特許 6795756 アイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6795756

(24)【登録日】2020年11月17日

(45)【発行日】2020年12月2日

(54)【発明の名称】アイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法

(51)【国際特許分類】

   A61L 2/20 20060101AFI20201119BHJP

   F24F 7/007 20060101ALI20201119BHJP

   F24F 7/06 20060101ALI20201119BHJP

   A61L 101/22 20060101ALN20201119BHJP

【ＦＩ】

   A61L2/20 106

   F24F7/007 B

   F24F7/06 C

   A61L101:22

【請求項の数】8

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2016-150777(P2016-150777)

(22)【出願日】2016年7月29日

(65)【公開番号】特開2018-15479(P2018-15479A)

(43)【公開日】2018年2月1日

【審査請求日】2019年6月28日

(73)【特許権者】

【識別番号】000253019

【氏名又は名称】澁谷工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100082108

【弁理士】

【氏名又は名称】神崎 真一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100156199

【弁理士】

【氏名又は名称】神崎 真

(72)【発明者】

【氏名】渡辺 壮馬

(72)【発明者】

【氏名】鴻渡 亮治

【審査官】 柴田 啓二

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００１−２１２２１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０５１３５１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−２１２１９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００１−５２６９４０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ６１Ｌ ２／２０

Ｆ２４Ｆ ７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

無菌状態に維持される作業室と、該作業室内に過酸化水素水から生成される除染ガスを供給して作業室内を除染する除染ガス供給手段と、上記作業室内にエアを供給して作業室内の除染剤成分を除去するエアレーションを行うエアレーション手段とを備えたアイソレータシステムにおいて、
上記作業室内のエアの温度を上昇させる加温手段と、該加温手段の作動を制御する制御手段とを設け、該制御手段はエアレーション中に、上記作業室内のエアの温度を上昇させてエアレーションを行う第１エアレーション工程と、第１エアレーション工程で上昇された作業室内のエアの温度よりも低い温度でエアレーションを行う第２エアレーション工程とを実行することを特徴とするアイソレータシステム。

【請求項2】

上記制御手段は、上記第１エアレーション工程を開始してから所定時間経過したら、上記第２エアレーション工程を実行することを特徴とする請求項１に記載のアイソレータシステム。

【請求項3】

上記除染剤成分の濃度を検出する濃度検出手段を設け、上記制御手段は、上記第１エアレーション工程を開始してから上記濃度検出手段によって検出された濃度が所定値以下となったら、上記第２エアレーション工程を実行することを特徴とする請求項１に記載のアイソレータシステム。

【請求項4】

上記加温手段は、外気を上記作業室内に供給する給気手段と、上記作業室に連設された入り口室と、上記作業室内との少なくともいずれか１つ以上に設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のアイソレータシステム。

【請求項5】

上記作業室は、アイソレータ内の作業室又はアイソレータに開閉扉を介して連設されたパスボックス内の作業室であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のアイソレータシステム。

【請求項6】

無菌状態に維持される作業室内に過酸化水素水から生成される除染ガスを供給した後、該作業室内をエアレーションして除染剤成分を除去するようにしたアイソレータシステムのエアレーション方法において、
上記作業室内をエアレーションするエアレーション工程は、上記作業室内の温度を上昇させてエアレーションを行う第１エアレーション工程と、該第１エアレーション工程の後に、該第１エアレーション工程で上昇させた作業室内の温度よりも低い温度でエアレーションを行う第２エアレーション工程とを有することを特徴とするアイソレータのエアレーション方法。

【請求項7】

上記第１エアレーション工程により上記作業室内の除染剤成分の濃度が１．５ｐｐｍ以下となったら、上記第２エアレーション工程が実行されることを特徴とする請求項６に記載のエアレーション方法。

