(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
そこで、本発明は、反射特性および表示特性を有する表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
互いに対向して配置された下部基板と上部基板、前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層、前記下部基板上に配置され、第1の方向に沿って延長された複数のゲートライン、前記下部基板上に前記ゲートラインと絶縁されて配置され、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って延長された複数のデータライン、前記ゲートライン及び前記データラインに連結された薄膜トランジスタ、前記薄膜トランジスタに連結された画素電極、および前記上部基板上に配置された反射層を含み、前記反射層は、前記画素電極の全部または一部の上に配置された開口領域を有する表示装置を提供する。
【0009】
前記反射層は、前記第1の方向に沿って延長された第1の反射部と、前記第2の方向に沿って延長された第2の反射部を含みうる。
【0010】
前記反射層は、金属を含みうる。
【0011】
前記金属は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、チタン(Ti)、およびクロム(Cr)からなる群から選択された少なくとも一つを含みうる。
【0012】
前記反射層は、10nm以上ないし300nm以下の厚さを有することができる。
【0013】
前記開口領域は、前記画素電極の50%以上ないし100%以下の面積を有することができる。
【0014】
前記反射層は、互いに異なるサイズの開口を有することができる。
【0015】
前記反射層は、前記開口領域に前記第1の方向に長く延長された複数の開口を有することができ、前記開口は、50nm以上ないし300nm以下の幅と10nm以上ないし100nm以下の間隔を有することができる。
【0016】
前記反射層は、前記開口領域に前記第2の方向に長く延長された複数の開口を有することができ、前記開口は、50nm以上ないし300nm以下の幅と10nm以上ないし100nm以下の間隔を有することができる。
【0017】
前記反射層は、前記開口領域に前記第1の方向と所定の角度を持って長く延長された複数の開口を有することができ、前記開口は、50nm以上ないし300nm以下の幅と10nm以上ないし100nm以下の間隔を有することができる。
【0018】
互いに対向して配置された下部基板と上部基板、前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層、前記下部基板上に配置され、第1の方向に沿って延長された複数のゲートライン、前記下部基板上に前記ゲートラインと絶縁されて配置され、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って延長された複数のデータライン、前記ゲートライン及び前記データラインに連結された薄膜トランジスタ、前記薄膜トランジスタに連結された画素電極、および前記下部基板上に前記画素電極と絶縁されて配置された反射層を含み、前記反射層は、前記画素電極の全部または一部と重畳される開口領域を有し、前記開口領域に少なくとも一つ以上の開口部を有する表示装置を提供する。
【0019】
前記反射層は、前記第1の方向に沿って延長された第1の反射部と、前記第2の方向に沿って延長された第2の反射部と、を含みうる。
【0020】
前記反射層は、金属を含みうる。
【0021】
前記金属は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、チタン(Ti)、およびクロム(Cr)からなる群から選択された少なくとも一つを含みうる。
【0022】
前記反射層は、50nm以上ないし300nm以下の厚さを有することができる。
【0023】
前記開口領域は、前記画素電極の50%以上ないし100%以下の面積を有することができる。
【0024】
前記反射層は、少なくとも2以上の領域を含み、各領域は、互いに異なる面積の開口領域を有することができる。
【0025】
前記反射層は、前記開口領域に前記第1の方向に長く延長された複数の開口を有することができる。
【0026】
前記反射層は、前記開口領域に前記第2の方向に長く延長された複数の開口を有することができる。
【0027】
前記反射層は、前記開口領域に前記第1の方向と所定の角度を持って長く延長された複数の開口を有することができる。
【発明の効果】
【0028】
本発明に係る表示装置は、画素電極の全部または一部と重畳される開口を有する反射層を配置することにより、ミラー型表示装置を具現することができる。
