(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明では、同様な構成要素には同一の参照番号を付す。
【0009】
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態による圧力センサ100の概略斜視図である。
図2は、
図1のII-II線に沿う圧力センサ100の概略断面図である。
【0010】
図1及び
図2に示すように、本実施形態による圧力センサ100は、ハウジング1と、ダイヤフラム2と、第1受圧部3と、第2受圧部4と、ひずみゲージ5と、アンプユニット6と、を備え、気体や液体などの計測対象流体の圧力を検出する。
【0011】
ハウジング1は、軸方向一端側(図中上側)に開口部を有する筐体である。
【0012】
ダイヤフラム2は、ハウジング1の開口部を覆うように、ハウジング1に取り付けられる。ダイヤフラム2は、その表面に計測対象流体の圧力Pを受けて、軸方向他端側(図中下側)に変位する。
【0013】
第1受圧部3は、ハウジング1の軸方向に対して略平行に延びる物体であって、ダイヤフラム2が計測対象流体から圧力Pを受けたときに、ダイヤフラム2を介して計測対象流体によって押圧されて垂直ひずみが生じるように、ハウジング1の内部に収容される。
【0014】
第2受圧部4は、ハウジング1の軸方向に対して略平行に延びており、かつハウジング軸方向長さが第1受圧部3のハウジング軸方向長さよりも短い物体であって、ダイヤフラム2が計測対象流体から圧力Pを受けたときに、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α以上になってから、ダイヤフラム2を介して第1受圧部3と共に計測対象流体によって押圧されて垂直ひずみが生じるように、ハウジング1の内部に収容される。なお第2受圧部4の材質は、第1受圧部3の材質と同様である。
【0015】
本実施形態では、第1受圧部3の形状を円柱状とし、第2受圧部4の形状を中空円柱状として、第2受圧部4の中空部42内に第1受圧部3を収容しているが、第1受圧部3及び第2受圧部4の形状や配置方法はこのような実施形態に限られるものではない。例えば、第1受圧部3の形状を板状とし、第2受圧部4の形状を中空板状として本実施形態と同様に配置するようにしても良い。また例えば、第1受圧部3及び第2受圧部4の形状を板状として、それぞれを並べて配置するようにしても良い。
【0016】
ひずみゲージ5は、第1受圧部3に取り付けられて、第1受圧部3の垂直ひずみε1を検出する。ひずみゲージ5は、センサケーブル7を介してアンプユニット6に接続されており、垂直ひずみε1に応じた出力信号をアンプユニット6に入力する。
【0017】
アンプユニット6は、ひずみゲージ5の出力信号を増幅させるアンプや、アンプユニット6によって増幅させたひずみゲージ5の出力信号(すなわち垂直ひずみε1)に基づいて、測定対象流体の圧力Pを算出するためのCPU(マイクロプロセッサ)などを一体化したものである。
【0018】
このように本実施形態による圧力センサ100は、第1受圧部3の垂直ひずみε1に基づいて、ダイヤフラム2に作用する圧力、すなわち計測対象流体の圧力Pを検出するにあたって、まず第1受圧部3によって計測対象流体の圧力Pを受け止め、次に第1受圧部3と第2受圧部4とによって計測対象流体の圧力Pを受け止めることができるように構成される。以下、このように構成した理由について説明する。
【0019】
ダイヤフラム2に作用する圧力、すなわち計測対象流体の圧力をP、ダイヤフラム2と第1受圧部3との接触面31の面積(以下「第1接触面積」という。)をA1、第1受圧部3のヤング率をE1とすると、第1受圧部3の垂直ひずみε1は、下記式(1)の通り表すことができる。
【0021】
ここで、垂直ひずみε1が所定の降伏値ε1
yield以上になると、第1受圧部3が塑性変形してしまうため、圧力センサ100の計測レンジの上限値P
maxは、下記式(2)の通り表される降伏圧力P
yield未満にする必要がある。
【0022】
P
yield=ε1
yield・E1・A1 …(2)
【0023】
降伏値ε1
yield、及びヤング率E1は、第1受圧部3の材質等によって定まる所定値なので、圧力センサ100の計測レンジの上限値P
maxを高くするには、第1接触面積A1を大きくすれば良いことになる。
【0024】
しかしながら、第1接触面積A1を大きくすると、式(1)から明らかなように、計測対象流体の圧力Pに対する垂直ひずみε1の変化率が小さくなる。その結果、計測対象流体の圧力Pの変化に対する圧力センサ100の感度が低下してしまい、計測対象流体の圧力Pが低いときの圧力センサ100の計測精度が悪化することになる。このように、ひずみゲージ5を使用した圧力センサ100は、計測レンジの上限を高くすると、低圧域における計測精度が悪化するという問題がある。
【0025】
そこで本実施形態では、まず第1受圧部3によって計測対象流体の圧力Pを受け止め、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α以上になってから、第1受圧部3と第2受圧部4とによって計測対象流体の圧力Pを受け止めることができるように圧力センサ100を構成したのである。
【0026】
これにより、