【請求項8】

上記第２エアレーション工程は、上記作業室内の除染剤成分の濃度が少なくとも０.１ｐｐｍとなるまで継続されることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のエアレーション方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、アイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法に関し、より詳しくは、エアレーションに要する時間を短縮することが可能なアイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、アイソレータシステムは、無菌状態に維持される作業室と、該作業室内に過酸化水素水から生成される除染ガスを供給して作業室内を除染する除染ガス供給手段と、上記作業室内にエアを供給して作業室内の除染剤成分を除去するエアレーションを行うエアレーション手段とを備えている（特許文献１）。
上記作業室内を無菌状態とするには、先ず上記除染ガス供給手段から作業室内に除染ガスを供給して該作業室内を除染する。これによって作業室内を除染したら、次に上記エアレーション手段から作業室内にエアを供給してエアレーションを行い、これによって作業室内の除染剤成分を除去して作業室内を無菌状態とする。
そして上記作業室内の除染時、エアレーション時および作業時を通して、常に作業室内を陽圧に維持するように管理して、周囲環境の雑菌や微生物が作業室内に流入することを阻止するようにしている。
上記特許文献１のエアレーション手段は、上記作業室内に供給するエアの温度を制御する空調機を備えており、エアレーションを開始することにより作業室内における除染剤成分の濃度が低下し始めてから一定時間が経過した後に、より高い温度の清浄なエアを作業室内に供給することにより、従来に比較してエアレーションに要する時間を短縮できるようにしている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１４−３３７５３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

従来からアイソレータシステムにおいては、作業室における無菌状態での作業時間をできるだけ長くするために、常にエアレーションに要する時間の一層の短縮化が求められている。
特に再生医療におけるアイソレータの使用では、作業室内で生きた細胞を取り扱うため、エアレーションにより除染剤成分の濃度を０．１ｐｐｍ以下という極めて低い値まで低下させることが要求される。また、再生医療の作業においては、由来の異なる細胞や組織を扱う場合に、細胞間のクロスコンタミネーションを防止するために作業室を除染するが、多くの細胞や組織を処理するためには、除染やエアレーションに要する時間を短縮する必要がある。
従来の常温(環境温度)のエアを供給するエアレーションでは、通常の１ｐｐｍ程度まで低下させるために１〜２時間を要し、０．１ｐｐｍに到達させるには数時間から十数時間を要する。これに対し、特許文献１のように高い温度のエアを供給する場合は、１時間程度で１ｐｐｍまで低下させることができるが、０．１ｐｐｍに到達させるにはさらに数時間もの時間を要する。
作業室に供給された除染ガスは、露出されている全ての面やＨＥＰＡフィル夕、グローブ等に付着し、それらの素材に浸透する。ＨＥＰＡフィルタのろ紙やグローブ等の樹脂部分は除染剤成分が浸透(吸着)しやすく、浸透した除染剤成分は徐々に脱離(脱着)して、作業室内に放出される。このように放出される除染剤成分に対し、エアレーションによる換気により作業室内の濃度上昇は抑えられるが、放出が続く限り除染剤成分は検出されるため、０．１ｐｐｍといった極めて低い値にまで濃度を低下させるには、素材に残留する除染剤成分を出し切る必要がある。
特許文献１のように供給するエアの温度を高めることで脱着が促進され、放出するスピードは早められるものの、０．１ｐｐｍ以下になるまで除染剤成分を出し切ろうとすると、数時間以上の時間が必要であった。
本発明はそのような事情に鑑み、従来に比較してエアレーションに要する時間をより短縮化することが可能なアイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法とを提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0005】

請求項１に係るアイソレータシステムは、無菌状態に維持される作業室と、該作業室内に過酸化水素水から生成される除染ガスを供給して作業室内を除染する除染ガス供給手段と、上記作業室内にエアを供給して作業室内の除染剤成分を除去するエアレーションを行うエアレーション手段とを備えたアイソレータシステムにおいて、
上記作業室内のエアの温度を上昇させる加温手段と、該加温手段の作動を制御する制御手段とを設け、該制御手段はエアレーション中に、上記作業室内のエアの温度を上昇させてエアレーションを行う第１エアレーション工程と、第１エアレーション工程で上昇された作業室内のエアの温度よりも低い温度でエアレーションを行う第２エアレーション工程とを実行することを特徴とするものである。
また請求項６に係るアイソレータのエアレーション方法は、無菌状態に維持される作業室内に過酸化水素水から生成される除染ガスを供給した後、該作業室内をエアレーションして除染剤成分を除去するようにしたアイソレータシステムのエアレーション方法において、
上記作業室内をエアレーションするエアレーション工程は、上記作業室内の温度を上昇させてエアレーションを行う第１エアレーション工程と、該第１エアレーション工程の後に、該第１エアレーション工程で上昇させた作業室内の温度よりも低い温度でエアレーションを行う第２エアレーション工程とを有することを特徴とするものである。

