオルガノシリレン基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜８のアルキレン基相互が炭素原子数１〜４のシルアルキレン構造または炭素原子数６〜１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状または環状の２〜６価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状または環状の２〜６価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素原子数２〜１０のアルキレン基が結合している２〜６価の基などが挙げられ、好ましくは炭素原子数３〜１０のアルキレン基、フェニレン基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、ジメチルシリレン基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜４のアルキレン基相互が炭素原子数１〜４のシルアルキレン構造または炭素原子数６〜１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２〜１０個の直鎖状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、ケイ素原子数２〜１０個の直鎖状またはケイ素原子数３〜１０個の分岐状もしくは環状の２〜４価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素原子数２〜１０のアルキレン基が結合している２〜４価の基であり、さらに好ましくは炭素原子数３〜６のアルキレン基である。
【0098】
Ｙの具体的な構造としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下の例示の２価の基において、Ｙとして記載している構造の左側が、−Ｙ−Ｏ−で表される基に含まれる“Ｏ”原子に結合し；２以上の結合手を有する基においては、少なくとも１の結合手がβ１を付して括弧で括られた基と結合し、少なくとも１の結合手が−Ｙ−Ｏ−で表される基に含まれる“Ｏ”原子に結合する。
【化4】
【化5】
【0099】
Ｘａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、または−Ｒ７３−で表される基であり、より好ましくは、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表される基である。ｎ２１は１であり、ｎ２２は０であり、Ｒ７１は−（ＣＨ２）ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は−Ｏ−、または−ＮＲ３−（例えば、−ＮＨ−）であり、Ｒ７３は−（ＣＨ２）ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）であることが好ましい。
【0100】
Ｘａ１の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）３−Ｏ−、
−（ＣＨ２）４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ３−
−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）３−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＣＨ２−
−（ＣＨ２）２−
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）３−Ｓ−、
−ＳＯ２ＮＨ−、
−ＳＯ２ＮＣＨ３−、
−ＳＯ２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ１として記載している構造の左側がβ１を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
【0101】
Ｘａ２は、単結合または２価の有機基を表す。Ｘａ２は、好ましくは、炭素原子数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。
【0102】
ｔは、それぞれ独立して、２〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは２〜６の整数である。
【0103】
Ｒ３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
【0104】
Ｒ３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0105】
一の態様において、Ｒ３２は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0106】
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。加水分解可能な基は上記と同意義である。
【0107】
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくはメチル基である。
【0108】
式（Ａ１）において、ｍ１は、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）単位毎に独立して、０〜３の整数である。ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在する。即ち、すべてのｍ１が同時に０になることはない。
【0109】
式（Ａ１）中、少なくとも２つのｍ１が１以上であることが好ましい。言い換えると、式（Ａ１）において、ｍ１が１以上のＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２存在することが好ましい。
【0110】
式（Ａ１）中、好ましくはｍ１が２または３、より好ましくはｍ１が３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１存在する。
【0111】
好ましくは、式（Ａ１）において、ｍ１は１〜３の整数であり、さらに好ましくは、２または３である。
【0112】
より好ましくは、式（Ａ１）において、ｍ１は３である。言い換えると、式（Ａ１）において、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−で表される基は、Ｒａ３Ｓｉ−で表される。
【0113】
式（Ａ２）について以下に説明する。
【0114】
β２は、１〜９の整数である。β２は、Ｘａ３の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ３が１０価の有機基である場合、β２は９である。Ｘａ３が単結合である場合、β２は１である。
【0115】
Ｘａ３は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
【0116】
Ｘａ３は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘａ１に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ２）」に、「β１」は「β２」にそれぞれ読み替えることとする。
【0117】
特に好ましいＸａ３としては、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、または−Ｒ７３−で表される基を挙げることができ、より好ましくは、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表される基である。ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ７１は−（ＣＨ２）ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は−Ｏ−、または−ＮＲ３−（例えば、−ＮＨ−）、Ｒ７３は−（ＣＨ２）ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）であることが好ましい。
【0118】
Ｘａ３の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）３−Ｏ−、
−（ＣＨ２）４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ３−
−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）３−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＣＨ２−
−（ＣＨ２）２−
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）３−Ｓ−、
−ＳＯ２ＮＨ−、
−ＳＯ２ＮＣＨ３−、
−ＳＯ２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ３として記載している構造の左側がβ２を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
【0119】
式（Ａ２）において、ｍ１は、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）単位毎に独立して、０〜３の整数である。ただし、式（Ａ２）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在する。
【0120】
式（Ａ２）において、好ましくは、ｍ１は１〜３であり、さらに好ましくは、２または３である。
【0121】
より好ましくは、式（Ａ２）において、ｍ１は３である。言い換えると、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−で表される基は、Ｒａ３Ｓｉ−で表される。
【0122】
式（Ａ３）について以下に説明する。
【0123】
β３は、１〜９の整数である。β３は、Ｘａ４の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ４が１０価の有機基である場合、β３は９である。Ｘａ４が単結合である場合、β３は１である。
【0124】
Ｘａ４は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ４として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
【0125】
Ｘａ４は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘａ１に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ３）」に、「β１」は「β３」にそれぞれ読み替えることとする。
【0126】
特に好ましいＸａ４としては、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、または−Ｒ７３−で表される基を挙げることができ、より好ましくは、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表される基である。ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ７１は−（ＣＨ２）ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は−Ｏ−、または−ＮＲ３−（例えば、−ＮＨ−）、Ｒ７３は−（ＣＨ２）ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）であることが好ましい。
