特許 6797464 ＨＩＶ複製阻害作用を有する含窒素３環性誘導体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6797464

(24)【登録日】2020年11月20日

(45)【発行日】2020年12月9日

(54)【発明の名称】ＨＩＶ複製阻害作用を有する含窒素３環性誘導体

(51)【国際特許分類】

   C07D 471/06 20060101AFI20201130BHJP

   C07D 487/06 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/4985 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/5377 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 513/06 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/554 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/542 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/551 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 498/16 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/5365 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 491/16 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 519/00 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 513/16 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/506 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 498/08 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/5386 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/4745 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 498/06 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 487/16 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/53 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/501 20060101ALI20201130BHJP

   C07D 487/10 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/517 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/5383 20060101ALI20201130BHJP

   A61K 31/553 20060101ALI20201130BHJP

   C07F 7/12 20060101ALI20201130BHJP

   A61P 31/18 20060101ALI20201130BHJP

   A61P 31/12 20060101ALI20201130BHJP

【ＦＩ】

   C07D471/06

   C07D487/06CSP

   A61K31/4985

   A61K31/5377

   C07D513/06

   A61K31/554

   A61K31/542

   A61K31/551

   C07D498/16

   A61K31/5365

   C07D491/16

   C07D519/00 301

   C07D513/16

   A61K31/506

   C07D498/08

   A61K31/5386

   A61K31/4745

   C07D498/06

   C07D487/16

   A61K31/53

   A61K31/501

   C07D487/10

   A61K31/517

   A61K31/5383

   A61K31/553

   C07D519/00 311

   C07F7/12 V

   A61P31/18

   A61P31/12

【請求項の数】15

【全頁数】276

(21)【出願番号】特願2019-196066(P2019-196066)

(22)【出願日】2019年10月29日

(62)【分割の表示】特願2017-521897(P2017-521897)の分割

【原出願日】2016年5月27日

(65)【公開番号】特開2020-97568(P2020-97568A)

(43)【公開日】2020年6月25日

【審査請求日】2019年10月29日

(31)【優先権主張番号】特願2015-109547(P2015-109547)

(32)【優先日】2015年5月29日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2015-170222(P2015-170222)

(32)【優先日】2015年8月31日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2015-223036(P2015-223036)

(32)【優先日】2015年11月13日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2016-54215(P2016-54215)

(32)【優先日】2016年3月17日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000001926

【氏名又は名称】塩野義製薬株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100113789

【弁理士】

【氏名又は名称】杉田 健一

(74)【代理人】

【識別番号】100209598

【弁理士】

【氏名又は名称】渡部 秀昭

(72)【発明者】

【氏名】田村 嘉則

(72)【発明者】

【氏名】川筋 孝

(72)【発明者】

【氏名】杉山 修一

(72)【発明者】

【氏名】松村 明

(72)【発明者】

【氏名】秋山 俊行

(72)【発明者】

【氏名】富田 裕

【審査官】 早川 裕之

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００４−２５６５３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０００−５０５４５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００３−５１０３２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００５−５１６０３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１２−５２６７２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１４−５１１８７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１３−５３５４２６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００９−５０３０６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１５／１７４５１１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１４／１１９６３６（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｄ ４７１／０６

Ｃ０７Ｄ ４８７／０６〜１６

Ｃ０７Ｄ ４９１／１６

Ｃ０７Ｄ ４９８／０６〜１６

Ｃ０７Ｄ ５１３／０６〜１６

Ｃ０７Ｄ ５１９／００

Ｃ０７Ｆ ７／１２

Ａ６１Ｋ ３１／４７４５〜５５４

Ａ６１Ｐ ３１／１２

Ａ６１Ｐ ３１／１８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

以下の式（Ｉ’）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。

【化1】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、
Ａ^３は、ＣＲ^３ＡまたはＮであり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａは、ハロゲン以外の置換基で置換されたアルキルであり；
環Ｔ^１は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環であり；
Ｒ^１は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシであり；
ｎは、１または２であり；
Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は、水素、アルキルまたはアラルキルである。）

【請求項2】

式：

【化2】

[この文献は図面を表示できません]

で示される部分構造が、以下の式：

【化3】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｅはそれぞれ独立して、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する窒素原子および炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
ｋは２〜７の整数である）
で示される部分構造である、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項3】

式：

【化4】

[この文献は図面を表示できません]

で示される部分構造が、以下のいずれかの式：

【化5】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、
Ｑは、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり、
Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは、０〜５の整数であり；
その他の記号は請求項２と同意義である）で示される部分構造である、請求項２記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項4】

以下の式（Ｉ−１−１）または（Ｉ−２−１）：

【化6】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^３Ａが水素であり、Ｒ^４Ａ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびｎは請求項１と同意義であり、Ｒ^ａＲ^ｂおよびＲ^ｃは請求項２と同意義であり、ｍは請求項３と同意義である）
で示される請求項３記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項5】

Ｒ^１がアルキル、シアノ、またはハロゲンである、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項6】

ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシである、請求項１〜５のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項7】

Ｒ^４が水素である、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項8】

Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項9】

Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；または隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する窒素原子および炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか；ｋが３〜５の整数である、請求項２記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項10】

Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^４が水素である、請求項３または４記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項11】

ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する、請求項３または４記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項12】

Ｒ^ａが、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^４が水素である、請求項３または４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【請求項13】

請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。

【請求項14】

抗ウイルス剤である、請求項１３記載の医薬組成物。

【請求項15】

抗ＨＩＶ剤である、請求項１３記載の医薬組成物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、抗ＨＩＶ薬に関する。

【背景技術】

【0002】

ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス（Ｈｕｍａｎ Ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ Ｖｉｒｕｓ、以下ＨＩＶと略す）は、後天性免疫不全症候群（Ａｃｑｕｉｒｅｄ ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ ｓｙｎｄｒｏｍｅ、以下エイズ（ＡＩＤＳ）と略す）の原因となることが知られている。そのエイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤（ＡＺＴ、３ＴＣ等）、プロテアーゼ阻害剤（インディナビル等）、およびインテグラーゼ阻害剤（ラルテグラビル等）が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬の開発が期待されている。

【0003】

また、エイズの治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている。抗ＨＩＶ薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤の３種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば交叉耐性を示し、または付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗ＨＩＶ薬の開発が要望されている。

【0004】

ベンゼンやピリジン等の６員環母核またはそれらの縮合環上にカルボキシアルキル型側鎖を有する抗ＨＩＶ薬が、特許文献１〜３２、３６に記載されている。特に、特許文献２８（ＷＯ２０１３／１５９０６４）、特許文献２９（ＷＯ２０１２／１４５７２８）等には、５員ヘテロ環と縮合したベンゼン誘導体が記載されている。また特許文献１６（ＷＯ２０１２／１４０２４３）、特許文献３６（ＷＯ２０１４／０５７１０３）には、種々の置換基を有するベンゼン誘導体が記載されている。また５員環母核にカルボキシアルキル型側鎖を有する抗ＨＩＶ薬が、特許文献３３〜３５に記載されている。しかし、いずれの文献にも、本発明の３環性化合物は記載されていない。
また最近のインテグラーゼ阻害剤等の抗ＨＩＶ薬に関する特許が非特許文献１に紹介されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】ＷＯ２００７／１３１３５０

【特許文献2】ＷＯ２００９／０６２２８５

【特許文献3】ＷＯ２００９／０６２２８８

【特許文献4】ＷＯ２００９／０６２２８９

【特許文献5】ＷＯ２００９／０６２３０８

【特許文献6】ＷＯ２０１０／１３００３４

【特許文献7】ＷＯ２０１０／１３０８４２

【特許文献8】ＷＯ２０１１／０１５６４１

【特許文献9】ＷＯ２０１１／０７６７６５

【特許文献10】ＷＯ２０１２／０３３７３５

【特許文献11】ＷＯ２０１２／００３４９７

【特許文献12】ＷＯ２０１２／００３４９８

【特許文献13】ＷＯ２０１２／０６５９６３

【特許文献14】ＷＯ２０１２／０６６４４２

【特許文献15】ＷＯ２０１２／１０２９８５

【特許文献16】ＷＯ２０１２／１４０２４３

【特許文献17】ＷＯ２０１３／０１２６４９

【特許文献18】ＷＯ２０１３／００２３５７

【特許文献19】ＷＯ２０１３／０２５５８４

【特許文献20】ＷＯ２０１３／０４３５５３

【特許文献21】ＷＯ２０１３／０７３８７５

【特許文献22】ＷＯ２０１３／０６２０２８

【特許文献23】ＷＯ２０１３／１０３７２４

【特許文献24】ＷＯ２０１３／１０３７３８

【特許文献25】ＷＯ２０１３／１２３１４８

【特許文献26】ＷＯ２０１３／１３４１１３

【特許文献27】ＷＯ２０１３／１３４１４２

【特許文献28】ＷＯ２０１３／１５９０６４

【特許文献29】ＷＯ２０１２／１４５７２８

【特許文献30】ＷＯ２０１３／１５７６２２

【特許文献31】ＷＯ２０１４／００９７９４

【特許文献32】ＷＯ２０１４／０２８３８４

【特許文献33】ＷＯ２０１２／１３７１８１

【特許文献34】ＷＯ２０１４／０５３６６５

【特許文献35】ＷＯ２０１４／０５３６６６

【特許文献36】ＷＯ２０１４／０５７１０３

【非特許文献1】Expert. Opin. Ther. Patents (2014)24(6)

【0006】

なお、本出願人によって３環性誘導体に関するＨＩＶ複製阻害剤が特許出願されている（WO2014/119636、WO2015/147247、WO2015/174511）。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明の目的は、抗ウイルス活性を有する新規化合物を提供することである。本発明は、好ましくは、ＨＩＶ複製阻害作用を有する抗ＨＩＶ薬を提供する。より好ましくは、従来の抗ＨＩＶ薬とは基本骨格が異なり、またＨＩＶの変異株や耐性株にも有効な新規の抗ＨＩＶ薬を提供する。さらに本発明は、それらの合成中間体や製法も提供する。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者らは鋭意検討した結果、含窒素３環性誘導体がＨＩＶ複製阻害剤として有用であることを見出した。さらに、本発明化合物およびそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬（例：抗レトロウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、抗ＨＴＬＶ−１（Ｈｕｍａｎ Ｔ ｃｅｌｌ ｌｅｕｋｅｍｉａ ｖｉｒｕｓ ｔｙｐｅ １：ヒトＴ細胞白血病ウイルス１型）薬、抗ＦＩＶ（Ｆｅｌｉｎｅ ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ ｖｉｒｕｓ ：ネコエイズウイルス）薬、抗ＳＩＶ（Ｓｉｍｉａｎ ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ ｖｉｒｕｓ ：サルエイズウイルス）薬）、特に抗ＨＩＶ薬、抗ＡＩＤＳ薬、またはその関連疾患の治療薬等として有用であることを見出し、以下に示す本発明を完成した。
本発明は以下の、（１）〜（２３）、（１Ｃ）〜（１８Ｃ）、（１Ｂ）〜（１６Ｂ）および（１Ａ）〜（２１Ａ）に関する。

【0009】

（１）以下の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。

【化1】

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（式中、破線は、結合の存在、非存在を表し、
Ａ^３は、ＣＲ^３Ａ、ＣＲ^３ＡＲ^３Ｂ、ＮまたはＮＲ^３Ｃであり；
Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基であり；
Ｒ^３Ｃは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基であり；
環Ｔ^１は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環であり；
Ｒ^１は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシであり；
ｎは、１または２であり；
Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は、水素またはカルボキシ保護基である。）
ただし以下の化合物を除く。

【化2】

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（２）以下の式（Ｉ’）：

【化3】

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（式中、Ａ^３はＣＲ^３ＡまたはＮであり；Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；その他の記号は（１）と同意義である）で示される（１）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（３）式：

【化4】

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で示される部分構造が、以下の式：

【化5】

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（式中、Ｅはそれぞれ独立して、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する窒素原子および炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基がを含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
ｋは２〜７の整数である）
で示される部分構造である、（１）または（２）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（４）式：

【化6】

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で示される部分構造が、以下のいずれかの式：

【化7】

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（式中
Ｑは、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり、
Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは、０〜５の整数であり；
その他の記号は（３）と同意義である）で示される部分構造である、（３）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（５）以下の式（Ｉ−１−１）または（Ｉ−２−１）：

【化8】

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（式中、Ｒ^３Ａが水素であり、Ｒ^４Ａ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびｎは（１）と同意義であり、Ｒ^ａＲ^ｂおよびＲ^ｃは（３）と同意義であり、ｍは（４）と同意義である）
で示される（４）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（６）Ｒ^４Ａが、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基である、（１）〜（５）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（７）Ｒ^１がアルキル、シアノ、またはハロゲンである、（１）〜（６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（８）ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシである、（１）〜（７）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（９）Ｒ^４が水素である、（１）〜（８）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１０）Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、（１）〜（６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１１）Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；または隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する窒素原子および炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか；ｋが３〜５の整数である、（３）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１２）Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^４が水素である、（４）〜（６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１３）ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する、（４）〜（６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１４）Ｒ^ａが、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^４が水素である、（４）〜（６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１５）Ｒ^４Ａがハロゲン、シアノ、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^４が水素である、（４）または（５）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１６）Ｒ^４Ａがハロゲン、シアノ、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ^ａが、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；Ｒ^４が水素である、（４）または（５）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（１７）（１）記載の、Ｉ−００１、Ｉ−００３、Ｉ−０１２、Ｉ−０１９、Ｉ−０２６、Ｉ−０２７、Ｉ−０４１、Ｉ−０４３、Ｉ−０４８、Ｉ−０８５、Ｉ−１１２、Ｉ−１２２、Ｉ−１５６、Ｉ−１５７、Ｉ−１６４、Ｉ−１７６、Ｉ−１８１、Ｉ−１８７、Ｉ−１８９、Ｉ−１９０、およびＩ−１９７のいずれかである化合物またはその製薬上許容される塩。
（１８）（１）記載の、Ｉ−２２０、Ｉ−２４４、Ｉ−２５７、Ｉ−２５８、Ｉ−２６０、Ｉ−２６２、Ｉ−２６７、Ｉ−２７０、Ｉ−２７８、Ｉ−２９２、Ｉ−２９３、Ｉ−３０３、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、Ｉ−３０６、Ｉ−３０７、Ｉ−３０８、およびＩ−３０９のいずれかである化合物またはその製薬上許容される塩。
（１９）（１）〜（１８）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。
（２０）抗ウイルス作用を有する、（１９）記載の医薬組成物。
（２１）抗ＨＩＶ作用を有する、（１９）記載の医薬組成物。
（２２）（１）〜（１８）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、ＨＩＶ感染症の治療または予防法。
（２３）ＨＩＶ感染症の治療の治療または予防するための、（１）〜（１８）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0010】

（１Ｃ）以下の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。

【化9】

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（式中、破線は、結合の存在、非存在を表し、
Ａ^３は、ＣＲ^３Ａ、ＣＲ^３ＡＲ^３Ｂ、ＮまたはＮＲ^３Ｃであり；
Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基であり；
Ｒ^３Ｃは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基であり；
環Ｔ^１は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環であり；
Ｒ^１は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシであり；
ｎは、１または２であり；
Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は、水素またはカルボキシ保護基である。）
ただし以下の化合物を除く。

【化10】

[この文献は図面を表示できません]

【0011】

（２Ｃ）式：

【化11】

[この文献は図面を表示できません]

で示される部分構造が、以下の式：

【化12】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｅはそれぞれ独立して、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
Ｒ^ａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；ｋは２〜７の整数である）
で示される部分構造である、（１Ｃ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0012】

（３Ｃ）式：

【化13】

[この文献は図面を表示できません]

で示される部分構造が、以下のいずれかの式：

【化14】

[この文献は図面を表示できません]

（式中
Ｑは、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり、
Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは、０〜５の整数であり；
その他の記号は前記と同意義である）で示される部分構造である、（２Ｃ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0013】

（４Ｃ）以下の式（Ｉ−１−１）もしくは（Ｉ−２−１）：

【化15】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、各定義は前記と同意義である）
で示される（２Ｃ）または（３Ｃ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0014】

（５Ｃ）Ｒ^４ＡおよびＲ^５Ｂのいずれか一方が、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基である、（１Ｃ）〜（４Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0015】

（６Ｃ）Ｒ^１がアルキル、シアノ、またはハロゲンである、（１Ｃ）〜（５Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0016】

（７Ｃ）ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシである、（１Ｃ）〜（６Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0017】

（８Ｃ）Ｒ^４が水素である、（１Ｃ）〜（７Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0018】

（９Ｃ）Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、（１Ｃ）〜（５Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0019】

（１０Ｃ）Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；または隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか；ｋが３〜５の整数である、（２Ｃ）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0020】

（１１Ｃ）Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、（３Ｃ）〜（５Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0021】

（１２Ｃ）ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり、隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する、（３Ｃ）〜（５Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0022】

（１３Ｃ）Ｒ^ａが、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、（３Ｃ）〜（５Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0023】

（１４Ｃ）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ^３Ｂが水素であり；Ｒ^４Ａがハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基であり；Ｒ^４Ｂが水素であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、（３Ｃ）または（４Ｃ）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0024】

（１５Ｃ）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ^４Ａがハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、（３Ｃ）または（４Ｃ）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0025】

（１６Ｃ）（１Ｃ）〜（１５Ｃ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。

【0026】

（１７Ｃ）抗ウイルス作用を有する、（１６Ｃ）記載の医薬組成物。

【0027】

（１８Ｃ）抗ＨＩＶ作用を有する、（１６Ｃ）記載の医薬組成物。

【0028】

（１Ｂ）以下の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。

【化16】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、破線は、結合の存在、非存在を表し、
Ａ^３は、ＣＲ^３Ａ、ＣＲ^３ＡＲ^３Ｂ、ＮまたはＮＲ^３Ｃであり；
Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基であり；
Ｒ^３Ｃは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基であり；
環Ｔ^１は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環であり；
Ｒ^１は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシであり；
ｎは、１または２であり；
Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は、水素またはカルボキシ保護基である。）
ただし以下の化合物を除く。

【化17】

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【0029】

（２Ｂ）式：

【化18】

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で示される部分構造が、以下の式：

【化19】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｅはそれぞれ独立して、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
Ｒ^ａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基が介在した置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
ｋは２〜７の整数である）
で示される部分構造である、上記（１Ｂ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0030】

（３Ｂ）式：

【化20】

[この文献は図面を表示できません]

で示される部分構造が、以下のいずれかの式：

【化21】

[この文献は図面を表示できません]

（式中
Ｑは、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり、
Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは、０〜５の整数であり；
その他の記号は前記と同意義である）で示される部分構造である、上記（２Ｂ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0031】

（４Ｂ）以下の式（Ｉ−１−１）もしくは（Ｉ−２−１）：

【化22】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、各定義は前記と同意義である）
で示される上記（２Ｂ）または（３Ｂ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0032】

（５Ｂ）Ｒ^１がアルキル、シアノ、またはハロゲンである、上記（１Ｂ）〜（４Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0033】

（６Ｂ）ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシである、上記（１Ｂ）〜（５Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0034】

（７Ｂ）Ｒ^４が水素である、上記（１Ｂ）〜（６Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0035】

（８Ｂ）Ｒ^１がアルキルまたはハロゲンであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、上記（１Ｂ）〜（４Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0036】

（９Ｂ）Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、上記（２Ｂ）〜（４Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0037】

（１０Ｂ）ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素であり、隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂが、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂが、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する、上記（２Ｂ）〜（４Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0038】

（１１Ｂ）Ｒ^ａが、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、上記（２Ｂ）〜（４Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0039】

（１２Ｂ）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ^３Ｂが水素であり；Ｒ^４Ａが水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基であり；Ｒ^４Ｂが水素であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、上記（２Ｂ）または（３Ｂ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0040】

（１３Ｂ）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ^４Ａが水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基であり；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３であり；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキルであり；ｍが１〜３の整数であり；Ｒ^１がアルキルであり；ｎが１であり；Ｒ^２がアルキルオキシであり；Ｒ^４が水素である、上記（２Ｂ）または（３Ｂ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0041】

（１４Ｂ）上記（１Ｂ）〜（１３Ｂ）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。

【0042】

（１５Ｂ）抗ウイルス作用を有する、上記（１４Ｂ）記載の医薬組成物。

【0043】

（１６Ｂ）抗ＨＩＶ作用を有する、上記（１４Ｂ）記載の医薬組成物。

【0044】

（１Ａ）以下の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。

【化23】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、破線は、結合の存在、非存在を表し、
Ａ^３は、ＣＲ^３Ａ、ＣＲ^３ＡＲ^３Ｂ、ＮまたはＮＲ^３Ｃ；
Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基；
Ｒ^３Ｃは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基；
環Ｔ^１は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環であり、該複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい；
Ｒ^１は、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキル；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ；
ｎは、１または２；
Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；
Ｒ^４は、水素またはカルボキシ保護基。）
ただし以下の化合物を除く。

【化24】

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【0045】

（１Ａ’）以下の式（Ｉ’）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。

【化25】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、
Ａ^３は、ＣＲ^３ＡまたはＮ；
Ｒ^３ＡおよびＲ^４Ａは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基；
環Ｔ^１は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環であり、該複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい；
Ｒ^１は、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキル；
Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ；
ｎは、１または２；
Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；
Ｒ^４は、水素またはカルボキシ保護基。）
ただし以下の化合物を除く。

【化26】

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【0046】

（２Ａ）式：

【化27】

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で示される部分が、以下のいずれかの式：

【化28】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、
Ｒ^ａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３は、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；
ｍは、０〜５の整数；
Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキル；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキル；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、一緒になってオキソを形成していてもよく；
隣接する炭素原子上のＲ^ｂおよび／またはＲ^ｃは、隣接する炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
Ｒ^ａと、Ｒ^ａが結合する窒素原子と隣接する炭素原子上のＲ^ｂおよび／またはＲ^ｃは、隣接する窒素原子及び炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の芳香族複素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよい）で示される構造である、上記（１Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0047】

（２Ａ’）式：

【化29】

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で示される部分が、以下のいずれかの式：

【化30】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、
Ｒ^ａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３は、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基；
ｍは、０〜５の整数；
Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキル；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキル；
同一炭素上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは一緒になってオキソを形成していてもよい）で示される構造である、上記（１Ａ’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（３Ａ）以下の式（Ｉ−１−１）もしくは（Ｉ−２−１）で示される上記（２Ａ）もしくは（２Ａ’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【化31】

[この文献は図面を表示できません]

【0048】

（４Ａ）Ｒ^１がアルキルである、上記（１Ａ）〜（３Ａ）、（１Ａ’）〜（２Ａ’）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0049】

（５Ａ）ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシである、上記（１Ａ）〜（４Ａ）、（１Ａ’）〜

【0050】

（２Ａ’）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0051】

（６Ａ）Ｒ^４が水素である、上記（１Ａ）〜（５Ａ）、（１Ａ’）〜（２Ａ’）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0052】

（７Ａ）Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（１Ａ）〜（３Ａ）、（１Ａ’）〜（２Ａ’）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0053】

（８Ａ）Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキル；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキル；ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（２Ａ）、（２Ａ’）または（３Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0054】

（８Ａ’）Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；Ｒ^ｂおよびＲ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたはアルキル；ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（２Ａ‘）または（３Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0055】

（９Ａ）ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素であり、Ｒ^ａと、Ｒ^ａが結合する窒素原子と隣接する炭素原子上のＲ^ｂおよび／またはＲ^ｃが、隣接する窒素原子及び炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、隣接する炭素原子上のＲ^ｂおよび／またはＲ^ｃの少なくとも一つが、隣接する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する、上記（２Ａ）または（３Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0056】

（１０Ａ）Ｒ^ａが、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル；ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（２Ａ）または（３Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0057】

（１１Ａ）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキル；Ｒ^３Ｂが水素；Ｒ^４Ａが水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基；Ｒ^４Ｂが水素；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたはアルキル；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたはアルキル；ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（２Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0058】

（１１Ａ’）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキル；Ｒ^４Ａが水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたはアルキル；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたはアルキル；ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（２Ａ’）または（３Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0059】

（１２Ａ）Ｒ^３Ａが水素、ハロゲン、アルキル、またはハロアルキル；Ｒ^４Ａが水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、または非芳香族炭素環式基；Ｒ^ａが水素、置換もしくは非置換のアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３；Ｒ^ｂがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキル；Ｒ^ｃがそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換のアルキル；ｍが１〜３の整数；Ｒ^１がアルキル；ｎが１；Ｒ^２がアルキルオキシ；Ｒ^４が水素である、上記（３Ａ）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。

【0060】

（１３Ａ）上記（１Ａ）〜（１２Ａ）、（１Ａ’）、（２Ａ’）、（８Ａ’）、（１１Ａ’）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。

【0061】

（１４Ａ）抗ウイルス作用を有する、上記（１３Ａ）記載の医薬組成物。

【0062】

（１５Ａ）抗ＨＩＶ作用を有する、上記（１３Ａ）記載の医薬組成物。

【0063】

（１６Ａ）上記（１）〜（１６）、（１Ａ）〜（１２Ａ）、（１Ａ’）、（２Ａ’）、（８Ａ’）、（１１Ａ’）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、経口投与のための医薬組成物。
（１７Ａ）錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤またはチンキ剤である、（１６Ａ）記載の医薬組成物。
（１８Ａ）糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠、口腔内崩壊錠、ドライシロップ、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤である、（１７Ａ）記載の医薬組成物。
（１９Ａ）上記（１）〜（１６）、（１Ａ）〜（１２Ａ）、（１Ａ’）、（２Ａ’）、（８Ａ’）、（１１Ａ’）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、非経口投与のための医薬組成物。
（２０Ａ）経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳または膣内投与のための、（１９Ａ）記載の医薬組成物。
（２１Ａ）注射剤、点滴剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤または坐剤である、（１９Ａ）または（２０Ａ）記載の医薬組成物。
（２２Ａ）上記（１）〜（１６）、（１Ａ）〜（１２Ａ）、（１Ａ’）、（２Ａ’）、（８Ａ’）、（１１Ａ’）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、小児用または高齢者用の医薬組成物。
（２３Ａ）上記（１）〜（１６）、（１Ａ）〜（１２Ａ）、（１Ａ’）、（２Ａ’）、（８Ａ’）、（１１Ａ’）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩と、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、またはその他の抗ＨＩＶ薬との組み合わせからなる医薬組成物。
（２４Ａ）上記（１）〜（１６）、（１Ａ）〜（１２Ａ）、（１Ａ’）、（２Ａ’）、（８Ａ’）、（１１Ａ’）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、またはその他の抗ＨＩＶ薬との併用療法のための医薬組成物。

【0064】

本発明は更に以下の発明を提供する。
上記化合物またはその製薬上許容される塩をヒトに投与することを特徴とする、ウイルス感染症（例：ＨＩＶ感染症）の治療または予防方法。
ウイルス感染症（例：ＨＩＶ感染症）の治療または予防のための上記化合物またはその製薬上許容される塩。

【発明の効果】

【0065】

本発明化合物は、ウイルス、特にＨＩＶ（例：ＨＩＶ−１）やその変異ウイルス、耐性ウイルスに対して複製阻害活性を有する。よって、ウイルス感染症（例：エイズ）等の予防または治療に有用である。また本発明は、抗ウイルス剤の合成中間体を提供する。

【発明を実施するための形態】

【0066】

以下に本明細書において用いられる各用語の意味を説明する。各用語は特に断りのない限り、単独で用いられる場合も、または他の用語と組み合わせて用いられる場合も、同一の意味で用いられる。

【0067】

式（Ｉ）中、破線は、結合の存在、非存在を表す。式（Ｉ）の二つの破線中、いずれか一方が結合の存在を意味し、他方は結合の不存在を意味する。環内の破線が結合の存在を意味する場合、Ｒ^４Ｂに結合する破線は結合の不存在を意味し、Ａ^３はＣＲ^３ＡまたはＮであり、Ｒ^４Ｂは存在しない。環内の破線が結合の不存在を意味する場合、Ｒ^４Ｂに結合する破線は結合の存在を意味し、Ａ^３はＣＲ^３ＡＲ^３ＢまたはＮＲ^３Ｃを意味する。この場合、Ｒ^４Ｂは、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基である。
「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を包含する。特にフッ素原子、および塩素原子が好ましい。

【0068】

「アルキル」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−へプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。

【0069】

「アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。

【0070】

「アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。

【0071】

「アルキレン」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げられる。

【0072】

「アルケニレン」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ペンテニレン等が挙げられる。

【0073】

「アルキニレン」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の２価の炭化水素基を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、ヘキシニレン等が挙げられる。

【0074】

「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシが挙げられる。

【0075】

「アルケニルオキシ」とは、上記「アルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、１−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、２−ヘキセニルオキシ、２−ヘプテニルオキシ、２−オクテニルオキシ等が挙げられる。

【0076】

「アルキニルオキシ」とは、上記「アルキニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、エチニルオキシ、１−プロピニルオキシ、２−プロピニルオキシ、２−ブチニルオキシ、２−ペンチニルオキシ、２−ヘキシニルオキシ、２−ヘプチニルオキシ、２−オクチニルオキシ等が挙げられる。

【0077】

「芳香族炭素環」とは、単環または２環以上の、環状芳香族炭化水素を包含する。例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられる。
「芳香族炭素環」の一つの態様として、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。別の態様として、ベンゼン環が挙げられる。

【0078】

「芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。

【0079】

「非芳香族炭素環」とは、単環または２環以上の、環状飽和炭化水素または環状非芳香族不飽和炭化水素を包含する。２環以上の「非芳香族炭素環」は、単環または２環以上の非芳香族炭素環に、上記「芳香族炭素環」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環」は、以下のように架橋している環、またはスピロ環を形成する環も包含する。

【0080】

【化32】

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単環の非芳香族炭素環としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数３〜８である。例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロヘキサジエン等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環としては、炭素数８〜１３が好ましく、より好ましくは炭素数９〜１０である。例えば、インダン、インデン、アセナフタレン、テトラヒドロナフタレン、フルオレン等が挙げられる。

【0081】

「非芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、非芳香族飽和炭化水素基または非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。２環以上の非芳香族炭素環式基は、単環または２環以上の非芳香族炭素環式基に、「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。

【0082】

【化33】

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【0083】

【化34】

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単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数４〜８である。例えば、シクロアルキル、シクロアルケニル等が挙げられる。
「シクロアルキル」としては、炭素数３〜１０が好ましく、より好ましくは炭素数３〜７であり、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。
「シクロアルケニル」としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環式基としては、炭素数８〜１３が好ましく、より好ましくは炭素数９〜１０である。例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル、ジヒドロインデニル等が挙げられる。

【0084】

「非芳香族炭素環オキシ」とは、「非芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。「非芳香族炭素環オキシ」の「非芳香族炭素環」部分も、上記「非芳香族炭素環式基」と同様である。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロへキセニルオキシ等が挙げられる。

【0085】

「含窒素非芳香族複素環」とは、少なくとも一つの窒素原子を環構成原子として有し、さらに酸素原子、硫黄原子および窒素原子から任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有していてもよい、単環または２環以上の、環状非芳香族環を包含する。
２環以上の「含窒素非芳香族複素環」は、単環または２環以上の含窒素非芳香族複素環に、「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、および／または「芳香族複素環」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「含窒素非芳香族複素環」は、架橋構造を有する環、およびスピロ環を形成する環も包含する。すなわち、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレン、置換もしくは非置換のアルキニレンまたは任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋している環、および置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレン、置換もしくは非置換のアルキニレンまたは任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキニレンによって構成されるスピロ環を形成する環も包含する。例えば、以下のような環が挙げられる。

【0086】

【化35】

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単環の含窒素非芳香族複素環としては、５〜１２員が好ましく、より好ましくは５〜８員である。例えば、チアゾリジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピリジン、ジヒドロチアゾリン、テトラヒドロチアゾリン、テトラヒドロイソチアゾリン、ジヒドロオキサジン、ヘキサヒドロアゼピン、テトラヒドロジアゼピン、テトラヒドロピリダジン、ヘキサヒドロピリミジン、チアジン等が挙げられる。
２環以上の含窒素非芳香族複素環としては、９〜２０員が好ましく、より好ましくは８〜１６員である。例えば、インドリン、イソインドリン等が挙げられる。
好ましくは、単環または２環の含窒素非芳香族複素環であり、該２環の含窒素非芳香族複素環には、縮合環、架橋している環、およびスピロ環を包含する。
好ましい架橋している含窒素非芳香族複素環は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１または２つの基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、または意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１または２つの基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンにより架橋している２環の含窒素非芳香族複素環である。
好ましいスピロ環の含窒素非芳香族複素環は、Ｔ１の環構成原子の同一炭素原子の２つの置換基が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１または２つの基を含む置換もしくは非置換のアルキレンである場合の２環の含窒素非芳香族複素環である。
好ましい縮環の含窒素非芳香族複素環は、９または１０員の２環の含窒素非芳香族複素環である。

【0087】

「芳香族複素環」とは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環を包含する。
２環以上の「芳香族複素環」は、単環または２環以上の芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアゾール、トリアジン、テトラゾール、フラン、チオフェン、イソオキサゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イソチアゾール、チアゾール、チアジアゾール等が挙げられる。
２環の芳香族複素環としては、８〜１８員が好ましく、より好ましくは９員または１０員である。例えば、インドリン、イソインドリン、インダゾリン、インドリジン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、ナフチリジン、キノキサリン、プリン、プテリジン、ベンズイミダゾール、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンズオキサジアゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾトリアゾール、イミダゾピリジン、トリアゾロピリジン、イミダゾチアゾール、ピラジノピリダジン、オキサゾロピリジン、チアゾロピリジン等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環としては、１１〜２６員が好ましく、より好ましくは１３または１４員である。例えば、カルバゾール、アクリジン、キサンテン、フェノチアジン、フェノキサチイン、フェノキサジン、ジベンゾフラン等が挙げられる。

【0088】

「芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環式基を意味する。
２環以上の芳香族複素環式基は、単環または２環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、５〜１０員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
２環の芳香族複素環式基としては、８〜１８員が好ましく、より好ましくは９員または１０員である。例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環式基としては、１１〜２６員が好ましく、より好ましくは１３または１４員である。例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。

【0089】

「非芳香族複素環」とは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、環状非芳香族環を包含する。
２環以上の「非芳香族複素環」は、単環または２環以上の非芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、および／または「芳香族複素環」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環」は、以下のように架橋している環、またはスピロ環を形成する環も包含する。

【0090】

【化36】

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単環の非芳香族複素環としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサン、チイラン、オキシラン、オキセタン、オキサチオラン、アゼチジン、チアン、チアゾリジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジヒドロチアゾリン、テトラヒドロチアゾリン、テトラヒドロイソチアゾリン、ジヒドロオキサジン、ヘキサヒドロアゼピン、テトラヒドロジアゼピン、テトラヒドロピリダジン、ヘキサヒドロピリミジン、ジオキソラン、ジオキサジン、アジリジン、ジオキソリン、オキセパン、チオラン、チアジン等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環としては、８〜２０員が好ましく、より好ましくは８〜１６員である。例えば、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン等が挙げられる。

【0091】

「非芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、非芳香族環式基を意味する。
２環以上の非芳香族複素環式基は、単環または２環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および／または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレン、置換もしくは非置換のアルキニレンまたは任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋している環、および置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレン、置換もしくは非置換のアルキニレンまたは任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキニレンによって構成されるスピロ環を形成する環も包含する。例えば、以下のような環が挙げられる。

【化37】

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【0092】

単環の非芳香族複素環式基としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環式基としては、８〜２０員が好ましく、より好ましくは８〜１６員である。例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル、ジヒドロベンゾフリル、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキサニル、ベンゾモルホリニル等が挙げられる。

【0093】

「カルボキシ保護基」とは、加水分解やカルボキシ保護基の脱保護反応によって、カルボキシル基に変換される保護基であり、カルボキシ保護基として好ましくはアルキル（例：メチル、エチル、ｔ−ブチル）、アラルキル（例：ベンジル）が例示され、より好ましくは炭素数１〜４のアルキルが例示される。

【0094】

「置換もしくは非置換のアルキル」、「置換もしくは非置換のアルケニル」、「置換もしくは非置換のアルキニル」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキレン」、「置換もしくは非置換のアルケニレン」および「置換もしくは非置換のアルキニレン」の置換基としては、次の置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基から選択される１以上の同一または異なる、好ましくは１〜４個の、より好ましくは１〜３個の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシ、アルキニルスルホニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のイミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、および置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル。

【0095】

「置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」の環上の置換基としては、次の置換基が挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基から選択される１以上の同一または異なる、好ましくは１〜４個の、より好ましくは１〜３個の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシ、アルキニルスルホニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のイミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、および−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５（式中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である）。

【0096】

「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」および「置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環」は、「オキソ」で置換されている場合も包含する。

【0097】

【化38】

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【0098】

「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」および「置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環」の非芳香族炭素環および芳香族複素環部分も上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。例えば、環Ｔ^１は、以下のようにオキソで置換されていてもよい。