【発明の効果】

【0006】

本発明によれば、第１エアレーション工程で作業室内の温度を上昇させて、作業室内に露出する素材に吸着された除染剤成分の脱着を促進させる。そして第２エアレーション工程により作業室内の温度を低下させて、除染剤成分の脱着を抑制し作業室内への放出を阻止する。
このように作業室内の温度を上昇させる第１エアレーション工程を行い、第２エアレーション工程で上昇された温度を低下させると、素材に吸着された除染剤成分が速やかに脱着された後に放出が阻止され、作業室内の除染剤成分の残留濃度を短時間で極めて低い値まで低下させることができ、エアレーションに要する時間を短縮化することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本発明の実施例を示す回路図。

【図2】本発明のエアレーション方法における第１の実験例を示す実験結果図。

【図3】本発明のエアレーション方法における第２の実験例を示す実験結果図。

【図4】本発明のエアレーション方法における第３の実験例を示す実験結果図。

【図5】本発明に対する第１の比較例としてのエアレーション方法の実験結果図。

【図6】本発明に対する第２の比較例としてのエアレーション方法の実験結果図。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下図示実施例について本発明を説明すると、図１において、アイソレータシステム１は、内部の作業室が無菌状態に維持されるアイソレータ２と、該アイソレータ２の壁面に連設されて内部の作業室が無菌状態に維持されるパスボックス３とを備えている。
上記アイソレータ２の内部とパスボックス３の内部とを区画する壁面４およびそれと対向するパスボックス３の壁面５に開閉扉６、７を開閉自在に設けている。この開閉扉６、７を閉鎖した際には、アイソレータ２の内部とパスボックス３の内部は、それぞれ気密を保持して外部から隔離されるようになっている。

【0009】

上記アイソレータシステム１は、上記アイソレータ２およびパスボックス３のそれぞれの内部に除染ガスを供給して各内部を除染する除染ガス供給手段１１を備えている。
上記除染ガス供給手段１１は、除染ガスを生成するための除染ガス生成手段１２を備えており、該除染ガス生成手段１２は、本実施例では過酸化水素水を貯溜した容器１３と、過酸化水素水を加熱して蒸発させる蒸発器１４と、上記容器１３内の過酸化水素水を所要量ずつ徐々に蒸発器１４内に供給し滴下させて所要の濃度の除染ガスを生成させるポンプ１５とを備えている。
上記除染ガス生成手段１２の蒸発器１４で生成された除染ガスは、該蒸発器１４と上記アイソレータ２内部の作業室とを接続する第１供給通路１８を介してアイソレータ２内に供給することができるようになっている。
また上記蒸発器１４は第２供給通路１９を介してパスボックス３内部の作業室に接続されており、蒸発器１４で生成された除染ガスは、第２供給通路１９を介してパスボックス３内に供給されるようになっている。

【0010】

図示実施例では、上記アイソレータ２の内部に連通する第１供給通路１８は配管２１、２２によって構成してあり、配管２２の途中に開閉弁２３を設けてある。上記配管２２はアイソレータ２に設けた入り口室２４に接続しており、上記第１供給通路１８は入り口室２４内に設けたＨＥＰＡフィルタ２５を介してアイソレータ２の内部に連通するようになっている。
また上記入り口室２４内には複数のファン２６を設けるとともに、アイソレータ２内の上方に整流用のメッシュスクリーン２７を設けてあり、上記第１供給通路１８を介して入り口室２４内に供給された除染ガスをラミナーフローとしてアイソレータ２内の下部に向けて流動させることができるようにしている。
さらに、上記パスボックス３内部の作業室に連通する第２供給通路１９は上記配管２１と配管３１とによって構成してあり、配管３１の途中に開閉弁３２を設けてある。上記配管３１はパスボックス３に設けた入り口室３３に接続しており、上記第２供給通路１９は入り口室３３内に設けたＨＥＰＡフィルタ３４を介してパスボックス３の内部に連通するようになっている。上記入り口室３３にもファン３５を設けてある。
上記構成により、上記開閉弁２３、３２の一方又は双方を開閉することによって、蒸発器１４で生成された除染ガスをアイソレータ２とパスボックス３のそれぞれに別個に又は同時に供給することができるようにしてある。