【0029】
本発明に係る表示装置は、反射層に形成された開口の面積を領域別に互いに異なるようにすることにより、反射機能および表示機能を有するミラー型表示装置を具現することができる。
【0030】
本発明に係る表示装置は、反射層にワイヤーグリッド偏光子を形成して別の偏光板を省略することができるため、表示装置の厚さを減らすことができ、製造コストを低減することができる。
【0031】
本発明に係る表示装置は、反射層が隣接する画素間を区別する機能を提供することにより、別のブラックマトリクスを省略することができるため、表示装置の厚さを減らすことができ、製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための形態】
【0033】
以下、添付図面を参照して、本発明を詳細に説明する。
本発明は、様々な変更が可能で、様々な形態で実施できるところ、特定の実施形態のみ図面に例示し、本文は、これを中心に説明する。しかし、本発明の範囲が前記特定の実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物または代替物は、本発明の範囲に含まれるものと理解されるべきである。
【0034】
本明細書において、ある部分が他の部分と連結されているとするとき、これは直接に連結されている場合だけではなく、その中間に他の素子を間に置いて電気的に連結されている場合も含む。また、ある部分がある構成要素を含むとするとき、これは特に反対される記載がない限り、他の構成要素を除外するものではなく、他の構成要素をさらに含みうることを意味する。
【0035】
本明細書において、第1の、第2の、第3などの用語は、様々な構成要素を説明するために使用できるが、このような構成要素は、前記用語によって限定されるものではない。前記用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために使用される。例えば、本発明の権利範囲から逸脱することなく、第1の構成要素が、第2のまたは第3の構成要素などと命名されることがあり、同様に、第2のまたは第3の構成要素も交互に命名することができる。
【0036】
本発明を明確に説明するために説明と関係ない部分は省略し、明細書の全体を通じて同一または類似した構成要素については同一の参照符号を付する。
【0037】
本発明の実施形態に係る表示装置は、液晶表示装置であることを前提として説明する。また、本発明の実施形態に係る表示装置は、薄膜トランジスタと色フィルタが同じ基板上に配置されたCOA(color filter on array、COA)構造であることを前提として説明したが、これに限定されるものではなく、本発明の実施形態に係る表示装置は、薄膜トランジスタと色フィルタが互いに異なる基板上に配置された構造にも適用することができる。
【0038】
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置を概略的に示す平面図であり、
図2は、
図1のI−I’に沿って切断した断面図であり、
図3は、本発明の一実施形態に係る反射層を示す平面図である。
【0039】
図1〜
図3を参照すると、本発明の一実施形態に係る表示装置は、下部パネル100、下部パネル100に対向して配置された上部パネル200、および下部パネル100と上部パネル200との間に配置された液晶層300を含む。
【0040】
下部パネル100は、赤色、緑色、青色の画素部101r、101g、101bを含む複数の画素部101がマトリックス状に配列された下部基板110、下部基板110上に位置して薄膜トランジスタQを含む膜構造物120、膜構造物120上に位置して赤色、緑色、青色のフィルタ170r、170g、170bを含む複数の色フィルタ170、複数の色フィルタ170上に配置された平坦化膜175、平坦化膜175上に配置された画素電極180を含む。
【0041】
下部基板110は、ソーダ石灰ガラス(soda lime glass)またはボロンシリケートガラスなどの透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板である。
【0042】
下部基板110上にゲート信号を伝達するゲート配線122、124が配置される。ゲート配線122、124は、一方向、例えば、第1の方向R1に延びているゲートライン122と、ゲートライン122から突出して突起状に形成されたゲート電極124を含む。ゲート電極124は、後述するソース電極165およびドレイン電極166とともに薄膜トランジスタQの三端子を構成する。
【0043】