【0099】

【化39】

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【0100】

「置換若しくは非置換のアミノ」とは、次の置換基から選択される１または２の基で置換されていてもよいアミノを包含する。
置換基：ヒドロキシ、シアノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルケニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、ハロアルケニルカルボニル、ハロアルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換若しくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルバモイル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルバモイル、置換若しくは非置換の芳香族複素環カルバモイル、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルバモイル。
「置換若しくは非置換のアミノ」の一つの態様として、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、エチルメチルアミノ、シクロプロピルアミノ、シクロヘキシルアミノ、ベンジルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、メチルスルホニルアミノ、テトラヒドロピラニルアミノ、テトラヒドロフラニルアミノ、モルホリノアミノ、モルホリニルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピペラジニルアミノ等が挙げられる。異なる態様として、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、テトラヒドロピラニルアミノ、テトラヒドロフラニルアミノ、モルホリノアミノ、ピペリジニルアミノ等が挙げられる。

【0101】

「トリアルキルシリル」とは、上記「アルキル」３個がケイ素原子に結合している基を意味する。３個のアルキルは同一でも異なっていてもよい。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル等が挙げられる。

【0102】

「ハロアルキル」とは、１以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，２−ジブロモエチル、１，１，１−トリフルオロプロパン−２−イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。

【0103】

「ハロアルキルオキシ」とは、上記「ハロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメトキシ、モノフルオロエトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、トリクロロエトキシ等が挙げられる。
「ハロアルキルオキシ」の好ましい態様として、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシが挙げられる。

【0104】

「アルキルカルボニル」とは、上記「アルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。
「アルキルカルボニル」の好ましい態様として、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニルが挙げられる。

【0105】

「アルケニルカルボニル」とは、上記「アルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニル、プロペニルカルボニル等が挙げられる。

【0106】

「アルキニルカルボニル」とは、上記「アルキニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル等が挙げられる。

【0107】

「アルキルスルホニル」とは、上記「アルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」の好ましい態様として、メチルスルホニル、エチルスルホニルが挙げられる。

【0108】

「アルケニルスルホニル」とは、上記「アルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニル、プロペニルスルホニル等が挙げられる。

【0109】

「アルキニルスルホニル」とは、上記「アルキニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル等が挙げられる。

【0110】

「アルキルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシが挙げられる。

【0111】

「アルケニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルケニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルオキシ、プロペニルカルボニルオキシ等が挙げられる。

【0112】

「アルキニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニルオキシ、プロピニルカルボニルオキシ等が挙げられる。

【0113】

「アルキルスルホニルオキシ」とは、上記「アルキルスルホニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルオキシ、イソブチルスルホニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルスルホニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルスルホニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシが挙げられる。

【0114】

「アルケニルスルホニルオキシ」とは、上記「アルケニルスルホニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニルオキシ、プロペニルスルホニルオキシ等が挙げられる。

【0115】

「アルキニルスルホニルオキシ」とは、上記「アルキニルスルホニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニルオキシ、プロピニルスルホニルオキシ等が挙げられる。

【0116】

「アルキルオキシカルボニル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、へキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル」の好ましい態様としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニルが挙げられる。

【0117】

「アルケニルオキシカルボニル」とは、上記「アルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル等が挙げられる。

【0118】

「アルキニルオキシカルボニル」とは、上記「アルキニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル等が挙げられる。

【0119】

「アルキルスルファニル」とは、上記「アルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ−プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル等が挙げられる。

【0120】

「アルケニルスルファニル」とは、上記「アルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルスルファニル、プロペニルスルファニル等が挙げられる。

【0121】

「アルキニルスルファニル」とは、上記「アルキニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルファニル、プロピニルスルファニル等が挙げられる。

【0122】

「アルキルスルフィニル」とは、上記「アルキル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等が挙げられる。

【0123】

「アルケニルスルフィニル」とは、上記「アルケニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルフィニル、プロペニルスルフィニル等が挙げられる。

【0124】

「アルキニルスルフィニル」とは、上記「アルキニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルフィニル、プロピニルスルフィニル等が挙げられる。

【0125】

「置換若しくは非置換のイミノ」とは、次の置換基から選択される１の基で置換されていてもよいイミノを包含する。
置換基：ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルケニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、ハロアルケニルカルボニル、ハロアルキニルカルボニル、アミノ、アルキルアミノ、ハロアルキルアミノ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基。

【0126】

「置換若しくは非置換のイミノ」の一つの態様として、イミノ、メチルイミノ、エチルイミノ、シクロプロピルイミノ、シクロヘキシルイミノ、アセチルイミノ、テトラヒドロピラニルイミノ、テトラヒドロフラニルイミノ、モルホリノイミノ、モルホリニルイミノ、ピペリジニルイミノ、ピペラジニルイミノ等が挙げられる。

【0127】

「ヒドロキシアルキル」とは、１以上のヒドロキシ基が、上記「アルキル」の炭素原子に結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、１，２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。
「ヒドロキシアルキル」の好ましい態様として、ヒドロキシメチルが挙げられる。

【0128】

「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル等が挙げられる。

【0129】

「アルキルオキシアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキルオキシ」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ等が挙げられる。

【0130】

「置換若しくは非置換のカルバモイル」とは、次の置換基から選択される１または２の基で置換されていてもよいカルバモイルを包含する。
置換基：ヒドロキシ、シアノ、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、アルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族複素環アルキル、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環アルキル。
「置換若しくは非置換のカルバモイル」の一つの態様として、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−モルホリノカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルカルバモイル、Ｎ−ピペリジルカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイル、Ｎ−アセチルカルバモイル、Ｎ−メチルスルホニルカルバモイル、Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ヒドロキシ−１−メチルエチル）カルバモイル等が挙げられる。異なる態様として、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−モルホリノカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルカルバモイル、Ｎ−ピペリジルカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルカルバモイル、Ｎ−メチルスルホニルカルバモイル、Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ヒドロキシ−１−メチルエチル）カルバモイル等が挙げられる。

【0131】

「置換若しくは非置換のスルファモイル」とは、次の置換基から選択される１または２の基で置換されていてもよいアミノスルホニルを包含する。
置換基：アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、アルキルカルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族複素環アルキル、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環アルキル。
「置換若しくは非置換のスルファモイル」の一つの態様として、スルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルファモイル、Ｎ−イソプロピルスルファモイル、Ｎ−モルホリノスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルスルファモイル、Ｎ−ピペリジルスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルスルファモイル、Ｎ−ベンジルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−メチルスルホニルスルファモイル等が挙げられる。異なる態様として、スルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルファモイル、Ｎ−イソプロピルスルファモイル、Ｎ−モルホリノスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルスルファモイル、Ｎ−ピペリジルスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルスルファモイル、Ｎ−メチルスルホニルスルファモイル等が挙げられる。

【0132】

「芳香族炭素環オキシ」、「芳香族炭素環カルボニル」、「芳香族炭素環オキシカルボニル」、「芳香族炭素環スルファニル」、「芳香族炭素環スルホニル」、「芳香族炭素環アルキル」、「芳香族炭素環アルキルオキシ」、「芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族炭素環カルバモイル」の「芳香族炭素環」部分も、上記「芳香族炭素環式基」と同様である。

【0133】

「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル」「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルバモイル」の「芳香族炭素環」部分の置換基も、上記「置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基」上の置換基と同様である。

【0134】

「非芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環カルボニル」、「非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「非芳香族炭素環スルファニル」、「非芳香族炭素環スルホニル」、「非芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族炭素環カルバモイル」、「非芳香族炭素環アミノ」の「非芳香族炭素環」部分も、上記「非芳香族炭素環式基」と同様である。

【0135】

「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルバモイル」の「非芳香族炭素環」部分の置換基も、上記「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」上の置換基と同様である。

【0136】

「芳香族複素環オキシ」、「芳香族複素環カルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「芳香族複素環スルファニル」、「芳香族複素環スルホニル」、「芳香族複素環アルキル」、「芳香族複素環アルキルオキシ」、「芳香族複素環アルキルスルファニル」、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族複素環カルバモイル」の「芳香族複素環」部分も、上記「芳香族複素環式基」と同様である。

【0137】

「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「置換または非置換の芳香族複素環カルバモイル」の「芳香族複素環」部分の置換基も、上記「置換もしくは非置換の芳香族複素環式基」上の置換基と同様である。

【0138】

「非芳香族複素環オキシ」、「非芳香族複素環カルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環スルファニル」、「非芳香族複素環スルホニル」、「非芳香族複素環アルキル」、「非芳香族複素環アルキルオキシ」、「非芳香族複素環アルキルスルファニル」、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族複素環カルバモイル」、「非芳香族複素環アミノ」の「非芳香族複素環」部分も、上記「非芳香族複素環式基」と同様である。

【0139】

「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルバモイル」の「非芳香族複素環」部分の置換基も、上記「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」上の置換基と同様である。

【0140】

「芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環アルキル」、「芳香族複素環アルキル」、「非芳香族複素環アルキル」、「芳香族炭素環アルキルオキシ」、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「芳香族複素環アルキルオキシ」、「非芳香族複素環アルキルオキシ」、「芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「芳香族複素環アルキルスルファニル」、「非芳香族複素環アルキルスルファニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」のアルキル部分も上記「アルキル」と同様である。

【0141】

「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」のアルキル部分の置換基も、上記「置換または非置換のアルキル」上の置換基と同様である。

【0142】

「芳香族炭素環オキシ」とは、「芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。

【0143】

「芳香族炭素環カルボニル」とは、「芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル等が挙げられる。

【0144】

「芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。

【0145】

「芳香族炭素環スルファニル」とは、「芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルスルファニル、ナフチルスルファニル等が挙げられる。

【0146】

「芳香族炭素環スルホニル」とは、「芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等が挙げられる。

【0147】

「非芳香族炭素環カルボニル」とは、「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロへキセニルカルボニル等が挙げられる。

【0148】

「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロへキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。

【0149】

「非芳香族炭素環スルファニル」とは、「非芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニル等が挙げられる。

【0150】

「非芳香族炭素環スルホニル」とは、「非芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘキセニルスルホニル等が挙げられる。

【0151】

「芳香族複素環オキシ」とは、「芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシ、オキサゾリルオキシ等が挙げられる。

【0152】

「芳香族複素環カルボニル」とは、「芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルカルボニル、オキサゾリルカルボニル等が挙げられる。

【0153】

「芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル等が挙げられる。

【0154】

「非芳香族複素環オキシ」とは、「非芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシ、テトラヒドロフリルオキシ等が挙げられる。

【0155】

「非芳香族複素環カルボニル」とは、「非芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルカルボニル、テトラヒドロフリルカルボニル等が挙げられる。

【0156】

「非芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル等が挙げられる。

【0157】

「非芳香族複素環スルファニル」とは、「非芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピペリジニルスルファニル、テトラヒドロフリルスルファニル等が挙げられる。

【0158】

「非芳香族複素環スルホニル」とは、「非芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルホニル、テトラヒドロフリルスルホニル等が挙げられる。

【0159】

「芳香族炭素環アルキル」またはアラルキルとは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピニル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル、以下に示される基

【0160】

【化40】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。
「芳香族炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリルが挙げられる。

【0161】

「非芳香族炭素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、以下に示される基

【0162】

【化41】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0163】

「芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、以下に示される基

【0164】

【化42】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0165】

「非芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基

【0166】

【化43】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0167】

「芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピニルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、以下に示される基

【0168】

【化44】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0169】

「非芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロへキシルメチルオキシ、以下に示される基

【0170】

【化45】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0171】

「芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシ、フラニルメチルオキシ、イミダゾリルメチルオキシ、インドリルメチルオキシ、ベンゾチオフェニルメチルオキシ、オキサゾリルメチルオキシ、イソキサゾリルメチルオキシ、チアゾリルメチルオキシ、イソチアゾリルメチルオキシ、ピラゾリルメチルオキシ、イソピラゾリルメチルオキシ、ピロリジニルメチルオキシ、ベンズオキサゾリルメチルオキシ、以下に示される基

【0172】

【化46】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0173】

「非芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基

【0174】

【化47】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0175】

「芳香族炭素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。例えば、ベンジルスルファニル、フェネチルスルファニル、フェニルプロピニルスルファニル、ベンズヒドリルスルファニル、トリチルスルファニル、ナフチルメチルスルファニル等が挙げられる。

【0176】

「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルスルファニル、シクロブチルメチルスルファニル、シクロペンチルメチルスルファニル、シクロへキシルメチルスルファニル等が挙げられる。

【0177】

「芳香族複素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルスルファニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルスルファニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルスルファニル、フラニルメチルスルファニル、イミダゾリルメチルスルファニル、インドリルメチルスルファニル、ベンゾチオフェニルメチルスルファニル、オキサゾリルメチルスルファニル、イソキサゾリルメチルスルファニル、チアゾリルメチルスルファニル、イソチアゾリルメチルスルファニル、ピラゾリルメチルスルファニル、イソピラゾリルメチルスルファニル、ピロリジニルメチルスルファニル、ベンズオキサゾリルメチルスルファニル等が挙げられる。

【0178】

「非芳香族複素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルスルファニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルスルファニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルスルファニル、モルホリニルエチルスルファニル、ピペリジニルメチルスルファニル、ピペラジニルメチルスルファニル等が挙げられる。

【0179】

「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、フェニルプロピニルオキシカルボニル、ベンゾヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ナフチルメチルオキシカルボニル、以下に示される基

【0180】

【化48】

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等が挙げられる。

【0181】

「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシカルボニル、シクロブチルメチルオキシカルボニル、シクロペンチルメチルオキシカルボニル、シクロへキシルメチルオキシカルボニル、以下に示される基

【0182】

【化49】

[この文献は図面を表示できません]

等が挙げられる。

【0183】

「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシカルボニル、フラニルメチルオキシカルボニル、イミダゾリルメチルオキシカルボニル、インドリルメチルオキシカルボニル、ベンゾチオフェニルメチルオキシカルボニル、オキサゾリルメチルオキシカルボニル、イソキサゾリルメチルオキシカルボニル、チアゾリルメチルオキシカルボニル、イソチアゾリルメチルオキシカルボニル、ピラゾリルメチルオキシカルボニル、イソピラゾリルメチルオキシカルボニル、ピロリジニルメチルオキシカルボニル、ベンズオキサゾリルメチルオキシカルボニル、以下に示される

【0184】

【化50】

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等が挙げられる。

【0185】

「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基

【0186】

【化51】

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等が挙げられる。

【0187】

「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。例えば、ベンジルオキシメチル、フェネチルオキシメチル、フェニルプロピニルオキシメチル、ベンゾヒドリルオキシメチル、トリチルオキシメチル、ナフチルメチルオキシメチル、以下に示される基

【0188】

【化52】

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等が挙げられる。

【0189】

「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族炭素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル、シクロへキシルメチルオキシメチル、以下に示される基

【0190】

【化53】

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等が挙げられる。

【0191】

「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシメチル、フラニルメチルオキシメチル、イミダゾリルメチルオキシメチル、インドリルメチルオキシメチル、ベンゾチオフェニルメチルオキシメチル、オキサゾリルメチルオキシメチル、イソキサゾリルメチルオキシメチル、チアゾリルメチルオキシメチル、イソチアゾリルメチルオキシメチル、ピラゾリルメチルオキシメチル、イソピラゾリルメチルオキシメチル、ピロリジニルメチルオキシメチル、ベンズオキサゾリルメチルオキシメチル、以下に示される基

【0192】

【化54】

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等が挙げられる。

【0193】

「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、非芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシメチル、モルホリニルエチルオキシメチル、ピペリジニルメチルオキシメチル、ピペラジニルメチルオキシメチル、以下に示される基

【0194】

【化55】

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等が挙げられる。

【0195】

本発明は、以下の化合物（Ｉ）または（Ｉ’）に包含される種々の化合物を提供する。

【0196】

【化56】

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各基の好ましい態様を以下に示す。下記の可能な組み合わせの化合物が好ましい。

【0197】

Ｒ^１は、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり、より好ましくは、ハロゲンまたはアルキルである。さらに好ましくはアルキルである。

【0198】

Ｒ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換または非置換の非芳香族炭素環オキシ（好ましくは、置換もしくは非置換のシクロアルキルオキシ、または置換もしくは非置換のシクロアルケニルオキシ）である。好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシであり、より好ましくは置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシであり、特に好ましくはアルキルオキシである。アルキルオキシは、好ましくは、炭素数１〜６または炭素数１〜４の直鎖または分枝状のアルキルオキシ、より好ましくはｔ−ブチルオキシである。Ｒ^２における「置換もしくは非置換」の置換基としては、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ等が好ましい例として例示される。

【0199】

ｎは、１または２であり、好ましくは１である。

【0200】

ｎが１の場合、Ｒ^２は好ましくは以下の立体構造をとる。

【0201】

【化57】

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【0202】

Ｒ^３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。好ましくは、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基である。これらの環上の置換基としては、以下のＲ^３１〜Ｒ^３５が例示される。
Ｒ^３は、好ましくは、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族環式基であり、好ましくは５〜７員であるが、縮合されていてもよく、架橋構造を有していてもよい。縮合環部分は、５〜１０員で、単環でも２環性でも良い。置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基としては、以下の式で示されるフェニル基が例示される。
Ｒ^３の別の好ましい態様としては、ハロゲン、アルキル、および／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキル、および／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキル、および／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキル、および／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基である。Ｒ^３のより好ましい態様としては、ハロゲン、アルキル、および／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基またはハロゲン、アルキル、および／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基である。

【0203】

【化58】

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Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびＲ^３５は、それぞれ独立して、好ましくは、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシハロアルキル、ハロアルキルオキシ、カルボキシ、カルバモイル、またはアルキルアミノであり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルまたはアルキルオキシであり、さらに好ましくは、水素原子、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヒドロキシ、アミノ、メチル、エチルまたはメチルオキシであり、特に好ましくは、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、メチルまたはエチルである。
またＲ^３１とＲ^３２、Ｒ^３２とＲ^３３、Ｒ^３３とＲ^３４ならびにＲ^３４とＲ^３５は、それぞれ独立して、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の芳香族炭素環、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の芳香族複素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していても良い。これらの環は、好ましくは５〜８員、より好ましくは５員または６員であり、６員がより好ましい。

【0204】

Ｒ^３における非芳香族炭素環および非芳香族複素環は、上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。
Ｒ^３における「置換もしくは非置換の芳香族炭素環」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環」の環上の置換基としては、上記「置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」の環上の置換基が挙げられる。

【0205】

またＲ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびＲ^３５における互いに隣接していない２個の基は一緒になって架橋構造を形成してもよい。架橋構造としては、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレンが例示される。「置換もしくは非置換」の置換基は好ましくは、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、アミノ、アルキルアミノ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、カルバモイルまたはフェニルであり、より好ましくは、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アミノ、ヒドロキシおよび／またはオキソであり、さらに好ましくは、メチル、エチル、Ｆ，Ｂｒ，アミノ、ヒドロキシ等である。

【0206】

Ｒ^３は、より好ましくは、１〜２個の炭素環または複素環（例：５〜７員環）と縮合していてもよい、フェニルまたは非芳香族炭素環式基であり、より好ましくは以下に例示される環式基である。該炭素環、複素環、フェニル、非芳香族炭素環、または以下の環式基上には、同一または異なる１〜４個の置換基（例：ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アミノ、モノまたはジアルキルアミノ、アルキル、ハロゲン化アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、オキソ、シアノ）が存在していてもよい。

【0207】

Ｒ^３は、さらに好ましくは、以下の基である。

【0208】

【化59】

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【0209】

【化60】

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【0210】

【化61】

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【0211】

またＲ^３は、結合手をＮ原子上に有する環状アミン、好ましくは飽和の環状アミンであってもよい。該環状アミンは、置換、縮合および/または架橋されていてもよい５〜７員複素環であり、環構成原子としてＮ原子、Ｏ原子および／またはＳ原子が含まれていてもよい。置換基として好ましくは、アルキル、シクロアルキル、オキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、アルコキシ等である。該環状アミンとしては、以下が例示される。

【0212】

【化62】

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【0213】

またＲ^３は、以下に例示されるような、環内に２重結合を１または２本有する置換または非置換の非芳香族炭素環式基、環内に２重結合を１または２本有する置換または非置換の非芳香族複素環式基であってもよい。該炭素環式基または該複素環式基は、好ましくは５〜７員である。置換基として好ましくは、アルキル、シクロアルキル、オキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、アルコキシ等である。

【0214】

【化63】

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【0215】

さらにＲ^３は以下の群から選択されてもよい。

【0216】

【化64】

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【0217】

より好ましくは、Ｒ^３は以下の群から選択されてもよい。

【0218】

【化65】

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【0219】

化合物（Ｉ）、（Ｉ’）（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）、（Ｉ’−３）、（Ｉ−１−１）、（Ｉ−１Ａ）、（１−ＡＡ）、（Ｉ’−１Ａ）、（Ｉ−１−１Ａ）、（Ｉ−１−１Ｂ）、（Ｉ−１−１Ｃ）、（Ｉ−１−１Ｄ）、（Ｉ−１−１Ｅ）および（Ｉ−２−１）の異性体の一態様は、Ｒ^３の環の向きによって特定される立体異性体を包含するが、本発明はそれらのすべての異性体およびラセミ体を包含する。

【0220】

Ｒ^４は、水素、またはカルボキシ保護基であるが、好ましくは、水素である。Ｒ^４が水素以外の化合物であって、加水分解やカルボキシ保護基の脱保護反応によって、水素に変換される化合物は、特に合成中間体としても有用である。またＲ^４が水素以外の化合物であって、体内で水素に変換され得る化合物は、プロドラッグとしても有用である。カルボキシ保護基として好ましくはアルキル（例：メチル、エチル、ｔ−ブチル）、アラルキル（例：ベンジル）が例示され、より好ましくは炭素数１〜４のアルキルである。

【0221】

Ａ^３は、ＣＲ^３Ａ、ＣＲ^３ＡＲ^３Ｂ、ＮまたはＮＲ^３Ｃであり、好ましくはＣＲ^３ＡまたはＮであり、より好ましくは、ＣＲ^３Ａである。
別の態様としては、以下の化合物が好ましい。

【0222】

【化66】

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（式中、各定義は前記と同意義である。）

【0223】

Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基（好ましくは、置換もしくは非置換のシクロアルキル）である。置換もしくは非置換の置換基としては、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルキルオシ、アミノ、アルキルアミノ、芳香族炭素環アルキルオキシから選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。
Ｒ^３Ｃは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基である。
さらに好ましくは、Ｒ^３Ａは、水素、ハロゲン、アルキル、またはシアノであり、Ｒ^４Ａは、水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されたアルキル、アルキニル、または３〜６員のシクロアルキルである。
Ｒ^３Ａは、より好ましくは、水素またはハロゲンである。Ｒ^３Ａは、特に好ましくは、水素、フッ素またはクロロである。Ｒ^４Ａは、より好ましくはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されたアルキル、アルキニル、または３〜６員のシクロアルキルである。Ｒ^４Ａは、特に好ましくは、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−３アルキル、ハロＣ１−３アルキル、Ｃ２−３アルキニル、または３〜４員のシクロアルキルである。

【0224】

さらに別の態様としては、以下の化合物が好ましい。

[この文献は図面を表示できません]

（）

（式中、各定義は前記と同意義である。）

【0225】

Ｔ１環は、置換もしくは非置換の含窒素非芳香族複素環である。Ｔ^１環は、好ましくは５〜１２員環、より好ましくは５〜１０員環である。Ｔ^１環は、さらに好ましくは５〜８員環である。Ｔ^１環の構成原子として好ましくは、１〜２個のＮ原子を含有するか、1~2個のＮ原子および１個のＯ原子を含有するか、または１〜２個のＮ原子および１個のＳ原子を含有する。Ｔ^１環の構成原子としてさらに好ましくは、２個のＮ原子を含有するか、２個のＮ原子および１個のＳ原子を含有するか、または１個のＮ原子および１個のＯ原子を含有する。Ｔ１環は、単環、縮環、またはスピロ環でもよく、さらに架橋構造を有していてもよい。好ましくは５〜８員の単環、９〜１２員の縮環、または９〜１１員のスピロ環であり、該環はさらにヘテロ原子を含んでいても良いＣ１−３アルキレンで架橋されていてもよい。

【0226】

Ｔ^１環の置換基としては、それぞれ独立して、オキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、アルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５（Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３，Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ、ホルミル、置換もしくは非置換のアミノ、または置換もしくは非置換のカルバモイルである）または後記Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、およびＲ^ｃからなる群から選択される同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。
Ｔ^１環の置換基上の置換基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、トリアルキルシリル、非芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換のフェニル（置換基の例：アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換のフェニルオキシ（置換基の例：アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換のベンジルオキシ（置換基の例：アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基（例：５〜６員、（置換基の例：アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン））、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基（例：４〜６員、（置換基の例：アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン））である）、および非芳香族複素環アミノから選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。

【0227】

Ｔ^１環の置換基の別の態様としては、それぞれ独立して、オキソ、または後記Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、およびＲ^ｃからなる群から選択される同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。

【0228】

Ｔ^１環の置換基の別の態様としては、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
ここで、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。

【0229】

Ｔ^１環における含窒素非芳香族複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレン、置換もしくは非置換のアルキニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい。アルキレン、アルケニレンまたはアルキニレン上の置換基としては、メチル、エチル、ハロゲン、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ、アミノ、メチルアミノ、カルバモイル、フェニル等が例示される。

【0230】

Ｔ^１環は、好ましくは以下に例示される構造を包含する。

【0231】

【化67】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、各定義は前記と同意義である）

【0232】

Ｅはそれぞれ独立して、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−である。より好ましいＥは、それぞれ独立して、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−である。

【0233】

Ｒ^ａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５（式中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり、Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり、Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である）である。Ｒ^ａの置換基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルアミノアルキル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルカルボニルアミノアルキル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニルアミノ、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、アミノアルキルオキシ、アルキルアミノアルキルオキシ、ジアルキルアミノアルキルオキシ、ジアルキルアミノアルキルオキシアルキル、アルキルカルボニルアミノ、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、ベンジル、ハロゲン化ベンジル、ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、シクロアルキルおよび／またはハロアルキルで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、オキソおよび／またはハロアルキルで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシ、シクロアルキル、非芳香族炭素環式基、非芳香族複素環式基、および／またはハロアルキルで置換されていてもよい芳香族複素環式基、ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、オキソおよび／またはハロアルキルで置換されていてもよい非芳香族複素環式基、ハロゲン、アルキル、および／またはハロアルキルで置換されていてもよい芳香族炭素環アルキル、ハロゲン、アルキル、および／またはハロアルキルで置換されていてもよい非芳香族炭素環、ハロゲン、アルキル、および／またはハロアルキルで置換されていてもよい芳香族複素環アルキル、ハロゲン、アルキル、および／またはハロアルキルで置換されていてもよい非芳香族複素環アルキル、アルキルハロゲン、非芳香族炭素環アミノ、非芳香族複素環アルキル、オキソ、ハロゲン、および／またはアルキルで置換されていてもよい非芳香族複素環式基、トリアルキルシリルが例示される。該置換基は１〜４つ存在していてもよく、該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。Ｒ^ａは、好ましくは水素、炭素数１〜６のアルキル、炭素数１〜６のハロアルキル、アルキルアミノもしくはジアルキルアミノで置換されたアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３である。Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３は、それぞれ独立して好ましくは、水素、炭素数１〜６のアルキルまたはアルキルアミノもしくはジアルキルアミノで置換されたアルキルである。Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５の好ましい態様としては、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、炭素数１〜６のアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基（置換基の例：ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、ハロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ等）、または置換もしくは非置換の芳香族複素環式基（置換基の例：ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、ハロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ等）である。Ｒ^６ａの好ましい態様としては、水素または炭素数１〜６のアルキルである。
Ｒ^ａの別の態様は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルである。該「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、ウレイド、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ等である。
好ましくは、ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルオキシヒドロキシアルキルオキシ、アミノアルキルオキシ、アルキルスルホニルアミノアルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシ、トリアルキルシリルアルキルオキシアルキルオキシ、ジアルキルアミノアルキルオキシ、カルバモイル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいモノアルキルカルバモイル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルオキシカルボニルアミノ、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいジアルキルカルバモイル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルスルホニルアミノ、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルカルボニルアミノ、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環アルキルオキシ、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環アルキルオキシ、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環アルキルオキシ、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環オキシ、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環オキシ、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環オキシ、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環オキシ、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環オキシ等が挙げられる。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。
置換基群Ａ：ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルバモイル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、スルファモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、アルキルオキシアルキルオキシ、ハロアルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルカルボニル（アルキル）アミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルホニル（アルキル）アミノ、トリアルキルシリル、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族炭素環式基、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族炭素環式基、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族複素環式基、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族複素環式基、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族炭素環オキシ、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族炭素環オキシ、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族複素環オキシ、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族複素環オキシ。
置換基群Ｂ：ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルバモイル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、モノアルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、スルファモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、ハロアルキルオキシアルキル、ハロアルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニルアミノ、アルキルカルボニル（アルキル）アミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルホニル（アルキル）アミノ、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族炭素環式基、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族炭素環式基、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族複素環式基、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族複素環式基、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族炭素環オキシ、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族炭素環オキシ、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族複素環オキシ、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族複素環オキシ、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族炭素環アルキル、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族炭素環アルキル、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族複素環アルキル、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族複素環アルキル、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族炭素環アルキルオキシ、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族炭素環アルキルオキシ、アルキルおよび／またはハロゲン芳香族複素環アルキルオキシ、オキソ、アルキルおよび／またはハロゲンで置換されていても良い非芳香族複素環アルキルオキシ。

【0234】

Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり、好ましくは、水素、ハロゲン、またはアルキルである。置換もしくは非置換の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルバモイル、アルキルカルバモイル、フェニル、ハロゲン化フェニル、芳香族炭素環式基（例：６または１０員）、非芳香族炭素環式基（例：５〜７員）、芳香族複素環式基（例：５〜６員）、非芳香族複素環式基（例：５〜７員）が例示される。

【0235】

Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、または置換もしくは非置換のアルキルであり、好ましくは、水素、ハロゲン、またはアルキルである。置換もしくは非置換の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルバモイル、アルキルカルバモイル、フェニル、ハロゲン化フェニル、芳香族炭素環式基（例：６または１０員）、非芳香族炭素環式基（例：５〜７員）、芳香族複素環式基（例：５〜６員）、非芳香族複素環式基（例：５〜７員）が例示される。

【0236】

同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよいものが挙げられる。

【0237】

Ｔ^１環における隣接する炭素原子上のＲ^ｂおよび／またはＲ^ｃは、隣接する炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく、好ましくは、置換もしくは非置換の５〜６員の非芳香族複素環を形成してもよい。置換基としては、ハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。
Ｒ^ａと、Ｒ^ａが結合する窒素原子と隣接する炭素原子上のＲ^ｂおよび／またはＲ^ｃは、隣接する窒素原子及び炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の芳香族複素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく、好ましくは、置換もしくは非置換の５〜６員の芳香族複素環または置換もしくは非置換の５〜６員の非芳香族複素環を形成してもよい。置換基としては、ハロゲン、アルキル、アルキルオキシ、ハロアルキル、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。

【0238】

ｋは、２〜７の整数、好ましくは３〜５の整数である。

【0239】

Ｔ^１環は、より好ましくは以下に例示される構造を包含する。

【化68】

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（式中、各定義は前記と同意義である）

【0240】

Ｌは、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり、好ましくは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−である。

【0241】

Ｑは、−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり、好ましくは−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−である。

【0242】

ｍは、０〜５の整数、好ましくは１〜３の整数である。

【0243】

Ｔ^１環は、さらに好ましくは以下に例示される構造を包含する。

【化69】

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（式中、各定義は前記と同意義である）

【0244】

本発明化合物の好ましい実施形態を以下に例示する。以下の実施形態で示される化合物としては、これらの具体例の全ての組み合わせが例示される。
（実施形態１）
式（Ｉ）が以下の式（Ｉ‘）：

【化70】

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（式中、Ａ^３はＣＲ^３ＡまたはＮであり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
ｎが１であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^１はハロゲンまたはアルキルであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｔ^１環は２個のＮ原子、２個のＮ原子および１個のＳ原子、または１個のＮ原子および１個のＯ原子を含有する、置換もしくは非置換の５〜１２員の含窒素非芳香族複素環式基である。）である。

【0245】

（実施形態２）
式（Ｉ）が以下の式（Ｉ’−ＡＡ）：

【化71】

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（式中、Ａ^３はＣＲ^３ＡまたはＮであり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；Ｒ１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｑは−ＮＲ^ａ−、−Ｏ−または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよい。）である。

【0246】

（実施形態３）
式（Ｉ）が以下の式（Ｉ’−１Ａ）：

【化72】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ａ^３はＣＲ^３ＡまたはＮであり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；Ｒ１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよい。）である。

【0247】

（実施形態４）
式（Ｉ）が以下の式（Ｉ−１−１Ａ）：

【化73】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
同一でなく隣接しない炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接しない窒素原子および炭素原子上のＲ^ａのＲ^ｂは、一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、および−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置に−Ｏ−、−ＮＲ^ａ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−，−ＳＯ_２−から選択される１以上の基を含む置換もしくは非置換のアルケニレンを形成してもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよい。）である。

【0248】

（実施形態５）
式（Ｉ）が以下の式（Ｉ−１−１Ａ）：

【化74】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換もしくは非置換の芳香族複素環または単環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよい。）である。

【0249】

（実施形態６）
式（Ｉ）が以下の式（Ｉ−１−１Ａ）：

【化75】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルケニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環または単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。）である。

【0250】

（実施形態７）
式（Ｉ）が以下の式：

【化76】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルケニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、一緒になって単結合を形成してもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環または単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。）である。

【0251】

（実施形態８）
式（Ｉ）が以下の式：

【化77】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルケニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環アルキル、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環アルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ１、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５，−ＣＳＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、−ＣＯＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５、または−Ｃ（ＮＲ^ａ６）ＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ６は、水素であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成していてもよく；
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環または単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。）である。

【0252】

（実施形態９）
式（Ｉ）が以下の式：

【化78】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、または−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素または置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルであり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素または置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルである）である。

【0253】

（実施形態１０）
式（Ｉ）が以下の式：

【化79】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環アルキル、または置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環アルキルであり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素または置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルであり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素または置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルである）である。

【0254】

（実施形態１１）
式（Ｉ）が以下の式：

【化80】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
同一炭素原子上のＲ^ｂおよびＲ^ｃは、結合する炭素原子と一緒になってカルボニル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成するか；
隣接する炭素原子上の２つのＲ^ｂは、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成するか；または
隣接する窒素原子および炭素原子上のＲ^ａとＲ^ｂは、それぞれが結合する環構成原子と一緒になって単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環または単環の置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環を形成し；その他のＲ^ａ，Ｒ^ｂおよびＲ^ｃは上記実施形態８と同意義である。）である。

【0255】

（実施形態１２）
式（Ｉ）が以下の式：

【化81】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、アルキル、ハロアルキル、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニル、またはハロアルキルスルホニルであり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、アルキル、ハロアルキル、またはアルキルオキシアルキルであり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、アルキル、ハロアルキル、またはアルキルオキシアルキルである）である。

【0256】

（実施形態１３）
式（Ｉ）が以下の式：

【化82】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基または置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；ここで置換基群Ｅはアルキル、ハロゲン、アルキルオキシ、ジアルキルアミノアルキルオキシ、アルキルアミノアルキルオキシ、アミノアルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、アルキルおよび／またはオキソで置換されていてもよい非芳香族複素環オキシ、アルキルおよび／またはオキソで置換されていてもよい非芳香族複素環式基、ジアルキルアミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノアルキル、非芳香族複素環アルキル、およびアルキルで置換されていてもよい芳香族複素環式基である；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、アルキル、ハロアルキル、またはアルキルオキシアルキルであり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、アルキル、ハロアルキル、またはアルキルオキシアルキルである）である。