【0011】

上記アイソレータ２内部の作業室は第１循環通路３８を介して上記除染ガス生成手段１２の蒸発器１４に連通させてあり、上記第１供給通路１８を介してアイソレータ２内に供給された除染ガスを第１循環通路３８を介して上記除染ガス生成手段１２の蒸発器１４に循環させることができるようにしてある。
同様に、上記パスボックス３内部の作業室は第２循環通路３９を介して上記蒸発器１４に連通させてあり、上記第２供給通路１９を介してパスボックス３内に供給された除染ガスを第２循環通路３９を介して上記蒸発器１４に循環させることができるようにしてある。

【0012】

図示実施例では、上記アイソレータ２の内部に連通する第１循環通路３８は配管４１、４２によって構成してあり、配管４２の途中に開閉弁４３を設けるとともに、蒸発器１４の隣接位置に除染ガスを送気するためのブロアなどの送風手段４４を設けてある。上記配管４１はアイソレータ２に設けた出口室４５に接続してあり、上記第１循環通路３８は出口室４５内に設けたＨＥＰＡフィルタ４６を介してアイソレータ２の内部に連通するようになっている。
また、上記パスボックス３に連通する第２循環通路３９は配管４８、４９と上記配管４２とによって構成してあり、配管４９の途中に開閉弁５０を設けてある。上記配管４８はパスボックス３内に設けたＨＥＰＡフィルタ５１を介してパスボックス３の内部に連通するようになっている。

【0013】

次に、上記アイソレータ２およびパスボックス３の各内部に残留した除染ガスを排除するエアレーション手段は、上記アイソレータ２内のエアレーションを行う第１エアレーション手段５５と、パスボックス３内のエアレーションを行う第２エアレーション手段５６とを備えている。
上記第１エアレーション手段５５は、外気を上記アイソレータ２内に供給する給気手段５５Ａと、アイソレータ２内の気体を外部に排出する掃気手段５５Ｂとを備えている。
上記給気手段５５Ａは、上記アイソレータ２の入り口室２４に接続して外部に連通させた配管５８と、該配管５８に外気側から順次設けたヒータ５９、ブロワ６０および流量調整機能付き開閉弁６１とを備えており、開閉弁６１を開いてブロワ６０を作動させた際には、外気をヒータ５９、ブロワ６０、開閉弁６１および配管５８を介して入り口室２４に供給し、さらに入り口室２４内のＨＥＰＡフィルタ２５を介してアイソレータ２内に供給することができるようにしてある。
また上記掃気手段５５Ｂは、上記アイソレータ２の出口室４５に接続されて外気に連通させた上記配管４１と、該配管４１に入り口室４５側から順次設けた流量調整機能付き開閉弁６２、ブロワ６３および触媒６４とを備えており、開閉弁６２を開いてブロワ６３を作動させた際には、アイソレータ２内の気体を、ＨＥＰＡフィルタ４６、出口室４５、配管４１、開閉弁６２、ブロワ６３および触媒６４を介して外部に排出することができるようにしてある。上記触媒６４は、除染ガスである過酸化水素成分を捕捉して分解するものである。

【0014】

上記パスボックス３の作業室内のエアレーションを行う第２エアレーション手段５６は、外気を上記パスボックス３内に供給する給気手段５６Ａと、パスボックス３内の気体を外部に排出する掃気手段５６Ｂとを備えている。
上記給気手段５６Ａと掃気手段５６Ｂは、第１エアレーション手段５５の給気手段５５Ａと掃気手段５５Ｂと同様に構成してあるが、給気手段５５Ａのブロア６０の代わりに入り口室２４内に設けた小送風量の上記ファン３５を利用するようにしてあり、また掃気手段５５Ｂのブロアに相当する手段を省略するとともに、パスボックス３に接続した配管４１を外気に連通させている。
その他の構成は、上記給気手段５５Ａと掃気手段５５Ｂと同様に構成してあり、同一又は相当する構成部材には、給気手段５５Ａと掃気手段５５Ｂとに用いた符号に「’」を付して示してある。