【0127】
Ｘａ４の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）３−Ｏ−、
−（ＣＨ２）４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ３−
−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）３−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＣＨ２−
−（ＣＨ２）２−
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）３−Ｓ−、
−ＳＯ２ＮＨ−、
−ＳＯ２ＮＣＨ３−、
−ＳＯ２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ４として記載している構造の左側がβ３を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
【0128】
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−を表す。
【0129】
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ１として記載している構造の左側が、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−で表される基に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。
【0130】
上記Ｚ１は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ３）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒｆ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【0131】
上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｌ１１−Ｏ−（ＣＨ２）ｌ１２−（式中、ｌ１１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ１２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ１３−（式中、ｌ１３は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0132】
一の態様において、Ｚ１は、Ｃ１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ３−であり得る。Ｚ１が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３は、０〜６の整数である。
【0133】
上記態様において、好ましくは、上記Ｚ１は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ１−３アルキレン基である。
【0134】
Ｒ４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１’を表す。Ｒｆ１’は、Ｒｆ１と同意義である。
【0135】
Ｒｆ１中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒｆ１において、Ｒ４１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｆ１中にＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｆ１中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒｆ１中において直鎖状に連結される−Ｚ１−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【0136】
例えば、下記にＲｆ１中においてＺ１基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【化6】
【0137】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、Ｚ１Ｓｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、Ｚ１Ｓｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ１基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺ１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺ１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、Ｚ１Ｓｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【0138】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｆ１中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化7】
【0139】
一の態様において、Ｒｆ１中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【0140】
Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【0141】
好ましくは、Ｒ４２は、加水分解可能な基であり、より好ましくは、−ＯＲａ１（式中、Ｒａ１は、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【0142】
Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらにに好ましくは水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0143】
一の態様において、Ｒ４３は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0144】
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３である。
【0145】
Ｒｆ１中の末端のＲｆ１’（Ｒｆ１’が存在しない場合、Ｒｆ１）において、上記ｒ２は、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。
【0146】
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【0147】
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0148】
一の態様において、Ｒｆ３は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0149】
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ４１ｒ１Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３である。
【0150】
式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
【0151】
好ましい態様において、式（Ａ３）で表される基の末端部の少なくとも１つは、Ｒ４２ｒ２’Ｒ４３ｒ３’（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−）２Ｓｉ−（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３、ｒ２’とｒ３’との合計値が１）、または（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−）３Ｓｉ−（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３）であり、好ましくは（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−）３Ｓｉ−（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３）である。ここで、ｒ２は１〜３の整数であり、好ましくは、２または３である。式中、（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−）の単位は、好ましくは（Ｒ４２３Ｓｉ−Ｚ１−）である。さらに好ましい態様において、式（Ａ３）で表される基の末端部は、すべて（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１）３−Ｓｉ−、より好ましくは（Ｒ４２３Ｓｉ−Ｚ１）３−Ｓｉ−であり得る。
【0152】
一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、３であることが特に好ましい。本態様において、ｒ２が１〜３であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
【0153】
一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であり、かつ、ｒ２は、２または３であることが好ましく、ｐ１は、２または３であり、かつ、ｒ２は、２または３であることがより好ましく、ｐ１は、３であり、かつ、ｒ２は、２または３であることがさらに好ましい。
【0154】
一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であり、かつ、ｒ２は、３であることが好ましく、ｐ１は、２または３であり、かつ、ｒ２は、３であることがより好ましく、ｐ１は、３であり、かつ、ｒ２は、３であることがさらに好ましい。
【0155】
一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であり、Ｚ１は、２価の有機基である。好ましくは、上記Ｚ１は、式（Ａ３）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒｆ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。より好ましくは、上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｌ１１−Ｏ−（ＣＨ２）ｌ１２−（式中、ｌ１１は、１〜６の整数であり、ｌ１２は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ１３−（式中、ｌ１３は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。
【0156】