【0257】

（実施形態１４）
式（Ｉ）が以下の式：

【化83】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｒ^１はアルキルまたはハロゲンであり；
Ｒ^２はアルキルオキシであり；
Ｒ^３はハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、ハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい芳香族複素環式基、またはハロゲン、アルキルおよび／またはアルキルオキシで置換されていてもよい非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^４は水素であり；
Ｒ^３Ａは水素またはハロゲンであり；
Ｒ^４Ａはシアノ、ハロゲン、ヒドロキシまたはアルキルオキシで置換されていてもよいアルキル、ハロゲン、アルキニル、または非芳香族炭素環式基であり；
Ｌは−ＳＯ_２−、または−ＣＲ^ｂＲ^ｃ−であり；
ｍは１または２であり；
Ｒ^ａは、それぞれ独立して水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯ_２Ｒ^ａ３、または−ＣＯＮＲ^ａ４Ｒ^ａ５であり；
Ｒ^ａ１およびＲ^ａ３はそれぞれ独立して、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ａ４およびＲ^ａ５はそれぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキル、置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい非芳香族炭素環式基、または置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族複素環式基であり；
Ｒ^ｂは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルまたは置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環式基であり；
Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素、置換基群Ａから選択される１以上の基で置換されていてもよいアルキルまたは置換基群Ｂから選択される１以上の基で置換されていてもよい芳香族炭素環式基である）である。

【0258】

本発明化合物は、強いＨＩＶ複製阻害作用を有する。また、医薬品として有用な各種の体内動態および／または安全性等に優れている。これらのプロフィールは、好ましくは、例えば環上のヘテロ原子の種類や位置、環上の置換基の種類や位置等の工夫によって顕著に改善されている。

【0259】

本発明化合物は、全ての可能な異性体、好ましくは立体異性体（例：ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、アトロプ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。これらの異性体は、多くの場合、例えば光学分割、晶析、クロマト分離等により容易に分離可能であるが、便宜上、同一の平面構造式で表示される場合もある。またクロマト分離の場合には、ピーク時間（ＲＴ）で区別可能である。

【0260】

本発明化合物の一つ以上の水素、炭素および／または他の原子は、それぞれ水素、炭素および／または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ^２Ｈ、^３Ｈ、^１１Ｃ、^１３Ｃ、^１４Ｃ、^１５Ｎ、^１８Ｏ、^１７Ｏ、^３１Ｐ、^３２Ｐ、^３５Ｓ、^１８Ｆ、^１２３Ｉおよび^３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式（Ｉ）、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−１−１）および式（Ｉ−２−１）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ）、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−１−１）および式（Ｉ−２−１）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および／または診断のツールとして有用である。

【0261】

本発明化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、トリチウム標識化合物は、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、トリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下または非存在下で、本発明化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Ｉｓｏｔｏｐｅｓ ｉｎ ｔｈｅ Ｐｈｙｓｉｃａｌ ａｎｄ Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ （Ｐａｒｔ Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ ６ （１９８７年）を参照にできる。^１４Ｃ−標識化合物は、^１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。

【0262】

本発明化合物の製薬上許容される塩としては、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、バリウム等）、マグネシウム、遷移金属（例えば、亜鉛、鉄等）、アンモニア、有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等）およびアミノ酸との塩、または無機酸（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等）、および有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。

【0263】

本発明化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）および／または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。

【0264】

本発明化合物は、例えば、下記に示す一般的合成法によって製造することができる。また、抽出、精製等は、通常の有機化学の実験で行う処理を行えばよい。
本発明化合物の合成は、当該分野において公知の手法を参酌しながら実施することができる。本発明は、以下の一般的合成法における中間体および最終化合物も提供する。各化合物における置換基等の種類、好ましい態様は前記の通りである。

【0265】

（一般的合成法）
化合物（Ｉ）、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−１−１）および式（Ｉ−２−１）で示される化合物は、文献公知の化合物や市販試薬等を用いて、当業者に周知の反応を適宜組合せることにより合成可能である。好ましくは、ハロゲン等の脱離基、ニトロ基、（置換）アミノ基、（保護）アミノ基、アルキル基、（保護）ヒドロキシ基、エステル基等を有する、ベンゼン誘導体やピリジン誘導体を出発原料とし、縮合環形成反応、側鎖形成反応、還元反応、酸化反応、加水分解反応、フリーデルクラフト反応、カップリング反応、保護反応、脱保護反応等を適宜行えば良い。また６員母核上の各置換基（Ｒ^３，−Ｃ（Ｒ^２）ｎ−ＣＯＯＲ^４、Ｒ^１）は、出発原料の化合物に存在していてもよいし、またはＴ^１環を形成後に導入されてもよい。
反応溶媒としては、例えば、ＤＭＦ、ＴＨＦ、ジオキサン、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、アルコール（例：メタノール、エタノール）、酢酸エチル、ＤＭＳＯ、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トルエン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、水またはこれらから選択される混合溶媒を適宜使用することができる。塩基としては、例えば、ピリジン、ルチジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等を適宜使用することができる。

【0266】

［１］Ｔ^１環の形成反応
Ｔ^１環は、好ましくはそれぞれ２環性のベンゼン誘導体を合成した後、形成される。Ｔ^１環がＴ^１−１である場合を例に説明すると、化合物（Ｉ）またはそれらの中間体を包含する化合物（Ｉ−Ｘ）は、例えば以下の工程を経て合成できる。当該反応は、例えばＷＯ２００４／０９４４３０号に記載の方法に準じて行える。

【0267】

【化84】

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【0268】

（式中、Ａ^３は、ＣＲ^３ＡまたはＮ；Ｒは、化合物（Ｉ）におけるＲ^３、−Ｃ（Ｒ^２）ｎＣＯＯＲ^４、Ｒ^１、およびこれらの組合せ、ならびにこれらの基を導入できる置換基からなる群から選択される１〜３個の基を表す；Ｘ^１は、脱離基（例：ハロゲン原子）もしくはアルデヒド基、またはＸ^１は隣接する１つの（ＣＲ^ｂＲ^ｃ）と一緒になってオレフィンもしくはアセチレンを表す；Ｘ^２は脱離基（例：ハロゲン原子）；その他の記号は前記と同意義）

【0269】

化合物（Ｉ−Ｘ）は、化合物（Ｉ）である場合、以下の式で示される。

【0270】

【化85】

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【0271】

上記反応は、詳細には以下の通りである。
（１）ＬがＣ＝ＯもしくはＳＯ_２の場合
（工程１）
化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＶ）を、塩基（例：ピリジン）および必要に応じて適切な試薬（例：DMAP）存在下、溶媒（例：ジクロロメタン）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは室温）で、適切な時間（例：数分〜数十時間）反応させることにより化合物（ＩＩＩ）を得ることができる。
（工程２）
Ａ^５がＮの場合：化合物（ＩＩＩ）を、脱プロトン化剤（例：水素化ナトリウム）存在下、溶媒（例：DMF）中、適切な温度（例：０〜１５０°Ｃ、好ましくは約１００°Ｃ）で反応させることにより、化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。
Ａ^５がＣの場合：例えば、Ｘ^１-(ＣＲ^ｂＲ^ｃ)-がＣｌ-Ｃ(Ｏ)-である化合物（ＩＩＩ）に、ルイス酸（例：塩化アルミニウム、チタンテトライソプロポキシド（IV））存在下で分子内フリーデルクラフト反応を行うことにより、化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。

【0272】

（２）Ｌが−（ＣＲ^ｂＲ^Ｃ）−の場合
（２−１）Ａ^５がＮの場合：工程１では、化合物（ＩＩ）を塩基（例：炭酸セシウム）存在下、溶媒（例：DMF）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは室温）で反応させる。工程２では、化合物（ＩＩＩ）を必要に応じて脱プロトン化剤（例：水素化ナトリウム）存在下、適切な温度（例：室温〜１００°Ｃ）で反応させることにより化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。
（２−２）Ａ^５がＣの場合：工程１では、好ましくは、Ｒ^ａが−ＣＯＲ^ａ１、−ＳＯＲ^ａ２、または−ＳＯ_２Ｒ^ａ３である化合物（ＩＩ）を、塩基（例：炭酸セシウム）存在下、溶媒（例：DMF、アセトニトリル）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは室温）で反応させることにより、化合物（ＩＩＩ）を得る。工程２では、例えば、Ｘ^１-(ＣＲ^ｂＲ^ｃ)-がＣｌ-Ｃ(Ｏ)-である化合物（ＩＩＩ）に、ルイス酸（例：塩化アルミニウム、塩化チタン（IV））を用いた分子内フリーデルクラフト反応を行うことにより、化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。

【0273】

［２］化合物（Ｉ−１）の合成

【0274】

【化86】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｘはそれぞれ独立してハロゲンなどの脱離基；その他の記号は前記と同意義）

【0275】

（工程１）
化合物a1と化合物a2を、フィッシャー（Fischer）のインドール合成法に準じて反応させることにより化合物a3が得られる。
（工程２）
化合物a3を還元することにより化合物a4が得られる。
還元は、好ましくは、鉄粉と塩化アンモニウムを、もしくは塩化スズ（II）をエタノール中で加熱還流することで行われる。
（工程３）
化合物a4を、前記［１］Ｔ^１環の形成反応に付すことにより化合物a5が得られる。
（工程４）
化合物a5に、例えばボロン試薬（Ｒ^３−ボロン酸）を、遷移金属試薬と配位子（例：Pd2(dba)3／RuPhos）および塩基（例：炭酸ナトリウム）存在下、溶媒（例：ジオキサンと水の混合液）中、適切な温度（例：加熱還流）で反応させることにより、化合物a6が得られる。
（工程５）
化合物a6に、例えばNBSを、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、好ましくは氷冷下から室温で反応させることにより化合物a7が得られる。
（工程６）
化合物a7と化合物a8を、例えばメチル基を有するシリルエノールエーテルのカップリング反応(Journal of the American Chemical Society, 2004, 126, 5182-5191.)に準じて反応させることにより、化合物a9が得られる。
（工程７）
化合物a9を、塩基（例：水酸化ナトリウム）存在下、溶媒（例：THF、メタノールと水の混合液）中、適切な温度（例：約５０°Ｃ）で反応させることにより、化合物（Ｉ−Ａ−１）が得られる。化合物（Ｉ−１）は、当業者周知の方法により種々のカルボン酸等価体やカルボン酸誘導体に変換することもできる。

【0276】

［２−１］化合物（Ｉ−１）型の別法
（化合物（Ｉ―１’）の合成法）

【0277】

【化87】

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（式中、弓なりの破線は環形成を意味し、該環は置換もしくは非置換の非芳香族複素環であり、その他の記号は前記と同意義である）

【0278】

（工程１）
化合物ａ１０をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムなどの触媒とフッ化亜鉛とシリルエノールエーテルａ８を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a11を得ることができる。
（工程２）
化合物a11を酢酸、塩酸、硫酸等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、亜鉛、鉄、塩化スズ等の還元剤を加え、−２０℃から８０℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a12を得ることができる。または化合物a11をメタノール、酢酸エチル、酢酸等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ（ＯＨ）_２、Ｒａｎｅｙ−Ｎｉなどの触媒を加え、水素雰囲気下、−３０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜５０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a12を得ることができる。
（工程３）
化合物a12をジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、臭素やＮＢＳなどの臭素化剤を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a13を得ることができる。
（工程４）
化合物ａ１３とＲ３-Ｌとのカップリング反応により、化合物ａ１４を得ることができる。該反応としては、鈴木クロスカップリング、Ｕｌｌｍａｎｎクロスカップリング、根岸クロスカップリング、Ｓｔｉｌｌｅカップリング等が例示される。
ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＥ、ＴＨＦ、水等の溶媒あるいは混合溶媒中において、化合物ａ１３にＰｄ（ＰＰｈ_３）_４、Ｐｄ（ＯＡｃ）_２、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）_２Ｃｌ_２等のパラジウム触媒と、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、リン酸カリウム等の塩基と、市販もしくは公知の方法によって合成した置換ボロン酸、置換ボロン酸エステル、置換スズアルキル、置換ハロゲン化亜鉛を加え、必要に応じて、ＣｕＩ，ＣｓＦなどを添加し、窒素雰囲気下にて、０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物ａ１４を得ることができる。
（工程５）
工程３と同様の方法で化合物a15を得ることができる。

【0279】

（工程６）
化合物a15をジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ｍＣＰＢＡ，過酢酸などの酸化剤を加え、０℃〜１２０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物a16を得ることができる。
（工程７）
化合物a16をトルエン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＢＩＮＡＰ、ｘａｎｔｐｈｏｓなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウムなどの触媒と炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基とアセトアミドを加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a17を得ることができる。
（工程８）
化合物a17をメタノール、エタノール等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物a18を得ることができる。
（工程９）
化合物a18をメタノール、エタノール等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ヨウ素と硝酸銀やＮＩＳなどのヨウ素化剤を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a19を得ることができる。
（工程１０）
化合物a19をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｅｔ_３Ｎ, ＤＩＰＥＡなどの塩基と市販もしくは公知の方法で合成した置換アルキンとＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_４、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）などの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a20を得ることができる。

【0280】

（工程１１）
化合物a20をＤＭＦ, ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ｔ-ＢｕＯＫ、炭酸カリウムなどの塩基を加え、-2０℃〜8０℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a21を得ることができる。
（工程１２）
工程２と同様の方法で化合物a22を得ることができる。
（工程１３）
化合物a22をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、ピリジン、Ｅｔ_３Ｎ等の塩基とヨウ化メチル、ＭｓＣｌ, ＡｃＣｌ, ＭｅＮＣＯ等の市販もしくは公知の方法で合成したアルキル化剤、スルホニル化剤、酸クロライド、イソシアネートを加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a23を得ることができる。
（工程１４）
化合物a23をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基と1,2-ジブロモエタン、1,3-ジブロモプロパン、クロロアセチルクロライド、クロロメチルスルホニルクロライド、オキサリルクロライド等の市販もしくは公知の方法で合成したアルキル化剤、酸クロライド、スルホニルクロライド、またはジ酸クロライド等を加え、-2０℃〜8０℃、好ましくは０℃〜６０℃、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a24を得ることができる。
あるいは、Ｒ^ａがアルキルスルホニル等の場合、ＴＨＦ、トルエンやジクロロメタン等の溶媒中、光延試薬としてＤＥＡＤ、ＤＩＡＤやアゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）を、トリフェニルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンやトリブチルホスフィンと市販または公知の方法により調製した一方のアルコールが保護されたジオールを加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させた後、一般的な方法で脱保護し、生じた水酸基を一般的な脱保護基に変換し、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水素化ナトリウムなどの塩基を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることでも化合物a24を得ることができる。
（工程１５）
化合物a24をメタノール、ＴＨＦ、ジオキサンなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜１時間反応させることにより、化合物（Ｉ−１’）を得ることができる。

【0281】

［２−２］化合物（Ｉ−１）型の別法
（化合物Ｉ−１’’）

【0282】

【化88】

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（式中、Ｒ２’は置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環；Ｘはハロゲン；その他の記号は前期と同意義）

【0283】

（工程１）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物a26をＴＨＦ−水混合溶媒中、過酸化水素水と水酸化リチウム水溶液の混合液を加え、−２０℃〜１０℃、好ましくは−１０℃〜１０℃で、０．１時間〜５時間、好ましくは０．１時間〜１時間反応させてカルボン酸体を得ることができる。得られたカルボン酸体を、ＤＭＦ、ＤＭＥ、ＴＨＦ等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの塩基とベンジルブロマイド、ヨウ化メチルなどのハロゲン化アルキルを加え、０℃〜１００℃好ましくは２０℃〜５０℃で、０．５時間から２４時間、好ましくは１時間から５時間反応させることにより化合物a27を得ることができる。またはジフェニルジアゾメタン／ジエチルエーテル溶液等を添加してエステル化することにより、化合物a27を得ることができる
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程２に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程３に準じて行うことができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程３に準じてジブロモ体を合成することができる。この場合、2等量以上の試薬を用いることにより、化合物a28より直接誘導することもできる．あるいは、化合物（Ｉ−１’）の合成における工程９に準じてブロモ・ヨード体を合成することができる。
（工程６−１６）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、４、１５に準じて行うことができる。

【0284】

［２−２−１］化合物ａ２７の別法

【化89】

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（工程１）
市販または公知の方法により調製した化合物ａ１５０を、ジクロロメタン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン等の溶媒中において、またはそれらの混合溶媒中において、塩化チオニル、塩化オキサリルを加え、０℃〜１５０℃、好ましくは５０℃〜１２０℃で０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜６時間反応させる。続いて、ジクロロメタン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒中において、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化銅、シアン化ケイ素等を加え、０℃〜１６０℃、好ましくは２５℃〜１００℃で１時間〜２４時間、好ましくは1時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１５１を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ１５１をＲ^４ＯＨに溶解させ、濃硫酸、濃塩酸等の酸を加え、０℃〜１５０℃、好ましくは８０℃〜１１０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは６時間〜１２時間反応させることにより、ニトリル基のカルボン酸への加水分解、およびエステル化することにより、化合物ａ１５２を得ることができる。
（工程３）
化合物ａ１５２をジクロロメタン、トルエン、メタノール、ＤＭＳＯ、アセトニトリル等に溶解させ、不斉ルテニウム触媒、水素供与化合物（例：アルコール化合物、ギ酸、ギ酸塩等）および塩基（例：炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、トリエチルアミン、ピリジン等）を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜８０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１５３を得ることができる。
（工程４）
化合物ａ１５３をテトラヒドロフラン、ＤＭＦ、トルエン等に溶解させ、塩基（例：水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等）と市販または公知の方法により調整したＲ^２’−Ｉ、Ｒ^２’−Ｂｒ、Ｒ^２’−Ｃｌ等を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜６０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは３時間〜１２時間反応させることにより、化合物ａ２７を得ることができる。
または、Ｒ^２’がｔｅｒｔ−ブチルエーテルの場合は、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル中において、７０％過塩素酸水溶液を０．２〜３当量加え、０℃〜６０℃、好ましくは１５℃〜３０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜２時間反応させることによって対応する化合物ａ２７を得ることができる。

【0285】

［２−３］化合物（Ｉ−１’’’）の合成

【化90】

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（式中、Ｒ３’およびＲ３’’は、隣接する窒素原子と一緒になって非芳香族複素環を形成する；その他の記号は前期と同意義）

【0286】

（工程１）
無溶媒条件下、もしくはＤＭＳＯ、ＤＭＦ、アセトニトリル、メタノールやブタノール等の溶媒中において化合物a36にアンモニウム、環状アミンと、炭酸カリウム、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミンやｔ−ブトキシカリウム等の塩基を加え、０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜１５０℃、１時間〜７２時間、好ましくは１時間〜２４時間反応させることによって化合物a41を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１２、１３、１４、１５に準じて行うことができる。

【0287】

［２−４］化合物（Ｉ−１）型の別法

【0288】

【化91】

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（式中、各記号は前期と同意義）

【0289】

（工程１）
化合物a42をヘキサン、ＴＨＦ、ＤＭＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、４，４‘-ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンとビスピナコールジボロンと１，５−シクロオクタジエンメトキシイリジウム等のイリジウム触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a43を得ることができる。
（工程２）
化合物a43をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_３ＰＯ_４などの塩基の水溶液とアルケニルハライド、アリールハライド、アルキルハライドとＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）などの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a44を得ることができる。
あるいは、化合物a43をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、メタノール、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、臭化銅（ＩＩ）や塩化銅（ＩＩ）などのハロ化金属を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、ハロゲン化化合物を得ることができる。さらに、導入したハロ基は一般に知られるカップリング反応によりアリール基やアルキニル基に変換することで、化合物a44を得ることができる。
（工程３）
化合物a44をメタノール、ＴＨＦ、ジオキサンなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜１時間反応させることにより、化合物（Ｉ−１’’）を得ることができる。

【0290】

［２−５］化合物（Ｉ−１’’’’）の合成

【0291】

【化92】

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（式中、Ｈａｌは、ハロゲン；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a40をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、酢酸等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｎ−ブロモスクシイミドや１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ[２，２，２]オクタンビス（テトラフルオロボラート）（ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ（Ｒ））等のハロ化剤を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a45を得ることができる。
（工程２）
一般に知られるカップリング反応により、ハロゲン基をアリール基やアルキニル基に変換することができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0292】

［２−６］化合物（Ｉ−ｘ）の合成

【0293】

【化93】

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（式中、Ｒはアルキル等；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a47のＲ^ａが水素、あるいはアミノ基やヒドロキシル基等の官能基を有し、Ｒがカルボン酸を有する場合、化合物a47をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、塩化メチレン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ジシクロヘキシルカルボジイミドやＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート等の縮合剤および１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾールや１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等の添加剤を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、化合物a48を得ることができる。
また、化合物a47のＲ^ａが水素、あるいはアミノ基あるいはヒドロキシル基等の官能基を有し、Ｒがアミノ基あるいはヒドロキシル基等の官能基を有する場合、化合物a47をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、塩化メチレン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、１，１’−カルボニルジイミダゾールやオキサリルクロライド等を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、化合物a48を得ることができる。
また、化合物a47のＲ^ａおよびＲがそれぞれアルケニル基を有する場合、化合物a47をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、塩化メチレン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、（１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン）ジクロロ（フェニルメチレン）（）トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム等の触媒を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜４８時間、好ましくは０．５〜２４時間で反応させることにより、化合物a48を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0294】

化合物（Ｉ−１’）型の別法

【化94】

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（式中、Ｒ^ａ２は置換もしくは非置換のアルキルであり；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物ａ４９をDMF、DMA、DMSO等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸カリウムや炭酸セシウム等の塩基、およびブロモシアンを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、１時間〜４８時間、好ましくは６〜２４時間で反応させることにより、化合物ａ５１を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ５０をエタノール，メタノール、ＴＨＦ等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、塩基およびヒドロキシアミン塩酸塩を加え、０℃〜１００℃、好ましくは６０℃〜８０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、ヒドロキシグアニジン体を得ることができる。
さらにジグリム等の溶媒中、Ｒ^ａ２ＣＯＣｌで示されるような酸クロライドおよび塩基を加え、０℃〜１２０℃、好ましくは６０℃〜１００℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、化合物ａ５１を得ることができる。好ましい塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等が挙げられる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0295】

【化95】

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（式中、Ｒ^ａ３は水素または置換もしくは非置換のアルキルであり；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
また、化合物ａ４９をジクロロメタン，ジクロロエタン等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、ＴＭＳＮＣＳを加え、２５℃〜１２０℃、好ましくは６０℃〜１００℃で、１時間〜４８時間、好ましくは６〜２４時間で反応させることにより、化合物ａ５３を得ることができる。
（工程２）
また、化合物ａ５３をエタノール，メタノール、ＴＨＦ等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、塩基、およびＲ^ａ３ＣＯＣＨ２Ｃｌを加え、０℃〜１００℃、好ましくは６０℃〜９０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、化合物ａ５４を得ることができる。好ましい塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等が挙げられる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0296】

【化96】

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（式中、Ｒ^ａ４は水素または置換もしくは非置換のアルキルであり；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
また、化合物ａ４９をジクロロメタン，クロロホルム等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、トリフォスゲンを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２５℃〜４０℃で、１時間〜４８時間、好ましくは６〜２４時間で反応させることにより、化合物ａ５６を得ることができる．
（工程２）
化合物ａ５６をエタノール，メタノール、ＴＨＦ、水等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、塩基、およびＲ^ａ４ＣＯＣＨ_２ＮＨ_２を加え、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜８０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、ウレア体を得ることができる。さらにＴＨＦやトルエン等の溶媒中、バージェス試薬を加え、封緘中８０℃〜１５０℃、好ましくは１００℃〜１２０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間で反応させることにより、化合物ａ５７を得ることができる。好ましい塩基としては、炭酸水素ナトリウムや炭酸水素カリウム等の無機塩基が挙げられる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0297】

【化97】

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（工程１）
化合物ａ４９をアセトニトリル，プロピオニトリル等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、t-ブチル(2-イソチオシアネートエトキシ)ジメチルシランを加え、２５℃〜１２０℃、好ましくは６０℃〜１００℃で、１時間〜４８時間、好ましくは６〜２４時間で反応させ、その後、THFやジクロロメタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、TBAFを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、１時間〜４８時間、好ましくは６〜２４時間で反応させることにより、化合物ａ５９を得ることができる．
（工程２^）
化合物ａ５９をエタノール，メタノール、ＴＨＦ等の溶媒、またはそれらの混合溶媒中、酸化水銀を加え、０℃〜６０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、１日〜7日間、好ましくは３日〜５日間で反応させることにより、化合物ａ６０を得ることができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0298】

化合物（Ｉ−１’−１）の合成

【化98】

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（式中、各記号は前記と同意義）

【0299】

（工程１）
化合物ａ６２をジクロロメタン、ジクロロエタン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ｍＣＰＢＡ，過酢酸などの酸化剤を加え、０℃〜１２０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ６３を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ６３をＤＭＳＯ、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、メチルアミン、エチルアミン、ベンジルアミンなどの一級アミンなどを加え、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜８０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間で反応させることにより、化合物ａ６４を得ることができる。
（工程３）
化合物ａ６４をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムなどの触媒とフッ化亜鉛とシリルエノールエーテルａ８を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物ａ６５を得ることができる。
（工程４）
化合物ａ６５をジクロロメタン、ＤＭＦ、酢酸等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＮＢＳ、ＮＩＳ、ヨウ素などのハロゲン化剤を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ６６を得ることができる。
（工程５）
化合物ａ６６をＤＭＦ、ＤＭＡ、ジオキサン、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_３ＰＯ_４などの塩基の水溶液と市販もしくは公知の方法で合成したボロン酸、またはボロン酸エステルとＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）などの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物ａ６７を得ることができる。
（工程６）
化合物ａ６７をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＭＡＰ等の塩基とクロログリオキシル酸メチルを加え、−４０℃〜４０℃、好ましくは０℃〜２０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物ａ６８を得ることができる。
（工程７）
化合物ａ６８をエタノール、メタノール、ＴＨＦ、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、亜ジチオン酸ナトリウム、鉄、塩化スズ等の還元剤を加え、０℃から１００℃、好ましくは２０℃〜８０℃で、０．１時間〜１２時間、好ましくは０．５時間〜６時間で反応させることにより、化合物ａ６９を得ることができる。
（工程８）
工程４と同様の方法で化合物ａ７０を得ることができる。
（工程９）
化合物ａ７０をＴＨＦ、ジエチルエーテル、ＤＭＥ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ボランテトラヒドロフラン錯体、ボランジメチルスルフィド錯体等の還元剤を加え、−２０℃から５０℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ７１を得ることができる。
（工程１０）
化合物ａ７１をＴＨＦ，ＤＭＦ、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムなどの触媒と市販または公知の方法により調製した金属エノラートを加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物ａ７２を得ることができる。
（工程１１）
化合物ａ７２をメタノール、エタノール、ＴＨＦなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜４時間反応させることにより、化合物（Ｉ−１’−１）を得ることができる。

【0300】

化合物（Ｉ−１’−２）の合成

【化99】

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（式中、各記号は前記を同意義）
（工程１）
化合物ａ７３をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、臭化アリル、塩化アリルなどのアリル化剤と水素化ナトリウム、カリウム−ｔ−ブトキシド、炭酸セシウムなどの塩基を加え、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物ａ７４を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ７４をエタノール、メタノール、ＴＨＦ、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、亜ジチオン酸ナトリウム、鉄、塩化スズ等の還元剤を加え、０℃から１００℃、好ましくは２０℃〜８０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ７５を得ることができる。
（工程３）
化合物ａ７５をアセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、亜硝酸―ｔ−ブチルとヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）などの金属ハロゲン化物を加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜６０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ７６を得ることができる。
（工程４）
化合物ａ７６をエタノール、ＴＨＦ、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、オスミウム（ＶＩ）酸カリウムと過ヨウ素酸ナトリウムを加え、−１０℃〜６０℃、好ましくは１０℃〜４０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ７７を得ることができる。
（工程５）
化合物ａ７７をエタノール、ＴＨＦ、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、過ヨウ素酸ナトリウムを加え、−１０℃〜６０℃、好ましくは１０℃〜４０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物ａ７８を得ることができる。
（工程６）
化合物ａ７８をエタノール、メタノール、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウムなどの還元剤を加え、−２０℃〜４０℃、好ましくは０℃〜２０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物ａ７９を得ることができる。
（工程７）
化合物ａ７９をジオキサン、ＤＭＦ、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ヨウ化銅（Ｉ）と９，１０−フェナントロリン、２，２‘−ビピリジル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノグリシンなどの配位子と炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウムなどの塩基を加え、８０℃〜１８０℃、好ましくは１００℃〜１６０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ８０を得ることができる。
（工程８）
化合物ａ８０をメタノール、エタノール、ＴＨＦなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜４時間反応させることにより、化合物（Ｉ−１’−２）を得ることができる。

【0301】

化合物（Ｉ−１’−３）および化合物（Ｉ−１’−４）の合成

【化100】

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（式中、破線は結合の存在／非存在を意味し、破線ａおよび破線ｂはいずれか一方のみが存在し；各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物ａ７６をＤＭＦ、ジオキサン、アセトニトリル等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリエチルアミン、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどの塩基とトリｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィンなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムなどの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物ａ８１を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ８１をメタノール、エタノール、ＴＨＦなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜４時間反応させ、カラムクロマトグラフィー等で分離することにより化合物（Ｉ−１’−３）および／または化合物（Ｉ−１’−４）を得ることができる。

【0302】

［２−７］化合物ａ４０の別合成法

【化101】

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（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程２に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物ａ８３をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ピリジン、Ｅｔ_３Ｎ等の塩基と２−（トリメチルシリル）エタンスルホニルクロリドを加え、−２０℃〜６０℃、好ましくは−０℃〜３０℃で１時間〜２４時間、好ましくは５時間〜１８時間反応させることにより、化合物ａ８４を得ることができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１４に準じて行うことができる。
（工程５）
化合物ａ８５のＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、テトラブチルアンモニウムフルオリド、Pyridine-ＨＦなどのフッ素イオン加え、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜６０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは１０時間〜２０時間反応させることにより、化合物ａ８６を得ることができる。
（工程６）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１３に準じて行うことができる。またはａ１１３の合成における工程１に準じて行うことができる。

【0303】

［２−８］化合物ａ４０の別合成法

【化102】

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（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物ａ８４をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基とヨウ化メチル、ブロモ酢酸エチル等の市販もしくは公知の方法で合成したアルキル化剤を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物ａ８７を得ることができる。
（工程２）
［２−７］化合物ａ４０の別法における工程５に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１４に準じて行うことができる。

【0304】

［２−９］化合物ａ４６の別合成法

【化103】

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（式中、各記号は前記と同意義である。）
（工程１）
化合物ａ９０をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＴＦＡ、トシル酸、塩酸等の酸を加え、−２０℃〜６０℃、好ましくは０℃〜４０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜２時間反応させることにより、化合物ａ９１を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ９１のＴＨＦ、ＤＭＦ、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中において、水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等の塩基とＲ^２’−Ｉ、Ｒ^２’−Ｂｒ、Ｒ^２’−Ｃｌなどのハロゲン化アルキルを加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜６０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは３時間〜１２時間反応させることにより、化合物ａ４６を得ることができる。

【0305】

［２−１０］化合物（Ｉ−１’−５）の合成法

【化104】

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（式中、各記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程３に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程５に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程７に準じて行うことができる。
（工程５）
化合物ａ９６のジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基とＤＭＡＰおよび２−ニトロベンゼンスルホニルクロライドを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜８時間反応させることにより、化合物ａ９７を得ることができる。
（工程６）
［２−７］化合物ａ４０の別法における工程５に準じて行うことができる。
（工程７）
化合物ａ９８のトルエン、ＴＨＦ、ジクロロメタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、光延試薬としてＤＥＡＤ、ＤＩＡＤやアゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）を、トリフェニルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンやトリブチルホスフィンを加え、−２０℃〜７０℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．１時間〜１２時間、好ましくは０．５時間〜２時間反応させることによって化合物ａ９９を得ることができる。
（工程８）
化合物ａ９９のピリジン、ルチジン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＴＦＡＡを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜４時間反応させることにより、化合物ａ１００を得ることができる。
（工程９）
化合物ａ１００のＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の塩基とチオフェノールを加え、-2０℃〜６０℃、好ましくは０℃〜２０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜８時間反応させることにより、化合物ａ１０１を得ることができる。
（工程１０）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程１１）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程１０に準じて行うことができる。
（工程１２）
化合物（Ｉ−１’−１）合成における工程１１に準じて行うことができる。

【0306】

［２−１１］化合物（Ｉ−１’’’’−１）の合成法

【化105】

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（式中、Ａは単結合、−Ｏ−、または−ＮＲ^ａであり、Ｒは水素、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキルであり、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ４９のジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基と化合物ａ１００を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物ａ１０４を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ１０４のメタノール、エタノール、テトラヒドロフランやＤＭＳＯ等の溶媒中またはこれらの混合溶媒中、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムや水酸化リチウム等を加え，-２０℃〜５０℃、好ましくは-５℃〜２０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは１時間〜６時間反応させることにより、化合物ａ１０５を得ることができる。
（工程３）
化合物ａ１０５のＴＨＦ、ジエチルエーテル等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ボランテトラヒドロフラン錯体、ボロンジメチルスルフィド錯体などの還元剤を加え、０℃〜１００℃、好ましくは５０℃〜８０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜３時間反応させることにより、化合物ａ１０６を得ることができる。
（工程４）
化合物ａ１０６のＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の塩基、および市販または公知の方法により調整したアルキル化剤を加え、-３０℃〜１００℃、好ましくは-1０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１０７を得ることができる。または、ジクロロメタンやクロロホルム等の溶媒中において、三フッ化Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ硫黄などのハロゲン化剤を加え、-３０℃〜１００℃、好ましくは-1０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１０７を得ることができる。またはメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリドなどの活性化剤によって化合物２１８を活性化した後に塩基存在下で置換アルコール，置換アミンを加え、-３０℃〜５０℃、好ましくは-1０℃〜２０℃で、０．５時間〜１２時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１０７を得ることができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0307】

［２−１２］化合物（Ｉ−１’’’’−２）の合成法

【化106】

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（式中、各記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ４９のピリジン、ルチジン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、２‐クロロエタン‐１‐スルホニルクロリドを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、１時間〜８時間、好ましくは２時間〜４時間で反応させることにより、化合物ａ１０８を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ１０８のＴＨＦ、ＤＭＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液または置換アミンを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、０．５時間〜８時間、好ましくは１時間〜４時間反応させることにより、化合物ａ１０９を得ることができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0308】

［２−１３］化合物（Ｉ−１’’’’−３）の合成法
（化合物ａ１１３の合成法）

【化107】

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（式中、Ｔ^２環は置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の芳香族炭素環、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環であり、Ｘ’はＣ_１−６アルキルスルホニルオキシ、ハロＣ_１−６アルキルスルホニルオキシまたは置換もしくは非置換のアリールスルホニルオキシ等であり、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ４９のトルエン、ＤＭＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、化合物a１１０とＢＩＮＡＰ、ｘａｎｔｐｈｏｓなどのホスフィン、ジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウムなどの触媒、および炭酸セシウム、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどの塩基を加え、４０℃〜１２０℃、好ましくは５０℃〜１００℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜４時間反応させることにより、化合物ａ１１１を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ１１１のＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、テトラブチルアンモニウムフルオリド、Pyridine-ＨＦなどのフッ素イオンを加え、４０℃〜１００℃、好ましくは５０℃〜８０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは３時間〜１８時間反応させることにより、化合物ａ１１２を得ることができる。
（工程３）
化合物ａ１１２のトルエン、ＤＭＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン等などの塩基とトリフレート化試薬（例：N-フェニル-ビス(トリフルオロメタンスルホンイミド)等）、メシル化試薬（例：メタンスルホニルクロリド、メタンスルホン酸無水物等）などのスルホニル化試薬を加え、−１０℃〜６０℃、好ましくは０℃〜２０℃で、５分間〜４時間、好ましくは１０分間〜１時間反応させることにより、化合物ａ１１３を得ることができる。
（化合物（Ｉ−１’’’’−３）の合成）

【化108】

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（式中、Ｒ’は置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換アルキニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の芳香族炭素環、置換もしくは非置換の非芳香族複素環、または置換もしくは非置換の芳香族複素環であり、その他の記号は上記と同意義である。）
（工程１）
化合物ａ１１２のトルエン、ＴＨＦ、ジクロロメタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、光延試薬としてＤＥＡＤ、ＤＩＡＤやアゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）を、トリフェニルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンやトリブチルホスフィンと市販または公知の方法により調製した、Ｒ’で置換されたアルコールを加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることによって化合物ａ１１４を得ることができる。あるいは、ＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の塩基と市販または公知の方法により調整したアルキル化剤を加え、-３０℃〜１００℃、好ましくは-1０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１１４を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0309】

［２−１４］化合物（Ｉ−１’’’’−４）の合成法

【化109】

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（式中、Ｐ^１は９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基やベンジルオキシカルボニル基等のアミノの保護基であり、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ１１３の合成における工程１に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物ａ１１５の各保護基に対応した常法の脱保護法によって、化合物ａ１１６を得ることができる。例えば、Ｐ^１が９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基の場合、ジクロロメタン，クロロホルム等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ジエチルアミンなどの塩基と０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることによって化合物ａ１１６を得ることができる。あるいは、Ｐ^１がベンジルオキシカルボニル基の場合、メタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、５％または１０％パラジウムカーボン、水酸化パラジウム、二酸化白金等の触媒を加え、水素雰囲気下、１〜１０気圧、好ましくは１〜３気圧下で、０℃〜６０℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、０．１時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることによって化合物ａ１１６を得ることができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0310】