図面に示されていないが、下部基板110上に画素電極180とストレージキャパシタを形成するためのストレージ配線(不図示)がさらに形成されることもできる。このストレージ配線は、ゲート配線122、124とともに形成されるものであって、ゲート配線122、124と同じ層に配置され、同じ物質から成り得る。
【0044】
ゲート配線122、124は、アルミニウム(Al)とアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀(Ag)と銀合金などの銀系金属、銅(Cu)と銅合金などの銅系金属、モリブデン(Mo)とモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム(Cr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)から成り得る。
【0045】
また、ゲート配線122、124は、物理的性質が異なる2つの導電膜(不図示)を含む多重膜構造を有することができる。
【0046】
このうちの一つの導電膜は、ゲート配線122、124の信号遅延や電圧降下を減らすことができるように低比抵抗(low resistivity)の金属、例えばアルミニウム系金属、銀系金属、銅系金属などから成り得る。
【0047】
これとは異なり、他の導電膜は、他の物質、特にITO(indium tin oxide)およびIZO(indium zinc oxide)との接触特性に優れた物質、例えば、モリブデン系金属、クロム、チタン、タンタルなどから成り得る。
【0048】
このような組み合わせの良い例としては、クロム下部膜とアルミニウム上部膜、アルミニウム下部膜とモリブデン上部膜、およびチタン下部膜と銅上部膜が挙げられる。ただし、本発明はこれに限定されるものではなく、ゲート配線122、124は、様々ないくつかの金属と導電体から成り得る。
【0049】
下部基板110およびゲート配線122、124上にゲート絶縁膜130が配置される。ゲート絶縁膜130は、シリコン酸化物(SiOx)またはシリコン窒化物(SiNx)を含みうる。また、ゲート絶縁膜130は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、または酸化ジルコニウムをさらに含みうる。
【0050】
ゲート絶縁膜130上に薄膜トランジスタQのチャネルを形成するための半導体層142が配置され、このような半導体層142は、少なくともゲート電極124と重畳するように配置される。半導体層142は、アモルファスシリコン(amorphous Silicon:以下、a−Si)からなり、またはガリウム(Ga)、インジウム(In)、スズ(Sn)、亜鉛(Zn)のうち少なくとも一つ以上の元素を含む酸化物半導体(oxide semiconductor)から成り得る。
【0051】
半導体層142上にオーミックコンタクト層155、156が配置される。オーミックコンタクト層155、156は、後述のソース/ドレイン電極165、166と半導体層142との間の接触特性を改善させる役割をする。
【0052】
ここで、オーミックコンタクト層155、156は、n型不純物が高濃度にドーピングされたアモルファスシリコン(以下、n+a−Si)から成り得る。もし、ソース/ドレイン電極165、166と半導体層142との間の接触特性が十分に確保されれば、本実施形態のオーミックコンタクト層155、156は、省略することもできる。
【0053】
オーミックコンタクト層155、156およびゲート絶縁層130上にデータ配線162、165、166が配置される。
【0054】
データ配線162、165、166は、ゲートライン122と交差する方向、例えば、第2の方向R2に形成されてゲートライン122とともに画素部101を定義するデータライン162と、データライン162から分岐されて半導体層142の上部まで延長されているソース電極165と、ソース電極165と離隔されてゲート電極124または薄膜トランジスタQのチャネル領域を中心に、ソース電極165と対向して配置された半導体層142の上部に形成されるドレイン電極166を含む。
【0055】
ここで、ドレイン電極166は、半導体層142の上部から画素電極180の下まで延長することができる。
【0056】
データ配線162、165、166が形成された結果物の全体構造の上部に保護膜169が配置される。保護膜169は、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、感光性(photosensitivity)の有機物またはa−Si:C:O、a−Si:O:Fなどの低誘電率絶縁物質などを含む単一膜または多重膜の構造を有することができる。このような薄膜トランジスタQは、一実施形態であり、薄膜トランジスタQを含む膜構造物120は、多様な形態に変形されることができる。
【0057】