なお、式（Ａ２）で表される化合物と、式（Ａ３）で表される化合物とが重複する場合、式（Ａ２）で表される化合物を優先する。
【0157】
式（Ａ４）について以下に説明する。
【0158】
β４は、１〜９の整数である。β４は、Ｘａ５の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ５が１０価の有機基である場合、β４は９である。Ｘａ５が単結合である場合、β４は１である。
【0159】
Ｘａ５は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ５として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
【0160】
Ｘａ５は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘａ５に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ４）」に、「β１」は「β４」にそれぞれ読み替えることとする。
【0161】
特に好ましいＸａ５としては、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−、または−Ｒ７３−で表される基を挙げることができ、より好ましくは、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−で表される基である。式中、ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ７１は−（ＣＨ２）ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は−Ｏ−、または−ＮＲ３−（例えば、−ＮＨ−）、Ｒ７３は−（ＣＨ２）ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）である。
【0162】
Ｘａ５の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）２−Ｏ−、
−（ＣＨ２）３−Ｏ−、
−（ＣＨ２）４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ２−ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）２−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）３−ＮＨ−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ３−
−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）２−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）３−ＮＣＨ３−、
−（ＣＨ２）４−ＮＨ−、
−ＣＨ２−
−（ＣＨ２）２−
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）２−Ｓ−、
−（ＣＨ２）３−Ｓ−、
−ＳＯ２ＮＨ−、
−ＳＯ２ＮＣＨ３−、
−ＳＯ２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ５として記載している構造の左側がβ４を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
【0163】
Ｒｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−を表す。
【0164】
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ２として記載している構造の左側が、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−で表される基に含まれる“Ｃ”原子に結合する。
【0165】
上記Ｚ２は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ４）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒｇ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【0166】
上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｌ２１−Ｏ−（ＣＨ２）ｌ２２−（式中、ｌ２１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ２２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ２３−（式中、ｌ２３は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0167】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｇ１’を表す。Ｒｇ１’は、Ｒｇ１と同意義である。
【0168】
Ｒｇ１中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｇ１において、Ｒ５１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｇ１中にＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子が２個以上存在するが、かかるＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｇ１中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｇ１中において直鎖状に連結される−Ｚ２−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。
【0169】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｇ１中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化8】
【0170】
一の態様において、Ｒｇ１のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【0171】
Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ３−を表す。
【0172】
Ｒａ、およびＲｂは、それぞれ上記と同意義である。
【0173】
式（Ａ４）において、ｍ１は、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）単位毎に独立して、０〜３の整数である。ただし、式（Ａ４）において、ｍ１が１〜３であるＲａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２つ存在する。
【0174】
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ３で表される基は、左側がＲ５２に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。
【0175】
一の態様において、Ｚ３は酸素原子である。
【0176】
一の態様において、Ｚ３は２価の有機基である。
【0177】
好ましい態様において、Ｚ３は、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｌ３１−Ｏ−（ＣＨ２）ｌ３２−（式中、ｌ３１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ３２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ３３−（式中、ｌ３３は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0178】
一の態様において、Ｚ３は、Ｃ１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ３３−であり得る。Ｚ３が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３３は、０〜６の整数である。
【0179】
好ましくは、上記Ｚ３は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ２−３アルキレン基である。
【0180】
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0181】
一の態様において、Ｒ５３は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
【0182】
ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ５１ｓ１Ｒ５２ｓ２Ｒ５３ｓ３Ｃ−Ｚ２−毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３である。
【0183】
Ｒｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ４−を表す。なお、Ｚ４で表される基は、左側がＲｇ２に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。
【0184】
Ｒａ、およびＲｂは、上記と同意義である。
【0185】
一の態様において、Ｚ４は酸素原子である。
【0186】
一の態様において、Ｚ４は２価の有機基である。
【0187】
好ましい態様において、Ｚ４は、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｌ３１’−Ｏ−（ＣＨ２）ｌ３２’−（式中、ｌ３１’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ３２’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ３３’−（式中、ｌ３３’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0188】
一の態様において、Ｚ４は、Ｃ１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ２）ｌ３３’−であり得る。Ｚ４が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３３’は、０〜６の整数である。
【0189】
好ましくは、上記Ｚ４は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ２−３アルキレン基である。
【0190】
Ｒｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、より好ましくは、水素原子、水酸基または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子、水酸基または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基）である。
【0191】
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒｇ３ｑ３Ｒｇ２ｑ２Ｒｇ１ｑ１Ｃ−毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３である。