［２−１５］化合物（Ｉ−１’’’’−５）の合成法

【化110】

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（式中、Ｒ’ ’は置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアシル、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、または置換もしくは非置換のカルバモイルであり、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１３に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0311】

［２−１６］化合物（Ｉ−１’’’’−６）の合成法

【化111】

[この文献は図面を表示できません]

（式中、Ｔ^３環は置換もしくは非置換の芳香族炭素環または置換もしくは非置換の芳香族複素環であり、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
［２−１３］化合物ａ１１８をトルエン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＢＩＮＡＰ、ｘａｎｔｐｈｏｓなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウムなどの触媒と炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基とジフェニルメタンイミンを加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．５時間〜１２時間、好ましくは１時間〜６時間で反応させることにより、化合物ａ１１９を得ることができる。
（工程２）
化合物ａ１１９をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基とＭｓＣｌ, ＡｃＣｌ, ＭｅＮＣＯ等の市販もしくは公知の方法で合成したスルホニル化剤、酸クロライド、イソシアネート、アルキル化剤またはアリール化剤等を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間反応させることにより、化合物ａ１２０を得ることができる。
（工程３）
化合物ａ１２０のＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の塩基、および市販または公知の方法により調整したアルキル化剤またはアリール化剤等を加え、-３０℃〜１００℃、好ましくは-1０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１２１を得ることができる。
工程２および工程３は、順序を入れ替えても合成することができる．
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0312】

［２−１７］化合物（Ｉ−１’’’’−７）の合成法

【化112】

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（Ｒ^１０、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の芳香族炭素環、置換もしくは非置換の非芳香族複素環、または置換もしくは非置換の芳香族複素環であり、またはＲ^１０およびＲ^１１は結合する炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環もしくは置換もしくは非置換の複素環を形成していてもよく、またはＲ１１およびＲ１２が結合する炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環もしくは置換もしくは非置換の複素環を形成していてもよく、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0313】

［２−１８］化合物（Ｉ−１’’’’−８）の合成法

【化113】

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（式中、各記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ１２２のメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸等の溶媒中またはこれらの混合溶媒中、５％または１０％パラジウムカーボン、水酸化パラジウムや二酸化白金等の触媒を加え，０℃〜５０℃、好ましくは１５℃〜２５℃、０．１時間〜４８時間、好ましくは１時間〜２４時間、水素雰囲気下、常圧または加圧下にて反応させることよって化合物ａ１２３を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0314】

［２−１９］化合物（Ｉ−１’’’’−９）の合成法

【化114】

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（式中、ｆは１〜４の整数であり、その他の記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ１１３の合成における工程１に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物ａ１２５のＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、テトラブチルアンモニウムフルオリド、Pyridine-ＨＦなどのフッ素イオンを加え、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜４０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは２時間〜６時間反応させることにより、化合物ａ１２６を得ることができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0315】

［２−１９］化合物（Ｉ−１’’’’−９−１）の合成法

【化115】

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（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物ａ１２６のＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の塩基と市販または公知の方法により調整したアルキル化剤を加え、-３０℃〜１００℃、好ましくは-1０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１５５を得ることができる。あるいは、市販または公知の方法により調製した、Ｒ’ＯＨで示されるアルコールをトルエン、ＴＨＦ、ジクロロメタン等の溶媒、またはそれらの混合溶媒に溶解させ中、光延試薬としてＤＥＡＤ、ＤＩＡＤやアゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）、トリフェニルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンやトリブチルホスフィンと化合物ａ１２６を加え、−２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜３０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることによって化合物ａ１５５を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0316】

［２−２０］化合物（Ｉ−１’’’’−１０）の合成法

【化116】

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（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物ａ１２６の塩化メチレン、アセトン、ＤＭＳＯ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、デスマーチン試薬、二酸化マンガン、クロロクロム酸ピリジニウム等の酸化剤を加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜４５℃で、０．５時間〜５時間、好ましくは１時間〜３時間反応させることにより、化合物ａ１２７を得ることができる。また、一般的なＳｗｅｒｎ酸化によっても得ることができる。
（工程２）
化合物ａ１２７のジクロロメタン、ＴＨＦ、メタノール等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、酢酸やＴＦＡ等と市販もしくは公知の方法によって合成したアミンを加え、、反応中間体であるイミンを生成させ、反応液中にナトリウムシアノボロハイドライドやナトリウムトリアセトキシボロハイドライド、ピコリン−ボラン複合体等の還元剤を加え、−３０℃〜６０℃、好ましくは０℃〜２０℃、０．１時間〜２４時間、好ましくは０．５時間〜１２時間反応することによって化合物ａ１２８を得ることができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0317】

［２−２１］化合物（Ｉ−１’’’’−１１）および化合物（Ｉ−１’’’’−１２）の合成法

【化117】

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（式中、各記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物ａ１１３の合成における工程１に準じて行うことができる。
（工程２）
［２−７］化合物ａ４０の別法における工程５に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物ａ１３０のＤＭＦ、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の塩基、および市販または公知の方法により調整したアルキル化剤を加え、-３０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜５０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜５時間反応させることにより、化合物ａ１３１および化合物ａ１３２を得ることができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0318】

［２−２２］化合物（Ｉ−１’’’’−１３）の合成法

【化118】

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（式中、各記号は前記と同意義である）
（工程１）
［２−７］化合物ａ４０の別法における工程３に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１４に準じて行うことができる。
（工程４）
［２−７］化合物ａ４０の別法における工程５に準じて行うことができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１３に準じて行うことができる。
（工程６）
化合物ａ１３６のＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、テトラブチルアンモニウムフルオリド、Pyridine-ＨＦなどのフッ素イオンを加え、０℃〜１００℃、好ましくは６０℃〜８０℃で、１時間〜２４時間、好ましくは２時間〜６時間反応させることにより、化合物Ｉ−１’’’’−１３を得ることができる。

【0319】

［２−２３］化合物（Ｉ−１’’’’−１４）の合成

【化119】

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（式中、Ｔ４環は置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環であり、その他の記号は上記と同意義である。）
（工程１）
化合物（Ｉ−１’−１）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程２）
トルエン、キシレン、ＤＭＦやDMSO等の溶媒中において、化合物ａ１３７に、化合物ａ１５０，２，６−ルチジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンやＮ，Ｎ’−ジメチル-1,2-エチレンジアミン等の塩基とヨウ化銅（Ｉ）を加え、３０℃〜２５０℃、好ましくは８０℃〜２００℃、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜２時間反応することによって、化合物ａ１３８を得ることができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’−１）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１３に準じて行うことができる。または、
化合物ａ１１３の合成における工程１に準じて行うことができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−１’−１）の合成における工程１０に準じて行うことができる。
（工程６）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0320】

［２−２４］化合物（Ｉ−１’’’’−１５）の合成

【化120】

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（式中、各記号は前記と同意義である）
（工程１）
化合物（Ｉ−１’−２）の合成における工程４，５に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’−２）の合成における工程６に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’’’’−１）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0321】

［２−２５］化合物（Ｉ−１’’’’−１６）の合成

【化121】

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（工程１）
化合物a１２２のTHF、ジエチルエーテル等の溶媒中において、９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナンやジシアミルボラン、テキシルボランなどのボラン化合物を加え、−１０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜２５℃、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜５時間反応させ、その後水とペルオキソほう酸ナトリウム四水和物などの酸化剤を加え０℃〜６０℃、好ましくは２５℃〜５０℃、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜５時間反応することによって、化合物ａ１４７を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−１’’’’−３）の合成における工程３に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−１’’’’−１）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−１’）の合成における工程１５に準じて行うことができる。

【0322】

［３］化合物（Ｉ−２）の合成

【0323】

【化122】

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（式中、Ｒはアルキル等；その他の記号は前記と同意義）

【0324】

（工程１）
化合物b1を、例えば Journal of Organic Chemistry, 2013, 78(17), 8217-8231.に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物b2を得ることができる。
（工程２）
化合物b2とＲ^４Ａ-ＣＨＯを、例えば Angewandte Chemie, International Edition, 2012, 51(46), 11589-11593.に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物b3を得ることができる。
（工程３）
化合物b3を、塩基（例：水酸化ナトリウム）存在下、溶媒（例：THF、メタノールと水の混合液）中、適切な温度（例：室温から約５０°Ｃ）で反応させることにより、エステル基が加水分解されてカルボキシル基に変換される。その後、続けて例えばDPPAなどを用いたクルチウス（Curtius）反応によりカルボキシル基をアミノ基へ変換することができる。
続いて、前記Ｔ^１環の形成反応に準じて行うことにより、化合物b4を得ることができる。
（工程４）
化合物b4とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物b5を得ることができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−１）の合成における工程６、７に準じて行うことができる。

【0325】

上記製法により得られる最終化合物は、当業者に周知の化学修飾を行うことによってさらに別の本発明化合物に変換できる。各反応前後において官能基（例：ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ）が存在する場合、所望により当業者に周知の反応によって、官能基に対する保護または脱保護反応を行っても良い（参考：Organic Synthesis, written by T. W. Greene, John Wiley & Sons Inc. (1991)。

【0326】

本発明化合物は、ＨＩＶ複製阻害作用を有するため、エイズ等、ウイルス感染症の治療剤および／または予防剤として有用である。
本発明化合物のＨＩＶ複製阻害作用は、例えば、後記試験例１および／または試験例２において、好ましくは、ＥＣ５０値が１００ｎＭ以下、より好ましくは５０ｎＭ以下、さらに好ましくは２０ｎＭ以下、特に好ましくは１０ｎＭ以下である。同作用の評価としては、ＥＣ９０値も使用可能である。また好ましい化合物では、ウイルス変異耐性が強い。またより好ましい化合物では、Ｃ２４／ＥＣ５０値が高い（Ｃ２４：投与２４時間後の血中濃度）。
本発明化合物は、ウイルス、特にＨＩＶ（例：ＨＩＶ−１）やその変異ウイルス、耐性ウイルスに対しての複製阻害活性のみならず、医薬としての有用性を備えており、下記の１つ以上の優れた特徴を有している。
ａ）血清タンパク存在下における抗ウイルス活性（例：ＰＡ−ＥＣ５０、ＰＡ−ＥＣ９０等）が良好である。
ｂ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ１Ａ２，ＣＹＰ２Ｃ９，ＣＹＰ３Ａ４，ＣＹＰ２Ｄ６，ＣＹＰ２Ｃ１９等）に対する阻害作用が弱い。
ｃ）血中濃度が高い、経口吸収性が高い、効果持続時間が長い、組織移行性が低い、適度なクリアランス、高いバイオアベイラビリティ等の良好な薬物動態を示す。
ｄ）光毒性（例：光溶血作用等）、変異原性、心毒性（例：ＱＴｃ延長等）、肝毒性、腎毒性、痙攣等の毒性を示さない。
ｅ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ３Ａ４）に対し、本明細書に記載する測定条件の濃度範囲内で不可逆的阻害作用を示さず、ＭＢＩ能が低い。
ｆ）化合物の安定性（例えば、各種液性における溶液安定性、光安定性、着色安定性等）および／または水に対する溶解性が高い。
ｇ）代謝安定性が高い。
ｈ）消化管障害（例：出血性腸炎、消化管潰瘍、消化管出血等）を起こさない。
ｉ）本願化合物自身または他剤との組み合わせによる耐性ウイルス出現の頻度・確率が低い。
ｊ）耐性ウイルスに対しても強い薬効を示す。

【0327】

本発明の医薬組成物は、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することができる。非経口投与の方法としては、経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳、膣内投与等が挙げられる。

【0328】

経口投与の場合は常法に従って、内用固形製剤（例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤等）、内用液剤（例えば、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤、チンキ剤等）等の通常用いられるいずれの剤型に調製して投与すればよい。錠剤は、糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠または口腔内崩壊錠であってもよく、散剤および顆粒剤はドライシロップであってもよく、カプセル剤は、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤であってもよい。

【0329】

非経口投与の場合は、注射剤、点滴剤、外用剤（例えば、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤、坐剤等）等の通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することができる。注射剤は、Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ型等のエマルジョンであってもよい。

【0330】

本発明化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬組成物とすることができる。さらに、該医薬組成物は、本発明化合物の有効量、剤型および／または各種医薬用添加剤を適宜変更することにより、小児用、高齢者用、重症患者用または手術用の医薬組成物とすることもできる。小児用医薬組成物は、１２歳または１５歳未満の患者に投与するのが好ましい。また、小児用医薬組成物は、出生後２７日未満、出生後２８日〜２３か月、２歳〜１１歳または１２歳〜１６歳若しくは１８歳の患者に投与されうる。高齢者用医薬組成物は、６５歳以上の患者に投与するのが好ましい。

【0331】

本発明の医薬組成物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考慮した上で設定することが望ましいが、経口投与する場合、通常０．０５〜１００ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．１〜１０ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常０．００５〜１０ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．０１〜１ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。これを１日１回〜数回に分けて投与すれば良い。

【0332】

本発明化合物は、該化合物の作用の増強または該化合物の投与量の低減等を目的として、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、その他の抗ＨＩＶ薬等（以下、併用薬剤と略記する）と組み合わせて用いることができる。この際、本発明化合物と併用薬剤の投与時期は限定されず、これらを投与対象に対し、同時に投与してもよいし、時間差をおいて投与してもよい。さらに、本発明化合物と併用薬剤とは、それぞれの活性成分を含む２種類の製剤として投与されてもよいし、両方の活性成分を含む単一の製剤として投与されてもよい。

【0333】

併用薬剤の投与量は、臨床上用いられている用量を基準として適宜選択することができる。また、本発明化合物と併用薬剤の配合比は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症状、組み合わせ等により適宜選択することができる。例えば、投与対象がヒトである場合、本発明化合物１重量部に対し、併用薬剤を０．０１〜１００重量部用いればよい。
また、本発明化合物は、遺伝子治療の分野において、ＨＩＶやＭＬＶをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、本発明化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
逆転写酵素阻害剤としては、例えば、ＡＺＴ、３ＴＣ、ジダノシン、ザルシタビン、サニルブジン、アバカビル、テノホビル、エムトリシタビン、ネビラビン、エファビレンツ、カプラビリン、エトラビリン、デラビルジン等が挙げられる。
プロテアーゼ阻害剤としては、例えば、インディナビル、リトナビル、サキナビル、ネルフィナビル、アンプレナビル、アタナザビル、ロピナビル、ホスアンプレナビル、ダルナビル、アタザナビル、ブレカナビル、ティプラナビル等が挙げられる。
インテグラーゼ阻害剤としては、例えば、ラルテグラビル、エルビテグラビル、ＪＴＫ−６５６、ドルテグラビル（Ｓ−３４９５７２）、Ｓ−２６５７４４等が挙げられる。
その他の抗ＨＩＶ薬としては、例えば、マラビロク、ビクリビロク等の侵入阻害剤、エンフュビルタイド、シフュビルタイド、アルブビルタイド等の融合阻害剤等が挙げられる。

【0334】

以下に実施例および参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。

【0335】

（LC/MS測定条件）
（１）カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ Ｃ１８ （１．７μｍ ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８ ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。

【0336】

（２）カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＸＲ−ＯＤＳ （２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ） （Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６ ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。

【0337】

（３）カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ Ｃ１８ （１．７μｍ ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８ ｍL/分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］は１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水溶液、［Ｂ］はアセトニトリル
グラジェント：３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。

【0338】

（略語）
ＢＩＮＡＰ：2,2'-ビス（ジフェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチル
Ｃｂｚ：ベンジルオキシカルボニル
ＤＥＡＤ：アゾジカルボン酸ジエチル
ＤＩＡＤ：アゾジカルボン酸ジイソプロピル
ＤＭＡ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＤＭＥ：１，２−ジメトキシエタン
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ｄｔｂｐｆ：１，１’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノフェロセン
Ｆｍｏｃ：９−フルオレニルメチルオキシカルボニル
ＨＦ：フッ化水素
ＩＰＥ：イソプロピルエーテル
Ｍｅ：メチル
Ｍｓ：メタンスルホニル
ｍＣＰＢＡ：メタクロロ過安息香酸
Ｎｓ：ノシル＝２−ニトロベンゼンスルホニル
Ｐｈ：フェニル
ＰｄＣｌ２：塩化パラジウム
Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３：トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)
ｐ−Ｔｏｌ：ｐ−トリル
ＳＥＭ：２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
ＳＥＳ：２−（トリメチルシリル）エタンスルホニル
ｔＢｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
ＴＢＡＦ：フッ化テトラ-n-ブチルアンモニウム
ＴＢＳ：トリブチルシリル
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＦＡＡ：無水トリフルオロ酢酸
ＴＭＳ：トリメチルシリル
ＴＩＰＳ：トリイソプロピルシリル
ｘａｎｔｐｈｏｓ：４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチル−９Ｈ−キサンテン
（実施例１―Ａ）

【0339】

化合物６ｉの合成

【化123】

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工程１
化合物１ｉ（１８．４ｇ、１０２ｍｍｏｌ）に塩化チオニル（４８．９ｇ、４１１ｍｍｏｌ）を加え、６時間還流した。反応液を減圧濃縮し、化合物２ｉ（２０．０７ｇ、収率９９％）を茶色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ:2.61(3H, s), 7.52(1H, t, J=8.0Hz), 7.94(1H, d, J=8.0Hz), 8.28(1H, d, J=8.0Hz)．
工程２
窒素雰囲気下、４頚フラスコにシアン化銅（９．９１ｇ、１１１ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１００ｍL）、ヨウ化ナトリウム（３０．１ｇ、２０１ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間攪拌した。これに、化合物２ｉ（２０．０７ｇ、１０１ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１００ｍＬ）溶液を加え、室温で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にジクロロメタン（２００ｍL）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を減圧濃縮して、化合物３ｉ（１９．４０ｇ、収率１００％）を茶色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ:2.69(3H, s), 7.67(1H, t, J=8.0Hz), 8.05(1H, d, J=8.0Hz), 8.47(1H, d, J=8.0Hz)．
工程３
化合物３ｉ（１５．３４ｇ、８１ｍｍｏｌ）にトルエン（３０ｍＬ）、臭化ナトリウム（０．８３ｇ、８．１ｍｍｏｌ）、８５（ｗ／ｗ）％硫酸（２６．１ｍL、４０３ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で１時間攪拌した。さらに、８５（ｗ／ｗ）％硫酸（２６．１ｍL、４０３ｍｍｏｌ）を追加し、７０℃で２時間攪拌した。反応液を氷浴で冷却した後、メタノール（１５０ｍL）を加え、２時間還流した。反応液を氷浴で冷却し、水（１５０ｍL）を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重層水、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンより固体化を行ない、化合物４ｉ（１１．４５ｇ、収率６４％）を橙色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ:2.58(3H, s), 3.96(3H, s), 7.49(1H, t, J=8.0Hz), 7.84(1H, d, J=8.0Hz), 7.96(1H, d, J=8.0Hz)．
工程４
窒素雰囲気下、３頚フラスコにＮ-（（１Ｓ，２Ｓ）-２-アミノシクロヘキシル）-ｐ-トルエンスルホンアミド（５．２７ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）、ジクロロ（ｐ-シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（６．１２ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ（１ｍL）、トリエチルアミン（６．１ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１時間攪拌した。これに、室温に放冷した後、化合物４ｉ（８９３ｍｇ、４．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ（３ｍL）、ギ酸−トリエチルアミン混液（モル比５：２）（４ｍＬ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、１Ｍ塩酸、水、飽和重層水、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製を行ない、化合物５ｉ（８７２ｍｇ、収率９７％）を橙色固体として得た。
ＳＦＣキラルカラム分析（ダイセル製ＩＦカラム：４．６ｘ２５９ｍｍ、３μｍ）の結果、光学純度は９０％eeであった。
1H-NMR (CDCl3) δ:2.51(3H, s), 3.56(1H, d, J=4.3Hz), 3.79(3H, s), 5.47(1H, d, J=4.3Hz), 7.35(1H, dd, J=7.8, 8.0Hz), 7.58(1H, dd, J=1.0, 7.8Hz), 7.72(1H, dd, J=1.0, 8.0Hz)．
工程５
化合物５ｉ（５．０４ｇ、２２．４ｍｍｏL）を酢酸ｔ−ブチル（５０．５ｍＬ）に溶解し、氷浴下にて、７０％過塩素酸水溶液（１．９３ｍL、２２．４ｍｍｏL）を加え、１時間撹拌した。反応液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することで粗化合物６ｉを無色油状物（６．１４ｇ、租収率９７．４％）として得た。
¹H NMR (CDCl₃) δ: 1.22 (s, 9H), 2.53 (s, 3H), 3.69 (s, 3H), 5.31 (s, 1H), 7.32-7.37 (m, 1H), 7.68 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.84 (d, J = 7.6 Hz, 1H).
（実施例１―Ｂ）

【0340】

化合物１４ｉの合成

【化124】

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工程１
粗化合物６ｉ（３０．０ｇ、１０７ｍｍｍｏｌ）をエタノール（１５０ｍＬ）と水（１５０ｍL）に溶解し、室温にて、塩化アンモニウム（３４．２ｇ、６４０ｍｍｏL）、鉄（１７．８７ｇ、３２０ｍｍｏｌ）を加え室温にて、１時間攪拌した後に、６０℃で２時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することで粗化合物７ｉを褐色油状物（２７ｇ、租収率１００％）として得た。
¹H NMR (CDCl₃) δ: 1.21 (s, 9H), 2.21 (s, 3H), 3.60 (brs, 2H), 3.65 (s, 3H), 5.22 (s, 1H), 6.63-6.68 (m, 1H), 6.97-7.04 (m, 1H).
工程２
粗化合物７ｉ（２．０ｇ）をＤＭＡ（１０ｍＬ）に溶解し、水浴下、ＮＢＳ（３．１２ｇ、１７．５１ｍｍｏL）を加え、同温で1時間攪拌した。反応液に２０％チオ硫酸ナトリウム水溶液と５％炭酸水素ナトリウム水溶液を順次滴下し、室温で10分間間攪拌した。
混合溶液に水を滴下し、室温で６０分間間攪拌した後に，析出した固体を濾過することで化合物８ｉを淡赤色固体（２.５g、収率７６．８％）として得た。
¹H NMR (CDCl₃) δ: 1.21 (s, 9H), 2.26 (s, 3H), 3.67 (s, 3H), 4.13(brs, 2H), 5.71 (s, 1H), 7.54 (s, 1H).
工程３
化合物８ｉ（０．５ｇ、１．２２ｍｍｏｌ）とヨウ化カリウム（６０．６ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（４ｍＬ）溶液に、６０℃でｔｅｒｔ-ブチルヒドロペルオキシド（０．４ｍＬ、４．６４ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に２０％チオ硫酸ナトリウム水溶液と５％炭酸水素ナトリウム水溶液を順次加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去することで粗化合物９ｉを淡黄色固体（０．４ｇ、租収率７６．２％）として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.22(s, 9H), 2.37(s, 3H), 3.71(s, 3H), 5.77(s, 1H), 7.77(s, 1H)
工程４
化合物９ｉ（２．２ｇ、５．０１ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（２．４５ｇ、７．５２ｍｍｏｌ）、アセトアミド（０．５９ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）、ｒａｃ−ＢＩＮＡＰ（０．２３ｇ、０．３８ｍｍｏｌ）のトルエン（１１ｍＬ）／ＤＭＡ（５．５ｍＬ）懸濁液に８０℃でパラジウム（０）ビス(ジベンジリデンアセトン)（１４４ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１時間攪拌した。反応液に１０％塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１０ｉ（１．８ｇ、収率５９．７％）を淡黄色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.21(s, 9H), 2.17(s, 3H), 2.38(s, 3H), 3.70(s, 3H), 5.81(s, 1H), 7.85(s, 1H), 8.45(s, 1H)
工程５
化合物１０ｉ（６ｇ、１４．３８ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（９．９４ｇ、７１．９ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物１１ｉ（２．６ｇ、収率４８％）を黄色固体として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 374.95 [M+H]+, RT=2.21min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（２）
工程６
化合物１１ｉ（３.６ｇ、９．５９ｍｍｏｌ）のエタノール（３６ｍＬ）溶液に氷冷下、硝酸銀（３．２６ｇ、１９．１９ｍｍｏｌ）、ヨウ素（４．８７ｇ、１９．１９ｍｍｏｌ）を加え室温で４時間攪拌した。不溶物を除去し、ろ液に重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１２ｉ（４．５ｇ、収率９４％）を茶色固体として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 499.10 [M-H]-, RT=2.49min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（２）
工程７
化合物１２ｉ（５ｇ、９．８３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍＬ）溶液にトリエチルアミン（４．０９ｍＬ、２９．５ｍｍｏｌ）、プロピン (約４％ ＤＭＦ溶液, 約１．０ｍｏｌ/Ｌ)（１９．７ｍＬ、１９．７ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（３７４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２（６９０ｍｇ、０．９８３ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で３時間攪拌した。反応液に１５％塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。更にメタノールを加え活性炭で処理し、溶媒を減圧留去することで粗化合物１３ｉ（３．７ｇ、租収率９１．１％）を褐色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ:1.23(s, 9H), 2.22(s, 3H), 2.37(s, 3H), 3.70(s, 3H), 5.26(brs, 1H), 5.85(s, 1H), 7.85(s, 1H), 8.45(s, 1H)
工程８
化合物１３ｉ（３．７ｇ、８．９３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１９ｍＬ）溶液に１ｍｏｌ／Ｌ―ＴＢＡＦ・ＴＨＦ溶液（３１．２ｍＬ、３１．２ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１２時間攪拌した。反応液に１５％塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣にトルエンを加えて共沸乾固した。得られた残渣にクロロホルム／トルエン（１：１）（１６ｍL）を加えてシリカゲル濾過し、残渣をｎーヘキサン／トルエンにて固体化することで化合物１４ｉ（１．８９ｇ、収率５１．２％）を淡緑色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ:1.23(s, 9H), 2.50(s, 3H), 2.72(s, 3H), 3.68(s, 3H), 6.05(s, 1H), 6.41(s, 1H), 9.43(brs, 1H)

【0341】

（実施例１−Ｃ）
化合物１９ｉの合成

【化125】

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工程１
化合物１４ｉ（２．１２ｇ、５．１３ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（２１．２ｍL）溶液に、４−メチルフェニルボロン酸（１．４０ｇ、１０．２６ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）（３３４ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２．１２ｇ、５．１３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気化、１３０℃で５０分加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）により精製し、化合物１５ｉを黄色固体（２．１ｇ、９０％）として得た。
MS(ESI) m/z：425.27 [M+H]+,RT=3.04min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２
化合物１５ｉ（２．１ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）のエタノール（２１ｍL）、水（４ｍL）溶液に、鉄粉（１．３８ｇ、２４．７ｍｍｏｌ）と塩化アンモニウム （２．６５ｇ、４９．５ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で５０分加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、セライト濾過し、濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をＤＩＯＬカラムクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）により精製し、化合物１６ｉを茶色固体（１．７ｇ、８７％）として得た。
MS(ESI) m/z：395.25 [M+H]+，RT=2.68min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３
化合物１６ｉ（４．９ｇ、１２．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２５ｍL）溶液に、氷冷化、ピリジン （２．５１ｍL、３１．１ｍｍｏｌ）と２‐トリメチルシリルエチルスルホニルクロリド（２．８３ｍL、１４．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を２ｍｏｌ/L塩酸水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）により精製し、化合物１７ｉを無色泡状化合物（６．６ｇ、８６％、純度９０％）として得た。
MS(ESI) m/z：559.38 [M+H]+，RT=3.01min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４
化合物１７ｉ（６．６ｇ、１０．７ｍｍｏｌ）のジメチルアセトアミド（６６ｍL）溶液に、炭酸セシウム（９．０５ｇ、２７．８ｍｍｏｌ）と１，２−ジブロモエタン （２．６１ｇ、１３．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応液に２ｍｏｌ/L塩酸水と水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）により精製し、化合物１８ｉを無色泡状化合物（６．２ｇ、９８％）として得た。
MS(ESI) m/z：602.52 [M+H₂O]+，RT=2.25min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程５
化合物１８ｉ（６．２ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５ｍL）溶液に、１ｍｏｌ/Lテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒドロフラン溶液（２７ｍL、２７．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）により精製し、化合物１９ｉを無色泡状化合物（４．２ｇ、９６％）として得た。
MS(ESI) m/z：421.40 [M+H]+，RT=2.85min，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
（実施例１）

【0342】

【化126】

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第１工程
ビスピナコールジボロン（１３６ｍｇ、０．５３５ｍｍｏｌ）のヘキサン（２ｍＬ）溶液に、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（２８．７ｍｇ、０．１０７ｍｍｏｌ）、１，５−シクロオクタジエンメトキシイリジウム（２３．６ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で窒素雰囲気下１０分間攪拌した。続いてＴＨＦ（０．４ｍＬ）、化合物１（１５０ｍｇ、０．３５７ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下３０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２（１５４ｍｇ、収率７９％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 547.00 [M+H]⁺
第２工程
化合物２（７０ｍｇ、０．１２８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．１９２ｍＬ、０．３８４ｍｍｏｌ）、１ｍｏｌ／Ｌ−ビニルブロマイド・ＴＨＦ溶液（１．２８ｍＬ、１．２８ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）（８．３５ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を加え６０℃で窒素雰囲気下、３０分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物３（３２．３ｍｇ、収率５７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 447.05 [M+H]⁺
第３工程
化合物３（３０ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ）のメタノール（２ｍＬ）溶液に、１０％Ｐｄ/Ｃ（１０ｍｇ、０．００４ｍｍｏｌ）を加え室温で水素雰囲気下、３０分間攪拌した。反応液をセライト濾過後、ろ液を減圧濃縮し、化合物４（２５ｍｇ、収率８３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 449.10 [M+H]⁺
第４工程
化合物４（２５ｍｇ、０．０５６ｍｍｏｌ）のエタノール（２ｍＬ）、ＴＨＦ（２ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２７９ｍＬ、０．５８ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、４．５時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、Ｉ−６（２０ｍｇ、収率８３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 435.10 [M+H]⁺
1H-NMR (CDCl3)δ:0.90(s, 9H), 1.24-1.30(3H, m), 2.43(6H, s), 2.67-2.74(2H, m), 2.77(s, 3H), 3.39-3.45(2H, m), 3.95-4.01(2H, m), 5.59(1H, s), 5.92(1H, s), 7.41(1H, d, J=7.3Hz), 7.58(1H, d, J=7.3Hz), 10.0(1H, brs)

【0343】

（実施例２）

【0344】

【化127】

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【0345】

第１工程
化合物５（１．００ｇ、２．００ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０．０ｍＬ）溶液に、エチニルシクロプロパン（０．３３９ｍL、４．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．０．８３２ｍL、６．００ｍｍｏｌ）、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド（１４０ｍｇ、０．２００ｍｍｏｌ）とヨウ化第一銅（７６．０ｍｇ、０．４００ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、８０℃で１時間２３分間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、氷水と飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６（７２０ｍｇ、収率８１．９％）を得た。
MS(ESI) m/z：439.0, 441.0 [M+H]⁺
第２工程
化合物６（７１８ｍｇ、１．６３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１．６３ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ/Ｌ ＴＢＡＦ ＴＨＦ溶液（２．４５ｍＬ、２．４５ｍｍｏｌ）を加え、７５℃で６時間３８分間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、氷水、飽和塩化アンモニウム水溶液と２ｍｏｌ/Ｌ塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物７（６０２ｍｇ、収率８３．８％）を得た。
MS(ESI) m/z：439.0, 441.0 [M+H]⁺

【0346】

第３工程
化合物７（６００ｍｇ、１．３７ｍｍｏｌ）のエタノール（１０．０ｍＬ）と水（２．００ｍＬ）の混合溶液に、塩化アンモニウム（１．０９ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）と鉄粉（５７２ｍｇ、１０．３ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で９０分間撹拌した。反応液を室温まで冷却、セライトろ過し、ろ液を氷水、飽和塩化アンモニウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物８（４２０ｍｇ、収率７５．１％）を得た。
MS(ESI) m/z：409.1, 411.1 [M+H]⁺
第４工程
化合物８（４１８ｍｇ、１．０２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４．１８ｍＬ）溶液に、氷浴下、ピリジン（０．０９８０ｍL、１．２３ｍｍｏｌ）とクロロアセチルクロリド（０．１２４ｍＬ、１．５３ｍｍｏｌ）を加え、同温で４８分間撹拌した。反応液を氷水と２ｍｏL/Ｌ塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９（４６３ｍｇ、収率９３．３％）を得た。
MS(ESI) m/z：485.0, 487.0 [M+H]⁺

【0347】

第５工程
化合物９（４６０ｍｇ、０．９４７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４．６０ｍＬ）溶液に、氷浴下、水素化ナトリウム（６０％ｗｔ）（９５．０ｍｇ、２．３７ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間４２分間撹拌した。反応液を氷水と２ｍｏｌ/Ｌ塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を（ヘキサン−酢酸エチル）から固化し、化合物１０（２８８ｍｇ、収率６７．７％）を得た。
MS(ESI) m/z： 449.0, 450.9 [M+H]⁺
第６工程
化合物１０（２８７ｍｇ、０．６３９ｍｍｏL）のＴＨＦ（２．８７ｍＬ）溶液に、氷浴下、ボラン・テトラヒドロフラン錯体（０．９２ｍｏｌ/Ｌ ＴＨＦ溶液）（２．０８ｍＬ、１．９２ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間１９分間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、氷水、飽和塩化アンモニウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１１（２３４ｍｇ、収率８４．２％）を得た。
MS(ESI) m/z：435.4, 437.4 [M+H]⁺

【0348】

第７工程
化合物１１（２３２ｍｇ、０．５３３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２．３２ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（１４７ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ）とヨードメタン（０．１００ｍＬ、１．５６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間３５分間撹拌した。反応液を氷水と飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１２（２１１ｍｇ、収率８８．１％）を得た。
MS(ESI) m/z：449.3, 451.3 [M+H]⁺
第８工程
化合物１２（２１０ｍｇ、０．４６７ｍｍｏL）のＤＭＦ（２．１０ｍＬ）と水（０．２１０ｍＬ）の混合溶液に、４−メチルフェニルボロン酸（９５．０ｍｇ、０．７０１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１２９ｍｇ、０．９３５ｍｍｏｌ）とＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）（３０．５ｍｇ、０．０４７０ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で２０分間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、氷水と２ｍｏL/Ｌ塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１３（１９２ｍｇ、収率８９．２％）を得た。
MS(ESI) m/z：461.6 [M+H]⁺

【0349】

第９工程
化合物１３（１９０ｍｇ、０．４１２ｍｍｏｌ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物Ｉ−８（１２３ｍｇ、収率６６．８％）を得た。
MS(ESI) m/z：447.2 [M+H]⁺

【0350】

（実施例３）

【0351】

【化128】

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【0352】

第１工程
化合物１４（６．２ｇ、２０．７ｍｍｏｌ）のメタノール（６２ｍＬ）溶液に、１０％Ｐｄ/Ｃ（４．６６ｇ、２．０７ｍｍｏｌ）を加え、４気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応液をセライト濾過をしたのちに、ろ液の溶媒を減圧留去し化合物１５（５．７７ｇ）の粗精製物を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 6.76 (1H, t, J = 9.2 Hz), 6.59 (1H, dd, J = 8.7, 4.9 Hz), 5.56 (1H, s), 3.67 (3H, s), 3.48 (2H, s), 2.18 (3H, s), 1.21 (9H, s).
第２工程
化合物１５（５．７７ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン（２９ｍＬ）とメタノール（１２ｍＬ）の混合溶液に、ベンジルトリメチルアンモニウムジクロロアイオデート（７．４６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）および炭酸カルシウム（２．１４ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で１４時間撹拌した。反応溶液に、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％亜硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物１６（２．４ｇ、収率２８％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 7.31 (1H, d, J = 9.1 Hz), 5.50 (1H, s), 3.95 (2H, s), 3.67 (3H, s), 2.25 (3H, s), 1.20 (9H, s).

【0353】

第３工程
化合物１６（２．４ｇ、６．０７ｍｍｏｌ）のトルエン（２４ｍＬ）溶液に、ｍＣＰＢＡ（４．１９ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で１４時間撹拌した。反応液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水（５０ｍＬ）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物１７（１．５６ｇ、収率６０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 7.47 (1H, d, J = 8.6 Hz), 5.52 (1H, s), 3.71 (3H, s), 2.36 (3H, s), 1.21 (9H, s).
第４工程
化合物１７（１．５６ｇ、３．６７ｍｍｏｌ）のジオキサン（１５．６ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（２．３９ｇ、７．３４ｍｍｏｌ）、アセトアミド（４３３ｍｇ、７．３４ｍｍｏｌ）、ｒａｃ−ＢＩＮＡＰ（３４３ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（２１１ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で、４時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１８（１．３ｇ、収率９９％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 8.19 (1H, s), 8.03 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.55 (1H, s), 3.71 (3H, s), 2.38 (3H, s), 2.20 (3H, s), 1.22 (9H, s).