膜構造物120上に赤色フィルタ170r、緑色フィルタ170g、および青色フィルタ170bを含む複数の色フィルタ170が配置される。
【0058】
赤色フィルタ170r、緑色フィルタ170g、および青色フィルタ170bは、それぞれ赤色画素部101r、緑画素部101g、および青色画素部101bに対応して配置されることができる。
【0059】
赤色フィルタ170r、緑色フィルタ170g、および青色フィルタ170bは、各画素部101に対応して第2の方向R2に長いストライプ状に配置されることができる。
【0060】
互いに隣接する色フィルタ170は、互いに離隔して配置されたり、端が互いに重畳されて配置されたりすることもできる。
【0061】
複数の色フィルタ170上に平坦化膜175が配置されることができる。平坦化膜175は、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、感光性(photosensitivity)の有機物またはa−Si:C:O、a−Si:O:Fなどの低誘電率の絶縁物質などを含む単一膜または多重膜構造を有することができる。
【0062】
保護膜169、色フィルタ170、および平坦化膜175にドレイン電極166の一部、例えば画素電極180の下に配置されるドレイン電極166の端部を露出するコンタクトホール185が形成されることができる。
【0063】
平坦化膜175上にコンタクトホール185を介してドレイン電極166と電気的に連結される画素電極180が配置される。画素電極180は、ITO(Indium Tin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明導電体から成り得る。
【0064】
一方、図示されていないが、画素電極180上に下部配向膜が配置されることができる。下部配向膜は、垂直配向膜でも良く、光反応性物質を含む配向膜でも良い。
【0065】
下部配向膜は、ポリアミック酸(Polyamic acid)、ポリシロキサン(Polysiloxane)、およびポリイミド(Polyimide)のいずれかの物質から成り得る。
【0066】
上部パネル200は、上部基板210、共通電極220、および反射層230を含む。
【0067】
上部基板210は、透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板となることができる。共通電極220は、ITO(Indium Tin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明導電体から成り得る。
【0068】
上部基板210上に反射層230が配置される。本発明の一実施形態に係る反射層230は、下部基板110と対向する上部基板210の一面上に配置されることが示されているが、これに限定されるものではなく、反射層230は、下部基板110と対向する上部基板210の他の一面上に配置されることもできる。
【0069】
また、本発明の他の実施形態に係る反射層230は、下部基板110上に画素電極180と互いに絶縁されて配置されることもできる。
【0070】
反射層230は、可視光領域の光を反射させることができる金属材料を含む。例えば、反射層230は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、チタン(Ti)、およびクロム(Cr)からなる群から選択された少なくとも一つを含みうる。
【0071】
また、反射層230は、10nm以上ないし300nm以下の厚さtを有することができる。反射層230が10nm以下の厚さを有する場合、反射特性を有することが難しく、反射層230が300nm以上の厚さを有する場合、薄型表示装置を具現し難い。
【0072】
例えば、反射層230がチタン(Ti)である場合、10nm以上の厚さを有さなければ反射特性を示すことができない。反射層230は、50%以上の反射率を有することが好ましい。
【0073】
反射層230は、第1の方向R1に沿って延長された第1の反射部231と、第2の方向に沿って延長された第2の反射部232と、を含む。第2の反射部232は、第1の反射部231を接続する機能を提供する。
【0074】
第1の反射部231は、ゲートライン122および薄膜トランジスタQ上に配置され、画素電極180の一部上にも配置されることができる。第2の反射部232は、データライン162上に配置される。
【0075】
第1の反射部231および第2の反射部232は、外部から入射された光が再び外部に反射されるようにするとともに、バックライトユニット(不図示)から供給される光が外部に通過されることを防止できる。すなわち、反射層230は、遮光機能も兼ねることができる。したがって、別の遮光部材が省略可能であるので、表示装置の厚さを減らすことができる。