【0192】
一の態様において、少なくとも１のｑ１は１〜３の整数であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。
【0193】
一の態様において、ｑ１は１〜３の整数であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。
【0194】
一の態様において、ｑ２は２または３であり、好ましくは３である。
【0195】
式（Ａ４）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２存在することが好ましい。即ち、式（Ａ４）において、Ｒ５２（ただし、該Ｒ５２において、ｍ１は１〜３の整数）またはＲｇ２（ただし、、該Ｒｇ２において、ｍ１は１〜３の整数）が少なくとも２存在することが好ましい。言い換えると、式（Ａ４）において、少なくとも２つのｍ１が１以上であることが好ましい。ｍ１は、より好ましくは２または３であり、さらに好ましくは３である。このような構成を有することにより、ポリエーテル基含有化合物は、より良好な紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば土壌や指紋等の汚れの付着を防止する）、耐熱性、高い摩擦耐久性、耐加水分解性、耐ケミカル性、防湿性、防曇性等、特に、良好な紫外線耐久性、高い摩擦耐久性、耐ケミカル性等を有する表面処理層を形成し得る。
【0196】
式（Ａ４）において、好ましくは、Ｒｇ３（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）２−Ｃ−または（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）３−Ｃ−で表される基が存在し、より好ましくは（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）３−Ｃ−で表される基が存在する。ここで、ｍ１は１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【0197】
式（Ａ４）において、好ましくは、ｍ１は１〜３であり、より好ましくは３である。
【0198】
一の態様において、式（Ａ４）において、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−）の単位は、Ｒａ２ＲｂＳｉ−またはＲａ３Ｓｉ−であり、好ましくはＲａ３Ｓｉ−である。
【0199】
式（Ａ４）において、好ましくは、ｑ２が１〜３の整数であり、ｍ１が１〜３の整数である。
【0200】
一の態様において、式（Ａ４）において、ｑ２が１〜３の整数であり、ｍ１が２または３、より好ましくは、ｑ２が１〜３の整数であり、ｍ１が３である。
【0201】
一の態様において、式（Ａ４）において、ｑ２が２または３であり、ｍ１が１〜３の整数、より好ましくは、ｑ２が３であり、ｍ１が１〜３の整数であり、さらに好ましくは、ｑ２が３であり、ｍ１が３である。
【0202】
好ましい態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物は、
Ｒのうち１がＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、Ｒのうち２がＲＳｉ−で表される基であり；
ＲＳｉ−で表される基が、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ）３−Ｘａ３−で表される基、（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−）３−Ｓｉ−Ｘａ４−で表される基、または（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ４−）３−Ｃ−Ｘａ５−で表される基である。
［式中：
Ｒｆが、炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキル基を表し；
Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表される基であり；
Ｘｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、０であり；
ＰＥは、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子であり；
Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙ、または（ＮＨ）ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）ｙで表される基であり；
ｙは、０または１であり；
Ｘ１は、−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７−で表される基であり；
Ｒ１１は、−（ＣＨ２）ｎ１１−で表され；
ｎ１１は、１〜３の整数であり、好ましくは１または２であり；
ｎ１６は、１であり；
Ｘ１１は、−Ｏ−または−ＮＨ−であり
ｎ１７は、０であり；
Ｘａ３、Ｘａ４またはＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−であり；
Ｒ７１は、−（ＣＨ２）ｎ２３−であり（ｎ２３は、１〜３の整数、より好ましくは１または２である）；
ｎ２１は１であり；
Ｘ３は、−Ｏ−、または−ＮＨ−で表される基であり；
ｎ２２は、０であり；
Ｚ１は、Ｃ１−３アルキレン基であり；
Ｚ４は、Ｃ１−３アルキレン基であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｂは、メチル基であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数、好ましくは３であり；
Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）であり；
ｒ２は２または３であり、かつｒ２とｒ３との合計値が３、好ましくはｒ２は３である。］
【0203】
上記態様において、より好ましくは、ＲＳｉ−で表される基が、同一の構造を有する。例えば、ＲＳｉ−で表される基は、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ４−）３−Ｃ−Ｘａ５−で表される基である。
【0204】
別の好ましい態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物は、
Ｒのうち２がＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、Ｒのうち１がＲＳｉ−で表される基であり；
ＲＳｉ−で表される基が、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ）３−Ｘａ３−で表される基、（Ｒ４２ｒ２Ｒ４３ｒ３Ｓｉ−Ｚ１−）３−Ｓｉ−Ｘａ４−で表される基、または（Ｒａｍ１Ｒｂ３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ４−）３−Ｃ−Ｘａ５−で表される基である。
［式中：
Ｒｆが、炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキル基を表し；
Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表される基であり；
Ｘｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、０であり；
ＰＥは、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子であり；
Ｘｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ）ｙ、または（ＮＨ）ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）ｙで表される基であり；
ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ１は、−（Ｒ１１）ｎ１６−Ｘ１１−（Ｒ１２）ｎ１７で表される基であり；
Ｒ１１は、−（ＣＨ２）ｎ１１−で表され；
ｎ１１は、１〜３の整数であり、好ましくは１または２であり；
ｎ１６は、１であり；
Ｘ１１は、−Ｏ−または−ＮＨ−であり
ｎ１７は、０であり；
Ｘａ３、Ｘａ４またはＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、−（Ｒ７１）ｎ２１−Ｘ３−（Ｒ７２）ｎ２２−であり；
Ｒ７１は、−（ＣＨ２）ｎ２３−であり（ｎ２３は、１〜３の整数、より好ましくは１または２である）；
ｎ２１は１であり；
Ｘ３は、−Ｏ−、または−ＮＨ−で表される基であり；
ｎ２２は、０であり；
Ｚ１は、Ｃ１−３アルキレン基であり；
Ｚ４は、Ｃ１−３アルキレン基であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｂは、メチル基であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数、好ましくは３であり；
Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）であり；
ｒ２は２または３であり、かつｒ２とｒ３との合計値が３、好ましくはｒ２は３である。］
【0205】
［組成物］
本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、溶媒、含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤、ゾルーゲル、炭化水素系重合体、含フッ素重合体、ラジカル補足剤、無機多孔質、脱水剤、または脱ハロゲン化合物等を含み得る。
【0206】
上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ガルデンＨＴ ＰＦＰＥ、ＡＥ−３０００、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ｍ−ヘキサフルオロメタキシレン、ヘキサフルオロベンゼン、パーフルオロヘキサン等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。
【0207】
別の態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、さらに、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ−ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、アセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、および水からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【0208】