【0354】

第５工程
化合物１８（１．３ｇ、３．６５ｍｍｏｌ）のメタノール（１３ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１．５ｇ、１１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で５時間攪拌した。反応液の溶媒留去後、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（６ｍＬ）とトルエン（６ｍＬ）に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ−トリメチルシリルジアゾメタン―ヘキサン溶液（１．８ｍＬ、３．７ｍＬ）を加え、室温で１時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物１９（８００ｇ、収率７０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 6.37 (1H, d, J = 11.3 Hz), 5.44 (1H, s), 4.89 (2H, s), 3.70 (3H, s), 2.39 (3H, s), 1.21 (9H, s).
第６工程
化合物１９（８００ｍｇ、２．５５ｍｍｏｌ）のエタノール（８．０ｍＬ）溶液に、硝酸銀（８６５ｍｇ、５．１ｍｍｏｌ）、ヨウ素（１．３、５．１ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。不溶物をセライト濾過し、ろ液に重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０（４７７ｍｇ、収率４３％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 5.47 (1H, s), 5.33 (2H, s), 3.71 (3H, s), 2.35 (3H, s), 1.21 (9H, s).

【0355】

第７工程
化合物２０（１００ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１．０ｍL）溶液に、トリエチルアミン（０．０９４ｍＬ、０．６８ｍｍｏｌ）と１ｍｏｌ／Ｌ―プロピン―ジメチルホルムアミド溶液（０．４５ｍＬ、０．４５ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（８．７ｍｇ、０．０４５ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２（１６ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液を室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物２１（４７１ｍｇ、収率７２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 5.49 (2H, s), 5.45 (1H, s), 3.69 (3H, s), 2.38 (3H, s), 2.19 (3H, s), 1.21 (9H, s).
第８工程
化合物２１（２４３ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２．４ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／Ｌ―ＴＢＡＦ・ＴＨＦ溶液（１．３８ｍＬ、１．３８ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２２（２３０ｍｇ、収率９５％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 9.56 (1H, s), 6.39 (1H, s), 5.73 (1H, s), 3.69 (3H, s), 2.73 (3H, s), 2.49 (3H, s), 1.22 (9H, s).

【0356】

第９工程
化合物２２（２９０ｍｇ、０．８２ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（２．９ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（４５５ｍｇ、３．２９ｍｍｏｌ）と４，４−ジメチルピペリジン（９３６ｍｇ、６．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１２０℃で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、ＤＮＨシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物２３（１４０ｍｇ、収率３８％）を得た。
MS(ESI) m/z： 446 [M+H]⁺
第１０工程
化合物２３（１４０ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）のメタノール（１．４ｍＬ）溶液に、１０％Ｐｄ/Ｃ（３５０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を加え、４気圧水素雰囲気下、１５時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、ろ液を濃縮することで、化合物２４（１１９ｍｇ）を粗精製物として得た。
MS(ESI) m/z： 416 [M+H]⁺

【0357】

第１１工程
化合物２４（１１９ｍｇ）を、実施例２の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物２５（１１７ｍｇ）を粗精製物として得た。
MS(ESI) m/z： 492 [M+H]⁺
第１２工程
化合物２５（１１７ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を、実施例２の第５および７工程と同様に反応を行うことにより、化合物２６（９４ｍｇ、３工程収率８４％）を得た。
MS(ESI) m/z： 470 [M+H]⁺

【0358】

第１３工程
化合物２６（９４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を、実施例２の第６工程と同様に反応を行うことにより、化合物２７（２３ｍｇ、収率２５％）を得た。
MS(ESI) m/z： 456 [M+H]⁺
第１４工程
化合物２７（２３ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．２３ｍＬ）、メタノール（０．２３ｍＬ）および水（０．０２ｍＬ）の混合溶液に、２ｍｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．１３ｍＬ、０．２５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、７０℃で４時間攪拌した。０．１ｍｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層フェイズセパレーターで水層と分離した。有機層を濃縮後、ＤＩＯＬクロマトグラフィー（クロロホルムーメタノール）および液体クロマトグラフィーにより光学分割、精製して化合物Ｉ−１０（５ｍｇ、収率２２％）を得た。
MS(ESI) m/z： 442 [M+H]⁺

【0359】

（実施例４）

【0360】

【化129】

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【0361】

第１工程
化合物２８（３．１ｇ、７．３２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（７．３２ｍＬ、１４．６５ｍｍｏｌ）、ｐ−クロロフェニルボロン酸（１．７２ｍｇ、１１．０ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）（５３６ｍｇ、０．７３２ｍｍｏｌ）を加え１００℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エバポレーターで減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２９（２．６１ｇ、収率７８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 454.90 [M+H]⁺
第２工程
化合物２９（３００ｍｇ、０．６５９ｍｍｏｌ）を、実施例２の第６工程と同様に反応を行うことにより、化合物３０（２３９ｍｇ、収率８２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 441.00 [M+H]⁺

【0362】

第３工程
化合物３０（８０ｍｇ、０．１８１ｍｍｏｌ）のピリジン（０．５ｍＬ）溶液に、メタンスルホン酸無水物（６３．２ｍｇ、０．３６３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エバポレーターで減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物３１（８７．１ｍｇ、収率９３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 519.00[M+H]⁺
第４工程
化合物３１（８７．１ｍｇ、０．１６８ｍｍｏｌ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、Ｉ−１９（３５ｍｇ、収率４１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 505.00 [M+H]⁺
1H-NMR (CDCl3)δ:0.94(s, 9H), 2.34(s, 3H), 2.45(s, 3H), 3.08(s, 3H), 3.45(brs, 1H), 4.09-4.41(m, 3H), 5.41(s, 1H), 5.89(s, 1H), 7.37-7.47(m, 3H), 7.67-7.76(m, 1H)

【0363】

（実施例５）

【0364】

【化130】

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第１工程
化合物３２（３００ｍｇ、０．５４９ｍｍｏｌ）のメタノール（８ｍＬ）−水（２ｍＬ）溶液に、臭化銅（ＩＩ）（３６８ｍｇ、１．６５ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３０分間撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物３３の粗精製物（１８７ｍｇ）を得た。
MS(ESI) m/z：499.00,500.80 [M+H]⁺
第２工程
化合物３３の粗精製物（１３０ｍｇ、０．２６０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．１０８ｍＬ、０．７８１ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（９．９１ｍｇ、０．０５２ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（１８．３ｍｇ、０．０２６ｍｍｏｌ）および１ｍｏｌ／ＬプロピンＤＭＦ溶液（０．５２１ｍＬ、０．５２１ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０℃で３．５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物３４の粗精製物（８３．０ｍｇ）を得た。
MS(ESI) m/z：459.2 [M+H]⁺
第３工程
化合物３４の粗精製物（８０ｍｇ、０．１７４ｍｍｏｌ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物Ｉ−８４（２６．０ｍｇ、３工程収率１６％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 2.10 (s, 3H), 2.42 (s, 3H), 2.43 (s, 3H), 2.77 (s, 3H), 3.37-3.44 (m, 2H), 4.05-4.12 (m, 2H), 5.59 (s, 1H), 6.34 (s, 1H), 7.22-7.27 (m, 2H), 7.37 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 10.01 (s, 1H).

【0365】

（実施例６）

【0366】

【化131】

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第１工程
化合物３５（５．９２ｇ、１４．３ｍｍｏｌ）およびピリジン（２．８８ｍＬ、３５．６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液に、氷冷下、２−（トリメチルシリル）エタンスルホニルクロリド（５．７２ｇ、２８．５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を加え、室温に昇温しつつ１６．５時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物３６（７．０３ｇ、収率８５％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.00 (s, 9H), 0.92 (s, 9H), 1.05-1.12 (m, 2H), 2.37 (s, 3H), 2.48 (s, 3H), 3.02-3.10 (m, 2H), 3.71 (s, 3H), 5.27 (s, 1H), 5.75-5.79 (m, 1H), 6.15 (s, 1H), 7.35-7.39 (m, 1H), 7.43-7.50 (m, 3H), 9.04 (s, 1H).
第２工程
化合物３６（１．１４ｇ、１．９７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１２ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（１．２９ｇ、３．９５ｍｍｏｌ）および１，２−ジブロモエタン（０．２５５ｍＬ、２．９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８．５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物３７（１．１３ｇ、収率９５％）を得た。
MS(ESI) m/z：605.1 [M+H]⁺
第３工程
化合物３７（３０．０ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１ｍＬ）溶液に、氷冷下で１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ[２，２，２]オクタンビス（テトラフルオロボラート）（ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ（Ｒ）、２６．３ｍｇ、０．０７４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下、３０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物３８（１１．６ｍｇ、収率３８％）を得た。
MS(ESI) m/z：623.0 [M+H]⁺
第４工程
化合物３８（１１０ｍｇ、０．１７６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／ＬＴＢＡＦ ＴＨＦ溶液（０．３５３ｍＬ、０．３５３ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物３９（７３．０ｍｇ、収率９０％）を得た。
MS(ESI) m/z：459.0 [M+H]⁺
第５工程
化合物３９（７３．０ｍｇ、０．１５９ｍｍｏｌ）を、実施例２の第７工程および実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物Ｉ−６７（３１．３ｍｇ、２工程収率４３％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.93 (s, 9H), 2.30 (s, 3H), 2.42 (s, 3H), 2.76 (s, 3H), 3.39-3.48 (m, 2H), 3.87-3.94 (m, 2H), 5.43 (s, 1H), 7.38-7.44 (m, 3H), 7.67 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 9.96 (s, 1H).

【0367】

（実施例７）

【0368】

【化132】

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第１工程
化合物４０（１．７８ｇ、３．２１ｍｍｏｌ）のメタノール（１０ｍＬ）−ＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液に、１０％水酸化パラジウム（４５１ｍｇ、０．３２１ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。不溶物をセライトでろ去し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物４１（１．５０ｇ）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 2.45 (s, 3H), 2.47 (s, 3H), 2.81 (s, 3H), 3.39-3.47 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 4.42-4.49 (m, 1H), 4.50-4.56 (m, 1H), 5.47 (s, 1H), 7.05 (s, 1H), 7.26-7.30 (m, 2H), 7.32-7.36 (m, 1H), 7.42-7.47 (m, 1H).
第２工程
化合物４１（３００ｍｇ、０．６４６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、０．５ｍｏｌ／Ｌアンモニア１，４−ジオキサン溶液（６．４６ｍＬ、３．２３ｍｍｏｌ）およびＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（４９１ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２５分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４２（２９９ｍｇ、収率１００％）を得た。
MS(ESI) m/z：464.1 [M+H]⁺
第３工程
化合物４２（２９０ｍｇ、０．６２６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．１７３ｍＬ、１．２５ｍｍｏｌ）およびトリフルオロ酢酸無水物（０．１３２ｍＬ、０．９３８ｍｍｏｌ）を加え、室温で撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４３（２７０ｍｇ、収率９７％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.89 (s, 9H), 2.44 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 2.82 (s, 3H), 3.43-3.52 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 4.16-4.24 (m, 2H), 5.45 (s, 1H), 6.80 (s, 1H), 7.24-7.30 (m, 3H), 7.41-7.44 (m, 1H).
第４工程
化合物４３（２７０ｍｇ、０．６０６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍＬ）溶液に、塩化リチウム（２５７ｍｇ、６．０６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で１９．５時間撹拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物Ｉ−３９（７３．０ｍｇ、収率２８％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 0.79 (s, 9H), 2.38 (s, 3H), 2.40 (s, 3H), 2.73 (s, 3H), 3.37-3.43 (m, 2H), 4.18-4.28 (m, 2H), 5.30 (s, 1H), 6.81 (s, 1H), 7.27-7.36 (m, 3H), 7.43-7.49 (m, 1H).

【0369】

（実施例８）

【0370】

【化133】

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化合物４４（１５０ｍｇ、０．３０１ｍｍｏｌ）のメタノール（１．５ｍＬ）溶液に、１０％水酸化パラジウム（８４．０ｍｇ、０．０６０ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、室温で２６時間撹拌した。不溶物をセライトでろ去し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製した。
得られた粗精製物（４５．０ｍｇ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、ジアステレオマー混合物である化合物Ｉ−１１０（９．０ｍｇ、２工程収率６％）を得た。
MS(ESI) m/z：487.2 [M+H]⁺

【0371】

（実施例９）

【0372】

【化134】

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第１工程
化合物４５（５０．０ｍｇ、０．１０６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（１２．８ｍｇ、０．３１９ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下１０分間撹拌した。反応液に、オキサリルクロリド（０．２１１ｍＬ、２．４１７ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４６（２２．３ｍｇ、収率４０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.91 (s, 9H), 2.37 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 2.72 (s, 3H), 5.15 (d, J = 12.1 Hz, 1H), 5.23 (d, J = 12.1 Hz, 1H), 5.43 (s, 1H), 6.23 (s, 1H), 7.15 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.20-7.37 (m, 8H), 8.80 (s, 1H).
第２工程
化合物４６（２２．０ｍｇ、０．０４２ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（２ｍＬ）溶液に、５％パラジウム−炭素（２０．０ｍｇ、０．００９ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間撹拌した。不溶物をろ去した後、減圧濃縮し、得られた残渣を高速液体クロマトグラフィー（０．１％ギ酸水溶液−０．１％ギ酸アセトニトリル溶液）で精製し、化合物Ｉ−５９（１．６ｍｇ、収率９％）および化合物Ｉ−５８（７．２ｍｇ、収率３９％）を得た。
化合物Ｉ−５９：MS(ESI) m/z：435 [M+H]⁺
化合物Ｉ−５８（ジアステレオマー混合物）：MS(ESI) m/z：437 [M+H]⁺

【0373】

（実施例１０）

【0374】

【化135】

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第１工程
化合物４７（４．６４ｍＬ、３３．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５０ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（９．２０ｍＬ、６６．４ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４１．０ｍｇ、０．３３２ｍｍｏｌ）およびベンゾイルクロリド（５．７８ｍＬ、４９．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４８（８．２４ｇ、収率９９％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.37 (s, 3H), 1.43 (s, 3H), 1.97-2.12 (m, 2H), 3.65 (dd, J = 8.0, 7.2 Hz, 1H), 4.13 (dd, J = 8.0, 5.9 Hz, 1H), 4.28 (ddd, J = 11.6, 7.2, 5.9 Hz, 1H), 4.40 (ddd, J = 12.4, 6.6, 4.6 Hz, 1H), 4.50 (ddd, J = 12.4, 5.3, 5.3 Hz, 1H), 7.44 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 2H), 7.57 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 1H), 8.03 (d, J = 7.3 Hz, 2H).
第２工程
化合物４８（８．２４ｇ、３２．９ｍｍｏｌ）の酢酸（６０ｍＬ）−水（２５ｍＬ）溶液を、６０℃で５時間撹拌した後、８０℃で６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４９（３．４９ｇ、収率５１％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.82-1.99 (m, 3H), 2.63-2.75 (m, 1H), 3.50-3.59 (m, 1H), 3.66-3.75 (m, 1H), 3.85-3.93 (m, 1H), 4.39-4.46 (m, 1H), 4.64 (ddd, J = 11.1, 9.1, 5.1 Hz, 1H), 7.45 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 2H), 7.57 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 1H), 8.04 (d, J = 7.3 Hz, 2H).
第３工程
化合物４９（８００ｍｇ、３．８１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍＬ）溶液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン（２３．３ｍｇ、０．１９０ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．７３９ｍＬ、５．３３ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で５分間撹拌した。ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（６８８ｍｇ、４．５７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２ｍＬ）を滴下し、室温で２４時間撹拌した。反応液に水および飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５０（９８１ｍｇ、収率７９％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.08 (s, 6H), 0.91 (s, 9H), 1.80-1.97 (m, 2H), 2.52 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 3.51 (dd, J = 9.9, 7.1 Hz, 1H), 3.69 (dd, J = 9.9, 3.5 Hz, 1H), 3.82-3.90 (m, 1H), 4.46-4.54 (m, 2H), 7.44 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 2H), 7.56 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 1H), 8.04 (d, J = 7.3 Hz, 2H).
第４工程
化合物５０（６５８ｍｇ、２．０３ｍｍｏｌ）および化合物５１（５００ｍｇ、１．０１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液に、トリフェニルホスフィン（７９８ｍｇ、３．０４ｍｍｏｌ）およびアゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）（７１３ｍｇ、３．０４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５２（５１８ｍｇ、収率６４％）を得た。
MS(ESI) m/z：799 [M+H]⁺
第５工程
化合物５２（５１８ｍｇ、０．６４８ｍｍｏｌ）を、実施例６の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物５３（３３０ｍｇ、収率７４％）を得た。
MS(ESI) m/z：685 [M+H]⁺
第６工程
化合物５３（３３０ｍｇ、０．４８２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．２００ｍＬ、１．４５ｍｍｏｌ）およびメタンスルホニルクロリド（０．１１３ｍＬ、１．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水および飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をＤＭＦ（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（５７．８ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５４（１０３ｇ、収率３２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 1.52-1.59 (m, 1H), 1.79-1.88 (m, 1H), 2.32 (s, 3H), 2.48 (s, 3H), 3.11 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.00 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 4.31-4.40 (m, 2H), 4.47 (dd, J = 12.4, 4.3 Hz, 1H), 4.66-4.73 (m, 1H), 5.28 (s, 1H), 5.84 (s, 1H), 7.37-7.66 (m, 7H), 8.06 (d, J = 7.3 Hz, 2H).
第７工程
化合物５４（１０３ｍｇ、０．１５４ｍｍｏｌ）のメタノール（１ｍＬ）−ＴＨＦ（１ｍＬ）溶液に、氷冷下、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５００ｍＬ、１．００ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５５（７８．４ｍｇ、収率９０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 1.30-1.37 (m, 1H), 1.41-1.49 (m, 1H), 2.32 (s, 3H), 2.45 (s, 3H), 3.21 (s, 3H), 3.64-3.72 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 3.96 (d, J = 12.1 Hz, 1H), 4.45 (dd, J = 12.1, 4.7 Hz, 1H), 4.71-4.77 (m, 1H), 5.27 (s, 1H), 5.82 (s, 1H), 7.36-7.45 (m, 3H), 7.50-7.54 (m, 1H).
第８工程
化合物５５（７３．０ｍｇ、０．１３０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（７．８ｍｇ、０．１９４ｍｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した後、ヨウ化メチル（０．０２４ｍＬ、０．３８９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５６（５８．３ｍｇ、収率７８％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 1.27-1.34 (m, 1H), 1.59-1.65 (m, 1H), 2.31 (s, 3H), 2.45 (s, 3H), 3.21 (s, 3H), 3.26-3.30 (m, 1H), 3.37 (s, 3H), 3.40-3.47 (m, 1H), 3.75 (s, 3H), 3.94 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 4.43 (dd, J = 12.4, 4.3 Hz, 1H), 4.58-4.67 (m, 1H), 5.27 (s, 1H), 5.81 (s, 1H), 7.35-7.46 (m, 3H), 7.50-7.54 (m, 1H).
第９工程
化合物５６（５８．０ｍｇ、０．１００ｍｍｏｌ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、Ｉ−４３（４５．５ｍｇ、収率８０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.92 (s, 9H), 1.21-1.29 (m, 1H), 1.56-1.66 (m, 1H), 2.32 (s, 3H), 2.41 (s, 3H), 3.20-3.28 (m, 4H), 3.34-3.44 (m, 4H), 3.94 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 4.44 (dd, J = 12.4, 4.4 Hz, 1H), 4.57-4.64 (m, 1H), 5.39 (s, 1H), 5.87 (s, 1H), 7.38-7.48 (m, 3H), 7.74-7.79 (m, 1H), 10.12 (s, 1H).

【0375】

（実施例１１）

【0376】

【化136】

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第１工程
化合物３５（１００ｍｇ、０．２４１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（２３６ｍＬ、０．７２３ｍｍｏｌ）および２−クロロピリミジン（５５．２ｍｇ、０．４８２ｍｍｏｌ）を加え、マイクロ波照射下、２００℃で１時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５７（１１．３ｍｇ、収率１０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.93 (s, 9H), 2.33 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 3.70 (s, 3H), 5.31 (s, 1H), 5.80 (s, 1H), 6.68 (t, J = 4.8 Hz, 1H), 6.90 (s, 1H), 7.37-7.47 (m, 3H), 7.50-7.55 (m, 1H), 8.36 (d, J = 4.8 Hz, 2H), 8.55 (s, 1H).
第２工程
化合物５７（１１．０ｍｇ、０．０２２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、氷冷下、大過剰の６０％水素化ナトリウムおよび１，２−ジブロモエタンを加え、室温で１４時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル）により精製し、化合物Ｉ−８５（１．７mｇ、収率１５％）を得た。
MS(ESI) m/z：505 [M+H]⁺

【0377】

（実施例１２）

【0378】

【化137】

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第１工程
化合物５８（８５０ｍｇ、１．９１ｍｍｏｌ）および３−ブロモプロパ−１−イン（４５５ｍｇ、３．８２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（１５３ｍｇ、３．８２ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をエタノール（２０ｍＬ）および水（３ｍＬ）に溶解し、塩化アンモニウム（１．０２ｇ、１９．１ｍｍｏｌ）および鉄粉（１．０７ｇ、１９．１ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で４時間撹拌した。不溶物をろ去した後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣にクロロホルムおよび水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５９（２５１ｍｇ、収率２９％）を得た。
MS(ESI) m/z：453 [M+H]⁺
第２工程
化合物５９（２５１ｍｇ、０．５５４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（４ｍＬ）溶液に、トリメチルシリルアジト（７７．０ｍｇ、０．６６５ｍｍｏｌ）および亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチル（８６．０ｍｇ、０．８３１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をトルエンに溶解し、１１０℃で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６０（１３９ｍｇ、収率５２％）を得た。
MS(ESI) m/z：479 [M+H]⁺
第３工程
化合物６０（１３９ｍｇ、０．２９０ｍｍｏｌ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物Ｉ−１２１（９１．０ｍｇ、収率６７％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.97 (s, 9H), 2.39 (s, 3H), 3.01 (s, 3H), 5.43 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 5.49 (s, 1H), 5.54 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 6.01 (s, 1H), 7.38-7.44 (m, 1H), 7.45-7.50 (m, 2H), 7.67-7.73 (m, 1H), 7.77 (s, 1H).

【0379】

（実施例１３）

【0380】

【化138】

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第１工程
化合物６１（１００ｍｇ、０．１５７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（１２．６ｍｇ、０．３１５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分撹拌した。反応液にブロモ酢酸エチル（０．０３５ｍＬ、０．３１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６２（６６．８mｇ、収率５９％）を得た。
MS(ESI) m/z：721 [M+H]⁺
第２工程
化合物６２（６６．０ｍｇ、０．０９１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／ＬＴＢＡＦ ＴＨＦ溶液（０．５００ｍＬ、０．５００ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチルおよびクロロホルム−メタノール）により精製し、化合物６３（３９．７ｍｇ、収率７８％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 1.30 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 2.29 (s, 3H), 2.30 (s, 3H), 3.66-3.72 (m, 4H), 3.79-3.87 (m, 2H), 3.89-3.97 (m, 1H), 4.10-4.18 (m, 3H), 4.25 (q, J = 7.2 Hz, 2H), 4.46 (s, 1H), 5.31 (s, 1H), 5.81 (s, 1H), 7.38-7.42 (m, 3H), 7.49-7.53 (m, 1H).
第３工程
化合物６３（３９．０ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）を、実施例１０の第７工程と同様に反応を行うことにより、化合物６４（３７．０ｍｇ）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.91 (s, 9H), 2.30 (s, 6H), 3.67-3.76 (m, 4H), 3.81-3.88 (m, 2H), 3.90-3.97 (m, 1H), 4.10-4.16 (m, 1H), 4.21 (d, J = 17.0 Hz, 1H), 4.27 (d, J = 17.0 Hz, 1H), 5.32 (s, 1H), 5.81 (s, 1H), 7.37-7.43 (m, 3H), 7.48-7.53 (m, 1H).
第４工程
化合物６４（３７．０ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’−Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（３９．９ｍｇ、０．１０５ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．０１８ｍＬ、０．１０５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６５（３４．６ｍｇ、収率９７％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.94 (s, 9H), 2.27 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 3.97-4.03 (m, 1H), 4.09-4.18 (m, 2H), 4.32-4.46 (m, 4H), 5.29 (s, 1H), 5.81 (s, 1H), 7.33-7.37 (m, 1H), 7.40-7.45 (m, 2H), 7.49-7.53 (m, 1H).
第５工程
化合物６５（３４．０ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ）を、実施例２の第６工程および実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物Ｉ−１２４（１１．３ｍｇ、２工程収率３５％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.91 (s, 9H), 2.36 (s, 3H), 2.38 (s, 3H), 2.94-2.99 (m, 2H), 3.24-3.30 (m, 1H), 3.86 (dd, J = 11.9, 3.5 Hz, 1H), 3.90-3.97 (m, 2H), 4.02 (d, J = 11.9 Hz, 1H), 4.21 (dd, J = 11.9, 3.5 Hz, 1H), 4.42 (dd, J = 11.9, 11.9 Hz, 1H), 5.41 (s, 1H), 5.89 (s, 1H), 7.41-7.46 (m, 3H), 7.68 (s, 1H), 9.88 (s, 1H).

【0381】

（実施例１４）

【0382】

【化139】

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第１工程
化合物３５（５００ｍｇ、１．２１ｍｍｏｌ）およびピリジン（０．２９２ｍＬ、３．６２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液に、氷冷下、２−クロロエタンスルホニルクロリド（０．１８９ｍＬ、１．８１ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６６（３４２ｍｇ、収率５６％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.90 (s, 9H), 2.39 (s, 6H), 3.70 (s, 3H), 5.25 (s, 1H), 5.78 (s, 1H), 5.94 (d, J = 9.9 Hz, 1H), 6.15-6.26 (m, 2H), 6.64 (dd, J = 16.4, 9.9 Hz, 1H), 7.33-7.40 (m, 1H), 7.42-7.49 (m, 3H), 8.90 (s, 1H).
第２工程
化合物６６（２４２ｍｇ、０．４７９ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）]ペンタ−４−エン−２−オール（３１１ｍｇ、１．４４ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフィン（３７７ｍｇ、１．４４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２．４２ｍＬ）溶液に、氷冷下、アゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）（３３７ｍｇ、１．４４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６７（１７９ｍｇ、収率５３％）を得た。
MS(ESI) m/z：703 [M+H]⁺
第３工程
化合物６７（１７７ｍｇ、０．２５２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８．８５ｍＬ）溶液に、グラブス第二世代触媒（２１．３ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６８（１４２ｍｇ、収率８３％）を得た。
MS(ESI) m/z：675 [M+H]⁺
第４工程
化合物６８（１２０ｍｇ、０．１７８ｍｍｏｌ）のメタノール（１．８ｍＬ）溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（２６９ｍｇ、７．１１ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物６９（１０７ｍｇ、収率７６％）を得た。
MS(ESI) m/z：677 [M+H]⁺
第５工程
化合物６９（１０５ｍｇ、０．１５５ｍｍｏｌ）を、実施例６の第４工程および実施例１０の第６工程と同様に反応を行うことにより、化合物７０（９．０ｍｇ、２工程収率１０％）を得た。
MS(ESI) m/z：545 [M+H]⁺
第６工程
化合物７０（９．０ｍｇ、０．０１７ｍｍｏｌ）を、実施例２の第９工程と同様に反応を行うことにより、化合物Ｉ−１２８（７．７ｍｇ、収率８８％）を得た。
MS(ESI) m/z：531 [M+H]⁺

【0383】

（実施例１５）

【0384】

【化140】

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第１工程
化合物２９（１２０ｍｇ、０．２６４ｍｍｏｌ）に、ジフェニル（２−ピリジル）ホスフィン（２５９ｍｇ、１．０６ｍｍｏｌ）およびアゾジカルボン酸ジイソプロピル（２１４ｍｇ、１．０６ｍｍｏｌ）加え、４５℃で３時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物７１（６４．０ｍｇ、収率５１％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.94 (s, 9H), 2.42 (s, 3H), 2.97 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 5.35 (s, 1H), 5.67-5.75 (m, 2H), 6.00 (s, 1H), 7.35-7.40 (m, 1H), 7.45-7.52 (m, 3H).
第２工程
化合物７１（６４．０ｍｇ、０．１３３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．００ｍＬ、２．００ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下で２時間撹拌した。反応液に水および２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物Ｉ−１２６（５０．０ｍｇ、収率８１％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.97 (s, 9H), 2.43 (s, 3H), 2.97 (s, 3H), 5.47 (s, 1H), 5.70 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 5.77 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.05 (s, 1H), 7.37-7.43 (m, 1H), 7.45-7.51 (m, 2H), 7.65-7.71 (m, 1H).

【0385】

（実施例１６）

【0386】

【化141】

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第１工程
化合物７２（２５．０ｇ、２０３ｍｍｏｌ）の水（２５０ｍＬ）懸濁液に、塩化アンモニウム（１．８６ｇ、３４．７ｍｍｏｌ）およびオルトギ酸エチル（５０．０ｇ、３２８ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下で１０．５時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルで固化し、化合物７３（１９．５ｇ、収率６５％）を得た。
MS(ESI) m/z：146.9 [M+H]⁺
第２工程
化合物７３（１９．１ｇ、１３０ｍｍｏｌ）のクロロホルム（２００ｍＬ）溶液に、氷冷下、Ｎ−ブロモスクシイミド（２３．２ｇ、１３０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２５分間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、生じた固体をろ取し、水で洗浄することで化合物７４（２５．４ｇ、収率８７％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 2.41 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 7.43 (s, 1H), 7.66 (s, 1H), 11.70-12.71 (m, 1H).
第３工程
化合物７４（１．００ｇ、４．４４ｍｍｏｌ）に氷冷下で濃硫酸（５．００ｍＬ）を加えた後、濃硝酸（１．００ｍＬ）を滴下し、室温で３５分間撹拌した。反応液に水を加え、生じた固体をろ取し、水で洗浄した。得られた固体（１．０４ｇ、３．８５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２０ｍＬ）に懸濁し、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（２３１ｍｇ、５．７８ｍｍｏｌ）および２−（クロロメトキシ）エチルトリメチルシラン（１．０２ｍＬ、５．７８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液に塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物７５（２０６ｍｇ、２工程収率１２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.00 (s, 9H), 0.94 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 2.54 (s, 3H), 2.69 (s, 3H), 3.54 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 5.47 (s, 2H), 7.81 (s, 1H).
第４工程
化合物７５（２００ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２ｍＬ）の溶液に、フッ化亜鉛（１５５ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）、トリｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（０．０２４ｍＬ、０．１００ｍｍｏｌ）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）（２８．７ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）および化合物７６（３２７ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で１．５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物７７（２０５ｍｇ、収率８８％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: -0.04 (s, 9H), 0.89 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 1.24 (s, 9H), 2.51 (s, 3H), 2.68 (s, 3H), 3.52 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 3.67 (s, 3H), 5.36 (s, 1H), 5.50 (s, 2H), 7.86 (s, 1H).
第５工程
化合物７７（１３．０ｇ、２７．９ｍｍｏｌ）を、実施例１の第３工程と同様に反応を行うことにより、化合物７８（１１．２ｇ、収率９２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: -0.06 (s, 9H), 0.87 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 1.24 (s, 9H), 2.30 (s, 3H), 2.61 (s, 3H), 3.51 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 3.64 (s, 3H), 4.27 (s, 2H), 5.35 (s, 1H), 5.42 (s, 2H), 7.09 (s, 1H).
第６工程
化合物７８（１０．９ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１１０ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモスクシイミド（４．９０ｇ、２７．５ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で２０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物７９（６．１０ｇ、収率４７％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: -0.04 (s, 9H), 0.91 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 1.22 (s, 9H), 2.29 (s, 3H), 2.63 (s, 3H), 3.58-3.68 (m, 5H), 4.28 (s, 2H), 5.82 (d, J = 10.9 Hz, 1H), 5.94 (d, J = 10.9 Hz, 1H), 6.01 (s, 1H).
第７工程
化合物７９（１３０ｍｇ、０．２５３ｍｍｏｌ）を、実施例６の第４工程と同様に反応を行うことにより、化合物８０（７３．０ｍｇ、収率７５％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.22 (s, 9H), 2.30 (s, 3H), 2.60 (s, 3H), 3.66 (s, 3H), 4.25 (s, 2H), 5.77 (s, 1H), 8.82 (s, 1H).
第８工程
化合物８０（３００ｍｇ、０．７８１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍＬ）溶液に、ピリジン（０．２５２ｍＬ、３．１２ｍｍｏｌ）とメタンスルホニルクロリド（０．１２２ｍＬ、１．５６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３．５時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物８１（３００ｍｇ、収率８３％）を得た。
MS(ESI) m/z：461.9, 463.8 [M+H]⁺
第９工程
化合物８１（３００ｍｇ、０．６４９ｍｍｏｌ）を、実施例６の第２工程および実施例４の第１工程と同様に反応を行うことにより、化合物８２（２３０ｍｇ、２工程収率６８％）を得た。
MS(ESI) m/z：520.0 [M+H]⁺
第１０工程
化合物８２（２３０ｍｇ、０．４４２ｍｍｏｌ）を、実施例１の第４工程と同様に反応を行うことにより、カルボン酸（１４０ｍｇ、収率６３％）を得た。さらに光学分割することにより、化合物Ｉ−９８、Ｉ−９９を得た。
Ｉ−９８：MS(ESI) m/z：506 [M+H]⁺
Ｉ−９９：MS(ESI) m/z：506 [M+H]⁺
（実施例１７）

【0387】

【化142】

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第１工程 化合物８４の合成
化合物８３（４．２４ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１２．７ｍＬ）溶液に、ヨウ化ナトリウム（２．２７ｇ、１５．１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．０９ｇ、１５．１ｍｍｏｌ）、２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１．０９ｍL、１０．６ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で４時間攪拌した。反応液に水を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をDIOLカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル（３％トリエチルアミン））で精製し、化合物８４（４．９９ｇ、９７％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 506.49 [M+H]+、 LC/MS測定条件：（１）
第２工程 化合物８５の合成
化合物８４（４．６９ｇ、９．２８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（９．４ｍＬ）溶液に氷冷下、０．９２ｍｏｌ／Ｌボランテトラヒドロフラン溶液（３０．２ｍＬ、２７．８ｍｍｏｌ）を加え、４０℃、４時間攪拌した。反応液に１０ｗｔ％クエン酸水溶液を加え２酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣にメタノール（５０ｍL）を加え、９０℃、５時間攪拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチルを加え、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をDIOLカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル（３％トリエチルアミン））で精製し、化合物８５（３．０ｇ、収率６５％）を白色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z =492.38 [M+H]+、 LC/MS測定条件：（１）
第３工程 化合物Ｉ−２７の合成
化合物８５（６００ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）のメタノール（４ｍＬ）、ＴＨＦ（４ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２．２３ｍＬ、４．４５ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５．５時間攪拌した。反応液を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸でｐH７にし、HPを加えた後、有機溶媒を減圧除去した。得られた残渣をODSカラムクロマトグラフィー（水―アセトニトリル）で精製し、化合物Ｉ−２７（１９５ｍｇ、収率４６％）を白色固体として得た。
LC/MS (ESI):m/z =478.38 [M+H]+、RT=1.70min、 LC/MS測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.58 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.39 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.25-7.22 (2H, m), 5.91 (1H, s), 5.58 (1H, s), 3.94-3.89 (2H, m), 3.44-3.43 (2H, m), 3.03-2.94 (2H, m), 2.74-2.69 (2H, m), 2.42 (6H, s), 2.34-2.31 (9H, m), 0.90 (9H, s).
（実施例１８）

【0388】

【化143】

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工程１ 化合物８７の合成
化合物８６（４６０ｍｇ、１．０８４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４．６ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（３００ｍｇ、２．１６７ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル（６０μL、２．１６７ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０分間撹拌した。さらにヨウ化メチル（６０μL、２．１６７ｍｍｏｌ）を追加し６０℃で２０分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物８７（４３３ｍｇ、収率９１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = ４３９．３ [M+H]+ ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物Ｉ−４８の合成
化合物８７（４３０ｍｇ、０．９６１ｍｍｏｌ）のエタノール（８．０ｍＬ）、ＴＨＦ（４ｍL）の混合溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（４．９ｍＬ）を加え、室温で１時間、さらに６０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却後、反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）、およびメタノール-ＩＰＥによる結晶化により精製し、化合物Ｉ−４８（１１５ｍｇ、収率２７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = ４２５．３[M+H]+ 、ＲＴ＝２．２０ｍｉｎ、 ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H NMR (CDCl₃) δ: 0.92 (s, 9H), 2.36 (s, 3H), 2.43 (s, 3H), 2.78 (s, 3H), 3.41-3.49 (m, 2H), 3.95-4.00 (m, 2H), 5.49 (s, 1H), 5.89 (s, 1H), 7.15 (m, 3H), 7.47 (brs,1H) , 7.70 (brs,1H)
（実施例１９）