【0015】

上記各エアレーション手段５５、５６は、各給気通路５５Ａ、５６Ａにそれぞれ外気を加温する上述のヒータ５９、５９’を備えているが、特に容積の大きなアイソレータ２内のエアレーション用エアを加温するために、アイソレータ２の入り口室２４内とアイソレータ２の作業室内にそれぞれヒータ６６、６７を設けてある。
上記各ヒータ５９、５９’、６６、６７は制御手段６８によって制御されるようになっており、該制御手段６８は、以下に詳述するように、タイマー６９を利用して、エアレーション中にエアの温度を上昇させる第１エアレーション工程を実行した後、所定時間経過後に、上記第１エアレーション工程で上昇されたエアの温度を低下させる第２エアレーション工程を実行することができるようになっている。
なお、上記制御手段６８は上記各ヒータを制御するだけではなく、アイソレータシステム１の運転全体を制御することができるようになっていることは勿論である。

【0016】

以上の構成において、上記アイソレータ２内の作業室とパスボックス３内の作業室とを同時に除染する場合には、パスボックス３の外部に連通される開閉扉７を閉じ、開閉扉６を開放して、アイソレータ２内とパスボックス３内とを相互に連通させる。
この状態において、上記制御手段６８に除染開始の指令が与えられると、該制御手段６８は除染ガス供給手段１１に連通する第１供給通路１８の開閉弁２３と第２供給通路１９の開閉弁３２とを開放するとともに、第１循環通路３８の開閉弁４３と第２循環通路３９の開閉弁５０を開放する。他方、第１エアレーション手段５５と第２エアレーション手段５６の各給気手段５５Ａ、５６Ａの開閉弁６１、６１’が閉鎖されるとともに、各掃気手段５５Ｂ、５６Ｂの開閉弁６２、６２’も閉鎖される。

【0017】

この状態で送風手段４４が起動されるとともに、除染ガス供給手段１１のポンプ１５が起動されて容器１３内の過酸化水素水が蒸発器１４に供給滴下されて蒸発されると、該蒸発器１４で除染ガスとして過酸化水素蒸気が生成され、該除染ガスは第１供給通路１８を介してアイソレータ２内に供給される。
そして上記アイソレータ２内に供給された除染ガスは、第１循環通路３８を介して上記除染ガス供給手段１１の蒸発器１４に還流され、該蒸発器１４で新たに生成された除染ガスと共に再びアイソレータ２内に供給される。このようにして除染ガスがアイソレータ２内に循環供給されて、アイソレータ２の作業室内の除染が実行される。
他方、上記蒸発器１４で生成された除染ガスは、第２供給通路１９を介してパスボックス３内に供給されるとともに、第２循環通路３９を介して上記蒸発器１４に還流され、該蒸発器１４で新たに生成された除染ガスと共に再びパスボックス３内に供給される。このようにして除染ガスがパスボックス３内に循環供給されて、パスボックス３の作業室内の除染が実行される。
上述の除染工程は、除染ガスを供給する供給工程と、予め設定した量の過酸化水素水を供給したらポンプ１５の送液と蒸発器１４の加熱とを停止し、送風手段４４による送風は維持して作業室内に供給した除染ガスを循環させる保持工程とを有している。

【0018】

上記アイソレータ２およびパスボックス３内の除染が終了したら、上記ポンプ１５の送液と蒸発器１４の加熱とが停止された状態で、上記第１、第２エアレーション手段５５、５６が作動されて各部のエアレーションが行われるようになる。
上記制御手段６８は、エアレーションを実行する際には、先ず上記アイソレータ２やパスボックス３内の作業室内の温度を上昇させてエアレーションを行う第１エアレーション工程を実行する。
上記第１エアレーション工程では、ヒータ５９、５９’、６６、６７が通電されて作動され、エアレーション用のエアを加温する。上記アイソレータ２およびパスボックス３内の除染が終了した時点では、各作業室内の温度は２５〜３０℃程度の温度となっており、上記各ヒータの制御は、アイソレータ２やパスボックス３内の温度がそれぞれ４０〜５０℃となるような制御が望ましい。上記アイソレータ２やパスボックス３内の温度は高いほど除染剤成分の脱着が促進されるが、その後、各作業室内を常温（環境温度）まで短時間で低下させるには、加熱温度を５０℃程度までに抑えた方が時間的効率が良好となる。