含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）としては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５及びＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−及び（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−及び（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−及び（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【0209】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−Ｒｆ６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”−（ＯＣＦ２）ｄ”−Ｒｆ６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ５及びＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0210】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。
【0211】
上記含フッ素オイルは、５００〜１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。
【0212】
含フッ素オイルは、本開示の組成物に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。
【0213】
含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0214】
一の態様において、ポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。本態様は、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には特に有利である。
【0215】
一の態様において、ポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、本開示の組成物は、該組成物を用いて形成される硬化物の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。
【0216】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【0217】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のポリエーテル基含有化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。
【0218】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0219】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【0220】
触媒は、本開示のポリエーテル基含有化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。
【0221】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【0222】
本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、さらに、以下の式で示す化合物、または以下の式で示す化合物のうち、ＲＳｉ’で表される基を有する化合物において、少なくともＲＳｉ’で表される基の一部をヒドロシリル化して生じる化合物を含み得る。本開示の組成物は、以下の式で示す化合物、または上述した以下の式で示す化合物をヒドロシリル化して生じる化合物を、本開示の組成物中に、例えば、１質量ｐｐｍ〜１質量％、または１０質量ｐｐｍ〜０．１質量％含み得る。
【0223】
【化9】

【0224】
式中、
ＲＰＥは、（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり；
ＲＰＥで表される基における各記号はそれぞれ上記と同意義であり；
ＲＳｉ’は、各出現においてそれぞれ独立して、末端に−ＣＨ＝ＣＨ２を有する１価の有機基であり、好ましくはヒドロシリル化することによってＲＳｉで表される基となる基である。
【0225】
一の態様において、本開示の組成物は、さらに、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｌ等を含む金属、金属酸化物または金属塩；Ｓｉを含む化合物、酸化物または塩を含み得る。本開示の組成物は、金属、金属酸化物またはその塩を、本開示の組成物中に、例えば、１０質量ｐｐｂ〜１質量％、または１００質量ｐｐｂ〜０．１質量％含み得る。
【0226】
一の態様において、本開示の組成物は、さらに、有機アミン、またはその塩酸塩を含み得る。
本開示の組成物は、有機アミン、またはその塩を、例えば、１質量ｐｐｍ〜１質量％、または１０質量ｐｐｍ〜０．１質量％含み得る。
【0227】
［製造方法］
次に、本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法の一例について説明する。本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は以下に限定されない。
【0228】
本開示の例示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、以下の工程を含む。
工程（１）：
以下の式（ＩＩ）：
【化10】
で表される化合物を、ＨＳｉＭ２３、および、所望によりＲａｋ１Ｌ’で表される化合物、および／または式：Ｒｂｋ２Ｌ”で表される化合物と反応させ、式（Ｉ）：
【化11】
で表される化合物を得る工程。各記号については、後述する。
【0229】
本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、工程（Ｉ）の前に、さらに以下の工程を含み得る。
【0230】
工程（２）：
以下の式（ＩＩＩ）：
【化12】
で表される化合物を、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−Ｇで表される化合物、およびＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、式（ＩＩ）：
【化13】
で表される化合物を得る工程。各記号については、後述する。
【0231】
以下、各工程について詳細に説明する。
【0232】
（工程（１））
工程（１）は、式（ＩＩ）：
【化14】
で表される化合物を、ＨＳｉＭ２３、および、所望によりＲａｋ１Ｌ’で表される化合物、および／または式：Ｒｂｋ２Ｌ”で表される化合物と反応させ、式（Ｉ）：
【化15】
で表される化合物を得る工程である。
【0233】
式（ＩＩ）で表される化合物毎に、Ｒ’−のうち１または２がＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒ’−のうち１または２がＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基であり；
ただし、式（ＩＩ）で表される化合物毎に、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基の数、および、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の数の合計数は３である。
例えば、Ｒ’のうち、１がＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、２がＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基であってもよく；２がＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、１がＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基であってもよい。
【0234】
なお、工程（１）における反応に、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−で表される基は関与しない。従って、式（ＩＩ）におけるＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基は、式（Ｉ）における（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基（α＝１）に、相当する。
【0235】
Ｒｆ、Ｘｆ１、ＰＥ、Ｘｆ２およびＸ１は、それぞれ上記と同意義である。
【0236】
Ｘ’は、トリアジン環とＳｉ原子とをつなぐリンカー部分の一部となる。例えば、式（Ｉ）において、ＲＳｉ−で表される基が式（Ａ２）で表される基である場合、−ＣＨ２ＣＨ２Ｘ’−で表される構造がＸａ３で表される基に相当する。
【0237】
Ｒａ、およびＲｂは、それぞれ上記と同意義である。
Ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａと結合可能な基を表す。
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数である。
Ｌ”は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｂと結合可能な基を表す。
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数である。
【0238】
式（ＩＩ）で表される化合物は、後述する工程（２）において得られる化合物であってもよい。
【0239】
式（ＩＩ）で表される化合物が、ＨＳｉＭ２３と反応することにより、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基が、ＳｉＭ２３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｘ’−で表される基に変換される。
Ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ）またはＣ１−６アルコキシ基であり、好ましくはＣｌである。該化合物は、市販されているか、または市販されている化合物から、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。
【0240】
ＨＳｉＭ２３の量は、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ−基（２種以上の化合物を用いる場合にはその合計、以下も同様）１モルに対して、１モル以上であればよいが、好ましくは２モルである。
【0241】
上記反応において、Ｒａｋ１Ｌ’で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲａ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。
【0242】
上記反応において、Ｒｂｋ２Ｌ”で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲｂ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。
【0243】