【0389】

【化144】

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第１工程 化合物８９の合成
化合物８８（１ｇ、２．２７ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍＬ）溶液に、ナトリウムtert-ブトキシド（３２７ｍｇ、３．４ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−５−メトキシピリミジン（６４３ｍｇ、３．４ｍｍｏｌ）、４，５−ビス(ジフェニルホスフィノ)−９，９−メチルキサンテン（３９４ｍｇ、０．６８ｍｍｏｌ）、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３（６２３ｍｇ、０．６８ｍｍｏｌ）を加え窒素雰囲気下６０℃で１．５時間攪拌した。さらにナトリウムtert-ブトキシド（３２７ｍｇ、３．４ｍｍｏｌ）、２−ブロモー５−メトキシピリミジン（６４３ｍｇ、３．４ｍｍｏｌ）を加え窒素雰囲気下６０℃で１．５時間攪拌した。反応液に２mmol/L塩酸を加え、セライト濾過し、ろ液をクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エバポレーターで減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物８９（８０９ｍｇ、６５％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 549.15 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
第２工程 化合物Ｉ−１５６の合成
化合物８９（７９５ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）のエタノール（４ｍＬ）、ＴＨＦ（４ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３．６２ｍＬ、７．２４ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、２．５時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エバポレーターで減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物Ｉ−１５６（６８．２ｍｇ、収率８９％）を白色固体として得た。
LC/MS (ESI):m/z =535.15 [M+H]+、ＲＴ＝３．２７ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
1H-NMR (CDCl3) δ:0.98(s, 9H), 2.20(s, 3H), 2.30(s, 3H), 3.83(s, 3H), 3.94-4.07(m, 3H), 4.88(brs, 1H), 5.49(s, 1H), 5.87(s, 1H), 7.41-7.47(m, 3H), 7.74(brs, 1H), 8.15(s, 2H)
（実施例２０）

【0390】

【化145】

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工程１ 化合物９０の合成
化合物３０（４００ｍｇ、０．９０７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（８．００ｍＬ）溶液に、臭化シアン（１５２ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１８８ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間撹拌した。臭化シアン（４８．０ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６２．７ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ）を追加し室温で３時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９０（３４６ｍｇ、収率８２％）を得た。LC/MS (ESI):m/z = 466.24 [M+H]+、 ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物９１の合成
化合物９０（３４４ｍｇ、０．７３８ｍｍｏｌ）のエタノール（６．８８ｍＬ）溶液に、塩酸ヒドロキシルアミン（６１．６ｍｇ、０．８８６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９０．０ｍｇ、０．８８６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１０分間撹拌した。ＴＨＦ（２．００ｍＬ）を追加し、６０℃で４０分間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９１（２４３ｍｇ、収率６６％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 499.08 [M+H]+ 、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物９２の合成
化合物９１（８０．０ｍｇ、０．１６０ｍｍｏｌ）のジグリム（１．６０ｍＬ）溶液に、ピリジン（１９．０ｍｇ、０．２４０ｍｍｏｌ）、塩化アセチル（１５．１ｍｇ、０．１９２ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で５０分間撹拌した後、１００℃で９０分間撹拌した。放冷後、反応液を氷水と２ｍｏｌ／Ｌ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９２（７６ｍｇ、収率９１％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 523.37 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物Ｉ−１７６の合成
化合物９２（７４．０ｍｇ、０．１４１ｍｍｏｌ）のエタノール（１．４２ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．３５４ｍＬ）を加え、加熱還流下、１時間撹拌した。放冷後、反応液を氷水と２ｍｏｌ／Ｌ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）、ヘキサンによる結晶化により精製し、化合物Ｉ−１７６（３９．０ｍｇ、収率５４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 509.4 [M+H]+、ＲＴ＝２．５４ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H NMR (DMSO-d₆) δ: 0.82 (s, 9H), 2.44 (s, 3H), 2.31 (s, 3H),2.50 (s, 3H), 4.00-4.25 (m, 4H), 5.20 (s, 1H),5.77 (s, 1H), 7.42 (m, 1H), 7.55-7.70 (m, 3H), 12.51 (brs,1H).
（実施例２１）

【0391】

【化146】

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工程１ 化合物９３の合成
化合物５８（２．２０ｇ、４．９０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１５．４ｍＬ）溶液に、臭化アリル（８８９ｍｇ、７．３５ｍｍｏｌ）、水素下ナトリウム（２９４ｍｇ、７．３５ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、１時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９３（１．３１ｇ、収率７３％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 485.22 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物９４の合成
化合物９３（１．００ｇ、２．０６ｍｍｏｌ）のエタノール（２０．０ｍＬ）、水（５．００ｍＬ）溶液に、亜ジチオン酸ナトリウム（４．２２ｇ、２０．６ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１時間撹拌した。放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９４（５５３ｍｇ、収率５９％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 455.41 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物９５の合成
化合物９４（４５１ｍｇ、０．９９１ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（８．６２ｍＬ）、水（０．８６２ｍＬ）溶液に、ヨウ化カリウム（８２３ｍｇ、４．９６ｍｍｏｌ）、亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチル（５６８ｍｇ、４．９６ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４０分間撹拌した。放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９５（２０２ｍｇ、収率３６％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 566.24 [M+H]+，ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物９６の合成
化合物９５（６４．８ｍｇ、０．１１５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１．９４ｍＬ）、水（１．９４ｍＬ）溶液に、オスミウム酸カリウム二水和物（８．４４ｍｇ、０．０２３０ｍｍｏｌ）、過ヨウ素酸ナトリウム（７３．５ｍｇ、０．３４４ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９６（３８．９ｍｇ、収率５７％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 600.33 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程５ 化合物９７の合成
化合物９６（４５．０ｍｇ、０．０７５０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．９００ｍＬ）、水（０．３０２ｍＬ）溶液に、過ヨウ素酸ナトリウム（４８．１ｍｇ、０．２２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で一時間撹拌後、過ヨウ素酸ナトリウム（１６．０ｍｇ、０．０７５０ｍｍｏｌ）を追加し、一時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物９７（４３．９ｍｇ、収率１０３％）を粗生成物として得た。
工程６ 化合物９８の合成
化合物９７（４３．９ｍｇ、０．０７５０ｍｍｏｌ）のメタノール（０．８５２ｍＬ）溶液に、水素化ホウ素ナトリウム（２．８４ｍｇ、０．０７５０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、５０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え室温で３０分間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９８（３３．２ｍｇ、収率７８％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 570.27 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程７ 化合物９９の合成
化合物９８（２７．５ｍｇ、０．０４８３ｍｍｏｌ）のトルエン（１．３８ｍＬ）溶液に、ヨウ化銅（４．６０ｍｇ、０．０２４２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシン（４．９８ｍｇ、０．０４８３ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（３１．４ｍｇ、０．０９６４ｍｍｏｌ）を加え、マイクロ波照射下、１６０℃で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物９９（１８．３ｍｇ、収率７３％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 442.32 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程８ 化合物Ｉ−１８２の合成
化合物９９（１７．０ｍｇ、０．０３８５ｍｍｏｌ）のエタノール（０．３４０ｍＬ）、ＴＨＦ（０．３４０ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．３５０ｍＬ）を加え、加熱還流下、３時間撹拌した。放冷後、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（０．３４５ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物Ｉ−１８２（１２．８ｍｇ、収率７８％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 428.31 [M+H]+、ＲＴ＝２．５９ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
（実施例２２）

【0392】

【化147】

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工程１ 化合物１０１の合成
化合物１００（１０ｇ、４４．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１５０ｍＬ）溶液に、ｍ−ＣＰＢＡ（４３．９ｍｇ、１７８ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２２時間撹拌した。放冷後、クロロホルムを加え、ろ過した。ろ液を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリムにより乾燥、減圧濃縮し、化合物１０１（８．７０ｇ）を粗生成物として得た。
工程２ 化合物１０２の合成
化合物１０１（８．７０ｇ）のジメチルスルホキシド（１１３ｍＬ）懸濁液に、４０％メチルアミン水溶液（１１．５ｍＬ、１３４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１０２（１．６７ｇ、２工程収率１４％）を得た。LC/MS (ESI):m/z = 264.99 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物１０３の合成
化合物１０２（１．８５ｇ、７．００ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１３．０ｍＬ）溶液に、(Ｚ)-((２−(ｔｅｒｔ−ブトキシ)−１−メトキシビニル)オキシ)トリメチルシラン（３．０６ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）、ＺｎＦ２（１．４５ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）、ビストリｔｅｒｔ−ブチルホスフィンパラジウム（３５７ｍｇ、０．７００ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で２時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル、水を加え、ろ過した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１０３（１．９３ｇ、収率８３％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 331.01 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物１０４の合成
化合物１０３（１．９３ｇ、５．８３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１９．３ｍＬ）溶液に、ＮＢＳ（１．０９ｇ、６．１３ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で２．５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１０４（２．３８ｇ、収率１００％）を粗生成物として得た。 LC/MS (ESI):m/z = 409.15 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程５ 化合物１０５の合成
化合物１０４（１．１４ｇ、２．７８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５．７０ｍＬ）、水（２．８５ｍＬ）の溶液に、ｐ−トリルボロン酸（５６８ｍｇ、４．１７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１５ｇ、８．３５ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ） （１８１ｍｇ、０．２７８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で３０分間撹拌した。放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１０５（９９１ｍｇ、収率８５％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 421.07 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程６ 化合物１０６の合成
化合物１０５（９８７ｍｇ、２．３５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５．９４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（４７５ｍｇ、４．６９ｍｍｏｌ）、クロログリオキシル酸メチル（４３１ｍｇ、３．５２ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（２９．０ｍｇ、０．２３５ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で２０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１０６（１．１１ｇ、収率９３％）を粗生成物として得た。 LC/MS (ESI):m/z = 507.30 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程７ 化合物１０７の合成
化合物１０６（１．１１ｇ、２．１９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１１．１ｍＬ）、メタノール（５．５６ｍＬ）、水（２．７８ｍＬ）溶液に、亜ジチオン酸ナトリウム（３．８１ｇ、２１．９ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下６時間撹拌した。放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１０７（５５３ｍｇ、収率５７％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 445.30 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程８ 化合物１０８の合成
化合物１０７（５５０ｍｇ、１．２４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５．５ｍＬ）溶液に、ＮＢＳ（２６４ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間、６０℃で１時間撹拌した。ＮＢＳ（２６４ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）を追加し６０℃で５時間撹拌した。放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１０８（６９５ｍｇ）を粗生成物として得た。 LC/MS (ESI):m/z = 523.22 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程９ 化合物１０９の合成
化合物１０８（６９５ｍｇ）のＴＨＦ（１．３０ｍＬ）溶液に、０．９０ｍｏｌ／ＬボランＴＨＦ錯体（２９．０ｍｇ、０．２３５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液を氷冷下で加え、室温で７０分間撹拌した。反応液に氷冷下でメタノール、酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１０９（４９１ｍｇ、収率８０％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 495.28 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程１０ 化合物１１０の合成
化合物１０９（４８５ｍｇ、０．９７８ｍｍｏｌ）のトルエン（３．４０ｍＬ）溶液に、酢酸イソプロペニル（２９４ｍｇ、２．９３ｍｍｏｌ）、トリブチル（メトキシ）スズ（９４１、２．９３ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（４３．９ｍｇ、０．１９６ｍｍｏｌ）トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（１１９ｍｇ、０．３９１ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で１時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル、４ｍｏｌ／Ｌフッ化カリウム水溶液を加え、１時間撹拌した後ろ過した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１１０（２９６ｍｇ、収率６７％）を得た。 LC/MS (ESI):m/z = 455.13 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）

工程１１ 化合物Ｉ−１８４およびＩ−１８７の合成
化合物１１０（２３２ｍｇ、０．５１０ｍｍｏｌ）のエタノール（３．４８ｍＬ）、ＴＨＦ（１．５０ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２．６５ｍＬ）を加え、加熱還流下、２時間撹拌した。放冷後、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（２．７０ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣を酢酸エチル、ジイソプロピルエーテル、ヘキサンで結晶化することによりラセミ体の化合物１１１（２０３ｍｇ、収率９０％）を得た。さらに光学分割することにより光学活性体の化合物Ｉ−１８４（８７ｍｇ）および光学活性体の化合物Ｉ−１８７（８４．７ｍｇ）を得た。化合物Ｉ−１８４： LC/MS (ESI):m/z = 441 [M+H]+、ＲＴ＝２．３２ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、化合物Ｉ−１８７： LC/MS (ESI):m/z = 441 [M+H]+、ＲＴ＝２．３２ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
（実施例２３）

【0393】

【化148】

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工程１ 化合物１１３の合成
化合物１１２（４５０ｍｇ、０．６９６ｍｍｏｌ）をトルエン（４．５ｍＬ）に溶解し、ジフェニルメタンイミン（２５２ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）、２，２‘−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’ −ビナフチル（１３０ｍｇ、０．２０９ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（６３．７ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）、および炭酸セシウム（６８０ｍｇ、２．０９ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下１００℃で３時間攪拌した。テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）および２ｍｏｌ/Ｌ塩酸（５ｍＬ）を加え室温で４０分撹拌した。水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１１３（２７１ｍｇ、収率７６％）を橙色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 514 [M+H]+
工程２ 化合物１１４の合成
化合物１１３（４０ｍｇ、０．０７８ｍｍｏｌ）をピリジン（０．７ｍＬ）に溶解した。氷冷下で塩化メタンスルホニル（０．０１２ｍＬ、０．１５６ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分攪拌した。水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を２ｍｏｌ/Ｌ塩酸（１０ｍＬ）、水（１０ｍＬ）および飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１１４（４１ｍｇ、収率８１％）を黄色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 592 [M+H]+
工程３ 化合物１１５の合成
化合物１１４（３７ｍｇ、０．０６３ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（４３ｍｇ、０．３１３ｍｍｏｌ）をＮ, Ｎ―ジメチルホルムアミド（０．７ｍＬ）に溶解した。室温でヨウ化メチル（０．０２０ｍＬ、０．３１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（１０ｍＬ）および飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１１５（３４ｍｇ、収率８９％）を黄色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 606 [M+H]+
工程４ 化合物Ｉ−２０１の合成
化合物１１５（３４ｍｇ、０．０５６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）およびエタノール（０．５ｍＬ）に溶解した。２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で３．５時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（０．５ｍＬ）、および飽和食塩水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−２０１（２９ｍｇ、収率８７％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 592 [M+H]+ , RT=2.71
（実施例２４）

【0394】

【化149】

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工程１ 化合物１１７の合成
化合物１１６（７０ｍｇ、０．１３６ｍｍｏｌ）およびピリジン（０．０２２ｍＬ、０．２７３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（０．７ｍＬ）に溶解した。氷冷下で塩化アセチル（０．０１５ｍＬ、０．２０４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で５０分撹拌した。水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（１０ｍＬ）および飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１１７（６１ｍｇ、収率８０％）を黄色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 556 [M+H]+
工程２ 化合物Ｉ−２０２の合成
化合物１１７（６１ｍｇ、０．１０９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）およびエタノール（０．５ｍＬ）に溶解した。２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（０．５ｍＬ）、および飽和食塩水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、分取用薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−２０２（１８ｍｇ、収率２８％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 542 [M+H]+, RT=2.43
（実施例２５）

【0395】

【化150】

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工程１ 化合物１１８の合成
化合物１１６（７０ｍｇ、０．１３６ｍｍｏｌ）およびピリジン（０．０２２ｍＬ、０．２７３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（０．７ｍＬ）に溶解した。氷冷下で塩化ギ酸２−メトキシエチル（０．０２４ｍＬ、０．２０４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１．５時間撹拌した。再度氷冷し、塩化ギ酸２−メトキシエチル（０．０２４ｍＬ、０．２０４ｍｍｏｌ）およびピリジン（０．０２２ｍＬ、０．２７３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（１０ｍＬ）および飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１１８（６４ｍｇ、収率７７％）を黄色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 616 [M+H]+
工程２ 化合物Ｉ−２０３の合成
化合物１１８（６４ｍｇ、０．１０４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１．０ｍＬ）に溶解した。塩化リチウム（８８ｍｇ、２．０７９ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で２０時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（０．５ｍＬ）、および水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をＨＰＬＣ（０．１％ギ酸水溶液―０．１％ギ酸アセトニトリル溶液）で精製して化合物Ｉ−２０３（３ｍｇ、収率５％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 602 [M+H]+, RT =2.69
（実施例２６）

【0396】

【化151】

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工程１ 化合物１２０の合成
トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（５６．６ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）および２-ジシクロヘキシルホスフィノー２‘，６’−ジイソプロポキシ−１，１‘−ビフェニル（８７ｍｇ、０．１８６ｍｍｏｌ）をトルエン（２ｍＬ）に溶解し、窒素雰囲気下１１０℃で２分間撹拌した。化合物１１９（４００ｍｇ、０．６１９ｍｍｏｌ）、１−メチルピペラジン（６２０ｍｇ、６．２０ｍｍｏｌ）および炭酸セシウム（６０５ｍｇ、１．８６ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）を加え、１１０℃で窒素雰囲気下４時間撹拌した。水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、ジオールシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル）により精製して化合物１２０（１７３ｍｇ、収率４７％）を橙色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（３）: m/z = 597 [M+H]+
工程２ 化合物Ｉ−２０４の合成
化合物１２０（１７１ｍｇ、０．２８７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．０ｍＬ）およびエタノール（１．０ｍＬ）に溶解した。２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加え、９０℃で３．５時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（１．５ｍＬ）、および飽和食塩水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、ジオールカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−２０４（１２０ｍｇ、収率７２％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 583 [M+H]+, RT =2.35
（実施例２７）

【0397】

【化152】

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工程１ 化合物１２２の合成
化合物１２１（４５０ｍｇ、１．５１５ｍｍｏｌ）、２−（トリメチルシリル）エタノール（５３８ｍｇ、４．５５ｍｍｏｌ）、１，１０−フェナントロリン（５４．６ｍｇ、０．３０３ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（２８．９ｍｇ、０．１５２ｍｍｏｌ）および炭酸セシウム（９８８ｍｇ、２．０３ｍｍｏｌ）をトルエン（０．７５ｍＬ）に溶解し、窒素雰囲気下１１５℃で１７時間攪拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）および水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、アミノシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１２２（２８２ｍｇ、収率６５％）を無色液状物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.38 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.69 (1H, s), 6.63 (1H, d, J = 8.0 Hz), 4.11 (2H, t, J = 8.0 Hz), 2.31 (3H, s), 1.20 (2H, t, J = 8.0 Hz), 0.01 (9H, s).
工程２ 化合物１２３の合成
化合物１２２（８．６５ｇ、３０．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８７ｍＬ）に溶解し、窒素雰囲気下、−７８℃で１．６ｍｏｌ／Ｌノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（１９．１ｍＬ、４９．７ｍｍｏｌ））を加え、−７８℃で３０分撹拌した。トリイソプロピルボレート（１４．０ｍＬ、６０．２ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃で１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）および２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３００ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３００ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、生じた残渣をヘキサンで洗浄し化合物１２３（５．３３ｇ、収率７０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.70 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.83 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.70 (1H, s), 5.96 (2H, s), 4.14 (2H, t, J = 8.2 Hz), 2.37 (3H, s), 1.21 (2H, t, J = 8.2 Hz), 0.10 (9H, s).
工程３ 化合物１２４の合成
化合物１２３−１（９．０ｇ、２３．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０ｍＬ）溶液に、氷冷化、ピリジン（４．０５ｍL、５０．１ｍｍｏｌ）、２‐トリメチルシリルスルホニルクロリド（４．５ｍL、２３．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで抽出し、有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１２４（５．６ｇ、収率４３．６％）を無色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 546.99 [M-H]-、RT = 2.92、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物１２５の合成
化合物１２４（１．５ｇ、２．７４ｍｍｏｌ）および炭酸セシウム（２．６８ｇ、８．２２ｍｍｏｌ）をＮ, Ｎ―ジメチルホルムアミド（７．５ｍＬ）に溶解し、室温下、１，２−ジブロモエタン（０．３５４ｍＬ、４．１１ｍｍｏｌ）を滴下し２１時間撹拌した。水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（５０ｍＬ）および飽和塩化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、生じた残渣をヘキサンで洗浄し化合物１２５（１．３９ｇ、収率８８％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 573 [M+H]+
工程５ 化合物１２６の合成
化合物１２５（１．４ｇ、２．４４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７．０ｍＬ）に溶解した。室温下で１ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒドロフラン溶液（７．３２ｍＬ、７．３２ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃で１時間撹拌した。水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（５０ｍＬ）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１２６（９５９ｍｇ、収率９５％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 409 [M+H]+
工程６ 化合物１２７の合成
化合物１２６（５００ｍｇ、１．２２ｍｍｏｌ）、化合物１２３（７７０ｍｇ、３．０５ｍｍｏｌ）、[１，１‘‐ビス(ジ-tert-ブチルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド（８０ｍｇ、０．１２２ｍｍｏｌ）および２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（１．８３ｍＬ、３．６６ｍｍｏｌ）をＮ, Ｎ―ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に溶解し、１２０℃で窒素雰囲気下１時間撹拌した。水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製して化合物１２７（３３１ｍｇ、収率５０％）を茶褐色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 537 [M+H]+
工程７ 化合物１２８の合成
化合物１２７（５０ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）をトルエン（０．７ｍＬ）に溶解し、２−ブロモー５−メトキシピリミジン（７０．４ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）、４，５―ビス(ジフェニルホスフィノ)―９，９―ジメチルキサンテン （１６．２ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（１２．８ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ）、およびtert-ブトキシナトリウム（３５．８ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下６０℃で１時間攪拌した。２−ブロモー５−メトキシピリミジン（７０．４ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）およびtert-ブトキシナトリウム（３５．８ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間撹拌した後、２−ブロモー５−メトキシピリミジン（７０．４ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）およびtert-ブトキシナトリウム（３５．８ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）を追加し１．５時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により化合物１２８を粗生成物として得た。得られた粗生成物は精製することなくそのまま次反応に用いた。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 645 [M+H]+
工程８ 化合物Ｉ−２０５の合成
化合物１２８（１２８ｍｇ、０．１９８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７．０ｍＬ）に溶解した。室温下で１ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒドロフラン溶液（０．５９５ｍＬ、０．５９５ｍｍｏｌ）を滴下し、８０℃で１．５時間撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒドロフラン溶液（０．５９５ｍＬ、０．５９５ｍｍｏｌ）を追加し１．５時間撹拌した後、さらに１ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒドロフラン溶液（０．５９５ｍＬ、０．５９５ｍｍｏｌ）を追加し１．５時間撹拌した。水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルムーメタノール）により精製して化合物Ｉ−２０５（２５ｍｇ、２工程、３１％）を茶褐色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）: m/z = 531 [M+H]+, RT=2.66
（実施例２８）

【0398】

【化153】

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工程１ 化合物１２９の合成
化合物８３（４００ｍｇ、０．９５１ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（４．０ｍＬ）溶液に、ヨード酢酸エチル（３０５ｍｇ、１．４３ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（６２０ｍｇ、１．９０ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層をクロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し、粗精製物化合物１２９（５７２ｍｇ、１１８％）を黄色固体として得た。化合物１２９は精製せず、そのまま次の反応に用いた。
LC/MS (ESI):m/z = 507.21 [M+H]+、RT = 3.07、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物１３０の合成
化合物１２９（５７２ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ）のエタノール（５．７ｍＬ）溶液に氷冷下、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．６９ｍＬ、３．３９ｍｍｏｌ）を加え、０℃、１時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し、粗精製物を黄色泡状化合物として得た。
この粗精製物（４７０ｍｇ、０．９８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６．０ｍL）溶液に氷冷下、０．９２ｍｏｌ／Ｌボランテトラヒドロフラン溶液を滴下したのちに、反応液を1時間加熱還流した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をDIOLカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１３０（３３９ｍｇ、収率６４％）を白色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 465.27 [M+H]+、RT = 2.57、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物１３１の合成
化合物１３０（１．４０ｇ、３．０１ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（１０ｍＬ）溶液に、氷冷化、トリエチルアミン（２．０９ｍL、１５．１ｍｍｏｌ）、塩化メタンスルホニル（０．９３９ｍL、１２．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をDIOLカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１３１（８６０ｍｇ、収率５３％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 545.30 [M+H]+、RT = 2.87 、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物１３２の合成
２、２−ジフルオロエタン‐1‐オール（２６．５ｍｇ、０．３２２ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（０．３５ｍＬ）溶液に水素化ナトリウム（１２．９ｍｇ、０．３２２ｍｍｏｌ）、化合物１３１（３５ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）を順に加え、８０℃で１時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をDIOLカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１３２（６４ｍｇ、収率６６％）を黄色油状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 529.25 [M+H]+、RT = 3.22、 ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程５ 化合物Ｉ−２０６の合成
化合物１３２（７４ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．７ｍＬ）、メタノール（０．７ｍL）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．７ｍL、１．４ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で２時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層をクロロホルムで抽出し、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２０６（３２ｍｇ、収率４９％）を黄色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 515.46 [M+H]+、RT = 2.82、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 10.03 (1H, s), 7.57 (1H, d, J = 6.7 Hz), 7.39 (1H, d, J = 6.7 Hz), 7.25-7.23 (2H, br m), 5.92 (1H, s), 5.85 (1H, td, J = 111.1, 4.3 Hz), 5.59 (1H, s), 3.96 (2H, dt, J = 16.7, 6.4 Hz), 3.85 (2H, td, J = 5.4, 2.3 Hz), 3.70 (2H, td, J = 27.7, 4.1 Hz), 3.57-3.51 (2H, m), 3.12 (2H, dt, J = 19.4, 7.4 Hz), 2.42 (3H, s), 2.40 (3H, s), 2.34 (3H, s), 0.90 (9H, s).
（実施例２９）

【0399】

【化154】

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工程１ 化合物１３３の合成
化合物１３１（１００ｍｇ、０．１８４ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１．０ｍＬ）溶液にナトリウムエトキシド（６２．７ｍｇ、０．９２１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をDIOLカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１３３（２１ｍｇ、収率２３％）を黄色油状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 493.24 [M+H]+、RT = 3.16、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物Ｉ−２０７の合成
化合物１３３（２１ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）、メタノール（０．５ｍL）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍL、１．０ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層をクロロホルムで抽出し、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２０７（３ｍｇ、収率１５％）を黄色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 479.20 [M+H]+、RT = 2.82、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.59 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.39 (1H, d, J = 7.4 Hz), 7.25-7.23 (2H, br m), 5.92 (1H, s), 5.58 (1H, s), 3.96 (2H, d, J = 4.9 Hz), 3.76-3.74 (4H, m), 3.56-3.53 (2H, m), 3.26-2.91 (2H, m), 2.43-2.41 (6H, br m), 2.34 (3H, s), 1.23 (3H, t, J = 6.8 Hz), 0.89 (9H, s).
（実施例３０）

【0400】

【化155】

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工程１ 化合物１３４の合成
化合物１３１（5０ｍｇ、０．１８４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２．５ｍＬ）溶液に、氷冷化、２０％水酸化カリウム水溶液（１８１ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）、（ブロモジフルオロメチル）トリメチルシラン（４３．７ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌した。反応液に水を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、化合物１３４（２１ｍｇ、収率３８％）を黄色油状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 515.20 [M+H]+、RT = 3.24、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物Ｉ−２０８の合成
化合物１３４（２１ｍｇ、０．０４１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．３ｍＬ）、メタノール（０．３ｍL）溶液に４ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液（０．３ｍL、１．２ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２０８（１３ｍｇ、収率６４％）を黄色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 501.49 [M+H]+、RT = 2.85、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 10.03 (1H, s), 7.57 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.39 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.24 (2H, d, J = 10.0 Hz), 6.27 (1H, t, J = 74.7 Hz), 5.93 (1H, s), 5.58 (1H, s), 4.17 (2H, t, J = 5.7 Hz), 3.96 (2H, d, J = 4.8 Hz), 3.51-3.48 (2H, br m), 3.25-3.05 (2H, m), 2.42 (3H, s), 2.41 (3H, s), 2.34 (3H, s), 0.90 (9H, s).
（実施例３１）

【0401】

【化156】

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工程１ 化合物１３５の合成
化合物１３１（２０ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（300μL）溶液に、氷冷化、三フッ化N、N−ジエチルアミノ硫黄（１８１ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で３時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、化合物１３５（５ｍｇ、収率２５％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 467.25 [M+H]+、RT = 3.02、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物Ｉ−２０９の合成
化合物１３５（５ｍｇ、１０μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０μＬ）、メタノール（５０μＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（５０μL、０．１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２０９（１ｍｇ、収率２１％）を黄色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 453.17 [M+H]+、RT = 2.75、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.60 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.25-7.19 (2H, m), 5.93 (1H, s), 5.55 (1H, s), 4.74 (2H, dt, J = 47.7, 4.4 Hz), 3.97 (2H, dd, J = 11.1, 5.1 Hz), 3.53 (2H, t, J = 4.9 Hz), 3.27-3.19 (2H, m), 2.42 (3H, s), 2.40 (3H, s), 2.34 (3H, s), 0.89 (9H, s).
（実施例３２）

【0402】

【化157】

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工程１ 化合物１３６の合成
化合物８３（１００ｍｇ、０．２３８ｍｍｏｌ）のピリジン（５ｍＬ）溶液に、氷冷化、２‐クロロエタン‐１‐スルホニルクロリド（５８ｍｇ、０．３５７ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、化合物１３６（９９ｍｇ、収率８２％）を黄色油状化合物として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.42 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.33 (1H, d, J = 6.3 Hz), 7.26-7.17 (2H, m), 6.57 (1H, dd, J = 16.5, 10.0 Hz), 6.32 (1H, d, J = 16.4 Hz), 5.95 (1H, d, J = 9.9 Hz), 5.90 (1H, s), 5.42 (1H, s), 3.73-3.71 (4H, m), 2.45 (6H, br s), 2.29 (3H, s), 0.90 (9H, s).
工程２ 化合物１３７の合成
化合物１３６（９０ｍｇ、１７６μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液に０．５ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（３．４２ｍL、１．７６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、化合物１３７（４５ｍｇ、収率４８％）を無色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 546.20 [M+H2O]+、RT = 2.56、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.60 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.25-7.19 (2H, m), 5.93 (1H, s), 5.55 (1H, s), 4.74 (2H, dt, J = 47.7, 4.4 Hz), 3.97 (2H, dd, J = 11.1, 5.1 Hz), 3.53 (2H, t, J = 4.9 Hz), 3.27-3.19 (2H, m), 2.42 (3H, s), 2.40 (3H, s), 2.34 (3H, s), 0.89 (9H, s).
工程３ 化合物Ｉ−２１０の合成
化合物１３７（４５ｍｇ、８５μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４５０μＬ）、メタノール（４５０μＬ）溶液に４ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液（４５０μL、１．８ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２１０（１ｍｇ、収率２．３％）を黄色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 515.13 [M+H]+、RT = 2.33、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.61 (1H, d, J = 7.0 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.29-7.27 (2H, m), 5.93 (1H, s), 5.52 (1H, s), 4.22-4.13 (6H, br m), 3.40-3.36 (3H, m), 2.43 (6H, br s), 2.32 (3H, s), 0.91 (9H, s).
（実施例３３）

【0403】

【化158】

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工程１ 化合物１３９の合成
化合物１３８（１５０ｍｇ、０．２６８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）溶液に、氷冷化、オキセタン‐３‐イルメタノール（３５．５ｍｇ、０．４０３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１０６ｍｇ、０．４０３ｍｍｏｌ）、ビス（２‐メトキシエチル）アゾカルボキシレート（９４ｍｇ、０．４０３ｍｍｏｌを加え、室温で２４時間攪拌した。反応液に水を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１３９（１４０ｍｇ、収率８２。９％）を黄色油状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 629.19 [M+H]+、RT = 3.15、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物１４０の合成
化合物１３９（１４０ｍｇ、２２３μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．４ｍＬ）溶液に１．０ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムフルオリド溶液（６６８μL、６６８μｍｏｌ）を加え、６０℃で４時間、８０℃で１時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４０（６０ｍｇ、収率５８％）を黄色油状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 465.16 [M+H]+、RT = 2.45、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物１４１の合成
化合物１４０（６０ｍｇ、１２９μｍｏｌ）の塩化メチレン（０．６ｍＬ）溶液に、氷冷下、水酸化カリウム（３６．２ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）およびジフェニル（ビニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート（９４ｍｇ、２５８μｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４１（４４ｍｇ、収率８６．７％）を黄色油状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 491.19 [M+H]+、RT = 2.61、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物Ｉ−２１１の合成
化合物１４１（４４ｍｇ、９０μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４４０μＬ）、メタノール（４４０μＬ）溶液に４ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液（４４０μL、１．７６ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、水層をクロロホルムで抽出し、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物Ｉ−２１１（１０ｍｇ、収率２３．４％）を黄色固体化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 477.19 [M+H]+、RT = 2.30、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（３）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.57 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.38 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.27-7.25 (2H, m), 5.93 (1H, s), 5.59 (1H, s), 4.86 (2H, dd, J = 14.3, 8.0 Hz), 4.55 (2H, q, J = 5.7 Hz), 3.99-3.91 (2H, m), 3.52-3.45 (1H, m), 3.37-3.16 (4H, m), 2.42-2.40 (6H, br m), 2.34 (3H, s), 0.92 (9H, s).
（実施例３４）

【0404】

【化159】

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工程１
化合物８３（９ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）のトルエン（９０ｍＬ）溶液に、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３．０９ｇ、３２．１ｍｍｏｌ）、２−ブロモ―５−[｛２−(トリメチルシリル)エトキシ｝メトキシ]ピリミジン（９．８ｇ、３２．１ｍｍｏｌ）、キサントホス（３．７１ｇ、６．４２ｍｍｏｌ）、ジベンジリデンアセトンパラジウム（２．９４ｇ、３．２１ｍｍｏｌ）を加え、６０度で窒素雰囲気下４０分間攪拌した。再度ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３．０９ｇ、３２．１ｍｍｏｌ）、２−ブロモ―５−[｛２−(トリメチルシリル)エトキシ｝メトキシ]ピリミジン（９．８ｇ、３２．１ｍｍｏｌ）を加え、６０度で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸に加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４２（８．６７ｇ、収率６３％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 645.35 [M+H]+, RT=3.75min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２
化合物１４２（８．６７ｇ、１３．４４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（８６ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／Ｌ―テトラブチルアンモニウムフルオリドーＴＨＦ溶液（４０．３ｍＬ、４０．３ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下６０度で１６時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４３（６．２８ｇ、収率９１％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 515.25 [M+H]+, RT=2.86min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３
化合物１４３（５００ｍｇ、０．９７２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．２０２ｍＬ、１．４５７ｍｍｏｌ）、N-フェニル-ビス(トリフルオロメタンスルホンイミド)（４５１ｍｇ、１．２６３ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下１０分間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４４（５６７ｍｇ、収率９０％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 647.15 [M+H]+, RT=3.47min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４
化合物１４４（２００ｍｇ、０．３０９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．３０９ｍＬ、０．６１９ｍｍｏｌ）、１−メチル−４−（４、４、５，５−テトラメチル−１、３，２−ジオキソボロラン−２−イル）−１、２、３、６−テトラヒドロピリジン（１．２８ｍＬ、１．２８ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）（２０．１６ｍｇ、０．０３１ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で窒素雰囲気下３０分間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４５（１９０ｍｇ、収率１００％）を茶色油状物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 594.35 [M+H]+, RT=2.43min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程５
化合物１４５（７０ｍｇ、０．１１８ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２７９ｍＬ、０．５８ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３．５時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物Ｉ−２１２（４０ｍｇ、収率５９％）を茶色固体物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 580.30 [M+H]+, RT=2.21min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
1H-NMR (CDCl3) δ:0.97(9H, s), 2.19(3H, s), 2.29(3H, s), 2.42(3H, s), 2.43(3H, s), 2.53(2H, brs), 2.66-2.73(2H, m), 3.13(2H, brs), 4.04(2H, brs), 5.59(1H, s), 5.90(1H, s), 6.00(1H, s), 7.20-7.28(2H, m), 7.39(1H, d, J=7.1Hz), 7.65(1H, d, J=7.1Hz)
（実施例３５）