【0076】
反射層230は、画素電極180の全部または一部と重畳される開口領域235を有し、開口領域235に形成された少なくとも一つ以上の開口235hを有する。本発明の一実施形態に係る反射層230は、開口領域235と同じ面積を有する1つの開口235hを有する。
【0077】
開口領域235は、液晶層300の液晶分子の配列に応じて、バックライトユニット(不図示)から供給される光が外部に通過したり、通過されない領域である。
【0078】
開口領域235は、画素電極180の面積の約50%以上ないし100%以下の面積を有することができる。開口領域235の面積が大きいほど表示装置の表示特性が向上され、開口領域235の面積が小さいほど表示装置の反射率が向上される。
【0079】
一方、図示されていないが、上部パネル200は、上部配向膜をさらに含みうる。上部配向膜は、共通電極220上に配置される。上部配向膜は、前述した下部配向膜と同じ物質から成り得る。
【0080】
下部基板110と上部基板210との間の対向する面をそれぞれ該当基板の上部面に定義し、その上部面の反対側に位置する面をそれぞれ該当基板の下部面に定義するとき、下部基板110の下部面に上部偏光板がさらに位置し、上部基板210の下部面に下部偏光板がさらに位置することができる。
【0081】
液晶層300は、正の誘電率異方性を有するネマチック(nematic)液晶物質を含みうる。液晶層300の液晶分子は、その長軸方向が下部パネル100および上部パネル200のいずれかに平行に配列されており、その方向が下部パネル100の配向膜のラビング方向から上部パネル200に至るまで螺旋状に90度ねじれた構造を有することができる。または、ネマチック液晶物質の代わりに、液晶層300は、垂直配向された液晶物質を含むこともできる。
【0082】
図4は、本発明の他の実施形態に係る反射層を示す平面図である。本発明の他の実施形態に係る反射層に関する説明の中で、本発明の一実施形態に係る反射層に関する説明と重複する内容は、省略する。
【0083】
図4を参照すると、本発明の他の実施形態に係る反射層230は、第1の方向R1に沿って延長された第1の反射部231、および第2の方向に沿って延長された第2の反射部232を含む。
【0084】
反射層230は、画素電極180の全部または一部と重畳される開口領域235を有し、開口領域235に形成された少なくとも一つ以上の開口235hを有する。本発明の一実施形態に係る反射層230は、開口領域235と同じ面積を有する1つの開口235hを有する。
【0085】
本発明の他の一実施形態に係る反射層230は、互いに異なる面積を有する開口領域235を含む少なくとも2以上の領域に区分できる。例えば、
図4に示すように、反射層230は、中心領域である第1の領域A1と、第1の領域A1の周辺の第2の領域A2を含むことができ、第1の領域A1の開口領域235aは、画素電極180の面積の約50%以上ないし70%以下の面積を有することができ、第2の領域A2の開口領域235bは、画素電極180の面積の約70%以上ないし100%以下の面積を有することができる。
【0086】
すなわち、反射層230の中心である第1の領域A1は、表示装置の反射機能が主な領域であり、第2の領域A2は、表示機能が主な領域である。
【0087】
反射層230の第1の領域A1、及び第2の領域A2は、例示的なものに過ぎず、反射層230は、2以上の領域を含むことができ、使用目的に応じて様々な領域に区分できる。これに関連し、具体的な具現例は、後述する。
【0088】
図5は、本発明の他の実施形態に係る表示装置を示す平面図であり、
図6は、
図5のII−II’に沿って切断した断面図であり、
図7は、本発明の他の実施形態に係る反射層を示した平面図である。本発明の他の実施形態に係る表示装置に関する説明の中で、本発明の一実施形態に係る表示装置の説明と重複する内容は、省略する。
【0089】
図5ないし
図7を参照すると、本発明の他の実施形態に係る表示装置は、下部パネル100、下部パネル100に対向して配置された上部パネル200、および下部パネル100と上部パネル200との間に配置された液晶層300を含む。
【0090】
下部パネル100は、赤色、緑色、青色画素部101r、101g、101bを含む複数の画素部101がマトリックス状に配列された下部基板110、下部基板110上に位置して薄膜トランジスタQを含む膜構造物120、膜構造物120上に位置して赤色、緑色、青色のフィルタ170r、170g、170bを含む複数の色フィルタ170、複数の色フィルタ170上に配置された平坦化膜175は、平坦化膜175上に配置された画素電極180を含む。
【0091】
上部パネル200は、上部基板210、共通電極220、および反射層230を含む。
【0092】