工程（１）の反応においては、最初に、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ−基とＨＳｉＭ２３が反応して、末端がＳｉＭ２３−ＣＨ２ＣＨ２−基に変換される。ついで、この末端ＳｉＭ２３−ＣＨ２ＣＨ２−基と、Ｒａｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲｂｋ２Ｌ”で表される化合物が反応して、Ｍ２がＲａまたはＲｂにより置換される。なお、Ｒａｋ１Ｌ’で表される化合物およびＲｂｋ２Ｌ”で表される化合物は、同時または別個に反応させてもよい。
【0244】
しかしながら、本開示の一の態様においては、ＨＳｉＭ２３、Ｒａｋ１Ｌ’で表される化合物、およびＲｂｋ２Ｌ”で表される化合物を、ＨＳｉ（Ｒａｋ１）（Ｒｂｋ２）（この場合、ｋ１＋ｋ２は３である）で表される化合物として用いることもできる。ＨＳｉ（Ｒａｋ１）（Ｒｂｋ２）で表される化合物は、当業者であれば、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。
【0245】
別の態様において、工程（１）におけるＲａｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲｂｋ２Ｌ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ−基１モルに対して３モル以上とする。かかる態様によれば、工程（１）の反応において生じる末端ＳｉＭ２３−ＣＨ２ＣＨ２−のＭ２を、実質的にすべてＲａまたはＲｂにより置換することができる。
【0246】
さらに別の態様において、工程（１）におけるＲａｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲｂｋ２Ｌ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ−基１モルに対して０以上３モル未満とする。かかる態様によれば、工程（１）の反応において生じる末端ＳｉＭ２３−ＣＨ２ＣＨ２−のＭ２のすべてまたはいくつかが、ＲａまたはＲｂにより置換されることなく残り得る。このように残ったＭ−Ｓｉ部を、式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を表し、Ｊは、Ｍｇ、ＣｕまたはＺｎを表し、Ｚ’は結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させることにより、再度、末端部をＣＨ２＝ＣＨ−とすることができ、工程（１）と同様の反応に付すことが可能になる。この操作を繰り返すことにより、上記式（ＩＩ）で示される化合物の末端に、リンカー部を介してＳｉ原子をツリー状に連結させることができる。
【0247】
工程（１）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。
【0248】
適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
【0249】
適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ−ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン等が挙げられる。
【0250】
かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは常温〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0251】
本明細書において、常温とは、例えば、０〜４０℃を示す。
【0252】
式（Ｉ）において、Ｒは上記と同意義である。ただし、式（Ｉ）における（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基の数、および、ＲＳｉ−で表される基の数は、それぞれ、式（ＩＩ）におけるＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基の数、および、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の数に相当する。
【0253】
（工程（２））
工程（２）は、以下の式（ＩＩＩ）：
【化16】
で表される化合物を、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−Ｇで表される化合物、およびＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、式（ＩＩ）：
【化17】
で表される化合物を得る工程である。
【0254】
Ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、好ましくは、Ｃｌ）であり；
Ｒ’は、工程（１）において記載したとおりである。
【0255】
工程（２）において、
Ｒｆ、Ｘｆ１、ＰＥ、Ｘ１、Ｘｆ２およびＸ’は、それぞれ上記と同意義であり；
Ｇは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、またはＮＨ２−であり；
Ｇ’は、各出現においてそれぞれ独立して、ＮＨ２−、水酸基、またはＳＨ−である。
【0256】
工程（２）において、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−Ｇで表される化合物、およびＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物のその使用量は、導入したいＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基およびのＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。
【0257】
一の態様において、工程（２）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、１モルのＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｇで表される化合物、および、２モルのＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で表される化合物を得ることである。本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の１つがＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、および、２つがＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。
【0258】
一の態様において、工程（２）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、２モルのＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｇで表される化合物、および、１モルのＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で表される化合物を得ることである。本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の２つがＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、および、１つがＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。
【0259】
工程（２）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行うことが好ましい。
【0260】
適当な触媒としては、塩基性の化合物を用いることが好ましく、例えば、三級アミン、アミノ基を有する複素環式化合物等のアミン系触媒；カリウム、ナトリウム、セシウム等の塩類を挙げることでき、具体的には、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）、ピリジン、２，６−ルチジン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げることができる。
【0261】
一の態様において、上記触媒は、三級アミンである。
【0262】
適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、炭化水素系溶媒、フッ素含有溶媒等を用いることができ、具体的には、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ−ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、アセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、水等を用いることができる。
【0263】
かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは常温〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0264】
工程（２）は、以下のように実施することが好ましい。
工程（２−１）：以下の式（ＩＩＩ）：
【化18】
で表される化合物を、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−Ｇで表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基に変換する工程；および
工程（２−２）：工程（２−１）で得られた化合物を、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換する工程。
【0265】
上記工程（２−１）において、Ｍ’で表される基の１または２が、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基に変換され、上記工程（２−２）において、Ｍ’で表される基の１または２がＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換される。ただし、Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基の数およびＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の数は２または３である。
【0266】
上記工程（２−１）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。例えば、工程（２）において記載した触媒および溶媒を用いることができる。
【0267】
上記工程（２−１）における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、例えば室温（具体的には１０〜３０℃）で行い得、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、必要に応じて例えば２４時間であってもよく、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0268】
上記工程（２−２）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。例えば、工程（２）において記載した触媒および溶媒を用いることができる。