図3に示すように、計測対象流体の圧力Pが高くなって第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α以上となった後は、ダイヤフラム2が第1受圧部3の接触面31と第2受圧部4の接触面41のそれぞれと接触することになる。そのため、ダイヤフラム2と第2受圧部4との接触面41の面積(以下「第2接触面積」という。)をA2とすると、垂直ひずみε1が所定値α以上となってからの第1受圧部3の垂直ひずみε1は、下記式(3)の通り表すことができる。
【0027】
ε1=α+P/{E1・(A1+A2)} …(3)
【0028】
このように、第1受圧部3と第2受圧部4とによって段階的に計測対象流体の圧力Pを受け止めるようにすることで、垂直ひずみε1が所定値α以上となってからは、第1接触面積A1が、第2接触面積A2の分だけ増加したものとみなすことができる。そのため、圧力センサ100の計測レンジの上限値P
maxを高くすることができる。一方で、垂直ひずみε1が所定値α未満の間は、ダイヤフラム2は第1受圧部3とだけ接触しているので、計測対象流体の圧力Pに対する垂直ひずみε1の変化率が低下することもない。
【0029】
したがって本実施形態による圧力センサ100によれば、低圧域における計測精度を維持しつつ、計測レンジの上限を高くすることができる。
【0030】
図4は、本実施形態による圧力センサ100のダイヤフラム2に作用する圧力、すなわち計測対象流体の圧力Pと、第1受圧部3に生じる垂直ひずみε1と、の関係を示す図である。
【0031】
図4に示すように、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α未満の領域(低圧域)では、ダイヤフラム2は第1受圧部3の接触面31とのみ接触しているので、計測対象流体の圧力Pに対する垂直ひずみε1の変化率が大きくなる。そのため、低圧域における計測精度を維持することができる。
【0032】
そして、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α以上の領域(中高圧域)では、ダイヤフラム2が第1受圧部3の接触面31と第2受圧部4の接触面41のそれぞれと接触することになるので、計測対象流体の圧力Pに対する垂直ひずみε1の変化率が小さくなり、その結果、垂直ひずみε1が降伏値ε1
yieldに至るまでにダイヤフラム2を介して第1受圧部3に作用させることのできる計測対象流体の圧力Pの上限が高くなる。そのため、圧力センサ100の計測レンジの上限を高くすることができる。なお中高圧域では、低圧域と比較して微小な圧力変動が起こることは少ないので、計測対象流体の圧力Pに対する垂直ひずみε1の変化率は小さくなるものの、計測精度に与える影響は少ない。
【0033】
図5は、アンプユニット6による本実施形態に係る計測対象流体の圧力Pの算出方法について説明するフローチャートである。
【0034】
ステップS1において、アンプユニット6は、ひずみゲージ5の出力信号、すなわち第1受圧部3の垂直ひずみε1を読み込む。
【0035】
ステップS2において、アンプユニット6は、予め作成された
図4と同様の関係を示す
図6のテーブルを参照し、第1受圧部3の垂直ひずみε1に基づいて、計測対象流体の圧力Pを算出する。
【0036】
以上説明した本実施形態による圧力センサ100は、圧力を受けて変位するダイヤフラム2と、ダイヤフラム2によって押圧されて垂直ひずみ(ひずみ)が生じる第1受圧部3と、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α以上になったときに、当該第1受圧部3と共にダイヤフラム2によって押圧されて垂直ひずみが生じる第2受圧部4と、第1受圧部3に取り付けられて当該第1受圧部3の垂直ひずみε1を検出する第1ひずみゲージ5と、第1受圧部3の垂直ひずみε1に基づいて、ダイヤフラム2に作用する圧力、すなわち計測対象流体の圧力Pを算出するアンプユニット6と、を備える。
【0037】
これにより、低圧域における計測精度を維持しつつ、計測レンジの上限を高くすることができる。
【0038】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態による圧力センサ100について説明する。本実施形態による圧力センサ100は、アンプユニット6による計測対象流体の圧力Pの算出方法が第1実施形態と相違する。以下、その相違点を中心に説明する。
【0039】
第1実施形態では、
図6のテーブルを作成するために、垂直ひずみε1と計測対象流体の圧力Pとの関係を予め実験等で求めておく必要があるので、工数が必要となって圧力センサ100が高価になるおそれがある。そこで本実施形態では、数式を用いて計測対象流体の圧力Pを算出する。
【0040】
図7は、本実施形態によるアンプユニット6の計測対象流体の圧力Pの算出方法について説明するフローチャートである。
【0041】
ステップS21において、アンプユニット6は、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値α以下か否かを判定する。アンプユニット6は、垂直ひずみε1が所定値α以下であれば、ステップS22の処理に進む。一方でアンプユニット6は、垂直ひずみε1が所定値αよりも大きければ、ステップS23の処理に進む。
【0042】
ステップS22において、アンプユニット6は、式(1)を変形した下記式(4)に基づいて、計測対象流体の圧力Pを算出する。