【0019】

そして上記第１エアレーション手段５５が作動されると、開閉弁６１、６２が大開度で開放されるとともに、ブロワ６０、６３が起動され、外気が給気手段５５Ａの配管５８を介してアイソレータ２内に供給されるとともに、該アイソレータ２内に残留していた除染ガスは掃気手段５５Ｂの配管４１を介して外部に排出される。これによりアイソレータ２内のエアレーションが実行されて、加熱されたエアレーション用エアにより除染剤成分の濃度が徐々に低下する。
他方、第２エアレーション手段５６が作動されると、開閉弁６１’、６２’が大開度で開放され、外気が給気手段５６Ａの配管５８’を介してパスボックス３内に供給されるとともに、該パスボックス３内に残留していた除染ガスは掃気手段５６Ｂの配管４８を介して外部に排出される。これによりパスボックス３内のエアレーションが実行されて、加熱されたエアレーション用エアにより除染剤成分の濃度が徐々に低下する。

【0020】

上記第１、第２エアレーション手段５５、５６が作動された際には、上述したように除染ガス供給手段１１のポンプ１５が停止されるので、過酸化水素水が蒸発器１４に供給されて除染ガスが生成されることはないが、送風手段４４は継続されて運転されている。
すると、上述したように第１、第２エアレーション手段５５、５６の作動によりアイソレータ２内やパスボックス３内の除染剤成分の濃度が低下するので、濃度の低下した除染ガスが第１、第２循環通路３８、３９および第１、第２供給通路１８、１９を介して除染ガス供給手段１１内で循環されるようになる。これにより、除染ガス供給手段１１を構成する蒸発器１４や上記第１、第２循環通路３８、３９や第１、第２供給通路１８、１９内に残留する除染剤成分の濃度も低下して、除染ガス供給手段１１のエアレーションが行われる。

【0021】

上記制御手段６８は、第１エアレーション工程を開始するのと同時にタイマー６９を作動させて、第１エアレーション工程の実行時間をカウントする。
そして第１エアレーション工程を開始してから所要時間が経過したことをタイマー６９によって確認すると、制御手段６８は、全てのヒータ５９、５９’、６６、６７の作動を停止させることにより、第１エアレーション工程の各ヒータ５９、５９’、６６、６７によって上昇されたエアの温度を、外部の雰囲気温度（常温）によって低下させる第２エアレーション工程を実行する。その後、第２エアレーション工程を開始してから所定時間が経過すれば、エアレーション作業を終了する。
上記タイマー６９の設定時間は、予め、素材の除染剤成分の残留量を示す濃度が、高温では除染剤成分の脱着が続くが常温では脱着されなくなるような濃度となるまで低下する時間を計測することによって、設定してある。
また上記外部の雰囲気温度（常温）は、アイソレータシステム１を設置する施設の環境温度であって、空調により概ね２０〜３０℃範囲に設定されており、したがって上記第２エアレーション工程におけるエアレーション用エアの温度は、２０〜３０℃（常温）の範囲であればよい。

【0022】

上記制御手段６８はエアレーション作業が終了したら、給気手段５５Ａ、５６Ａの開閉弁６１、６２と掃気手段５５Ｂ、５６Ｂの開閉弁６１’、６２’の開度をそれぞれ適切な開度に調節する。これにより、ブロワ６０とファン３５から供給される外気によりアイソレータ２の作業室内の圧力とパスボックス３の作業室内の圧力とが外圧に対して陽圧に維持されるようになる。
この陽圧は、上記アイソレータ２とパスボックス３の使用中だけではなく、除染工程やエアレーション工程を含めて常時陽圧となるように管理されている。なお、上記開閉弁６１、６２、６１’、６２’の開度の調整によって陽圧を得るだけではなく、上記ブロワ６０やファン３５の風量を調整することによって得るようにしてもよい。