【0269】
上記工程（２−２）における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、例えば常温〜８０℃で行い得、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0270】
一の態様において、
工程（２−１）において、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、１モルのＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｇで表される化合物を反応させ、
工程（２−２）において、工程（２−１）で得られた化合物を、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換する。
本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の１つがＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、および、２つがＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。
本態様において、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、例えば、２モル、２〜３モル、または２〜１０モル加え得る。
【0271】
一の態様において、
工程（２−１）において、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、２モルのＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｇで表される化合物を反応させ、
工程（２−２）において、工程（２−１）で得られた化合物を、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換する。
本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の２つがＲｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２−Ｘ１−で表される基であり、および、１つがＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。
本態様において、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、例えば、１モル、１〜２モル、または１〜１０モル加え得る。
【0272】
さらに、必要により、反応液の濃縮工程、洗浄工程等を行い得る。
【0273】
以上、本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法について説明した。本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、上記で例示した製造方法に限定されない。
【0274】
本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用い得る。
【0275】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【0276】
［物品］
以下、本開示の物品について説明する。
【0277】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のポリエーテル基含有化合物、または本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物（表面処理剤）（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」と言う）より形成された層（表面処理層）とを含む。
【0278】
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【0279】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【0280】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【0281】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【0282】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【0283】
次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
【0284】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【0285】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【0286】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【0287】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【0288】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
【0289】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【0290】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【0291】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【0292】
一の態様において、本開示の表面処理剤の層形成は、基材の表面に本開示の表面処理剤を塗布、真空蒸着によって行い得る。その後、必要に応じて乾燥等の処理を行い得る。
【0293】
上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【0294】
すなわち本開示はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。
【0295】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【0296】
本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【0297】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【0298】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【0299】
以上、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示のポリエーテル基含有化合物またはポリエーテル基含有化合物を含む組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【0300】
以上、実施形態について説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
【実施例】
【0301】
本開示のポリエーテル基含有化合物について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意である。
【0302】
（合成例１）
シアヌル酸クロライド０．２３ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ５．０ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。この反応液に、アリルアミン０．３５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．３４ｇを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨの水酸基β位−ＣＦ２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ａ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ａ）：
【0303】
（合成例２）
合成例１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ａ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｂ）４．７ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：
【0304】
（合成例３）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ２．５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
この反応液に４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．３５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．０９ｇとを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は、１９Ｆ−ＮＭＲによって、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨの水酸基β位−ＣＦ２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および、１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）：
【0305】
（合成例４）
合成例３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０３ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱して、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するポリエーテル基含有化合物（Ｄ）４．６ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）：
【0306】
（合成例５）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、室温で一昼夜撹拌した。その後、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、５０℃に加熱して、８時間撹拌した。
４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンを加える以降の操作は、合成例３と同様に行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）：
【0307】
（合成例６）
合成例５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｅ）２．５ｇを用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）２．６ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）：