【0044】
ステップS23において、アンプユニット6は、式(3)を変形した下記式(5)に基づいて、計測対象流体の圧力Pを算出する。
【0045】
P=(ε1−α){E1・(A1+A2)} …(5)
【0046】
以上説明した本実施形態による圧力センサ100によれば、第1実施形態と同様の効果が得られるほか、工数を削減できるので、圧力センサ100を安価にすることができる。
【0047】
(第3実施形態)
次に、本発明の第2実施形態による圧力センサ100について説明する。本実施形態による圧力センサ100は、第1受圧部3に加えて第2受圧部4にもひずみゲージ5を取り付けた点が第1実施形態と相違すると共に、さらにアンプユニット6による計測対象流体の圧力Pの算出方法が第1実施形態と相違する。以下、その相違点を中心に説明する。
【0048】
なお以下の説明では、区別を容易にするため、第1受圧部3に取り付けられたひずみゲージのことを「第1ひずみゲージ」という。一方で第2受圧部4に取り付けられたひずみゲージのことを「第2ひずみゲージ」という。
【0049】
図8は、本発明の第2実施形態による圧力センサ100の概略斜視図である。
図9は、
図8のIX-IX線に沿う圧力センサ100の概略断面図である。
【0050】
図8、及び
図9に示すように、本実施形態による圧力センサ100は、第1実施形態において説明したハウジング1、ダイヤフラム2、第1受圧部3、第2受圧部4、第1ひずみゲージ5、及びアンプユニット6に加えて、第2ひずみゲージ8を備える。
【0051】
第2ひずみゲージ8は、第2受圧部4に取り付けられて、第2受圧部4の垂直ひずみε2を検出する。第2ひずみゲージ8は、センサケーブルを介してアンプユニット6に接続されており、垂直ひずみε2に応じた出力信号をアンプユニット6に入力する。
【0052】
ところで、第1受圧部3の製造誤差や経時劣化等によって、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値αになっても、ダイヤフラム2が第2受圧部4と接触しなくなるおそれがある。また逆に、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値αになる前に、すでにダイヤフラム2が第2受圧部4と接触してしまうおそれもある。
【0053】
このような状況になると、前述した第1実施形態や第2実施形態による計測対象流体の圧力Pの算出方法では、垂直ひずみε1が所定値α近傍の値を取る領域において、計測対象流体の圧力Pの計測精度が低下することになる。
【0054】
そこで本実施形態では、第2受圧部4に第2ひずみゲージ8を取り付けたのである。第2受圧部4に第2ひずみゲージ8を取り付けることで、第2受圧部4にひずみが生じた時点を知ることができる。すなわち、ダイヤフラム2が第2受圧部4と接触して、第2受圧部4がダイヤフラム2を介して計測対象流体によって押圧され始めた時点を知ることができる。
【0055】
そのため前述した第2実施形態において、第2受圧部4にひずみが生じた時点で計測対象流体の圧力Pの算出式を変更するようにすれば、垂直ひずみε1が所定値α近傍の値を取る領域における計測対象流体の圧力Pの計測精度の低下を抑制することができる。
【0056】
図10は、本実施形態によるアンプユニット6の計測対象流体の圧力Pの算出方法について説明するフローチャートである。
【0057】
ステップS31において、アンプユニット6は、第2ひずみゲージ8の出力信号、すなわち第2受圧部4の垂直ひずみε2を読み込む。
【0058】
ステップS32において、アンプユニット6は、第2受圧部4の垂直ひずみε2がゼロより大きいか否か、すなわちダイヤフラム2が第2受圧部4と接触して、第2受圧部4がダイヤフラム2を介して計測対象流体によって押圧され始めたか否かを判定する。アンプユニット6は、第2受圧部4の垂直ひずみε2がゼロであれば、ステップS22の処理に進む。一方でアンプユニット6は、垂直ひずみε1が所定値αよりも大きければ、ステップS23の処理に進む。
【0059】
以上説明した本実施形態による圧力センサ100は、第2受圧部4に取り付けられて当該第2受圧部4の垂直ひずみε2(ひずみ)を検出する第2ひずみゲージ8をさらに備え、アンプユニット6は、第2受圧部4の垂直ひずみε2に基づいて、ダイヤフラム2に作用する圧力、すなわち計測対象流体の圧力Pの計算方法を変更するように構成されている。
【0060】
これにより、前述した第1実施形態、及び第2実施形態と同様の効果が得られるほか、第1受圧部3の製造誤差や経時劣化等によって、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値αになっても、ダイヤフラム2が第2受圧部4と接触しなくなったり、また逆に、第1受圧部3の垂直ひずみε1が所定値αになる前に、すでにダイヤフラム2が第2受圧部4と接触するようになったりしたとしても、計測対象流体の圧力Pを精度良く測定することができる。
【0061】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。
【0062】
例えば上記の各実施形態では、第1受圧部3、及び第2受圧部4の2つの受圧部を備えていたが、第2受圧部4の後に計測対象流体の圧力Pを受ける受圧部をさらに設けるようにしても良い。すなわち段階的に圧力を受ける受圧部を3つ以上設けるようにしても良い。