【0405】

【化160】

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工程１
化合物１４５（１２０ｍｇ、０．２０２ｍｍｏｌ）のＭｅＯＨ（２ｍＬ）溶液に、水酸化パラジウム（２８．４ｍｇ、０．２０２ｍｍｏｌ）加え、室温で水素雰囲気下、３０分間攪拌した。さらに酢酸（２ｍＬ）を加え、室温で水素雰囲気下、２時間３０分攪拌した。反応液をセライト濾過し、ろ液を濃縮して、粗製の化合物１４６（１２０ｍｇ）を茶色油状物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 596.35 [M+H]+, RT=2.37min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２
化合物１４６（１２０ｍｇ、０．２０１ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．０１ｍＬ、２．０１ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣を分取用液体クロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２１３（１０ｍｇ、収率９％、二工程収率）を茶色固体物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 582.30 [M+H]+, RT=2.21min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
1H-NMR (CDCl3) δ:0.97(9H, s), 1.71-1.85(4H, m), 2.00-2.10(2H, m), 2.22(3H, s), 2.28(3H, s), 2.33(3H, s), 2.35-2.40(1H, m), 2.43(3H, s), 2.98(2H, d, J=12.0Hz), 3.94-4.08(2H, m), 5.59(1H, s), 5.90(1H, s), 7.22-7.27(2H, m), 7.35-7.41(1H, m), 7.64-7.70(1H, m), 8.28(2H, s)
（実施例３６）

【0406】

【化161】

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工程１
化合物１４７（２２０ｍｇ、０．４１１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に炭酸セシウム（２６８ｍｇ、０．８２３ｍｍｏｌ）、メチル-２−クロロ−２，２−ジフルオロアセテート（０．０８６ｍＬ、０．８２３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で窒素雰囲気下１５分間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４８（９４ｍｇ、収率３９％）を黄色泡状物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 585.15 [M+H]+, RT=3.33min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２
化合物１４８（９６ｍｇ、０．２０１ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．４１ｍＬ、０．８２ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下３時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物Ｉ−２１４（３６ｍｇ、収率３８％）を白色固体として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 571.20 [M+H]+, RT=3.07min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
1H-NMR (CDCl3) δ:0.98(9H, s), 2.22(3H, s), 2.31(3H, s), 3.96-4.15(2H, m), 5.48(1H, s), 5.88(1H, s), 6.45(1H, t, J=73Hz), 7.39-7.49(3H, m), 7.70-7.80(1H, s), 8.30(2H, s)
（実施例３７）

【0407】

【化162】

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工程１
化合物８３（１ｇ、２．３８ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍＬ）溶液に、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド（３４３ｍｇ、３．５７ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−５−メトキシピリミジン（７５２ｍｇ、３．５７ｍｍｏｌ）、キサントホス（４１３ｍｇ、０．７１３ｍｍｏｌ）、ジベンジリデンアセトンパラジウム（３２７ｍｇ、０．３５７ｍｍｏｌ）を加え、６０度で窒素雰囲気下３０分間攪拌した。再度ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド（３４３ｍｇ、３．５７ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−５−メトキシピリミジン（７５２ｍｇ、３．５７ｍｍｏｌ）を加え、６０度で窒素雰囲気下３０分間攪拌した。反応液を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸に加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１４９（１．１２ｇ、収率８９％）を黄色泡状化合物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 529.20[M+H]+, RT=3.17min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２
化合物１４９（１．１３ｇ、２．１３８ｍｍｏｌ）のエタノール（６ｍＬ）、ＴＨＦ（６ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（５．３４ｍＬ、１０．６９ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下３時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物Ｉ−１８９（９１９ｍｇ、収率８４％）を黄色泡状物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 515.20 [M+H]+, RT=2.90min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
1H-NMR (CDCl3) δ:0.97(9H, s), 2.20(3H, s), 2.29(3H, s), 2.43(3H, s), 3.83(3H, s), 3.94-4.15(3H, m), 4.75-4.96(1H, m), 5.61(1H, s), 5.91(1H, s), 7.22-7.28(2H, m), 7.40(1H, d, J=7.1Hz), 7.66(1H, d, J=7.1Hz), 8.15(2H, s)
（実施例３８）

【0408】

【化163】

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工程１
化合物８９（１ｇ、１．８２１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液にトリフルオロ酢酸（１０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１５０（８３１ｍｇ、収率９３％）を黄色泡状物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 493.10 [M+H]+, RT=2.53min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２
化合物１５０（６０ｍｇ、０．１２２ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）溶液に水素化ナトリウム（４０．０ｍｇ、０．９６ｍｍｏｌ）、ヨウ化イソプロピル（０．１４８ｍＬ、１．４６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物１５１（２７ｍｇ、収率４２％）を黄色泡状物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 535.15[M+H]+, RT=3.09、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３
化合物１５１（２５ｍｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）のエタノール（０．５ｍＬ）、ＴＨＦ（０．５ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２３４ｍＬ、０．４６７ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下２時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物Ｉ−２１５（１８．８ｍｇ、収率７７％）を黄色固体物質として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 521.15 [M+H]+, RT=2.77min、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
1H-NMR (CDCl3) δ:0.84(3H, d, J=6.0Hz), 1.07(3H, d, J=6.0Hz), 2.17(3H, s), 2.31(3H, s), 3.48(1H, tt, J=6.0Hz, 6.0Hz), 3.83(3H, s), 3.94-4.08(2H, m), 4.14(1H, brs), 4.84(1H, brs), 5.38(1H, s), 5.85(1H, s), 7.32-7.60(4H, m), 8.15(2H, s)
（実施例３９）

【0409】

【化164】

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工程１
化合物８３（１００ｍｇ、０．２３８ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−６−｛（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシ）メチル｝ピリジン（１０８ｍｇ、０．３５７ｍｍｏｌ）、ジベンジリデンアセトンパラジウム（３２．７ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）、ｘａｎｔｐｈｏｓ（４１．３ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）のトルエン懸濁液（１ｍＬ）に室温でナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３４．３ｍｇ、０．３５７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０℃で２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍＬ）および水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５２（１６２ｍｇ、収率８９％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 642.8 [M+H]⁺
工程２
化合物１５２（１３４ｍｇ、０．２０９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１．３４ｍＬ）に０．９２ｍｏｌ／Ｌ ＴＢＡＦ ＴＨＦ溶液（０．６８１ｍＬ、０．６２６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５３（１０６ｍｇ、収率９６％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 528.6 [M+H]⁺
工程３
化合物１５３（５０ｍｇ、０．０９５ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）混合溶液に４ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液（０．５００ｍＬ、２．００ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、２時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、Ｉ−２１６（３２．０ｍｇ、収率６６％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 514.6 [M+H]⁺、保持時間２．５４分
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.96 (s, 9H), 2.18 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 3.61-3.81 (m, 1H), 3.92-3.99 (m, 2H), 4.27-4.47 (m, 1H), 4.71 (s, 2H), 5.63 (s, 1H), 5.96 (s, 1H), 6.26-6.33 (m, 1H), 6.62-6.71 (m, 1H), 7.20-7.31 (m, 2H), 7.38-7.47 (m, 2H), 7.59-7.67 (m, 1H).
（実施例４０）

【0410】

【化165】

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工程１
化合物１５３（５０．０ｍｇ、０．０９５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１ｍＬ）に氷冷下、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（６０．３ｍｇ、０．１４２ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温しつつ１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５４（３２．１ｍｇ、収率６５％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 526.4 [M+H]⁺
工程２
化合物１５４（３０ｍｇ、０．０５７ｍｍｏｌ）およびモルフォリン（０．０１５ｍＬ、０．１７１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．９ｍＬ）、メタノール（０．９ｍＬ）、酢酸（０．０９ｍＬ）混合溶液に、ピコリン−ボラン複合体（９．２ｍｇ、０．０８６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をアミノシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５５（２３．２ｍｇ、収率６８％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 597.8 [M+H]⁺
工程３
化合物１５５（２２．０ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）のエタノール（０．５ｍＬ）、ＴＨＦ（０．５ｍＬ）混合溶液に４ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液（０．５００ｍＬ、２．００ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、得られた残渣をジオールシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、Ｉ−２１７（９．９ｍｇ、収率４６％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 583.7 [M+H]⁺ 、保持時間２．５９分
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.95 (s, 9H), 2.18 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 2.54-2.68 (m, 4H), 3.65 (s, 2H), 3.72-3.81 (m, 4H), 3.89-3.97 (m, 2H), 4.24-4.40 (m, 1H), 4.61-4.80 (m, 1H), 5.62 (s, 1H), 5.95 (s, 1H), 6.26 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 6.89 (d, J = 7.1 Hz, 1H), 7.24-7.32 (m, 2H), 7.37-7.45 (m, 2H), 7.61-7.66 (m, 1H).
（実施例４１）

【0411】

【化166】

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工程１
化合物３０（２００ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２ｍＬ）にイソシアン酸２−ニトロフェニル（１４９ｍｇ、０．９０７ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２０時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１５ｍＬ）および水（１５ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）、および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５６（２３５ｍｇ、収率８６％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 605.3 [M+H]⁺
工程２
化合物１５６（１９０ｍｇ、０．３１４ｍｍｏｌ）のエタノール（１．９ｍＬ）、水（０．３８ｍＬ）混合溶液に鉄粉（８８．０ｍｇ、１．５７ｍｍｏｌ）および塩化ナトリウム（１６８ｍｇ、３．１４ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で２．５時間撹拌した。水（３０ｍＬ）および酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え、不溶物を濾去した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５７（１０８ｍｇ、収率６０％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 575.4 [M+H]⁺
工程３
化合物１５７（１２５ｍｇ、０．２１７ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）混合溶液に４ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液（０．５４３ｍＬ、２．１７ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、４５分間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（３ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、得られた残渣をＨＰＬＣ（０．１％ギ酸水溶液―０．１％ギ酸アセトニトリル溶液）で精製し、Ｉ−２１８（４９．０ｍｇ、収率４０％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 561.7 [M+H]⁺ 、保持時間２．４２分
（実施例４２）

【0412】

【化167】

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工程１
実施例１９の化合物８９の合成と同様の手法で合成した化合物１５８（１３５ｍｇ、０．２１３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．６７５ｍＬ）に、１ｍｍｏｌ／Ｌ ＴＢＡＦ ＴＨＦ溶液（０．４２６ｍＬ、０．４２６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１日間撹拌した。１ｍｍｏｌ／Ｌ ＴＢＡＦ ＴＨＦ溶液（０．４２６ｍＬ、０．４２６ｍｍｏｌ）を追加し、室温で１日間および５０℃で３．５時間撹拌した。反応液に水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１５９（２０ｍｇ、収率１８％）を茶色泡状物質として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 534.6 [M+H]⁺
工程２
化合物１５９（２０．０ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（１ｍＬ）炭酸カリウム（１０．４ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間撹拌した後、ヨウ化メチル（０．００５ｍＬ、０．０７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３．５時間撹拌した。反応液に水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣（２０．０ｍｇ）をエタノール（１ｍＬ）に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５００ｍＬ、１．００ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１．５時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１．５ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、得られた残渣をＨＰＬＣ（０．１％ギ酸水溶液―０．１％ギ酸アセトニトリル溶液）で精製し、Ｉ−２１９（２．６ｍｇ、収率１３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 534.6 [M+H]⁺ 、保持時間２．４６分
（実施例４３）

【0413】

【化168】

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工程１ 化合物１６１の合成
化合物１６０（５１３ｍｇ、０．９９７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．１ｍＬ）溶液に、２−（ジメチルアミノ）−エタノール（２６７ｍｇ、２．９９ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（７８４ｍｇ、２．９９ｍｍｏｌ）、ＤＩＡＤ（６０５ｍｇ、２．９９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で４０分間撹拌した。２−（ジメチルアミノ）−エタノール（２６７ｍｇ、２．９９ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（７８４ｍｇ、２．９９ｍｍｏｌ）、ＤＩＡＤ（６０５ｍｇ、２．９９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で８０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物１６１（４７６ｍｇ、収率８２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 586.27 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）

工程２ 化合物Ｉ−２２０の合成
化合物１６１（４７６ｍｇ、０．８１２ｍｍｏｌ）のエタノール（４．７６ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２．３８ｍＬ）を加え、８０℃で、１４０分間撹拌した。放冷後、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２．３０ｍＬ）を加え、クロロホルム−メタノール（１０：１）で抽出し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をジオールシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−２２０（２５０ｍｇ、収率５４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 572.27 [M+H]+、ＲＴ＝２．２８ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.96 (9H, s), 2.19 (3H, s), 2.29 (3H, s), 2.34 (6H, s), 2.43 (3H, s), 2.72 (2H, t, J = 5.6 Hz), 3.88-4.19 (5H, m), 4.70-5.05 (1H, m), 5.59 (1H, s), 5.90 (1H, s), 7.21-7.30 (2H, m), 7.36-7.43 (1H, m), 7.61-7.71 (1H, m), 8.17 (2H, s).
（実施例４４）

【0414】

【化169】

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工程１ 化合物１６３の合成
化合物１６２（６００ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６．０ｍＬ）溶液に、Ｎ−Ｆｍｏｃ−エタノールアミン（９９１ｍｇ、３．５０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（９１７ｍｇ、３．５０ｍｍｏｌ）、ＤＩＡＤ（７０７ｍｇ、３．５０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で４０分間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１６３（４９３ｍｇ、収率５４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 780.14 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物１６４の合成
化合物１６３（４９３ｍｇ、０．６３２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１．７ｍＬ）溶液に、ジエチルアミン（１．２１ｇ、１６．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で５０分間、３５℃で３０分間、４０℃で９０分間撹拌した。放冷後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をジオールシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物１６４（２７６ｍｇ、収率７８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 558.23 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物Ｉ−２２１の合成
化合物１６４（６０．０ｍｇ、０．１０８ｍｍｏｌ）から実施例４３の工程２と同様の方法により、化合物Ｉ−２２１（４１．２ｍｇ、収率７０％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 544.75 [M+H]+、ＲＴ＝２．６７ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.88 (9H, s), 2.17 (3H, s), 2.31 (3H, s), 2.40 (3H, s), 2.79-4.11 (8H, m), 5.53 (1H, s), 5.96 (1H, s), 7.17-7.30 (2H, m), 7.38-7.46 (1H, m), 7.60-7.69 (1H, m), 8.01 (2H, brs).
（実施例４５）

【0415】

【化170】

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工程１ 化合物１６５の合成
化合物１６４（１５０ｍｇ、０．２６９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．７５ｍＬ）溶液に、ピリジン（６３．８ｍｇ、０．８０７ｍｍｏｌ）、メシルクロライド（３７．０ｍｇ、０．３２３ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３．３ｍｇ、０．０２７ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で２０分間撹拌した。ピリジン（２１．３ｍｇ、０．２６９ｍｍｏｌ）、メシルクロライド（３０．８ｍｇ、０．２６９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え３０分間撹拌した。ピリジン（０．７５ｍＬ）、メシルクロライド（６１．６ｍｇ、０．５３８ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え２０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１６５（１４６ｍｇ、収率８５％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 636.71 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物Ｉ−２２２の合成
化合物１６５（６０．０ｍｇ、０．０９４ｍｍｏｌ）から実施例４３の工程２と同様の方法により化合物Ｉ−２２２（４５．９ｍｇ、収率７８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 622.41 [M+H]+ 、ＲＴ＝２．５５ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.96 (9H, s), 2.20 (3H, s), 2.29 (3H, s), 2.43 (3H, s), 3.02 (3H, s), 3.47-3.60 (2H, m), 3.89-4.21 (5H, m), 4.63-4.99 (2H, m), 5.61 (1H, s), 5.91 (1H, s), 7.22-7.31 (2H, m), 7.36-7.43 (1H, m), 7.61-7.69 (1H, m), 8.15 (2H, s), 9.85-10.30 (1H, brs).
（実施例４６）

【0416】

化合物Ｉ−２２３、化合物Ｉ−２２４の合成

【化171】

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工程１ 化合物１６６の合成
化合物１６２（５００ｍｇ、０．９７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．０ｍＬ）溶液に、Ｎ，Ｎ−Ｃｂｚ−メチル−エタノールアミン（６１０ｍｇ、２．９１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（７６５ｍｇ、２．９１ｍｍｏｌ）、ＤＩＡＤ（５８９ｍｇ、２．９１ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で２０分間撹拌した後、室温で１４時間静置した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１６６（４９８ｍｇ、収率７３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 706.51 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物１６７の合成
化合物１６６（２５０ｍｇ、０．３５４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．００ｍＬ）、メタノール（５．００ｍＬ）溶液に、Ｐｄ−Ｃ（７５．０ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間撹拌した。反応液をセライトろ過した後、溶媒を減圧留去し、化合物１６７（１９２ｍｇ、収率９５％）を粗生成物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 572.84 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物１６８の合成
化合物１６７（６０ｍｇ、０．１０５ｍｍｏｌ）のメタノール（０．４２０ｍＬ）溶液に、氷冷下で無水酢酸（１６．１ｍｇ、０．１５７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、３０分間撹拌した。酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１６８（６２．８ｍｇ、収率９８％）を粗生成物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 614.42 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物Ｉ−２２３およびＩ−２２４の合成
化合物１６８（６２．８ｍｇ、０．１０２ｍｍｏｌ）から実施例４３の工程２と同様の方法により化合物Ｉ−２２３（２５．２ｍｇ、収率４１％）、化合物Ｉ−２２４（２６．９ｍｇ、収率４７％）を得た。
Ｉ−２２３
LC/MS (ESI):m/z = 600.77 [M+H]+ 、ＲＴ＝２．５２ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.97 (9H, s), 2.07-2.24 (6H, m), 2.29 (3H, s), 2.43 (3H, s), 3.01 (1H, s), 3.16 (2H, s), 3.64-3.82 (2H, m), 3.91-4.23 (5H, m), 4.75-5.05 (1H, m), 5.54-5.68 (1H, m), 5.91 (1H, s), 7.21-7.32 (2H, m), 7.36-7.44 (1H, m), 7.62-7.70 (1H, m), 8.13 (2H, s), 10.07 (1H, br s).
Ｉ−２２４
LC/MS (ESI):m/z = 558.51 [M+H]+ 、ＲＴ＝２．３５ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.88 (9H, s), 2.16 (3H, s), 2.28 (3H, s), 2.42 (3H, s), 2.58 (3H, s), 2.80-3.07 (2H, m), 3.75-4.18 (6H, m), 4.65-5.06 (1H, m), 5.55 (1H, s), 5.95 (1H, s), 7.19-7.30 (2H, m), 7.39-7.46 (1H, m), 7.61-7.71 (1H, m), 8.07 (2H, s).
（実施例４７）

【0417】

【化172】

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工程１ 化合物１６９の合成
化合物１６５（６０．０ｍｇ、０．０９４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（０．６０ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（９２．０ｍｇ、０．２８３ｍｍｏｌ）、ヨードメタン（２６．８ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１６９（６２．６ｍｇ）を粗生成物として定量的に得た。
LC/MS (ESI):m/z = 650.42 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物Ｉ−２２５の合成
化合物１６９（６１．１ｍｇ、０．０９４ｍｍｏｌ）から実施例４３の工程２と同様の方法により化合物Ｉ−２２５（５１．６ｍｇ、収率８６％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 636.42 [M+H]+ 、ＲＴ＝２．６７ｍｉｎ
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.97 (9H, s), 2.20 (3H, s), 2.29 (3H, s), 2.43 (3H, s), 2.88 (3H, s), 3.02 (3H, s), 3.57 (2H, t, J = 5.3 Hz), 3.92-4.22 (5H, m), 4.74-4.99 (1H, m), 5.61 (1H, s), 5.91 (1H, s), 7.21-7.31 (2H, m), 7.36-7.43 (1H, m), 7.60-7.70 (1H, m), 8.15 (2H, s), 10.10 (1H, brs).
（実施例４８）

【0418】

【化173】

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工程1 化合物１７１の合成
化合物１７０（１０．０ｇ、３９．３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５０．０ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（４．７７ｇ、４７．２ｍｍｏｌ）、アミノエタノール（２．４０ｇ、３９．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。イミダゾール（６．０２ｇ、８８．０ｍｍｏｌ）、トリイソプロピルシリルクロライド（７．９６ｇ、４１．３ｍｍｏｌ）を加え３０分間撹拌した。ＤＭＡＰ（２４０ｍｇ、１．９７mmol）を加え３０分間撹拌した。イミダゾール（６．０２ｇ、８８．０ｍｍｏｌ）、トリイソプロピルシリルクロライド（７．９６ｇ、４１．３ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌した後、室温で１２時間静置した。酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７１（１５．９ｇ、収率９０％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 451.01 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程２ 化合物１７２の合成
化合物１７１（１５．９ｇ、３５．２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１１１ｍＬ）溶液に、(Ｚ)-((２−(ｔｅｒｔ−ブトキシ)−１−メトキシビニル)オキシ)トリメチルシラン（１５．４ｇ、７０．３ｍｍｏｌ）、ＺｎＦ２（７．２７ｇ、７０．３ｍｍｏｌ）、ビストリｔｅｒｔ−ブチルホスフィンパラジウム（１．８０ｇ、３．５２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で２時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル、水を加え、ろ過した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７２（１２．６ｇ、収率６９％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 517.22 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程３ 化合物１７３の合成
化合物１７２（１２．５ｇ、２４．２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１２５ｍＬ）溶液に、ＮＢＳ（５．１６ｇ、２９．０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で４時間撹拌した後、室温で１１時間静置した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１７３（１５．１ｇ）を粗生成物として定量的に得た。
LC/MS (ESI):m/z = 595.13 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程４ 化合物１７４の合成
化合物１７３（９．０９ｇ、１５．３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４５．５ｍＬ）、水（２２．７ｍＬ）の溶液に、ｐ−トリルボロン酸（３．１１ｇ、２２．９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．３２ｇ、４５．８ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ） （９９４ｍｇ、１．５３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で３０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、ろ過した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７４（５．９６ｇ、収率６４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 607.26 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程５ 化合物１７５の合成
化合物１７４（１１７ｍｇ、０．１９３ｍｍｏｌ）のエタノール（１．１７ｍＬ）、水（０．２９ｍＬ）溶液に、亜ジチオン酸ナトリウム（１９７ｍｇ、０．９６３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１７５（１１３ｍｇ）を粗生成物として定量的に得た。
LC/MS (ESI):m/z = 577.31 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程６ 化合物１７６の合成
化合物１７５（１１１ｍｇ、０．１９３ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．５６ｍＬ）溶液に、ピリジン（３８．２ｍｇ、０．４８３ｍｍｏｌ）、２−ニトロベンゼンスルホニルクロライド（６４．２ｍｇ、０．２９０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（２．４ｍｇ、０．０１９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で３０分間撹拌した後。室温で１５時間静置した。反応液に酢酸エチル、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７６（６８．０ｍｇ、収率４６％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 762.25 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程７ 化合物１７７の合成
化合物１７６（１．７７ｇ、２．３３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（８．８５ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／ＬのＴＢＡＦ（６．９６ｍＬ、６．９６ｍｍｏｌ）ＴＨＦ溶液を加え、６０℃で３時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７７（１．１３ｇ、収率８０％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 606.14 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程８ 化合物１７８の合成
化合物１７７（１．１２ｇ、１．８５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５６．０ｍＬ）溶液に、トリフェニルホスフィン（７２７ｍｇ、２．７７ｍｍｏｌ）、ＤＩＡＤ（５６１ｍｇ、２．７７ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で２０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７８（９６０ｍｇ、収率８８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 588.11 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程９ 化合物１７９の合成
化合物１７８（８５０ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）のピリジン（４．２３ｍＬ）溶液に、ＴＦＡＡ（９１１ｍｇ、４．３４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（５３０ｍｇ、４．３４ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で７５分間撹拌した。ＴＦＡＡ（４５５ｍｇ、２．１７ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１７９（９６６ｍｇ、収率９８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 701.65 [M+18]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程１０ 化合物１８０の合成
化合物１７９（９５６ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（９．５７ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（３８６ｍｇ、２．７９ｍｍｏｌ）、チオフェノール（２３１ｍｇ、２．１０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、０℃で７０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１８０（６３２ｍｇ、収率９１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 516.15 [M+18]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程１１ 化合物１８１の合成
化合物１８０（６３２ｇ、１．２７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（６．３ｍＬ）溶液に、ＮＢＳ（２２５ｍｇ、１．２６７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１８１（７３１ｍｇ、収率９９％）を粗生成物として得た。
LC/MS (ESI):m/z = 762.60 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程１２，１３ 化合物１８２の合成
化合物１８１（７２７ｍｇ、１．２６ｍｍｏｌ）のトルエン（７．３ｍＬ）溶液に、酢酸イソプロペニル（５０４ｍｇ、５．０３ｍｍｏｌ）、トリブチル（メトキシ）スズ（１．６２ｇ、５．０３ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（５６．０ｍｇ、０．２５２ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（１５３ｍｇ、０．５０３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で１時間撹拌した。反応液に酢酸エチル、４ｍｏｌ／Ｌフッ化カリウム水溶液を加え、１時間撹拌した後ろ過した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物のメタノール（７．３ｍＬ）、ＴＨＦ（７．３ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１．７４ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）を加え４０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、ラセミ体の化合物１８２（４６０ｍｇ、収率８３％）を得た。さらに光学分割することにより光学活性体の化合物１８３を（１９４ｍｇ、収率３５％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 441.59 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程１４，１５ 化合物１８４の合成
化合物１８３（６０．０ｍｇ、０．１３６ｍｍｏｌ）のトルエン（０．６０ｍＬ）溶液に、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１９．６ｍｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）、２−ブロモ―５−メトキシピリミジン（３８．６ｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）、キサントホス（３１．５ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）、ジベンジリデンアセトンパラジウム（２４．９ｍｇ、０．０２７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０度で７０分間攪拌した。ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１９．６ｍｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）、２−ブロモ―５−メトキシピリミジン（３８．６ｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０度で４５分間攪拌した。反応液に酢酸エチル、水、クロロホルムを加え、ろ過した。クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１８４を（７２．１ｍｇ、収率９７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 549.19 [M+H]+、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
工程１４ 化合物Ｉ−２２６の合成
化合物１８４（７２．１ｍｇ、０．１３１ｍｍｏｌ）のエタノール（１．００ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５００ｍＬ）を加え、８０℃で１６０分間撹拌した。放冷後、氷冷下で２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．５００ｍＬ）を加え、析出した結晶をろ取し化合物Ｉ−２２６（４８．１ｍｇ、収率６９％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 535.15 [M+H]+ 、ＲＴ＝２．６７ｍｉｎ、ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.95 (9H, s), 2.31 (3H, s), 2.43 (3H, s), 3.84 (3H, s), 3.94-4.23 (3H, m) , 4.72-4.87 (1H, m), 5.56 (1H, brs), 5.98 (1H, brs), 7.21-7.32 (2H, m), 7.37-7.48 (1H, m) , 7.61-7.74 (1H, m), 8.18 (2H, s).
（実施例４９）

【0419】

【化174】

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工程１
化合物８３（８０．０ｍｇ、０．１９０ｍｍｏｌ）と化合物１８５（６６．５ｍｇ、０．２８５ｍｍｏｌ）を用いて、実施例１９の工程１および２と同様の方法で化合物Ｉ−２９２（６０．０ｍｇ、２工程収率５６％）を合成した。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 559.20 [M+H]⁺、保持時間２．１０分
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.95 (s, 9H), 2.31 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 2.47 (s, 3H), 2.77-2.82 (m, 4H), 3.46 (s, 2H), 3.95-4.04 (m, 3H), 4.61-4.66 (m, 1H), 5.57 (s, 1H), 5.93 (s, 1H), 7.26-7.29 (m, 2H), 7.39 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.62 (d, J = 7.1 Hz, 1H).

（実施例５０）

【0420】

【化175】

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工程１
化合物８３（８０．０ｍｇ、０．１９０ｍｍｏｌ）と化合物１８６（６６．５ｍｇ、０．２８５ｍｍｏｌ）を用いて、実施例１９の工程１および２と同様の方法で化合物Ｉ−２９３（６６．０ｍｇ、２工程収率６２％）を合成した。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 559.20 [M+H]⁺、保持時間２．１１分
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.94 (s, 9H), 2.30 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 2.43 (s, 3H), 2.49 (s, 3H), 2.78-2.86 (m, 4H), 3.50 (s, 2H), 3.93-4.07 (m, 3H), 4.56-4.67 (m, 1H), 5.56 (s, 1H), 5.93 (s, 1H), 7.24-7.30 (m, 2H), 7.39 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.62 (d, J = 7.3 Hz, 1H).

（実施例５１）

【0421】

【化176】

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工程１
ドライアイス−アセトン浴中、化合物１８７（１．８０ｇ、７．１６ｍｍｏｌ）のＤＭＡ溶液（４ｍＬ）溶液にＮ−ブロモスクシイミド（１．０１ｇ、５．６６ｍｍｏｌ）のＤＭＡ溶液（４ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液（１ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水（１０ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。メタノール（４ｍＬ）および水（５ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。生じた固体をろ取し、４０％メタノール水溶液（５０ｍＬ）で洗浄することで化合物１８８（１．７０ｇ、収率７２％）を淡褐色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.22 (s, 9H), 2.20 (s, 3H), 3.63 (s, 2H), 3.68 (s, 3H), 5.78 (s, 1H), 6.51 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.21 (d, J = 8.4 Hz, 1H).
工程２
化合物１８８（１０．０ｇ、３０．３ｍｍｏｌ）、４−メチルフェニルボロン酸（４．３２ｇ、３１．８ｍｍｏｌ）、パラジウム（９８７ｍｇ、１．５１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５０ｍＬ）−水（５ｍＬ）混合溶液に炭酸ナトリウム（８．３７ｇ、６０．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１２０℃で１時間撹拌した。水（１５０ｍＬ）および酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加え、不溶物を濾去した。有機層を水（１００ｍＬ×２回）および飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した。活性炭および無水硫酸マグネシウムを加えた後、不溶物を濾去し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１８９（９．６２ｇ、収率９３％）を茶色油状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (s, 9H), 2.20 (s, 3H), 2.40 (s, 3H), 3.65 (s, 2H), 3.75 (s, 3H), 5.32 (s, 1H), 6.69 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 6.93 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.18 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.24-7.37 (m, 2H).
工程３
化合物１８９（７．００ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３５ｍＬ）−メタノール（３５ｍＬ）混合溶液に炭酸カルシウム（２．６７ｇ、２６．７ｍｍｏｌ）およびジクロロヨウ素酸ベンジルトリメチルアンモニウム（８．５６ｇ、２４．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。氷冷下、１０％亜硫酸水素ナトリウム（１００ｍＬ）および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３００ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）、および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１９０（８．４２ｇ、収率８８％）を茶色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.88 (s, 9H), 2.28 (s, 3H), 2.39 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.14 (s, 2H), 5.25 (s, 1H), 7.17-7.32 (m, 4H), 7.47 (s, 1H).
工程４
化合物１９０（３．００ｇ、６．４２ｍｍｏｌ）、シクロロイシン（１．６６ｇ、１２．８ｍｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）（６４．０ｍｇ、０．６４２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン（０．１３７ｍＬ、１．２８ｍｍｏｌ）およびリン酸三カリウム（２．７３ｇ、１２．８ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ懸濁液（３０ｍＬ）を１４０℃で１時間撹拌した。室温に冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液（２５ｍＬ）、水（７５ｍＬ）および酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加え、不溶物を濾去した。有機層を飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１９１（１．６９ｇ、収率５８％）を淡褐色泡状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (s, 9H), 1.68-1.84 (m, 6H), 2.21-2.33 (m, 5H), 2.40 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 3.83 (s, 1H), 5.22 (s, 1H), 6.41 (s, 1H), 7.17-7.33 (m, 4H), 7.44 (s, 1H).
工程５
化合物１９１（１．６８ｇ、３．７３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（２１ｍＬ）に氷冷下でＮ−ブロモスクシイミド（７９６ｍｇ、４．４７ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で３０分間攪拌した。反応液に水（３０ｍＬ）および飽和塩化アンモニウム水溶液（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１９２（１．６６ｇ、収率７９％）を白色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.95 (s, 9H), 1.70-1.87 (m, 6H), 2.21-2.31 (m, 5H), 2.43 (s, 3H), 3.68 (s, 3H), 4.63 (s, 1H), 4.94 (s, 1H), 7.10-7.14 (m, 1H), 7.18-7.25 (m, 3H), 7.49 (s, 1H).
工程６
化合物１９２（１６５ｍｇ、０．３１２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（１．６５ｍＬ）に炭酸セシウム（２５４ｍｇ、０．７７９ｍｍｏｌ）およびヨウ化メタン（０．０９７ｍＬ、１．５６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１９３（１４８ｍｇ、収率８８％）を白色泡状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.96 (s, 9H), 1.58-1.87 (m, 6H), 1.87-2.02 (m, 1H), 2.32 (s, 3H), 2.40-2.50 (m, 4H), 3.34 (s, 3H), 3.70 (s, 3H), 4.62 (s, 1H), 4.98 (s, 1H), 7.09-7.14 (m, 1H), 7.20-7.25 (m, 3H).
工程７
化合物１９３（１４５ｍｇ、０．２６７ｍｍｏｌ）、トリブチル（メトキシ）スズ（０．２３０ｍＬ、０．８００ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（１２．０ｍｇ、０．０５３ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（３２．５ｍｇ、０．１０７ｍｍｏｌ）のトルエン懸濁液（７ｍＬ）に酢酸イソプロペニル（０．１４５ｍＬ、１．３３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で２時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（２ｍＬ）および４ｍｏｌ／Ｌフッ化カリウム水溶液（１．８ｍＬ）を加え、１時間撹拌した後、不溶物を濾去した。水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮残渣を酢酸（１．４５ｍＬ）に溶解し、６０℃で４５分間撹拌した。反応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル（３０ｍＬ）で希釈した。水（２０ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物１９４（１１２ｍｇ、収率８３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.92 (s, 9H), 1.88-2.14 (m, 6H), 2.43 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 2.52-2.58 (m, 4H), 2.62-2.73 (m, 1H), 3.60 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 5.43 (s, 1H), 5.95 (s, 1H), 7.22-7.33 (m, 3H), 7.39-7.44 (m, 1H).
工程８
化合物１９４（９０．０ｍｇ、０．１７９ｍｍｏｌ）に０．９２ｍｏｌ／ＬボランＴＨＦ溶液（０．９７３ｍＬ、０．８９５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をアミノシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１９５（６３．１ｍｇ、収率７２％）を白色泡状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.90 (s, 9H), 1.73-1.88 (m, 2H), 1.90-2.02 (m, 4H), 2.07-2.15 (m, 1H), 2.21-2.31 (m, 1H), 2.39 (s, 3H), 2.42 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 3.15 (s, 3H), 3.34 (d, J = 14.1 Hz, 1H), 3.40 (d, J = 14.1 Hz, 1H), 3.72 (s, 3H), 5.46 (s, 1H), 5.89 (s, 1H), 7.21-7.25 (m, 2H), 7.35-7.39 (m, 1H), 7.44-7.48 (m, 1H).
工程９
化合物１９５（６０ｍｇ、０．１２３ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（１ｍＬ）に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ、１．００ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下で２時間撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（１ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）で精製することで化合物Ｉ−３０２（５６．７ｍｇ、収率９７％）を白色固体として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 475.6 [M+H]⁺ 、保持時間３．１０分
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.91 (s, 9H), 1.72-1.89 (m, 2H), 1.90-2.04 (m, 4H), 2.05-2.13 (m, 1H), 2.23-2.33 (m, 1H), 2.37 (s, 3H), 2.42 (s, 3H), 2.47 (s, 3H), 3.13 (s, 3H), 3.35 (d, J = 14.1 Hz, 1H), 3.40 (d, J = 14.1 Hz, 1H), 5.58 (s, 1H), 5.93 (s, 1H), 7.23-7.26 (m, 2H), 7.37-7.42 (m, 1H), 7.53-7.57 (m, 1H).