【0023】

本実施例では、上述したようにエアレーションを第１エアレーション工程と第２エアレーション工程とによって実行しているので、いずれか一方だけのエアレーション工程だけでエアレーションを実行する場合に比較して、エアレーションに要する時間を短縮することができる。
図５はエアレーションを第１エアレーション工程だけで、つまりエアレーション用のエアの温度を常に４０〜５０℃に上昇させた状態でエアレーションを行った場合の実験結果を示した図である。
同図において、曲線Ａは温度（℃）を、曲線Ｂは除染剤成分の濃度（ｐｐｍ）を示している。同図から理解されるように、エアレーションの開始から時間が経過するにつれて除染剤成分の濃度は低下するが、１２０分経過しても０．４ｐｐｍの濃度があり、その後の濃度の低下は極めて緩慢で、要求される０．１ｐｐｍの濃度を得るには極めて長い時間が必要となる。
他方、図６はエアレーションを第２エアレーション工程だけで、つまりエアレーション用のエアの温度を常に２５℃前後の常温（アイソレータシステム１の外気温度）に維持した状態でエアレーションを行った場合の実験結果を示した図である。
同図においても、エアレーションの開始から時間が経過するにつれて除染剤成分の濃度は低下するが、１０５分経過しても０．４ｐｐｍの濃度があり、その後の濃度の低下は極めて緩慢で、２７０分が経過しても０．２ｐｐｍの濃度があった。このように常温のエアでエアレーションを行って、要求される０．１ｐｐｍの濃度を得るには極めて長い時間が必要となる。

【0024】

図５、図６に対し、図２〜図４はエアレーションを第１エアレーション工程と第２エアレーション工程とによって実行したもので、図３、図４、図５はそれぞれ第１エアレーション工程によるエアの加温時間を３０分、４５分、６０分としたものである。
図２の場合においては、第１エアレーション工程によるエアの加熱温度は４０〜４３℃程度であり、その後の第２エアレーション工程によるヒータの通電停止によりエアの温度は急速に低下してから徐々に常温となる。そして図２の場合、４５分後に除染剤成分の濃度は０．３ｐｐｍまで低下し、その後６０分〜９０分の間は０．２ｐｐｍを維持したが、１０５分後には要求される０．１ｐｐｍの濃度まで低下した。
図３の場合、第１エアレーション工程によるエアの加熱温度は４２〜４７℃程度であり、その後の第２エアレーション工程によるヒータの通電停止によりエアの温度は急速に低下してから徐々に常温となる。そして図３の場合、６０分後に除染剤成分の濃度は要求される０．１ｐｐｍまで低下し、その後も継続して７５分まで０．１ｐｐｍを維持した。
図４の場合、第１エアレーション工程によるエアの加熱温度は４２〜４７℃程度であり、その後の第２エアレーション工程によるヒータの通電停止によりエアの温度は急速に低下してから徐々に常温となる。そして図４の場合、７５分後に除染剤成分の濃度は要求される０．１ｐｐｍまで低下し、その後も継続して９０分まで０．１ｐｐｍを維持した。
上記第２エアレーション工程は、いずれも作業室内の除染剤成分の濃度が０.１ｐｐｍとなるまで継続されて実行されており、また第２エアレーション工程を終了してエアレーション作業を完了した後に、除染剤成分の濃度が上昇することはなかった。
このように、本実施例においては、エアの温度を一定にしてエアレーション作業を実行した図５、図６の場合に比較して、極めて短時間でエアレーション作業を完了することができた。
なお、本実施例では濃度が０．１ｐｐｍまで低下することでエアレーション作業を終了しているが、さらに、０．１ｐｐｍを下回るまで継続するようにしてもよい。

【0025】

ところで、上記アイソレータ２を使用中に、例えば細胞を扱うための器具や容器等をアイソレータ２内に搬入する際には、開閉扉６を閉じた状態でパスボックス３の開閉扉７を開放し、上記器具や容器等をパスボックス３内に搬入すればよい。
そして器具や容器等をパスボックス３内に搬入して開閉扉７を閉鎖したら、上記第２供給通路１９と第２循環通路３９とを開放し、この状態で除染ガス供給手段１１を起動する。これにより除染ガス供給手段１１で生成した除染ガスを第２供給通路１９、パスボックス３、第２循環通路３９および除染ガス供給手段１１間で循環させて、パスボックス３の作業室内および上記器具や容器等の外表面を除染することができる。
上記パスボックス３の作業室内および器具や容器等の外表面を除染したら、除染ガス供給手段１１のポンプ１５を停止させて蒸発器１４の加熱を停止した状態で、気体を第２供給通路１９、パスボックス３および第２循環通路３９との間で循環させながら、第２エアレーション手段５６を作動させる。