【0308】
（合成例７）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンを加える以降の操作は、合成例３と同様に行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）：
【0309】
（合成例８）
合成例７で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を３．８ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）３．５ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）：
【0310】
（合成例９）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．７ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、８０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨの水酸基β位―ＣＦ２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことによりを確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）：
【0311】
（合成例１０）
合成例９で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を３．９ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）４．０ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）：
【0312】
（合成例１１）
シアヌル酸クロライド０．２３ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）５．０ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。この反応液に、アリルアミン０．３５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．３４ｇを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨの水酸基β位−ＣＦ２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）：
【0313】
（合成例１２）
合成例１１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｌ）４．２ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）：
【0314】
（合成例１３）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
この反応液に４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．３５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．０９ｇとを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は、１９Ｆ−ＮＭＲによって、ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨの水酸基β位−ＣＦ２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および、１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）：
【0315】
（合成例１４）
合成例１３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０３ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱して、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するポリエーテル基含有化合物（Ｎ）４．０ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｎ）：
【0316】
（合成例１５）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．７ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、８０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２−ＯＨの水酸基β位―ＣＦ２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことによりを確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｏ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｏ）：
【0317】
（合成例１６）
合成例１５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｏ）を３．９ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｐ）３．５ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｐ）：
【0318】
（実施例１）
上記合成例２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｂ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（１）を調製した。
【0319】
（実施例２）
上記合成例４で得たポリエーテル基含有化合物（Ｄ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（２）を調製した。
【0320】
（実施例３）
上記合成例６で得たポリエーテル基含有化合物（Ｆ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（３）を調製した。
【0321】
（実施例４）
上記合成例８で得たポリエーテル基含有化合物（Ｈ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（４）を調製した。
【0322】
（実施例５）
上記合成例１０で得たポリエーテル基含有化合物（Ｊ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（５）を調製した。
【0323】
（実施例６）
上記合成例１２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｌ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（６）を調製した。
【0324】
（実施例７）
上記合成例１４で得たポリエーテル基含有化合物（Ｎ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（７）を調製した。
【0325】
（実施例８）
上記合成例１６で得たポリエーテル基含有化合物（Ｐ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（８）を調製した。
【0326】
（比較例１、２）
ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）の代わりに、下記対照化合物（１）および（２）を用いた以外は、実施例４と同様に行い、比較表面処理剤（１）および（２）をそれぞれ調製した。
対照化合物（１）
対照化合物（２）
【0327】
（静的接触角）
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。
＜静的接触角の測定方法＞
静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水またはｎ−ヘキサデカンを２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。
【0328】
（硬化膜の形成）
表面処理剤（１）〜（８）、および比較表面処理剤（１）〜（２）をそれぞれ用いて、以下のように硬化膜を形成した。
【0329】
表面処理剤または比較表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。
【0330】
［硬化膜の特性評価］
得られた硬化膜の特性を以下のように評価した。
【0331】
＜静的接触角＞
（初期評価）
まず、初期評価として、硬化膜形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
（エタノール拭き後の評価）
次に、上記硬化膜を、エタノールを十分に染み込ませたキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）を用いて５往復拭いた後、乾燥させた。乾燥後の硬化膜の水の静的接触角を測定した。
【0332】
＜指紋付着性および拭き取り性＞
（指紋付着性）
表面処理剤または比較表面処理剤を用いて形成された硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は、次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たなかった。
Ｂ：指紋の付着が少ないが、その指紋を充分に確認できた。
Ｃ：未処理のガラス基板と同程度に明確に指紋が付着した。
（指紋拭き取り性）
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋を完全に拭き取ることができた。
Ｂ：指紋の拭取り跡が残った。
Ｃ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難であった。
【0333】
上記の一連の評価結果を以下の表１にまとめた。
【0334】
【表1】

【0335】
表面処理剤（１）〜（８）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭いた場合であっても低下しなかった。一方で、比較表面処理剤（１）および（２）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭くことによって低下した。これは、比較表面処理剤（１）または（２）で形成された硬化膜では、ケミカル耐性（耐溶剤性）が悪いためと考えられる。
上記のように、表面処理剤（１）〜（８）の方が、比較表面処理剤よりも優れていることが示された。表面処理剤（１）〜（８）を用いて形成された硬化膜では、指紋付着性および指紋拭き取り性の双方において良好な評価が得られた。
【産業上の利用可能性】
【0336】
本開示は、種々多様な基材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
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