（実施例５２）

【0422】

【化177】

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工程１
化合物１９６（１．００ｇ、５．７５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル懸濁液（２０ｍＬ）に４−ブロモブタン酸クロリド（０．７９８ｍL、６．９０ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（１．９９ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２１時間撹拌した。不溶物を濾去した後、濾液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をクロロホルム（５０ｍＬ）に溶解し、水（３０ｍＬ）で洗浄した。水層をクロロホルム（５０ｍＬ）で再度抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）で精製し、得られた固体をヘキサンで洗浄することで化合物１９７（９９０ｍｇ、収率７１％）を白色固体として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.22 (tt, J = 8.2, 7.2 Hz, 2H), 2.69 (t, J = 8.2 Hz, 2H), 4.22 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.60 (d, J = 9.4 Hz, 1H), 8.63 (d, J = 9.4 Hz, 1H).
工程２
化合物８３（３００ｍｇ、０．７１３ｍｍｏｌ）、化合物１９７（２５９ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ）、ジベンジリデンアセトンパラジウム（９８．０ｍｇ、０．１０７ｍｍｏｌ）、ＲｕＰｈｏｓ（６６．６ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ）のトルエン懸濁液（３ｍＬ）に室温でナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１０３ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０℃で２０時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍＬ）、水（３０ｍＬ）および酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え、不溶物を濾去した。有機層を水（３０ｍＬ）および飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することで化合物１９８（１９１ｍｇ、収率４６％）を茶色泡状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.93 (s, 9H), 2.15-2.24 (m, 5H), 2.31 (s, 3H), 2.45 (s, 3H), 2.66 (t, J = 8.1 Hz, 2H), 3.77 (s, 3H), 3.98-4.07 (m, 2H), 4.19-4.29 (m, 2H), 4.47-4.62 (m, 1H), 4.77-4.89 (m, 1H), 5.47 (s, 1H), 5.93 (s, 1H), 6.70 (d, J = 9.8 Hz, 1H), 7.25-7.29 (m, 2H), 7.37-7.40 (m, 1H), 7.43-7.46 (m, 1H), 8.45 (d, J = 9.8 Hz, 1H).
工程３
化合物１９８（１３０ｍｇ、０．２２３ｍｍｏｌ）のジメチルアセトアミド溶液（１．３ｍＬ）に塩化リチウム（４７４ｍｇ、１１．２ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で１５時間撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（１．５ｍＬ）および水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ×２回）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣を高速液体クロマトグラフィー（アセトニトリル−ギ酸アンモニウム水溶液）で精製することで化合物Ｉ−３０３（２８．０ｍｇ、収率２２％）を茶色固体として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）LC/MS (ESI):m/z = 568.7 [M+H]⁺ 、保持時間２．５４分
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.96 (s, 9H), 2.14-2.24 (m, 5H), 2.32 (s, 3H), 2.43 (s, 3H), 2.66 (t, J = 8.0 Hz, 2H), 3.99-4.11 (m, 2H), 4.13-4.43 (m, 3H), 4.88-5.14 (m, 1H), 5.60 (s, 1H), 5.95 (s, 1H), 6.69 (d, J = 9.8 Hz, 1H), 7.24-7.30 (m, 2H), 7.40 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 8.46 (d, J = 9.8 Hz, 1H).
（実施例５３）

【0423】

【化178】

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工程１
化合物１９９（３．７ｇ、５．７２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３７ｍＬ）溶液に、トリブチルビニルスズ（３．３３ｍL、１１．４４ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（４８５ｍｇ、１１．４４ｍｍｏｌ）、およびジクロロビストリフェニルトリフェニルホスフィンパラジウム（４０２ｍｇ、０．５７２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下６０℃で３０分間攪拌した。反応液にフッ化カリウム水溶液を加え、析出した固体を濾過し、ろ液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２００（２．６４ｇ、収率８８％）を黄色泡状化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 525.25 [M+H]+, RT=3.30min
工程２
化合物２００（２ｇ、３．８１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍＬ）、水（４ｍL）溶液に、オスミウム（ＶＩ）酸カリウム二水和物（７０．２ｍｇ、０．１９１ｍｍｏｌ）、過ヨウ素酸ナトリウム（３．２６ｇ、１５．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２．５時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０１（９９１ｍｇ、収率４９％）を黄色泡状化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 527.20 [M+H]+, RT=3.07min
工程３
化合物２０１（９９０ｍｇ、１．８８ｍｍｏｌ）のメタノール（１０ｍＬ）溶液に、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（７１．１ｍｇ、１．８８ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２０分間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０２（７９０ｍｇ、収率７１％）をピンク色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 529.25 [M+H]+, RT=2.77min
工程４
化合物２０２（１００ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に、氷冷下トリフェニルホスフィン（９９ｍｇ、０．３７８ｍｍｏｌ）、四臭化炭素（１２５ｍｇ、０．３７８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下室温で５０分間攪拌した。その後２ｍｏｌ／ＬジメチルアミンＴＨＦ溶液（０．９４６ｍL、１．８９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０３（９５．６ｍｇ、収率９１％）を黄色泡状化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 556.25 [M+H]+, RT=2.45min
工程５
化合物２０３（９０ｍｇ、０．１６２ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．８１ｍＬ、１．６２ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、７時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をジオールシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物Ｉ−３０４（５６．１ｍｇ、収率６４％）を茶色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 542.20 [M+H]+, RT=2.22min
1H-NMR (CDCl3) δ:0.97(9H, s), 1.12(3H, s), 2.23(3H, s), 2.29(3H, s), 2.29(3H, s), 2.43(3H, s), 3.25-3.35(2H, m), 3.59-3.69(1H, m), 3.97-4.10(2H, m), 5.59(1H, s), 5.90(1H, s), 7.22-7.29(2H, m), 7.34-7.43(1H, m), 7.62-7.71(1H, m), 8.33(2H, s)
（実施例５４）

【0424】

【化179】

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工程１
化合物２００（５５０ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍＬ）溶液に、氷冷下０．５ｍｏｌ／Ｌ９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナンのＴＨＦ溶液（３．１４ｍＬ、１．５７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下０℃で４時間攪拌した。その後水（５ｍＬ）、ペルオキソほう酸ナトリウム四水和物（４８４ｍｇ、３．１４ｍｍｏｌ）を加え室温で４．５時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０４（４９０ｍｇ、収率８６％）を黄色泡状化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 543.25 [M+H]+, RT=2.80min
工程２
化合物２０４（２７０ｍｇ、０．４９８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．１０３ｍＬ、０．７４６ｍｍｏｌ）、メシルクロライド（０．０５ｍＬ、０．６４７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下室温で１０分間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０５（４９０ｍｇ、収率８６％）を黄色泡状化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 621.2 [M+H]+, RT=3.00min
工程３
化合物２０５（１００ｍｇ、０．１６１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、ピペリジン（０．１５９ｍＬ、１．６１ｍｍｏｌ）、メシルクロライド（０．０５ｍＬ、０．６４７ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１．５時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２０６（８６．３ｍｇ、収率８８％）を黄色泡状化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 610.30 [M+H]+, RT=2.86min
工程４
化合物２０６（８５ｍｇ、０．１３９ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）、ＴＨＦ（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．７０ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、４．５時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をジオールシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物Ｉ−３０５（７７．６ｍｇ、収率９３％）を黄色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 542.20 [M+H]+, RT=2.22min
1H-NMR (CDCl3) δ:0.97(9H, s), 1.23-1.28(2H, m), 1.40-1.52(2H, m), 1.54-1.69(4H,m), 2.21(3H, s), 2.29(3H, s), 2.36-2.57(4H, m), 2.43(3H, s), 2.62-2.74(2H, m), 3.95-4.07(2H, m), 5.59(1H, s), 5.90(1H, s), 7.23-7.28(2H, m), 7.34(1H, f, J=7.2Hz), 7.67(1H, d, J=7.23Hz), 8.27(2H, s)
（実施例５５）

【0425】

【化180】

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工程１
化合物２０２（１００ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ）と化合物２０７（０．１９７ｍＬ、１．８９２ｍｍｏｌ）より実施例５３の工程４，５と同様の方法で化合物Ｉ−３０６（６６．９ｍｇ、０．１１７ｍｍｏｌ、収率６２%）を黄色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 570.30 [M+H]+, RT=2.41min
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.96(9H, s), 0.97-1.88(10H, m), 2.22(3H, s), 2.29(3H, s), 2.42(3H, s), 2.46-2.86(2H, m), 3.39-3.74(1H, m), 4.05(2H, brs), 5.61(1H, s), 5.91(1H, s), 7.22-7.29(2H, m), 7.35-7.42(1H, m), 7.62-7.69(1H, m), 8.41(2H, brs)
（実施例５６）

【0426】

【化181】

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工程１
化合物２０２（１００ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ）と化合物２０８（０．１２８ｍＬ、１．８９２ｍｍｏｌ）より実施例５３の工程４，５と同様の方法で化合物Ｉ−３０７（５６ｍｇ、０．１０５ｍｍｏｌ、収率５６%）を黄色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 554.25 [M+H]+, RT=2.35min
1H-NMR (CDCl3) δ:0.96(9H, s), 2.04-2.12(2H, m), 2.20(3H, s), 2.29(3H, s), 2.43(3H, s), 3.16-3.23(4H, m), 3.39-3.47(2H, m), 3.95-4.08(2H, m), 5.59(1H, s), 5.90(1H, s), 7.22-7.29(2H, m), 7.35-7.40(1H, m), 7.63-7.69(1H, m), 8.32(2H, s)
（実施例５７）

【0427】

【化182】

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工程１
化合物２０２（１００ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ）と化合物２０９（０．１２８ｍＬ、１．８９２ｍｍｏｌ）より実施例５３の工程４，５と同様の方法で化合物Ｉ−３０８（７１．６ｍｇ、０．１２３ｍｍｏｌ、収率６５%）を黄色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 582.30 [M+H]+, RT=2.48min
1H-NMR (CDCl3) δ:0.98(9H, s),1.38-1.48(2H, m), 1.52-1.60(4H, m), 2.22(3H, s), 2.28(3H, s), 2.36(4H, brs), 2.43(3H, s), 3.35(2H, s), 3.96-4.09(2H, m), 5.59(1H, s), 5.90(1H, s), 7.23-7.29(2H, m), 7.35-7.41(1H, m), 7.63-7.70(1H, m), 8.33(2H, s)
（実施例５８）

【0428】

【化183】

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工程１
化合物２０５（１００ｍｇ、０．１６１ｍｍｏｌ）と化合物２１０（０．１３９ｍＬ、１．６１１ｍｍｏｌ）より実施例５４の工程３，４と同様の方法で化合物Ｉ−３０９（７５．６ｍｇ、０．１２６ｍｍｏｌ、収率８０%）を黄色固体化合物として得た。
ＬＣ／ＭＳ測定条件：（１）、LC/MS (ESI):m/z = 598.30 [M+H]+, RT=2.35min
1H-NMR (CDCl3) δ:0.97(9H, s), 2.21(3H, s), 2.29(3H, s), 2.43(3H, s), 2.47-2.56(6H, m), 2.61-2.68(2H, m), 3.72(4H, brs), 3.96-4.09(2H, m), 5.60(1H, s), 5.90(1H, s), 7.23-7.29(2H, m), 7.39(1H, d, J=7.5Hz), 7.66(1H, d, J=7.5Hz), 8.28(2H, s)

【0429】

上記実施例や一般合成法に記載の方法に従い、市販の化合物または上記中間体から以下の化合物を合成した。
表中、「Comp. No.」は化合物番号、「Struct」は化学構造式、「Ms cond.」は上記LC/MS（液体クロマトグラフィー／質量分析）の測定条件、「RT(min)」はリテンションタイム（分）を表す。

【0430】

【表1】

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【0431】

【表2】

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【0432】

【表3】

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【0433】

【表4】

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【表5】

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【0434】

【表6】

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【0435】

【表7】

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【0436】

【表8】

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【表9】

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【0437】

【表10】

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【0438】

【表11】

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【0439】

【表12】

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【0440】

【表13】

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【0441】

【表14】

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【0442】

【表15】

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【表16】

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【0443】

【表17】

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【0444】

【表18】

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【0445】

【表19】

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【0446】

【表20】

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【0447】

【表21】

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【0448】

【表22】

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【0449】

【表23】

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【0450】

【表24】

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【0451】

【表25】

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【0452】

【表26】

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【0453】

【表27】

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【0454】

【表28】

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【0455】

【表29】

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【0456】

【表30】

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【0457】

【表31】

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【0458】

【表32】

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【0459】

【表33】

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【0460】

【表34】

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【0461】

【表35】

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【0462】

【表36】

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【0463】

【表37】

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【0464】

【表38】

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【0465】

【表39】

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【0466】

【表40】

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【0467】

【表41】

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【0468】

【表42】

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【0469】

【表43】

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【0470】

【表44】

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【0471】

【表45】

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【0472】

【表46】

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【0473】

【表47】

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【0474】

【表48】

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【0475】

【表49】

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【0476】

【表50】

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【0477】

【表51】

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【0478】

【表52】

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【0479】

【表53】

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【0480】

【表54】

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【0481】

【表55】

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【0482】

【表56】

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【0483】

【表57】

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【0484】

【表58】

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【0485】

【表59】

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【0486】

【表60】

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【0487】

【表61】

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【0488】

【表62】

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【0489】

以下に、本発明化合物の生物試験例を記載する。

【0490】

試験例１ ＨＩＶ複製阻害試験
ＨＩＶ（ＨＴＬＶ−ＩＩＩＢ株）持続感染ヒトＴ細胞株Ｍｏｌｔ−４ ｃｌｏｎｅ８を、１０％牛胎児血清添加ＲＰＭＩ−１６４０培地で培養し、上清を濾過してウイルスの力価を測定し、−８０°Ｃで保存した。一方、各抗ヒト免疫不全ウイルス活性物質を上記の培養培地で所定の濃度になるように希釈し、９６ウエルマイクロプレートに５０μＬずつ分注した。ついで、ＭＴ−４細胞浮遊液を１００μＬ（２．５×１０^４細胞）ずつ分注し、更に上記ＨＩＶ含有上清を上記の培養培地で希釈したものを５０μｌ（６０ｐｆｕ（ｐｌａｑｕｅ ｆｏｒｍｉｎｇ ｕｎｉｔ））ずつ加えた。
炭酸ガス培養器内で３７°Ｃ、４日間培養した後、すべてのウエルに３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロマイド（ＭＴＴ）５ｍｇ／ｍＬ）、ＰＢＳを３０μＬずつ加え、更に１時間培養した。このとき、生存する細胞はＭＴＴを還元してフォルマザンを析出するので、すべてのウエルから細胞上清を１５０μＬずつ取り除き、代わりに１５０μＬの溶解液（１０％トリトンＸ−１００および０．４％（ｖ／ｖ）ＨＣｌ添加イソプロパノール）を加え、プレートミキサーで振とうしてフォルマザンを溶出した。マイクロリーダーを用いてフォルマザンをＯＤ ５６０ｎｍと６９０ｎｍ（参照波長）で測定し、結果を被対照と比較した。ウイルスによる細胞障害を５０％抑制する化合物濃度をＥＣ_５０、９０％抑制する化合物濃度をＥＣ_９０とした。

【0491】

（結果）ＥＣ_５０を以下に示す。

【表63】

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【表64】

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【表65】

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【表66】

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【0492】

（結果）ＥＣ_９０を以下に示す。

【表67】

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【0493】

試験例２
ＨＩＶ（ＨＴＬＶ−ＩＩＩＢ株）持続感染ヒトＴ細胞株Ｍｏｌｔ−４ ｃｌｏｎｅ８を、１０％牛胎児血清添加ＲＰＭＩ−１６４０培地で培養し、上清を濾過してウイルスの力価を測定し、−８０°Ｃで保存した。また、ＨＩＶ−１のインテグラーゼ（ＩＮ）遺伝子上の１２４および１２５番目のアミノ酸はＨＩＶ−１感染患者において多型変異が確認されている。ＨＩＶ−１ ＮＬ−４３２組み換え分子クローンのＩＮ遺伝子上に点突然変異を導入して１２４および１２５番目のアミノ酸に関する変異ウイルスのプラスミドを作製した。これら変異ウイルスのプラスミドを２９３Ｔ細胞に遺伝子導入し、培養２日後の上清を濾過してウイルスの力価を測定し、−８０°Ｃで保存した。一方、各抗ＨＩＶ活性物質を上記の培養培地で所定の濃度になるように希釈し、９６ウエルマイクロプレートに５０μＬずつ分注した。ついで、ＭＴ−４細胞浮遊液を１００μＬ（２．５×１０^４細胞）ずつ分注し、更に上記ＨＩＶ含有上清を上記の培養培地で希釈したものを５０μｌ（６０ｐｆｕ（ｐｌａｑｕｅ ｆｏｒｍｉｎｇ ｕｎｉｔ））ずつ加えた。
炭酸ガス培養器内で３７°Ｃ、４日間培養した後、すべてのウエルに３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロマイド（ＭＴＴ）５ｍｇ／ｍＬ）、ＰＢＳを３０μＬずつ加え、更に１時間培養した。このとき、生存する細胞はＭＴＴを還元してフォルマザンを析出するので、すべてのウエルから細胞上清を１５０μＬずつ取り除き、代わりに１５０μＬの溶解液（１０％トリトンＸ−１００および０．４％（ｖ／ｖ）ＨＣｌ添加イソプロパノール）を加え、プレートミキサーで振とうしてフォルマザンを溶出した。マイクロリーダーを用いてフォルマザンをＯＤ ５６０ｎｍと６９０ｎｍ（参照波長）で測定し、結果を被対照と比較した。ウイルスによる細胞障害を５０％抑制する化合物濃度をＥＣ_５０とした。
（結果）
１２５番目のアミノ酸に関するＴ１２５Ａ変異ウイルスに対するＥＣ_５０を以下に示す。

【表68】

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【表69】

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【表70】

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【表71】

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【0494】

試験例３ ポテンシーシフト値の算出
必要に応じてヒト血清による抗ＨＩＶ活性への影響を確認するために、ヒト血清を添加してＥＣ_５０を算出した。すなわち、あらかじめ９６ウエルマイクロプレートに５０μＬずつ分注した所定の濃度の各抗ＨＩＶ活性物質に、ヒト血清を１００μＬ／ｗｅｌｌずつ分注し、室温で１時間静置した。血清非存在用のプレートには培養液のみを１００μＬ／ｗｅｌｌずつ分注した。３×１０^４細胞／ｗｅｌｌのＭＴ−４細胞と、３μＬ／ｗｅｌｌの適度な濃度に希釈したＨＩＶ液の適度な濃度に希釈したＨＩＶ液（６００ｐｆｕ／５０μＬ）を、必要ウェル数分まぜ、３７℃で1時間反応させた。感染細胞を１２００ｒｐｍで５分間遠心し、上清を廃棄し、感染細胞は５０μＬ／ｗｅｌｌで必要ウェル数分の培養液に分散させ、あらかじめ準備しておいた抗ＨＩＶ活性物質およびヒト血清が入った９６ウエルマイクロプレートに分注した。プレートミキサーで混和し、炭酸ガス培養器内で4日間培養した。試験例１と同様の方法にてヒト血清添加でのＥＣ_５０を算出し、ヒト血清添加時のＥＣ_５０／ヒト血清非存在下のＥＣ_５０の比をポテンシーシフト値として算出した。
（結果）
ヒト血清２５％添加時のポテンシーシフト値を以下に記載する。

【表72】

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【表73】

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【表74】

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【表75】

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【表76】

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ヒトの血中において、化合物は血清タンパクと結合し血中のフリー体量が減少し、抗ウイルス活性が低下することがある。ＨＩＶの分野においては、血中のトラフ値がＰＡ−ＥＣ_９０（Ｐｒｏｔｅｉｎ ａｄｊｕｓｔｅｄ−ＥＣ_９０）値を超えていれば薬効が出ることが知られている。臨床における抗ウイルス活性のより正確な予測を行うために、上記算出したヒト血清２５％添加時のポテンシーシフト値を用いて、下式に示す計算式によりヒト血清１００％時のＰＡ−ＥＣ_５０（Ｐｒｏｔｅｉｎ ａｄｊｕｓｔｅｄ−ＥＣ_５０）値および／またはＰＡ−ＥＣ_９０値を外挿した。
ＰＡ−ＥＣ_５０＝ＥＣ_５０×（ヒト血清２５％添加時のポテンシーシフト値）×４
ＰＡ−ＥＣ_９０＝ＥＣ_９０×（ヒト血清２５％添加時のポテンシーシフト値）×４
その結果、本願発明化合物は良好なＰＡ−ＥＣ_５０値および／またはＰＡ−ＥＣ_９０値を示した。

【0495】

試験例４ ＣＹＰ阻害試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要ＣＹＰ５分子種（ＣＹＰ１Ａ２、２Ｃ９、２Ｃ１９、２Ｄ６、３Ａ４）の典型的基質代謝反応として７−エトキシレゾルフィンのＯ−脱エチル化（ＣＹＰ１Ａ２）、トルブタミドのメチル−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ９）、メフェニトインの４’−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ１９）、デキストロメトルファンのＯ脱メチル化（ＣＹＰ２Ｄ６）、テルフェナジンの水酸化（ＣＹＰ３Ａ４）を指標とし、それぞれの代謝物生成量が本発明化合物によって阻害される程度を評価した。
反応条件は以下のとおり：基質、０．５μｍｏｌ／Ｌ エトキシレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２）、１００μｍｏｌ／Ｌ トルブタミド（ＣＹＰ２Ｃ９）、５０μｍｏｌ／Ｌ Ｓ−メフェニトイン（ＣＹＰ２Ｃ１９）、５μｍｏｌ／Ｌ デキストロメトルファン（ＣＹＰ２Ｄ６）、１μｍｏｌ／Ｌ テルフェナジン（ＣＹＰ３Ａ４）；反応時間、１５分；反応温度、３７°Ｃ；酵素、プールドヒト肝ミクロソーム０．２ｍｇ タンパク質／ｍＬ；本発明化合物濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。
９６穴プレートに反応溶液として、５０ｍｍｏｌ／Ｌ Ｈｅｐｅｓ緩衝液中に各５種の基質、ヒト肝ミクロソーム、本発明化合物を上記組成で加え、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して、指標とする代謝反応を開始した。３７°Ｃ、１５分間反応した後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を添加することで反応を停止した。３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中のレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２代謝物）を蛍光マルチラベルカウンタで定量し、トルブタミド水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ９代謝物）、メフェニトイン４’水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ１９代謝物）、デキストロルファン（ＣＹＰ２Ｄ６代謝物）、テルフェナジンアルコール体（ＣＹＰ３Ａ４代謝物）をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量した。
薬物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ_５０を算出した。
（結果）
ＣＹＰ２Ｃ９の阻害試験結果は、化合物Ｉ−０２６、Ｉ−０２７、Ｉ−０４１、Ｉ−０４３、Ｉ−０４８、Ｉ−１１２、Ｉ−１２２、Ｉ−１５６、Ｉ−１５７、Ｉ−１６４、Ｉ−１８１、Ｉ−１８９、Ｉ−１９０、Ｉ−１９７、Ｉ−２２０、Ｉ−２４４、Ｉ−２５７、Ｉ−２５８、Ｉ−２６０、Ｉ−２６２、Ｉ−２６７、Ｉ−２７０Ｉ−２７８、Ｉ−２９２、Ｉ−２９３、Ｉ−３０３、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、Ｉ−３０６、Ｉ−３０７、Ｉ−３０８、およびＩ−３０９はいずれもＩＣ_５０＞２０μＭであった。

【0496】

試験例５ ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験
ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験は、代謝反応による本発明化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害の増強を調べる試験である。ＣＹＰ３Ａ４酵素（大腸菌発現酵素）により７−ベンジルオキシトリフルオロメチルクマリン（７−ＢＦＣ）が脱ベンジル化されて、蛍光を発する代謝物７−ハイドロキシトリフルオロメチルクマリン（７−ＨＦＣ）が生じる。７−ＨＦＣ生成反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価した。
反応条件は以下のとおり：基質、５．６μｍｏｌ／Ｌ ７−ＢＦＣ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、１５分；反応温度、２５°Ｃ（室温）；ＣＹＰ３Ａ４含量（大腸菌発現酵素）、プレ反応時６２．５ｐｍｏｌ／ｍＬ、反応時６．２５ｐｍｏｌ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明化合物濃度、０．６２５、１．２５、２．５、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（６点）。
９６穴プレートにプレ反応液としてＫ−Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中に酵素、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを蛍光プレートリーダーで代謝物である７−ＨＦＣの蛍光値を測定した。（Ｅｘ＝４２０ｎｍ、Ｅｍ＝５３５ｎｍ）
本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ_５０を算出した。ＩＣ_５０値の差が５μｍｏｌ／Ｌ以上の場合を（＋）とし、３μｍｏｌ／Ｌ以下の場合を（−）とした。
その結果、本願化合物は良好な結果を示した。

【0497】

試験例６ ＣＹＰ３Ａ４（ＭＤＺ）ＭＢＩ試験
本発明化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害に関して代謝反応による増強からＭｅｃｈａｎｉｓｍ ｂａｓｅｄ ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ（ＭＢＩ）能を評価する試験である。プールドヒト肝ミクロソームを用いてミダゾラム（ＭＤＺ）の１−水酸化反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価した。
反応条件は以下のとおり：基質、１０μｍｏｌ／Ｌ ＭＤＺ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、２分；反応温度、３７℃；プールドヒト肝ミクロソーム、プレ反応時０．５ｍｇ／ｍＬ、反応時０．０５ｍｇ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明化合物プレ反応時の濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。
９６穴プレートにプレ反応液としてＫ−Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中にプールドヒト肝ミクロソーム、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中の１−水酸化ミダゾラム をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量した。
本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と阻害率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣを算出した。「プレ反応開始時のＩＣ値／プレ反応開始３０分後のＩＣ値」を、Ｓｈｉｆｔｅｄ ＩＣ値とし、Ｓｈｉｆｔｅｄ ＩＣが１．５以上の場合を（＋）、Ｓｈｉｆｔｅｄ ＩＣが１．０以下の場合を（−）とした。
（結果）
化合物Ｉ−００３、Ｉ−０１９、Ｉ−０２７、Ｉ−０４１、Ｉ−０４３、Ｉ−１２２、Ｉ−１５６、Ｉ−１５７、Ｉ−１６４、Ｉ−１７６、Ｉ−１８１、Ｉ−１８７、Ｉ−１８９、Ｉ−１９０、Ｉ−２２０、Ｉ−２４４、Ｉ−２５７、Ｉ−２５８、Ｉ−２６０、Ｉ−２６２、Ｉ−２６７、Ｉ−２７０、Ｉ−２７８、Ｉ−２９２、Ｉ−２９３、Ｉ−３０３、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、Ｉ−３０６、Ｉ−３０７、Ｉ−３０８、およびＩ−３０９は（−）であった。

【0498】

試験例７ 代謝安定性試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームと本発明化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、本発明化合物が肝で代謝される程度を評価した。
ヒト肝ミクロソーム０．５ｍｇタンパク質／ｍＬを含む０．２ｍＬの緩衝液（５０ｍｍｏｌ／Ｌ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ ｐＨ７．４、１５０ｍｍｏｌ／Ｌ 塩化カリウム、１０ｍｍｏｌ／Ｌ 塩化マグネシウム）中で、１ｍｍｏｌ／Ｌ ＮＡＤＰＨ存在下で３７°Ｃ、０分あるいは３０分間反応させた（酸化的反応）。反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（ｖ／ｖ）溶液の１００μＬに反応液５０μＬを添加、混合し、３０００ｒｐｍで１５分間遠心した。その遠心上清中の本発明化合物をＬＣ／ＭＳ／ＭＳにて定量し、反応後の本発明化合物の残存量を０分反応時の化合物量を１００％として計算した。なお、加水分解反応はＮＡＤＰＨ非存在下で、グルクロン酸抱合反応はＮＡＤＰＨに換えて５ｍｍｏｌ／Ｌ ＵＤＰ−グルクロン酸の存在下で反応を行い、以後同じ操作を実施した。
その結果、本願化合物は良好な代謝安定性を示した。

【0499】

試験例８ 溶解性試験
本発明化合物の溶解度は、１％ＤＭＳＯ添加条件下で決定した。ＤＭＳＯにて１０ｍｍｏｌ／Ｌ化合物溶液を調製し、本発明化合物溶液６μＬをｐＨ６．８人工腸液（０．２ｍｏｌ／Ｌ リン酸二水素カリウム試液 ２５０ｍＬに０．２ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ試液１１８ｍＬ、水を加えて１０００ｍＬとした）５９４μＬに添加した。２５°Ｃで１６時間静置させた後、混液を吸引濾過した。濾液をメタノール／水＝１／１（Ｖ／Ｖ）にて２倍希釈し、絶対検量線法によりＨＰＬＣまたはＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて濾液中濃度を測定した。
その結果、本願化合物は良好な溶解性であった。

【0500】

試験例９ Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎ Ａｍｅｓ Ｔｅｓｔ
本発明化合物の変異原性を評価した。
凍結保存しているネズミチフス菌（Ｓａｌｍｏｎｅｌｌａ ｔｙｐｈｉｍｕｒｉｕｍ ＴＡ９８株、ＴＡ１００株）２０μＬを１０ｍＬ液体栄養培地（２．５％ Ｏｘｏｉｄ ｎｕｔｒｉｅｎｔ ｂｒｏｔｈ Ｎｏ．２）に接種し３７°Ｃにて１０時間、振盪前培養する。ＴＡ９８株は９ｍＬの菌液を遠心（２０００×ｇ、１０分間）して培養液を除去した。９ｍＬのＭｉｃｒｏ Ｆ緩衝液（Ｋ_２ＨＰＯ_４：３．５ｇ／Ｌ、ＫＨ_２ＰＯ_４：１ｇ／Ｌ、（ＮＨ_４）_２ＳＯ_４：１ｇ／Ｌ、クエン酸三ナトリウム二水和物：０．２５ｇ／Ｌ、ＭｇＳＯ_４・７Ｈ_２０：０．１ｇ／Ｌ）に菌を懸濁し、１１０ｍＬのＥｘｐｏｓｕｒｅ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）に添加した。ＴＡ１００株は３．１６ｍＬ菌液に対しＥｘｐｏｓｕｒｅ培地１２０ｍＬに添加し試験菌液を調製した。本発明化合物ＤＭＳＯ溶液（最高用量５０ｍｇ／ｍＬから２〜３倍公比で数段階希釈）、陰性対照としてＤＭＳＯ、陽性対照として非代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対しては５０μｇ／ｍＬの４−ニトロキノリン−１−オキシドＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては０．２５μｇ／ｍＬの２−（２−フリル）−３−（５−ニトロ−２−フリル）アクリルアミドＤＭＳＯ溶液、代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対して４０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては２０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液それぞれ１２μＬと試験菌液５８８μＬ（代謝活性化条件では試験菌液４９８μＬとＳ９ ｍｉｘ ９０μＬの混合液）を混和し、３７°Ｃにて９０分間、振盪培養する。本発明化合物を暴露した菌液４６０μＬを、Ｉｎｄｉｃａｔｏｒ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬ、ブロモクレゾールパープル：３７．５μｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）２３００μＬに混和し５０μＬずつマイクロプレート４８ウェル／用量に分注し、３７°Ｃにて３日間、静置培養した。アミノ酸（ヒスチジン）合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、ｐＨ変化により紫色から黄色に変色するため、１用量あたり４８ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価する。変異原性が陰性のものを（−）、陽性のものを（＋）として示した。
その結果、本願化合物は変異原性を示さなかった。

【0501】

試験例１０ ＢＡ試験
経口吸収性の検討実験材料と方法
（１）使用動物：マウスあるいはＳＤラットを使用した。
（２）飼育条件：マウスあるいはＳＤラットは、固形飼料および滅菌水道水を自由摂取させた。
（３）投与量、群分けの設定：経口投与、静脈内投与を所定の投与量により投与した。以下のように群を設定した。（化合物ごとで投与量は変更有）
経口投与 １〜３０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２〜３）
静脈内投与 ０．５〜１０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２〜３）
（４）投与液の調製：経口投与は溶液または懸濁液として投与した。静脈内投与は可溶化して投与した。
（５）投与方法：経口投与は、経口ゾンデにより強制的に胃内に投与した。静脈内投与は、注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与した。
（６）評価項目：経時的に採血し、血漿中本発明化合物濃度をＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて測定した。
（７）統計解析：血漿中本発明化合物濃度推移について、非線形最小二乗法プログラムＷｉｎＮｏｎｌｉｎ（登録商標）を用いて血漿中濃度‐時間曲線下面積（ＡＵＣ）を算出し、経口投与群と静脈内投与群のＡＵＣから本発明化合物のバイオアベイラビリティ（ＢＡ）を算出した。
その結果、本願化合物は良好なＢＡを示した。

【0502】

試験例１１ ｈＥＲＧ試験
本発明化合物の心電図ＱＴ間隔延長リスク評価を目的として、ｈｕｍａｎ ｅｔｈｅｒ−ａ−ｇｏ−ｇｏ ｒｅｌａｔｅｄ ｇｅｎｅ （ｈＥＲＧ）チャンネルを発現させたＨＥＫ２９３細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流Ｋ^＋電流（Ｉ_Ｋｒ）への本発明化合物の作用を検討した。
全自動パッチクランプシステム（ＰａｔｃｈＸｐｒｅｓｓ ７０００Ａ、ＡｘｏｎＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．）を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を−８０ｍＶの膜電位に保持した後、＋４０ｍＶの脱分極刺激を２秒間、さらに−５０ｍＶの再分極刺激を２秒間与えた際に誘発されるＩ_Ｋｒを記録した。発生する電流が安定した後、本発明化合物を目的の濃度で溶解させた細胞外液（ＮａＣｌ：１３５ ｍｍｏｌ／Ｌ、ＫＣｌ：５．４ ｍｍｏｌ／Ｌ、ＮａＨ_２ＰＯ_４：０．３ｍｍｏｌ／Ｌ、ＣａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ：１．８ｍｍｏｌ／Ｌ、ＭｇＣｌ_２・６Ｈ_２Ｏ：１ｍｍｏｌ／Ｌ、グルコース：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＨＥＰＥＳ（４−（２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ）−１−ｐｉｐｅｒａｚｉｎｅｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ、４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンエタンスルホン酸）：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ＝７．４）を室温条件下で、１０分間細胞に適用させた。得られたＩ_Ｋｒから、解析ソフト（ＤａｔａＸｐｒｅｓｓ ｖｅｒ．１、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｄｅｖｉｃｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測した。さらに、本発明化合物適用前の最大テール電流に対する阻害率を算出し、媒体適用群（０．１％ジメチルスルホキシド溶液）と比較して、本発明化合物のＩ_Ｋｒへの影響を評価した。
その結果、本願化合物のＱＴ間隔延長リスクは低かった。

【0503】

試験例１２ 粉末溶解度試験
適当な容器に本発明化合物を適量入れ、各容器にＪＰ−１液（塩化ナトリウム２．０ｇ、塩酸７．０ｍＬに水を加えて１０００ｍＬとした）、ＪＰ−２液（ｐＨ６．８のリン酸塩緩衝液５００ｍＬに水５００ｍＬを加えた）、２０ｍｍｏｌ／Ｌ タウロコール酸ナトリウム（ＴＣＡ）／ＪＰ−２液（ＴＣＡ１．０８ｇにＪＰ−２液を加え１００ｍＬとした）を２００μＬずつ添した。試験液添加後に全量溶解した場合には、適宜、本発明化合物を追加した。密閉して３７°Ｃで１時間振とう後に濾過し、各濾液１００μＬにメタノール１００μＬを添加して２倍希釈を行った。希釈倍率は、必要に応じて変更した。気泡および析出物がないかを確認し、密閉して振とうした。絶対検量線法によりＨＰＬＣを用いて本発明化合物を定量した。
その結果、本願化合物は良好な溶解性を示した。

【0504】

試験例１３ 光溶血試験
本発明化合物を目的の濃度で溶解させ、マイクロプレート上において、ヒツジ脱繊維血から調製した赤血球浮遊液（２．５ｖ／ｖ％）と混合し、0.1~0.0008 w/v%の濃度にした。混合液に紫外線蛍光ランプ（ＧＬ２０ＳＥランプ、三共電気およびＦＬ２０Ｓ―ＢＬＢランプ、パナソニック）を用いてＵＶＡおよびＵＶＢ領域での光照射（１０ Ｊ／ｃｍ^２、２９０〜４００ｎｍ）を行った。光照射終了後の混合液を遠心した。遠心後の上清を採取しマイクロプレートに移した後、上清の吸光度（５４０または６３０ｎｍ）を測定、吸光度を基にした判定を行った。５４０および６３０ｎｍでの吸光度は、それぞれ生体膜損傷（光溶血率％）および脂質膜過酸化（メトヘモグロビン産生）の指標とした。光溶血率が１０％未満であり、６３０ｎｍでの吸光度の変化量が０．０５未満の場合を（−）とし、それ以外の場合を（＋）とした。
（結果）
化合物Ｉ−００１、Ｉ−００３、Ｉ−０１２、Ｉ−０２７、Ｉ−０４１、Ｉ−０４３、Ｉ−０４８、Ｉ−０８５、Ｉ−１１２、Ｉ−１２２、Ｉ−１５６、Ｉ−１６４、Ｉ−１７６、Ｉ−１８１、Ｉ−１８９、Ｉ−１９０、Ｉ−１９７、Ｉ−２２０、Ｉ−２４４、Ｉ−２５７、Ｉ−２５８、Ｉ−２６０、Ｉ−２６２、Ｉ−２６７、Ｉ−２７０、Ｉ−２７８、Ｉ−２９２、Ｉ−２９３、Ｉ−３０３、Ｉ−３０４、Ｉ−３０５、Ｉ−３０６、Ｉ−３０７、Ｉ−３０８、およびＩ−３０９は（−）であった。

【0505】

試験例１４ 耐性ウイルス出現確認試験
本発明化合物自身または多剤との組み合わせについて、培養液中に一定濃度を添加し、薬剤存在下でＨＩＶ感染細胞を継続培養する。定期的に細胞あるいはウイルス液を回収し、ウイルスゲノムにおける変異導入の有無を確認する。

【産業上の利用可能性】

【0506】

本発明に係る化合物は、エイズ等、ウイルス感染症の治療または予防剤、またはその中間体として有用である。