【0026】

上記第２エアレーション手段５６が作動されると、開閉弁６１’、６２’が開放されるので外気が給気手段５６Ａを介してパスボックス３内に供給されるとともに、該パスボックス３内に残留していた除染ガスは掃気手段５６Ｂを介して外部に排出される。これによりパスボックス３内のエアレーションが実行されるとともに、除染ガス供給手段１１のエアレーションも実行される。
このエアレーションの際においても、上記制御手段６８によりヒータ５９’の制御が行われて上記第１エアレーション工程と第２エアレーション工程のエアレーションが実行される。
この後、上記エアレーションが終了したら、第２エアレーション手段５６の開閉弁６１’、６２’の開度がそれぞれ適切な開度に調節され、ファン３５から供給される外気によりパスボックス３内の圧力が陽圧に維持される。
そしてこの状態となったら、上記開閉扉６を開放して、パスボックス３内の上記器具や容器等をアイソレータ２内に搬入することができる。

【0027】

ところで上記実施例では、タイマー６９により第１エアレーション工程を開始してから所要時間経過後に第２エアレーション工程に移行するようにしているが、タイマー６９の代わりに、図１の想像線で示すように、掃気手段５５Ｂの配管４１に、触媒６４よりも上流側位置に上記除染剤成分の濃度を検出する濃度検出手段７０を設け、該濃度検出手段７０で検出される濃度に基づいて上記第１エアレーション工程から第２エアレーション工程に移行するようにしてもよい。この濃度検出手段７０は、配管４１に設けることに限定されるわけではなく、除染剤成分の濃度を検出することができればどこであってもよい。
ところで、図２の第１エアレーション工程が終了する３０分後の濃度は１．６ｐｐｍ、図３の第１エアレーション工程が終了する４５分後の濃度は１．２ｐｐｍ、図４の第１エアレーション工程が終了する６０分後の濃度は０．９ｐｐｍとなっており、第２エアレーション工程を開始する際の濃度が１．６ｐｐｍの場合には、その後に濃度が０．１ｐｐｍまで低下するのに、他の図３、図４の場合に比較して時間が掛かることになる。
他方、図３、図４の比較では、濃度が０．９ｐｐｍまで低下するのを待って（６０分経過するのを待って）第２エアレーション工程を開始しても、濃度が１．２ｐｐｍとなった４５分という短時間の後に、直ちに第２エアレーション工程を開始しても、その後に濃度が０．１ｐｐｍまで低下する時間は同一となっている。
このような点を総合的に勘案すると、濃度検出手段７０で検出される濃度が１．５ｐｐｍから０．５ｐｐｍの範囲となったら第２エアレーション工程を開始することが望ましく、より望ましくは濃度が１．２ｐｐｍから０．８ｐｐｍの範囲となったら第２エアレーション工程を開始することがより効果的である。
また、上記タイマー６９により第２エアレーション工程を開始するよう制御する場合にも、これらの濃度範囲となる時間に基づいて時間設定を行うことができる。

【0028】

なお上記実施例では、ヒータ５９、５９’を給気手段５５Ａ、５６Ａに、ヒータ６６を上記アイソレータ２の作業室に連設された入り口室２４内に、さらにヒータ６７をアイソレータ２の作業室内に設けているが、これに限定されるものではなく適宜の箇所に設ければよい。また上記作業室内のエアの温度を上昇させる加温手段としてヒータを用いているが、これに限定されるものでもなく、エアレーション用のエアの温度を上昇させることができれば、いかなる手段であってもよい。
さらに上記実施例では、エアレーション作業をそれぞれ１回の第１エアレーション工程と第２エアレーション工程とから構成しているが、第１エアレーション工程と第２エアレーション工程との組み合わせを複数回実行するようにしてもよい。

【符号の説明】

【0029】

１ アイソレータシステム ２ アイソレータ
３ パスボックス １１ 除染ガス供給手段
１２ 除染ガス生成手段 １４ 蒸発器
１８ 第１供給通路 １９ 第２供給通路
３８ 第１循環通路 ３９ 第２循環通路
５５ 第１エアレーション手段 ５６ 第２エアレーション手段
５５Ａ、５６Ａ 給気手段 ５５Ｂ、５６Ｂ 掃気手段
５９、５９’、６６、６７ ヒータ ６８ 制御手段
６９ タイマー ７０ 濃度検出手段

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】