上部基板210は、透明なガラスやプラスチックなどからなる絶縁基板となりうる。共通電極220は、ITO(Indium Tin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明導電体から成り得る。
【0093】
上部基板210上に反射層230が配置される。反射層230は、第1の方向R1に沿って延長された第1の反射部231、および第2の方向に沿って延長された第2の反射部232を含む。
【0094】
反射層230は、可視光領域の光を反射させることができる金属材質を含む。例えば、反射層230は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、チタン(Ti)、およびクロム(Cr)からなる群から選択された少なくとも一つを含みうる。また、反射層230は、10nm以上ないし300nm以下の厚さtを有することができる。
【0095】
反射層230は、画素電極180の全部または一部と重畳される開口領域235を有し、開口領域235に形成された複数の開口235hを有する。
【0096】
本発明の他の実施形態に係る反射層230は、開口領域235に第2の方向R2に沿って長く延長された複数の開口235hを有する。
【0097】
開口235hは、50nm以上ないし300nm以下の幅wを有することができ、隣接する開口235hは10nm以上ないし100nm以下の間隔pを有することができる。
【0098】
本発明の他の実施形態に係る反射層230は、開口領域235に一定の幅wと間隔pを有する複数の開口235hが形成されることにより、ワイヤーグリッドパターンが形成される。
【0099】
ワイヤーグリッドパターンは、人間が認知する可視光線領域である赤色、緑色、および青色の波長の大きさよりも小さい線幅および間隔を有するストライプパターン(Stripe Pattern)である。バックライトユニットの光がワイヤーグリッドパターンに入射されると、ワイヤーグリッドパターンに平行な偏光(polarized light)は反射され、ワイヤーグリッドパターンに垂直な偏光は透過される。
【0100】
したがって、本発明の他の実施形態に係る反射層230は、第2の方向R2に平行な偏光は反射させ、第2の方向R2に垂直な偏光は透過させる。
【0101】
本発明の他の実施形態に係る表示装置は、反射層230を用いてバックライトユニットの光を偏光させることによって別途の偏光板を省略することができ、表示装置の厚さを減らすことができ、製造コストを削減することができる。
【0102】
図8及び
図9は、本発明の他の実施形態に係る反射層を示す平面図である。本発明の他の実施形態に係る表示装置に関する説明の中で、本発明の一実施形態に係る表示装置の説明と重複する内容は、省略する。
【0103】
本発明の他の実施形態に係る反射層230は、第1の方向R1に沿って延長された第1の反射部231、および第2の方向に沿って延長された第2の反射部232を含む。
【0104】
反射層230は、可視光領域の光を反射させることができる金属材質を含む。例えば、反射層230は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、チタン(Ti)、およびクロム(Cr)からなる群から選択された少なくとも一つを含みうる。また、反射層230は、10nm以上ないし300nm以下の厚さtを有することができる。
【0105】
反射層230は、画素電極180の全部または一部と重畳される開口領域235を有し、開口領域235に形成された複数の開口235hを有する。
【0106】
図8を参照すると、本発明の他の実施形態に係る反射層230は、開口領域235に第1の方向R1に沿って長く延長された複数の開口235hを有する。
【0107】
開口235hは50nm以上ないし300nm以下の幅wを有することができ、隣接する開口235hは、10nm以上ないし100nm以下の間隔pを有することができる。
【0108】
本発明の他の一実施形態に係る反射層230は、開口領域235に一定の幅wと間隔pを有する複数の開口235hが形成されることにより、ワイヤーグリッドパターンが形成される。
【0109】
図9を参照すると、本発明の他の一実施形態に係る反射層230は、開口領域235に第1の方向R1と所定の角度を持って長く延長された複数の開口235hを有する。開口235hは、第1の方向R1と30度以上ないし60度以下の角度を有することができ、好ましくは、45度の角度を有することができる。
【0110】
開口235hは50nm以上ないし300nm以下の幅wを有することができ、隣接する開口235hは10nm以上ないし100nm以下の間隔pを有することができる。
【0111】
本発明の他の実施形態に係る反射層230は、開口領域235に一定の幅wと間隔pを有する複数の開口235hが形成されることにより、ワイヤーグリッドパターンが形成される。
【0112】
図10aは、本発明の一実施形態に係る表示装置を自動車のルームミラーに適用した活用例であり、
図10b〜
図10dは、
図10aの「a」、「b」、「c」の領域をそれぞれ拡大した部分拡大図である。
【0113】
図10aは、自動車のルームミラーの各領域に互いに異なる面積の開口領域を有する反射層が配置された具現例である。
【0114】
図10aないし
図10dを参照すると、本発明の一実施形態に係る自動車のルームミラー400は、中心部401、および中心部の両側の側面部402、403を含みうる。このような領域区分は、例示的なもので多様に変形できることは言うまでもない。
【0115】
中心部401および側面部402、403に配置される反射層230は、一体型に形成されることができ、反射層230は、領域ごとに互いに異なる面積を有する開口領域235を有することができる。反射層230は、開口領域235と同じ面積を有する1つの開口235hを有する。
【0116】
例えば、ルームミラーの中心部401に配置される反射層230の開口領域235aは、画素電極180の面積の約70%以上ないし80%以下の面積を有することができ、ルームミラーの側面部402、403に配置される反射層230の開口領域235b、235cは、画素電極180の面積の約80%以上ないし100%以下の面積を有することができる。
【0117】
ルームミラーの中心部401は、表示装置の反射機能が主な領域としてメインミラー機能を提供することができ、これに加えて、表示機能として警告灯表示機能、ナビゲーション情報、またはその他の有用な情報が表示されるようにすることができる。例えば、他の有用な情報は、車両の走行情報、リアカメラ情報、車線認識(lane detection)情報などがある。
【0118】
ルームミラーの側面部402、403は、表示装置の表示機能が主な領域としてナビゲーション情報、ナイトビジョン、車両の走行情報、リアカメラ情報、車線認識(lane detection)情報などが表示されるようにすることができる。
【0119】
図11aは、本発明の一実施形態に係る表示装置を自動車のサイドミラーに適用した活用例であり、
図11bないし
図11dは、
図11aの「a」、「b」、「c」の領域をそれぞれ拡大した部分拡大図である。
【0120】
図11aは、自動車のサイドミラーの各領域に互いに異なる面積の開口領域を有する反射層が配置された具現例である。
【0121】
図11aないし
図11dを参照すると、本発明の一実施形態に係る自動車のサイドミラー500は、車体を中心に内側上部501、内側下部502、および外側部503を含みうる。このような領域区分は、例示的なもので多様に変形できることは言うまでもない。
【0122】
内側上部501、内側下部502、および外側部503に配置される反射層230は、一体型に形成されることができ、反射層230は、領域ごとに互いに異なる面積を有する開口領域235を有することができる。反射層230は、開口領域235と同じ面積を有する1つの開口235hを有する。
【0123】
例えば、内側上部501に配置される反射層230の開口領域235aは、画素電極180の面積の約50%以上ないし70%未満の面積を有することができ、内側下部502に配置される反射層230の開口領域235bは、画素電極180の面積の約70%以上ないし80%未満の面積を有することができ、外側部503に配置される反射層230の開口領域235cは、画素電極180の面積の約70%以上ないし80%未満の面積を有することができる。
【0124】
内側上部501は、表示装置の反射機能が主な領域としてメインミラー機能を提供することができ、これに加えて、表示機能として警告灯表示機能を提供することができる。
【0125】
内側下部502は、表示装置の表示機能が主な領域として駐車線情報、およびその他の有用な情報が表示されるようにすることができる。例えば、他の有用な情報は、車両の走行情報、リアカメラ情報、車線認識(lane detection)情報などがある。
【0126】
外側部503は、表示装置の表示機能が主な領域としてナビゲーション情報、ナイトビジョン、車両の走行情報、リアカメラ情報、車線認識(lane detection)情報などが表示されるようにすることができる。
【0127】
以上、添付の図面を参照して、本発明の一実施形態を説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や本質的な特徴を変更せずに、他の具体的な形で実施されることができることを理解できるだろう。したがって、前述した一実施形態は、すべての面で例示的なものであり、限定的ではないものと理解しなければならない。